JP2003022522A - 情報記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体用基板の製造方法Info
- Publication number
- JP2003022522A JP2003022522A JP2001203389A JP2001203389A JP2003022522A JP 2003022522 A JP2003022522 A JP 2003022522A JP 2001203389 A JP2001203389 A JP 2001203389A JP 2001203389 A JP2001203389 A JP 2001203389A JP 2003022522 A JP2003022522 A JP 2003022522A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- information recording
- substrate
- manufacturing
- roll
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 記録面における顕著なロールオフの発生を防
止することができる情報記録媒体用基板の製造方法を提
供する。 【解決手段】 端面の長さＬ１を有する情報記録媒体用
基板の端面を研磨する際に、隣り合う情報記録媒体用基
板の端面のコーナ部間の距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ
１）≦１．１０とする。
止することができる情報記録媒体用基板の製造方法を提
供する。 【解決手段】 端面の長さＬ１を有する情報記録媒体用
基板の端面を研磨する際に、隣り合う情報記録媒体用基
板の端面のコーナ部間の距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ
１）≦１．１０とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体用基
板の製造方法に関し、より詳しくはハードディスクドラ
イブ（以下、「ＨＤＤ」という）に代表される情報記録
装置に使用される情報記録媒体用基板の製造方法に関す
る。
板の製造方法に関し、より詳しくはハードディスクドラ
イブ（以下、「ＨＤＤ」という）に代表される情報記録
装置に使用される情報記録媒体用基板の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク等の磁気記録媒体用基板と
しては、アルミニウム基板が広く使用されてきたが、磁
気ディスクの小型・薄板化、及び高密度記録化に伴い、
アルミニウム基板に比べ、基板表面の平坦性及び基板強
度に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。こ
のガラス基板は、円盤加工工程→内外周端面面取り工程
→外周端面研磨工程→内周端面研磨工程→主表面粗研磨
工程→主表面第１精密研磨工程→主表面第２精密研磨工
程→化学強化工程を経て、図６に示すような形状に作製
される（特願２００１−１５１３９７号の段落番号００
０４〜０００７）。
しては、アルミニウム基板が広く使用されてきたが、磁
気ディスクの小型・薄板化、及び高密度記録化に伴い、
アルミニウム基板に比べ、基板表面の平坦性及び基板強
度に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。こ
のガラス基板は、円盤加工工程→内外周端面面取り工程
→外周端面研磨工程→内周端面研磨工程→主表面粗研磨
工程→主表面第１精密研磨工程→主表面第２精密研磨工
程→化学強化工程を経て、図６に示すような形状に作製
される（特願２００１−１５１３９７号の段落番号００
０４〜０００７）。
【０００３】特に、上記外周端面研磨工程及び内周端面
研磨工程では、図７に示すように、ガラス基板の外周端
面及び内周端面を研磨している。
研磨工程では、図７に示すように、ガラス基板の外周端
面及び内周端面を研磨している。
【０００４】同図に示すように、ガラス基板１０１とス
ペーサ１０２は、交互に積層されている。スペーサ１０
２はガラス基板１０１の記録面に傷がつかないようにす
るため及びガラス基板１０１が所定の反りを有するよう
にするために設けられている。ガラス基板１０１の外周
端面及び内周端面の研磨は、ガラス基板１０１とスペー
サ１０２に対して高速回転させたブラシ１０３，１０４
を押し当てて、この押し当てた部分に粒径１．２μｍの
酸化セリウムの研磨液を供給しながら実行される。
ペーサ１０２は、交互に積層されている。スペーサ１０
２はガラス基板１０１の記録面に傷がつかないようにす
るため及びガラス基板１０１が所定の反りを有するよう
にするために設けられている。ガラス基板１０１の外周
端面及び内周端面の研磨は、ガラス基板１０１とスペー
サ１０２に対して高速回転させたブラシ１０３，１０４
を押し当てて、この押し当てた部分に粒径１．２μｍの
酸化セリウムの研磨液を供給しながら実行される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記外
周端面研磨工程及び内周端面研磨工程で使用されるスペ
ーサの厚みが厚いと、ブラシの毛先がガラス基板の記録
面を研磨するようになり、記録面の周辺部が中央部に比
べてだれてしまう、即ち、削られすぎてしまうというい
わゆるロールオフが生じる。図８は、ガラス基板の横断
面図であり、（Ａ）は正常なガラス基板の断面を示し、
（Ｂ）はロールオフが生じたガラス基板の断面を示す。
周端面研磨工程及び内周端面研磨工程で使用されるスペ
ーサの厚みが厚いと、ブラシの毛先がガラス基板の記録
面を研磨するようになり、記録面の周辺部が中央部に比
べてだれてしまう、即ち、削られすぎてしまうというい
わゆるロールオフが生じる。図８は、ガラス基板の横断
面図であり、（Ａ）は正常なガラス基板の断面を示し、
（Ｂ）はロールオフが生じたガラス基板の断面を示す。
【０００６】このロールオフが生じると、磁気ヘッドの
浮上量がその記録面上の中央部と周辺部とで大きく異な
ってしまい、ヘッドの走行安定性や読み取り及び書き込
みの正確度が低下し、エラー発生が多くなるという問題
が生じる。
浮上量がその記録面上の中央部と周辺部とで大きく異な
ってしまい、ヘッドの走行安定性や読み取り及び書き込
みの正確度が低下し、エラー発生が多くなるという問題
が生じる。
【０００７】本発明は、このような事情に鑑みなされた
ものであって、記録面における顕著なロールオフの発生
を防止することができる情報記録媒体用基板の製造方法
を提供することを目的とする。
ものであって、記録面における顕著なロールオフの発生
を防止することができる情報記録媒体用基板の製造方法
を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、請求項１の情報記録媒体用基板の製造方法は、端
部が長さＬ１を有する端面と前記端面のコーナ部で屈折
して続く面取面とで構成される情報記録媒体用基板をス
ペーサーを介在させて複数重ね合わせて、前記情報記録
媒体用基板の端面に回転するブラシを押しあてて研磨す
る情報記録媒体用基板の製造方法において、前記情報記
録媒体用基板の端面のコーナ部と、前記スペーサーを介
して隣り合う他の情報記録媒体用基板の端面のコーナ部
であって、前記情報記録媒体用基板の端面のコーナ部か
ら最も近いものとの間の距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ
１）≦１．１０とすることを特徴とする。
めに、請求項１の情報記録媒体用基板の製造方法は、端
部が長さＬ１を有する端面と前記端面のコーナ部で屈折
して続く面取面とで構成される情報記録媒体用基板をス
ペーサーを介在させて複数重ね合わせて、前記情報記録
媒体用基板の端面に回転するブラシを押しあてて研磨す
る情報記録媒体用基板の製造方法において、前記情報記
録媒体用基板の端面のコーナ部と、前記スペーサーを介
して隣り合う他の情報記録媒体用基板の端面のコーナ部
であって、前記情報記録媒体用基板の端面のコーナ部か
ら最も近いものとの間の距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ
１）≦１．１０とすることを特徴とする。
【０００９】請求項１の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、端面の長さＬ１を有する情報記録媒体用基板
の端面を研磨する際に、隣り合う情報記録媒体用基板の
端面のコーナ部間の距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦
１．１０とするので、記録面における顕著なロールオフ
の発生を防止することができる。
によれば、端面の長さＬ１を有する情報記録媒体用基板
の端面を研磨する際に、隣り合う情報記録媒体用基板の
端面のコーナ部間の距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦
１．１０とするので、記録面における顕著なロールオフ
の発生を防止することができる。
【００１０】請求項２の情報記録媒体用基板の製造方法
は、請求項１記載の情報記録媒体用基板の製造方法にお
いて、前記距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦０．７１
とすることを特徴とする。
は、請求項１記載の情報記録媒体用基板の製造方法にお
いて、前記距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦０．７１
とすることを特徴とする。
【００１１】請求項２の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦０．７１
とするので、ロールオフの値を小さくすることができ、
記録面における顕著なロールオフの発生をより防止する
ことができる。
によれば、距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦０．７１
とするので、ロールオフの値を小さくすることができ、
記録面における顕著なロールオフの発生をより防止する
ことができる。
【００１２】請求項３の情報記録媒体用基板の製造方法
は、請求項１又は２記載の情報記録媒体用基板の製造方
法において、前記距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≧
０．３９とすることを特徴とする。
は、請求項１又は２記載の情報記録媒体用基板の製造方
法において、前記距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≧
０．３９とすることを特徴とする。
【００１３】請求項３の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≧０．３９
とするので、面取面の削り残しを防止することができ
る。
によれば、距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≧０．３９
とするので、面取面の削り残しを防止することができ
る。
【００１４】請求項４の情報記録媒体用基板の製造方法
は、請求項１乃至３のいずれか１項記載の情報記録媒体
用基板の製造方法において、前記距離Ｌ２を０．７１≧
（Ｌ２）／２（Ｌ１）≧０．５７とすることを特徴とす
る。
は、請求項１乃至３のいずれか１項記載の情報記録媒体
用基板の製造方法において、前記距離Ｌ２を０．７１≧
（Ｌ２）／２（Ｌ１）≧０．５７とすることを特徴とす
る。
【００１５】請求項４の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、距離Ｌ２を０．７１≧（Ｌ２）／２（Ｌ１）
≧０．５７とするので、短時間で端面研磨が実行され、
記録面における顕著なロールオフの発生を防止すること
ができると共に面取面の削り残しを防止することができ
る。
によれば、距離Ｌ２を０．７１≧（Ｌ２）／２（Ｌ１）
≧０．５７とするので、短時間で端面研磨が実行され、
記録面における顕著なロールオフの発生を防止すること
ができると共に面取面の削り残しを防止することができ
る。
【００１６】請求項５の情報記録媒体用基板の製造方法
は、請求項１乃至４のいずれか１項記載の情報記録媒体
用基板の製造方法において、前記情報記録媒体用基板の
端面の研磨には、酸化セリウムを主成分とする研磨剤を
使用することを特徴とする。
は、請求項１乃至４のいずれか１項記載の情報記録媒体
用基板の製造方法において、前記情報記録媒体用基板の
端面の研磨には、酸化セリウムを主成分とする研磨剤を
使用することを特徴とする。
【００１７】請求項６の情報記録媒体用基板の製造方法
は、請求項１乃至５のいずれか１項記載の情報記録媒体
用基板の製造方法において、前記ブラシは樹脂製の毛を
有することを特徴とする。
は、請求項１乃至５のいずれか１項記載の情報記録媒体
用基板の製造方法において、前記ブラシは樹脂製の毛を
有することを特徴とする。
【００１８】請求項６の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、ブラシは樹脂製の毛を有するので、毛先が記
録面まで達することができ、面取面の削り残しを防止す
ることができる。
によれば、ブラシは樹脂製の毛を有するので、毛先が記
録面まで達することができ、面取面の削り残しを防止す
ることができる。
【００１９】請求項７の情報記録媒体用基板の製造方法
は、請求項６記載の情報記録媒体用基板の製造方法にお
いて、前記樹脂製の毛がナイロンであることを特徴とす
る。
は、請求項６記載の情報記録媒体用基板の製造方法にお
いて、前記樹脂製の毛がナイロンであることを特徴とす
る。
【００２０】好ましくは、前記樹脂製の毛は６−６ナイ
ロンである。
ロンである。
【００２１】請求項７の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、樹脂製の毛がナイロンであるので、植毛に腰
があり耐水性があるという効果を奏する。
によれば、樹脂製の毛がナイロンであるので、植毛に腰
があり耐水性があるという効果を奏する。
【００２２】
【発明の実施の形態】本発明者は、上記目的を達成すべ
く鋭意検討を行った結果、端部が長さＬ１を有する端面
と該端面のコーナ部で屈折して続く面取面とで構成され
る情報記録媒体用基板をスペーサーを介在させて複数重
ね合わせて、これらの情報記録媒体用基板の端面に回転
するブラシを押しあてて研磨する際に、情報記録媒体用
基板の端面のコーナ部と、スペーサーを介して隣り合う
他の情報記録媒体用基板の端面のコーナ部であって、情
報記録媒体用基板の端面のコーナ部から最も近いものと
の間の距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦１．１０とし
たとき、記録面における顕著なロールオフの発生を防止
することができることを見出した。
く鋭意検討を行った結果、端部が長さＬ１を有する端面
と該端面のコーナ部で屈折して続く面取面とで構成され
る情報記録媒体用基板をスペーサーを介在させて複数重
ね合わせて、これらの情報記録媒体用基板の端面に回転
するブラシを押しあてて研磨する際に、情報記録媒体用
基板の端面のコーナ部と、スペーサーを介して隣り合う
他の情報記録媒体用基板の端面のコーナ部であって、情
報記録媒体用基板の端面のコーナ部から最も近いものと
の間の距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦１．１０とし
たとき、記録面における顕著なロールオフの発生を防止
することができることを見出した。
【００２３】本発明は、上記研究の結果に基づいてなさ
れたものである。
れたものである。
【００２４】以下、本発明の実施の形態に係る情報記録
媒体用基板の製造方法を図面を参照しながら説明する。
媒体用基板の製造方法を図面を参照しながら説明する。
【００２５】図１は、本発明の実施の形態に係る情報記
録媒体用基板の製造手順を示す工程図であり、本情報記
録媒体用基板は、円盤加工工程Ｐ１→内外周端面面取り
工程Ｐ２→外周端面研磨工程Ｐ３→内周端面研磨工程Ｐ
４→主表面粗研磨工程Ｐ５→主表面第１精密研磨工程Ｐ
６→主表面第２精密研磨工程Ｐ７→化学強化工程Ｐ８を
経て作製される。
録媒体用基板の製造手順を示す工程図であり、本情報記
録媒体用基板は、円盤加工工程Ｐ１→内外周端面面取り
工程Ｐ２→外周端面研磨工程Ｐ３→内周端面研磨工程Ｐ
４→主表面粗研磨工程Ｐ５→主表面第１精密研磨工程Ｐ
６→主表面第２精密研磨工程Ｐ７→化学強化工程Ｐ８を
経て作製される。
【００２６】以下、上記各工程を順次説明する。
【００２７】まず、厚み１．１ｍｍのアルミノシリケー
トガラスを母材とするガラス素板をガラスカッター又は
コアドリルで、所定の大きさのディスク状に切り出し
て、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工することに
より、ディスク状のガラス基板を作成する（円盤加工工
程Ｐ１）。
トガラスを母材とするガラス素板をガラスカッター又は
コアドリルで、所定の大きさのディスク状に切り出し
て、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工することに
より、ディスク状のガラス基板を作成する（円盤加工工
程Ｐ１）。
【００２８】次に、円筒状の砥石を用いて上記工程Ｐで
作成されたガラス基板の外周端面及び内周端面に所定の
面取り加工を行い（内外周端面面取り工程Ｐ２）、平均
粒径３μｍの遊離酸化セリウム砥粒を主成分とする研磨
剤を用いて内外周端面の表面粗さをＲａで約０．１μ
ｍ、Ｒｍａｘで約１．１μｍとなるようにブラシ研磨を
行う（外周端面研磨工程Ｐ３及び内周端面研磨工程Ｐ
４）。
作成されたガラス基板の外周端面及び内周端面に所定の
面取り加工を行い（内外周端面面取り工程Ｐ２）、平均
粒径３μｍの遊離酸化セリウム砥粒を主成分とする研磨
剤を用いて内外周端面の表面粗さをＲａで約０．１μ
ｍ、Ｒｍａｘで約１．１μｍとなるようにブラシ研磨を
行う（外周端面研磨工程Ｐ３及び内周端面研磨工程Ｐ
４）。
【００２９】その後、内外周の研磨されたガラス基板の
厚み揃えや平坦度及びうねりの改善のために、粒度＃１
０００（平均粒径９〜１０μｍ）のアルミナ砥粒研磨剤
を用いてガラス基板の主表面両面の粗研磨を行い（主表
面粗研磨工程Ｐ５）、この工程Ｐ５で残留した傷や歪み
を除去するためにガラス基板の主表面を平均粒径１．２
μｍの酸化セリウム研磨剤を用いてポリシャ（硬質布）
により研磨する（主表面第１精密研磨工程Ｐ６）。
厚み揃えや平坦度及びうねりの改善のために、粒度＃１
０００（平均粒径９〜１０μｍ）のアルミナ砥粒研磨剤
を用いてガラス基板の主表面両面の粗研磨を行い（主表
面粗研磨工程Ｐ５）、この工程Ｐ５で残留した傷や歪み
を除去するためにガラス基板の主表面を平均粒径１．２
μｍの酸化セリウム研磨剤を用いてポリシャ（硬質布）
により研磨する（主表面第１精密研磨工程Ｐ６）。
【００３０】次いで、所望の平滑面にするために上記工
程Ｐ６で研磨されたガラス基板の主表面を、更に、平均
粒径０．８μｍの酸化セリウム研磨剤を用いてポリシャ
（軟質布）により研磨し（主表面第２精密研磨工程Ｐ
７）、この工程Ｐ７で研磨されたガラス基板を硝酸カリ
ウム６０質量％及び硝酸ナトリウム４０質量％からなる
溶融塩中に４８０度で２時間漬け、ガラス基板中にカリ
ウムイオン及びナトリウムイオンを含有させてガラス基
板を強化して（化学強化工程Ｐ８）、ガラス基板の製造
を終了する。
程Ｐ６で研磨されたガラス基板の主表面を、更に、平均
粒径０．８μｍの酸化セリウム研磨剤を用いてポリシャ
（軟質布）により研磨し（主表面第２精密研磨工程Ｐ
７）、この工程Ｐ７で研磨されたガラス基板を硝酸カリ
ウム６０質量％及び硝酸ナトリウム４０質量％からなる
溶融塩中に４８０度で２時間漬け、ガラス基板中にカリ
ウムイオン及びナトリウムイオンを含有させてガラス基
板を強化して（化学強化工程Ｐ８）、ガラス基板の製造
を終了する。
【００３１】次に、上記外周端面研磨工程Ｐ３及び内周
端面研磨工程Ｐ４について詳細に説明する。
端面研磨工程Ｐ４について詳細に説明する。
【００３２】図２は、図１の外周端面研磨工程Ｐ３を示
す模式図である。
す模式図である。
【００３３】同図において、符号１及び符号２は、厚さ
１．１５ｍｍのガラス基板を３００枚重ねたガラスワー
クであり、符号３及び符号４は、ガラスワーク１，２の
外周端面を研磨するブラシであり、樹脂製の毛が植毛さ
れている。ガラスワーク１，２は、ガラス基板とスペー
サとが交互に積層されてできたものであり、スペーサは
各ガラス基板の記録面に傷がつかないようにするため及
びガラス基板を所定の反りにするために設けられてい
る。ブラシ３，４は、毛の長さが５〜１６ｍｍであり、
毛径φが０．１〜０．３ｍｍであり、その材質は６−６
ナイロンである。
１．１５ｍｍのガラス基板を３００枚重ねたガラスワー
クであり、符号３及び符号４は、ガラスワーク１，２の
外周端面を研磨するブラシであり、樹脂製の毛が植毛さ
れている。ガラスワーク１，２は、ガラス基板とスペー
サとが交互に積層されてできたものであり、スペーサは
各ガラス基板の記録面に傷がつかないようにするため及
びガラス基板を所定の反りにするために設けられてい
る。ブラシ３，４は、毛の長さが５〜１６ｍｍであり、
毛径φが０．１〜０．３ｍｍであり、その材質は６−６
ナイロンである。
【００３４】ブラシ３，４でガラスワーク１，２の外周
端面を研磨するときには、ブラシ３，４をガラスワーク
１，２の外周端面に密着させて、この密着部分に粒径
１．２μｍの酸化セリウムの研磨剤を供給しながら、ブ
ラシ３，４を垂直上下方向に２０〜３０ｍｍ揺動させる
と共に４００〜７００ｒｐｍで反時計回転させ、同時に
ガラスワーク１，２も４０〜６０ｒｐｍで反時計回転さ
せて、研磨を実行している。
端面を研磨するときには、ブラシ３，４をガラスワーク
１，２の外周端面に密着させて、この密着部分に粒径
１．２μｍの酸化セリウムの研磨剤を供給しながら、ブ
ラシ３，４を垂直上下方向に２０〜３０ｍｍ揺動させる
と共に４００〜７００ｒｐｍで反時計回転させ、同時に
ガラスワーク１，２も４０〜６０ｒｐｍで反時計回転さ
せて、研磨を実行している。
【００３５】図３は、図１の内周端面研磨工程Ｐ４を示
す模式図である。
す模式図である。
【００３６】同図において、ガラスワーク１は図１の外
周端面研磨工程Ｐ３で外周端面が研磨されたものであ
り、符号５はガラスワーク１の内周端面を研磨するブラ
シであり、樹脂製の毛を有している。ブラシ５は、毛の
長さが５〜７ｍｍであり、毛径φが０．１〜０．３ｍｍ
であり、その材質は６−６ナイロンである。
周端面研磨工程Ｐ３で外周端面が研磨されたものであ
り、符号５はガラスワーク１の内周端面を研磨するブラ
シであり、樹脂製の毛を有している。ブラシ５は、毛の
長さが５〜７ｍｍであり、毛径φが０．１〜０．３ｍｍ
であり、その材質は６−６ナイロンである。
【００３７】ブラシ５でガラスワーク１の外周端面を研
磨するときには、ブラシ５をガラスワーク１の内周端面
に密着させて、この密着部分に粒径１．２μｍの酸化セ
リウムの研磨剤を供給しながら、ブラシ５を垂直上下方
向に１０〜１５ｍｍ揺動させる共に４０００〜５０００
ｒｐｍで反時計回転させ、同時にガラスワーク１，２も
４０〜６０ｒｐｍで反時計回転させて、研磨を実行して
いる。
磨するときには、ブラシ５をガラスワーク１の内周端面
に密着させて、この密着部分に粒径１．２μｍの酸化セ
リウムの研磨剤を供給しながら、ブラシ５を垂直上下方
向に１０〜１５ｍｍ揺動させる共に４０００〜５０００
ｒｐｍで反時計回転させ、同時にガラスワーク１，２も
４０〜６０ｒｐｍで反時計回転させて、研磨を実行して
いる。
【００３８】
【実施例】本発明の上記知見を確認するために以下のよ
うな実験を行った。
うな実験を行った。
【００３９】上記外周端面研磨工程Ｐ３及び内周端面研
磨工程Ｐ４において、表１に示すガラス基板の重ね合わ
せ条件を満たすように、（１）０．３ｍｍ、（２）０．
１５ｍｍ、（３）０．１ｍｍの３種類の毛径φのブラシ
を用いて、それぞれ積層されたガラス基板の端面研磨を
実行した。
磨工程Ｐ４において、表１に示すガラス基板の重ね合わ
せ条件を満たすように、（１）０．３ｍｍ、（２）０．
１５ｍｍ、（３）０．１ｍｍの３種類の毛径φのブラシ
を用いて、それぞれ積層されたガラス基板の端面研磨を
実行した。
【００４０】この実験結果を理解するのに必要なパラメ
ータを図４に示す。
ータを図４に示す。
【００４１】同図において、パラメータｔはガラス基板
１０，１２の厚みを示し、パラメータｄはスペーサ１１
の厚みを示し、パラメータＬ１はガラス基板の端面の長
さを示し、パラメータＬ２はガラス基板１０の接点ａか
らガラス基板１２の接点ｂまでの距離を示し、パラメー
タＬ３はガラス基板１０，１２の面取幅を示す。
１０，１２の厚みを示し、パラメータｄはスペーサ１１
の厚みを示し、パラメータＬ１はガラス基板の端面の長
さを示し、パラメータＬ２はガラス基板１０の接点ａか
らガラス基板１２の接点ｂまでの距離を示し、パラメー
タＬ３はガラス基板１０，１２の面取幅を示す。
【００４２】また、パラメータｔ、パラメータｄ、及び
パラメータＬ１，Ｌ２，Ｌ３の具体的な数値を以下の表
１のように定める。ここで、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータ
は、表１のパラメータＬ１，Ｌ２から算出される。ま
た、表１のガラスの重ね合わせ条件は、以下の表２〜表
４に記載されたガラスの重ね合わせ条件に対応するもの
である。
パラメータＬ１，Ｌ２，Ｌ３の具体的な数値を以下の表
１のように定める。ここで、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータ
は、表１のパラメータＬ１，Ｌ２から算出される。ま
た、表１のガラスの重ね合わせ条件は、以下の表２〜表
４に記載されたガラスの重ね合わせ条件に対応するもの
である。
【００４３】
【表１】
【００４４】以下、（１）０．３ｍｍの毛径φのブラシ
を用いて、端面研磨を実行したときのガラス基板の加工
時間、ロールオフの値、面取角度、記録面のダメージの
歩留、及び面取面の削り残しの位置を表２に示す。
を用いて、端面研磨を実行したときのガラス基板の加工
時間、ロールオフの値、面取角度、記録面のダメージの
歩留、及び面取面の削り残しの位置を表２に示す。
【００４５】
【表２】
【００４６】表２において、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータ
は、図４で示すように、ガラス基板の形状によって一義
的に定まる端面の長さＬ１と、ガラス基板の形状によっ
て一義的に定まる面取幅Ｌ３及び隣り合うガラス基板に
介在するように設けられたスペーサの厚みｄによって定
まる距離Ｌ２との二者で定められる。従って、このパラ
メータは単にスペーサの厚みｄによって定まるものでは
ない。
は、図４で示すように、ガラス基板の形状によって一義
的に定まる端面の長さＬ１と、ガラス基板の形状によっ
て一義的に定まる面取幅Ｌ３及び隣り合うガラス基板に
介在するように設けられたスペーサの厚みｄによって定
まる距離Ｌ２との二者で定められる。従って、このパラ
メータは単にスペーサの厚みｄによって定まるものでは
ない。
【００４７】加工時間は、ガラス基板の端面及び面取面
をアルミナ固定砥粒３２５番と５００番を用いて研磨し
たときに、該ガラス基板の端面及び面取面を５０倍の顕
微鏡で観察して、滑面を呈するに至るまでに要する時間
である。
をアルミナ固定砥粒３２５番と５００番を用いて研磨し
たときに、該ガラス基板の端面及び面取面を５０倍の顕
微鏡で観察して、滑面を呈するに至るまでに要する時間
である。
【００４８】端部形状は、図８で示すように、ガラス基
板の記録面の外周又は内周近傍におけるダレの大きさで
ある。
板の記録面の外周又は内周近傍におけるダレの大きさで
ある。
【００４９】記録面のダメージの歩留は、ガラス基板の
記録面におけるキズの有無を検査して求めた値である。
この検査は約２０μｍの異物及びキズを検出するもので
あり、１枚のガラス基板の１個でも異物及びキズがある
ものを不合格として、１００枚のサンプルを測定した。
記録面におけるキズの有無を検査して求めた値である。
この検査は約２０μｍの異物及びキズを検出するもので
あり、１枚のガラス基板の１個でも異物及びキズがある
ものを不合格として、１００枚のサンプルを測定した。
【００５０】面取面の削り残しは、面取面の記録面に近
い部分にできる削り残しの位置を示し、具体的には、図
４の接点ｃから接点ａ方向に測定された距離を示す。
い部分にできる削り残しの位置を示し、具体的には、図
４の接点ｃから接点ａ方向に測定された距離を示す。
【００５１】以上の項目は、後述する表２、表３、表５
においても同様である。
においても同様である。
【００５２】上記表２によれば、Ｌ２／２Ｌ１のパラメ
ータの値が０．５７より小さいときには（比較例Ａ１〜
Ａ３）、毛径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄ
の値が小さく、ブラシの毛先が面取面に十分に当たらな
いため、面取面の削り残しが生じる。
ータの値が０．５７より小さいときには（比較例Ａ１〜
Ａ３）、毛径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄ
の値が小さく、ブラシの毛先が面取面に十分に当たらな
いため、面取面の削り残しが生じる。
【００５３】この削り残しは、その削り残し部分にゴミ
の付着を生じさせ、また、その部分が磁気記録媒体製造
の種々の工程でガラス基板を収納する樹脂製カセットの
表面を削り、微小かつ微量ではあるが発塵の問題を引き
起こす。
の付着を生じさせ、また、その部分が磁気記録媒体製造
の種々の工程でガラス基板を収納する樹脂製カセットの
表面を削り、微小かつ微量ではあるが発塵の問題を引き
起こす。
【００５４】また、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値が
０．５７より小さいときには（比較例Ａ１〜Ａ３）、端
部形状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じるこ
とはない。尚、４０ｎｍを超えるロールオフが生じる
と、ヘッドの走行安定性や読み取り及び書き込みの正確
度が低下し、エラー発生が多くなるという問題が生じ
る。
０．５７より小さいときには（比較例Ａ１〜Ａ３）、端
部形状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じるこ
とはない。尚、４０ｎｍを超えるロールオフが生じる
と、ヘッドの走行安定性や読み取り及び書き込みの正確
度が低下し、エラー発生が多くなるという問題が生じ
る。
【００５５】また、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値が
０．５７以上、１．１０以下のときには（実施例Ａ１〜
Ａ５）、面取面の削り残しが生じることはなく、端部形
状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じることも
ない。
０．５７以上、１．１０以下のときには（実施例Ａ１〜
Ａ５）、面取面の削り残しが生じることはなく、端部形
状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じることも
ない。
【００５６】一方、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値が
１．１０より大きいときには（比較例Ａ４〜Ａ７）、毛
径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄの値が大き
いため、面取面の削り残しが生じることはないが、端部
形状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じる。
１．１０より大きいときには（比較例Ａ４〜Ａ７）、毛
径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄの値が大き
いため、面取面の削り残しが生じることはないが、端部
形状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じる。
【００５７】次に、（２）０．１５ｍｍの毛径φのブラ
シを用いて、端面研磨を実行したときのガラス基板の加
工時間、ロールオフの値、面取角度、記録面のダメージ
の歩留、及び面取面の削り残しの位置を表３に示す。
シを用いて、端面研磨を実行したときのガラス基板の加
工時間、ロールオフの値、面取角度、記録面のダメージ
の歩留、及び面取面の削り残しの位置を表３に示す。
【００５８】
【表３】
【００５９】上記表３によれば、Ｌ２／２Ｌ１のパラメ
ータの値が０．４４より小さいときには（比較例Ｂ１〜
Ｂ２）、毛径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄ
の値が小さく、ブラシの毛先が面取面に十分に当たらな
いため、面取面の削り残しが生じるが、端部形状におい
て４０ｎｍを超えるロールオフが生じることはない。
ータの値が０．４４より小さいときには（比較例Ｂ１〜
Ｂ２）、毛径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄ
の値が小さく、ブラシの毛先が面取面に十分に当たらな
いため、面取面の削り残しが生じるが、端部形状におい
て４０ｎｍを超えるロールオフが生じることはない。
【００６０】また、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値が
０．４４以上、１．１０以下のときには（実施例Ｂ１〜
Ｂ６）、面取面の削り残しが生じることはなく、端部形
状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じることも
ない。
０．４４以上、１．１０以下のときには（実施例Ｂ１〜
Ｂ６）、面取面の削り残しが生じることはなく、端部形
状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じることも
ない。
【００６１】一方、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値が
１．１０より大きいときには（比較例Ｂ３〜Ｂ６）、毛
径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄの値が大き
いため、面取面の削り残しが生じることはないが、端部
形状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じる。
１．１０より大きいときには（比較例Ｂ３〜Ｂ６）、毛
径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄの値が大き
いため、面取面の削り残しが生じることはないが、端部
形状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じる。
【００６２】次いで、（３）０．１ｍｍの毛径φのブラ
シを用いて、端面研磨を実行したときのガラス基板の加
工時間、ロールオフの値、面取角度、記録面のダメージ
の歩留、及び面取面の削り残しの位置を表４に示す。
シを用いて、端面研磨を実行したときのガラス基板の加
工時間、ロールオフの値、面取角度、記録面のダメージ
の歩留、及び面取面の削り残しの位置を表４に示す。
【００６３】
【表４】
【００６４】上記表４によれば、Ｌ２／２Ｌ１のパラメ
ータの値が０．３９より小さいときには（比較例Ｃ
１）、毛径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄの
値が小さく、ブラシの毛先が面取面に十分に当たらない
ため、面取面の削り残しが生じるが、端部形状において
４０ｎｍを超えるロールオフが生じることはない。
ータの値が０．３９より小さいときには（比較例Ｃ
１）、毛径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄの
値が小さく、ブラシの毛先が面取面に十分に当たらない
ため、面取面の削り残しが生じるが、端部形状において
４０ｎｍを超えるロールオフが生じることはない。
【００６５】また、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値が
０．３９以上、１．００以下のときには（実施例Ｃ１〜
Ｃ６）、面取面の削り残しが生じることはなく、端部形
状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じることも
ない。
０．３９以上、１．００以下のときには（実施例Ｃ１〜
Ｃ６）、面取面の削り残しが生じることはなく、端部形
状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じることも
ない。
【００６６】一方、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値が
１．００より大きいときには（実施例Ｃ２〜Ｃ６）、毛
径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄの値が大き
いため、面取面の削り残しが生じることはないが、端部
形状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じる。
１．００より大きいときには（実施例Ｃ２〜Ｃ６）、毛
径φに対して面取幅Ｌ３やスペーサの厚みｄの値が大き
いため、面取面の削り残しが生じることはないが、端部
形状において４０ｎｍを超えるロールオフが生じる。
【００６７】表２〜表４を比較すると、毛径φの値が大
きいブラシほど、加工時間が短いことがわかる。
きいブラシほど、加工時間が短いことがわかる。
【００６８】以上の表２〜表４におけるロールオフが１
０ｎｍ及び４０ｎｍ以下の範囲と、面取面の削り残しの
生じない範囲とをまとめたものを図５に示す。
０ｎｍ及び４０ｎｍ以下の範囲と、面取面の削り残しの
生じない範囲とをまとめたものを図５に示す。
【００６９】同図によれば、いずれの毛径のブラシを用
いても、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値を１．００以下
に設定すれば、ロールオフの値を４０ｎｍ以下にするこ
とができ、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値を０．６４以
下に設定すれば、ロールオフの値を１０ｎｍ以下にする
ことができる。また、いずれの毛径のブラシを用いて
も、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値を０．５７以上に設
定すれば、面取面の削り残しを生じないようにすること
ができる。
いても、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値を１．００以下
に設定すれば、ロールオフの値を４０ｎｍ以下にするこ
とができ、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値を０．６４以
下に設定すれば、ロールオフの値を１０ｎｍ以下にする
ことができる。また、いずれの毛径のブラシを用いて
も、Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値を０．５７以上に設
定すれば、面取面の削り残しを生じないようにすること
ができる。
【００７０】上述したように、本実施の形態によれば、
０．３ｍｍ及び０．１５ｍｍの毛径φのブラシを使用し
て、ガラス基板の端面研磨をしたときに、Ｌ２／２Ｌ１
のパラメータの値を１．１０以下にすると、端部形状に
おいて４０ｎｍを超えるロールオフが生じることがない
ので、記録面における顕著なロールオフの発生を防止す
ることができる。
０．３ｍｍ及び０．１５ｍｍの毛径φのブラシを使用し
て、ガラス基板の端面研磨をしたときに、Ｌ２／２Ｌ１
のパラメータの値を１．１０以下にすると、端部形状に
おいて４０ｎｍを超えるロールオフが生じることがない
ので、記録面における顕著なロールオフの発生を防止す
ることができる。
【００７１】Ｌ２／２Ｌ１のパラメータの値を０．７１
以下にすると、端部形状において１０ｎｍを超えるロー
ルオフが生じることはないので、さらに記録面における
顕著なロールオフの発生を防止することができる。
以下にすると、端部形状において１０ｎｍを超えるロー
ルオフが生じることはないので、さらに記録面における
顕著なロールオフの発生を防止することができる。
【００７２】０．１０ｍｍの毛径φのブラシを使用し
て、ガラス基板の端面研磨をしたときに、Ｌ２／２Ｌ１
のパラメータの値を０．３９以上とすると、面取面の削
り残しを防止することができる。
て、ガラス基板の端面研磨をしたときに、Ｌ２／２Ｌ１
のパラメータの値を０．３９以上とすると、面取面の削
り残しを防止することができる。
【００７３】０．３ｍｍの毛径φのブラシを使用して、
ガラス基板の端面研磨をしたときに、Ｌ２／２Ｌ１のパ
ラメータの値を０．５７以上、０．７１以下とすると、
短時間で端面研磨が実行され、記録面における顕著なロ
ールオフの発生を防止することができると共に面取面の
削り残しを防止することができる。
ガラス基板の端面研磨をしたときに、Ｌ２／２Ｌ１のパ
ラメータの値を０．５７以上、０．７１以下とすると、
短時間で端面研磨が実行され、記録面における顕著なロ
ールオフの発生を防止することができると共に面取面の
削り残しを防止することができる。
【００７４】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項１の
情報記録媒体用基板の製造方法によれば、端面の長さＬ
１を有する情報記録媒体用基板の端面を研磨する際に、
隣り合う情報記録媒体用基板の端面のコーナ部間の距離
Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦１．１０とするので、記
録面における顕著なロールオフの発生を防止することが
できる。
情報記録媒体用基板の製造方法によれば、端面の長さＬ
１を有する情報記録媒体用基板の端面を研磨する際に、
隣り合う情報記録媒体用基板の端面のコーナ部間の距離
Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦１．１０とするので、記
録面における顕著なロールオフの発生を防止することが
できる。
【００７５】請求項２の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦０．７１
とするので、ロールオフの値を小さくすることができ、
記録面における顕著なロールオフの発生をより防止する
ことができる。
によれば、距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦０．７１
とするので、ロールオフの値を小さくすることができ、
記録面における顕著なロールオフの発生をより防止する
ことができる。
【００７６】請求項３の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≧０．３９
とするので、面取面の削り残しを防止することができ
る。
によれば、距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≧０．３９
とするので、面取面の削り残しを防止することができ
る。
【００７７】請求項４の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、距離Ｌ２を０．７１≧（Ｌ２）／２（Ｌ１）
≧０．５７とするので、短時間で端面研磨が実行され、
記録面における顕著なロールオフの発生を防止すること
ができると共に面取面の削り残しを防止することができ
る。
によれば、距離Ｌ２を０．７１≧（Ｌ２）／２（Ｌ１）
≧０．５７とするので、短時間で端面研磨が実行され、
記録面における顕著なロールオフの発生を防止すること
ができると共に面取面の削り残しを防止することができ
る。
【００７８】請求項６の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、ブラシは樹脂製の毛を有するので、毛先が記
録面まで達することができ、面取面の削り残しを防止す
ることができる。
によれば、ブラシは樹脂製の毛を有するので、毛先が記
録面まで達することができ、面取面の削り残しを防止す
ることができる。
【００７９】請求項７の情報記録媒体用基板の製造方法
によれば、樹脂製の毛がナイロンであるので、植毛に腰
があり耐水性があるという効果を奏する。
によれば、樹脂製の毛がナイロンであるので、植毛に腰
があり耐水性があるという効果を奏する。
【図１】本発明の実施の形態に係る情報記録媒体用基板
の製造手順を示す工程図である。
の製造手順を示す工程図である。
【図２】図１の外周端面研磨工程Ｐ３を示す模式図であ
る。
る。
【図３】図１の内周端面研磨工程Ｐ４を示す模式図であ
る。
る。
【図４】ガラス基板及びスペーサに関連するパラメータ
を説明する図である。
を説明する図である。
【図５】ブラシの毛径が０．１〜０．３ｍｍの場合にお
けるロールオフが１０ｎｍ及び４０ｎｍ以下の範囲と、
面取面の削り残しが生じない範囲とを示す図であり、
（Ａ）はブラシの毛径が０．３ｍｍの場合であり、
（Ｂ）はブラシの毛径が０．１５ｍｍの場合であり、
（Ｃ）はブラシの毛径が０．１ｍｍの場合である。
けるロールオフが１０ｎｍ及び４０ｎｍ以下の範囲と、
面取面の削り残しが生じない範囲とを示す図であり、
（Ａ）はブラシの毛径が０．３ｍｍの場合であり、
（Ｂ）はブラシの毛径が０．１５ｍｍの場合であり、
（Ｃ）はブラシの毛径が０．１ｍｍの場合である。
【図６】作製されるガラス基板の断面形状を示す図であ
る。
る。
【図７】外周端面研磨工程及び内周端面研磨工程を示す
模式図である。
模式図である。
【図８】ガラス基板の横断面図であり、（Ａ）は正常な
ガラス基板の断面を示し、（Ｂ）はロールオフが生じた
ガラス基板の断面を示す。
ガラス基板の断面を示し、（Ｂ）はロールオフが生じた
ガラス基板の断面を示す。
１，２ ガラスワーク
３，４，５ ブラシ
Claims (7)
- 【請求項１】 端部が長さＬ１を有する端面と前記端面
のコーナ部で屈折して続く面取面とで構成される情報記
録媒体用基板をスペーサーを介在させて複数重ね合わせ
て、前記情報記録媒体用基板の端面に回転するブラシを
押しあてて研磨する情報記録媒体用基板の製造方法にお
いて、 前記情報記録媒体用基板の端面のコーナ部と、前記スペ
ーサーを介して隣り合う他の情報記録媒体用基板の端面
のコーナ部であって、前記情報記録媒体用基板の端面の
コーナ部から最も近いものとの間の距離Ｌ２を（Ｌ２）
／２（Ｌ１）≦１．１０とすることを特徴とする情報記
録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項２】 前記距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≦
０．７１とすることを特徴とする請求項１記載の情報記
録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項３】 前記距離Ｌ２を（Ｌ２）／２（Ｌ１）≧
０．３９とすることを特徴とする請求項１又は２記載の
情報記録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項４】 前記距離Ｌ２を０．７１≧（Ｌ２）／２
（Ｌ１）≧０．５７とすることを特徴とする請求項１乃
至３のいずれか１項記載の情報記録媒体用基板の製造方
法。 - 【請求項５】 前記情報記録媒体用基板の端面の研磨に
は、酸化セリウムを主成分とする研磨剤を使用すること
を特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の情報
記録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項６】 前記ブラシは樹脂製の毛を有することを
特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載の情報記
録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項７】 前記樹脂製の毛がナイロンであることを
特徴とする請求項６記載の情報記録媒体用基板の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001203389A JP2003022522A (ja) | 2001-07-04 | 2001-07-04 | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001203389A JP2003022522A (ja) | 2001-07-04 | 2001-07-04 | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003022522A true JP2003022522A (ja) | 2003-01-24 |
Family
ID=19040035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001203389A Withdrawn JP2003022522A (ja) | 2001-07-04 | 2001-07-04 | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003022522A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006099949A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-04-13 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体用ガラス基板および磁気記録媒体 |
| US7175511B2 (en) | 2003-07-15 | 2007-02-13 | Hoya Corporation | Method of manufacturing substrate for magnetic disk, apparatus for manufacturing substrate for magnetic disk, and method of manufacturing magnetic disk |
| JP2007245319A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Konica Minolta Opto Inc | ガラスディスクの加工方法 |
| JP2009099250A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| JP2020040206A (ja) * | 2018-03-09 | 2020-03-19 | Hoya株式会社 | スペーサ、基板の積層体、基板の製造方法、及び磁気ディスク用基板の製造方法 |
-
2001
- 2001-07-04 JP JP2001203389A patent/JP2003022522A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7175511B2 (en) | 2003-07-15 | 2007-02-13 | Hoya Corporation | Method of manufacturing substrate for magnetic disk, apparatus for manufacturing substrate for magnetic disk, and method of manufacturing magnetic disk |
| JP2006099949A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-04-13 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体用ガラス基板および磁気記録媒体 |
| JP2007245319A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Konica Minolta Opto Inc | ガラスディスクの加工方法 |
| JP2009099250A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| JP2020040206A (ja) * | 2018-03-09 | 2020-03-19 | Hoya株式会社 | スペーサ、基板の積層体、基板の製造方法、及び磁気ディスク用基板の製造方法 |
| CN113851153A (zh) * | 2018-03-09 | 2021-12-28 | Hoya株式会社 | 间隔件、基板的层积体、基板的制造方法和磁盘用基板的制造方法 |
| JP7321893B2 (ja) | 2018-03-09 | 2023-08-07 | Hoya株式会社 | スペーサ、基板の積層体、基板の製造方法、及び磁気ディスク用基板の製造方法 |
| US11839950B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-12-12 | Hoya Corporation | Spacer and laminate |
| CN113851153B (zh) * | 2018-03-09 | 2023-12-26 | Hoya株式会社 | 间隔件、基板的层积体和基板的制造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5454180B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板 | |
| JP5542989B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP3527075B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体、及びそれらの製造方法 | |
| US20100247977A1 (en) | Subastrate for a magnetic disk and method of manufacturing the same | |
| JP4790973B2 (ja) | 研磨パッドを使用した情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその方法で得られた情報記録媒体用ガラス基板 | |
| JP2005174500A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
| US20060042317A1 (en) | Method of producing a glass substrate for a magnetic disk, Method of producing a magnetic disk, and a cylindrical glass material for a glass substrate | |
| CN108447507B (zh) | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及磨削工具 | |
| CN100385511C (zh) | 磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法 | |
| JP5454988B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP5361185B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| JP4905238B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法 | |
| JP3639277B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体、及びそれらの製造方法 | |
| JP6960970B2 (ja) | 固定砥粒砥石、及びガラス基板の製造方法 | |
| JP2003022522A (ja) | 情報記録媒体用基板の製造方法 | |
| JP5977520B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板 | |
| JP6360512B2 (ja) | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、磁気ディスク用基板の製造方法、円板状基板の製造方法 | |
| JP2010080023A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスク | |
| WO2014103986A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法 | |
| JP2005293840A (ja) | ガラスディスク基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラスディスク基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP6199047B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| JP5701938B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
| JP2013080532A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及びガラス基板 | |
| JP2013016214A (ja) | Ｈｄｄ用ガラス基板、ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法、及びｈｄｄ用磁気記録媒体 | |
| JP2010231841A (ja) | ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040301 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040416 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20041004 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060130 |
|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20081007 |