JP2003173518A

JP2003173518A - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JP2003173518A
Application number: JP2002236978A
Authority: JP
Inventors: Toshio Takizawa; 利雄滝澤
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2001-09-28
Filing date: 2002-08-15
Publication date: 2003-06-20
Anticipated expiration: 2022-08-15
Also published as: JP3665777B2

Abstract

(57)【要約】【課題】研磨残りや凹欠陥のない高平滑性の磁気記録
媒体用ガラス基板を得る。【解決手段】円板状ガラス基板を研削した後、研磨砥
粒を含む研磨液によって研磨する磁気記録媒体用ガラス
基板の製造方法において、前記研磨砥粒はコロイダルシ
リカ砥粒であって、前記研磨液にＮａＯＨを含有させる
ことにより研磨液のｐＨが１０．２を超え、１２以下と
なるように調整されていることを特徴とする磁気記録媒
体用ガラス基板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録再生が可能
な磁気記録媒体に用いられる磁気記録媒体用ガラス基板
の製造方法及び磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、さらなる高密度記録に対応可能な
磁気記録媒体が要請されている。磁気記録媒体の高密度
記録化を達成するためには、磁気記録媒体表面に対する
磁気ヘッドの浮上高さを小さくすることが重要となる。
磁気ヘッドの浮上高さは磁気記録媒体表面の表面粗さに
相関があるため、磁気記録媒体表面、磁気記録媒体用基
板の表面粗さをより平滑にする試みがなされている。

【０００３】従来より磁気記録媒体用基板として機械的
耐久性や高い平滑性が得られるなどの理由からガラス基
板が用いられている。そして、ガラス基板を平滑にする
方法として、特開平７−２４００２５や特開平１０−２
４１１４４が知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】特開平７−２４００２
５に記載されている方法は、除去ステップ（研磨工程）
として、酸性になるようにｐＨ調製されたコロイド粒子
（コロイダルシリカ）溶液を用いて磁気ディスク用基板
を作製する方法が開示されている。

【０００５】また、特開平１０−２４１１４４に記載さ
れている方法は、研削工程の後、酸化セリウム＋水を用
いた第１、２研磨工程、さらにコロイダルシリカ＋水を
用いた第３研磨工程によって磁気記録媒体用ガラス基板
を作製する方法が開示されている。

【０００６】しかし、前者の方法は研磨液として酸性の
水溶液を用いており、スラリーの凝集／定盤の腐食（酸
化）といった問題がある。また、後者の方法は、ガラス
基板表面を高平滑性とするために３段階の研磨工程を実
施しており製造コストがかかる。また、第３研磨工程で
は、コロイダルシリカ＋水の研磨液を用いているので研
磨速度が遅く、研磨時間がかかり生産性が劣る。さらに
は、研磨工程後の洗浄として、水やアルカリ水溶液を用
いて超音波洗浄が行われるが、水の場合、コロイダルシ
リカ研磨砥粒を十分に除去しきれず研磨残りが発生す
る。また、アルカリ水溶液（通常濃度７ｗｔ％（ＰＨで
は１４．２４３）による洗浄の場合、コロイダルシリカ
研磨砥粒は溶解除去されるため研磨残りの問題はない
が、コロイダルシリカ研磨砥粒を除去するためにアルカ
リ水溶液濃度や洗浄条件等を強くするとガラス基板にア
ルカリ水溶液によるダメージ（凹欠陥）が発生するとい
う問題がある。この凹欠陥は、基板上に少なくとも磁性
層を形成して磁気記録媒体を作製し、記録再生を行った
場合に、信号エラーとなる要因となる。

【０００７】そこで本発明は上記課題に鑑みてなされた
ものであり、研磨残りや凹欠陥のない高平滑性の磁気記
録媒体用ガラス基板を提供し、生産性のよい磁気記録媒
体用ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方
法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は以下の構成を要する。（構成１）円板状ガラス基板を研削した後、研磨砥粒を
含む研磨液によって研磨する磁気記録媒体用ガラス基板
の製造方法において、前記研磨砥粒はコロイダルシリカ
砥粒であって、前記研磨液にアルカリを含有させること
により研磨液のｐＨが１０．２を超え、１２以下となる
ように調製されていることを特徴とする磁気記録媒体用
ガラス基板の製造方法である。（構成２）前記コロイダルシリカ砥粒による研磨を行っ
た後、アルカリ洗浄を行うことを特徴とする構成１に記
載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法である。（構成３）前記研磨液に含有させるアルカリ及び、研磨
後のアルカリ洗浄に用いるアルカリを同じアルカリ成分
とすることを特徴とする構成１又は２に記載の磁気記録
媒体用ガラス基板の製造方法である。（構成４）前記ガラス基板は、アルミノシリケートガラ
スからなることを特徴とする構成１乃至３の何れかに記
載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法である。（構成５）構成１乃至４の何れかに記載の磁気記録媒体
用ガラス基板の製造方法によって得られた磁気記録媒体
用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成す
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。

【０００９】上記構成１によれば、研磨液としてコロイ
ダルシリカ砥粒の微細な研磨剤を用いることにより高い
平滑性が得られ、かつ研磨液にアルカリを含有させて研
磨液のｐＨが１０．２を超え、１２以下となるように調
整しているので、平滑性を維持したままガラス基板に対
する研磨速度を上げることができる。従って、従来のよ
うに研削工程の後、酸化セリウム砥粒などによる複数段
階の研磨工程を行いさらに最終研磨工程としてコロイダ
ルシリカ砥粒による精密研磨が行われていたのを、最終
研磨工程前の研磨工程を１回、又は省略することがで
き、生産性を向上させてなおかつ高平滑性のガラス基板
が得られる。

【００１０】研磨液のｐＨが１０．２以下のアルカリ性
の場合、ガラス基板に対する研磨速度が遅くなるので、
生産性に劣るので好ましくない。また、ｐＨが１２を超
える場合、コロイダルシリカ砥粒が溶解し、精密研磨が
出来ないので好ましくない。また、研磨液のＰＨが小さ
くなると、コロイダルシリカ砥粒が凝集し、好適に研磨
できなくなる場合がある。

【００１１】研磨液のｐＨを調整するアルカリとして
は、例えば、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、などが挙げられる。Ｎ
ａＯＨにより研磨液のＰＨを調節すると、好適に研磨で
きるので好ましい。

【００１２】研磨液のｐＨは生産性と研磨布の耐アルカ
リ性の点から１０．５以上１１以下とすることが好まし
い。

【００１３】コロイダルシリカ砥粒の平均粒径は、研磨
後に得る基板の平滑性（表面粗さ）によって適宜調整さ
れる。例えば、０．０２〜０．５μｍとする。近年の高
密度記録再生が可能な高い平滑性（表面粗さＲｍａｘ≦
３ｎｍ）のガラス基板を得るためには、コロイダルシリ
カの平均砥径は０．５μｍ以下を必要とする。

【００１４】またコロイダルシリカ砥粒の濃度は、加工
速度や表面粗さに応じて適宜調整される。例えば、加工
速度を考慮して２０〜３５ｗｔ％とすることが好まし
い。研磨剤濃度が高くなるに従って、基板の表面は粗く
なる。

【００１５】本発明に用いるガラス基板の材料には特に
制限はない。石英ガラス、ソーダライムガラス、アルミ
ノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、アルミノ
ボロシリケートガラス、無アルカリガラス、結晶化ガラ
スなどが挙げられる。

【００１６】上記構成２によれば、アルカリを含有させ
たコロイダルシリカ砥粒による研磨を行った後、アルカ
リ洗浄を行うことにより、コロイダルシリカの研磨残り
を確実になくすことができるとともに、コロイダルシリ
カ砥粒を溶解除去するために行なわれるアルカリ洗浄の
ガラス基板に対する負荷（アルカリ濃度やＰＨ）を低減
することができるので、凹欠陥の発生を抑制することが
できる。研磨後のアルカリ洗浄の濃度は、研磨残りをな
くすために研磨工程でのアルカリ濃度より大きいことが
望ましく、ｐＨ１４以上が好ましい。但し、アルカリ洗
浄によるガラス基板に対するダメージ（凹欠陥）が起き
ない濃度（ｐＨ）が良い。以上の観点から本発明者が研
究したところ、前記研磨後のガラス基板のアルカリ洗浄
において好適な洗浄液のＰＨは、１３．８７〜１４．２
０とするのが望ましい。

【００１７】上記構成３によれば、研磨液に含有させる
アルカリ及び、研磨後のアルカリ洗浄に用いるアルカリ
として同じアルカリ成分、特にＮａＯＨを使用すること
により、基板表面における研磨剤残りなどの付着物を効
果的に除去できるので好ましい。前記研磨後のアルカリ
洗浄においてＮａＯＨを用いる場合、洗浄液に含有する
ＮａＯＨの濃度は３ｗｔ％〜５ｗｔ％とすると好適であ
る。

【００１８】上記構成４によれば、ガラス基板の材料と
してアルミノシリケートガラスを用いることにより、ア
ルカリに対する化学的耐久性が良いので、凹欠陥の発生
を低減することができるので好ましい。

【００１９】アルカリに対する化学的耐久性が良いアル
ミノシリケートガラスの組成としては、ＳｉＯ2を５８
〜７５重量％、Ａｌ2Ｏ3を５〜２３重量％、Ｌｉ2Ｏを
３〜１０重量％、Ｎａ2Ｏを４〜１３重量％含有するガ
ラスが挙げられる。

【００２０】上記構成５によれば、上記構成１〜４によ
って得られた磁気記録媒体用ガラス基板上に少なくとも
磁性層を形成することにより、高密度記録再生が可能な
磁気記録媒体を生産性よく、エラーの発生の起きない信
頼性の高い磁気記録媒体が得られる。

【００２１】本発明に用いる磁性層の材料には特に制限
はない。例えば、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、
ＣｏＣｒＰｔＮｉ、ＣｏＣｒＰｔ、ＣｏＣｒＮｉＴａ、
ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＣｒＮｉ、ＣｏＣｒＰｔＴａＢなど
が挙げられる。

【００２２】また、磁気特性や磁気ヘッドに対する耐久
性、摺動特性に応じて、シード層、下地層、中間層、保
護層、潤滑層を必要に応じて適宜設けることができる。

【００２３】シード層は、その上に形成する層の結晶粒
径を制御する目的で設けられ、例えば、ＮｉＡｌ、Ａｌ
Ｃｏ、ＣｒＴｉ、ＣｒＮｉなどの材料を用いることがで
きる。

【００２４】下地層は、ｂｃｃ構造を有するものを用い
るのが一般的で、主に静磁気特性を良好にする目的で設
けられ、例えば、ＣｒやＣｒ合金（ＣｒＭｏ、ＣｒＶ、
ＣｒＴｉ，ＣｒＷ、ＣｒＴａなど）の材料を用いること
ができる。

【００２５】中間層は、ｈｃｐ構造を有するものを用い
るのが一般的で、ｈｃｐ構造を有する磁性層の結晶配向
を整える目的で設けられ、例えば、ＣｏＣｒ、ＣｏＣｒ
Ｂ、ＣｏＣｒＰｔ、ＣｏＣｒＰｔＴａなどの材料を用い
ることができる。

【００２６】保護層は、磁気ヘッドに対する耐久性、耐
食性のために設けられ、例えば、カーボン、水素化カー
ボン、窒化カーボン、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2などの材料を用
いることができる。

【００２７】潤滑層は、磁気ヘッドに対する特性の向上
のために設けられ、例えば、パーフルオロポリエーテル
潤滑剤を用いるのが一般的である。

【００２８】

【本発明の実施の形態】本発明を実施例を挙げて具体的
に説明する。

【００２９】（実施例１）この実施例は、（１）粗研削
工程、（２）形状加工工程、（３）端面研磨工程、
（４）精研削工程、（５）第１研磨工程、（６）最終研
磨工程、（７）最終研磨後洗浄工程、（８）化学強化工
程、（９）強化後洗浄工程、（１０）磁気ディスク製造
工程の各工程を有する。以下、各工程を説明する。

【００３０】（１）粗研削工程まず、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いたダイレ
クトプレスして、直径６６ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍの円
板状のアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を
得た。この場合、ダイレクトプレス以外に、ダウンドロ
ー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石
で切り出して円板状のガラス基板を得ても良い。なお、
アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ2：５８〜
７５重量％、Ａｌ2Ｏ3：５〜２３重量％、ＬｉＯ2：３
〜１０重量％、Ｎａ2Ｏ：４〜１３重量％を主成分とし
て含有する化学強化基板用ガラスを使用した。

【００３１】次いで、ガラス基板に研削工程を施した。
研削工程は、寸法精度及び形状精度の向上を目的として
いる。研削工程は両面研削装置を用いて行い、砥粒の粒
度を＃４００で行った。詳しくは、粒度＃４００のアル
ミナ砥粒を用い、荷重Ｌを１００ｋｇ程度に設定して、
内転ギアと外転ギアを回転させることによって、キャリ
ア内に収納したガラス基板の両面を面制度０〜１μｍ、
表面粗さＲｍａｘで６μｍ程度に仕上げた。

【００３２】（２）形状加工工程次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔
をあけると共に、外周端面も研削して直径６５ｍｍφと
した後、外周端面および内周端面に所定の面取加工を施
した。このときのガラス基板端面（内周、外周）の表面
粗さは、Ｒｍａｘで４μｍであった。

【００３３】（３）端面研磨工程次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させなが
らガラス基板の端面（内周、外周）の表面粗さをＲｍａ
ｘで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。上記端
面研磨工程を終えたガラス基板の表面を水洗浄した。

【００３４】（４）精研削工程次に、砥粒の粒度を＃１０００に変え、ガラス基板表面
を研削することにより、平坦度３μｍ、表面粗さＲｍａ
ｘが２μｍ程度、Ｒａが０．２μｍ程度とした。尚、Ｒ
ｍａｘ、Ｒａは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（デジタルイ
ンスツルメンツ社製ナノスコープ）にて測定、平坦度、
は平坦度測定装置で測定したもので、基板表面の最も高
い部分と、最も低い部分との上下方向（表面に垂直な方
向）の距離（高低差）である。上記精研削工程を終えた
ガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄層に順次浸漬して
洗浄した。

【００３５】（５）第１研磨工程次に、研磨工程を施した。研磨工程は、上述した研磨工
程で残留したキズや歪みの除去を目的とするもので、両
面研磨装置を用いて行った。詳しくは、ポリシャとして
硬質ポリシャを用い、以下の研磨条件で実施した。研磨液：酸化セリウム（平均粒径：１．５μｍ）＋水荷重：８０〜１００ｇ／ｃｍ2 研磨時間：３０〜５０分除去量：３５〜４５μｍ上記第１研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純
水、純水、ＩＰＡ、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄層に順
次浸漬して洗浄した。

【００３６】（６）最終研磨工程次に、第１研磨工程で使用したタイプと同じ両面研磨装
置を用い、ポリシャとして軟質ポリシャに変えて最終研
磨工程を実施した。研磨条件は、研磨液：コロイダルシリカ（平均粒径：０．１５μｍ、
研磨剤濃度：３２ｗｔ％）＋ＮａＯＨ（濃度１ｍｏｌ／
ｌ添加量４００ｍｌ）＋水（ｐＨ：１０．５（ＥＵＴＥＣ社製ｐＨＳｃａｎによ
り測定））荷重：６０〜１２０ｇ／ｃｍ2 研磨時間：５〜４０分除去量：０．５〜８μｍとした。図１に示すように、研磨速度は、０．０７μｍ
／ｍｉｎであった。

【００３７】（７）最終研磨後洗浄工程上記最終研磨工程を終えたガラス基板を、濃度３〜５ｗ
ｔ％のＮａＯＨ水溶液に浸漬してアルカリ洗浄を行っ
た。尚、洗浄は超音波を印加して行った。さらに、中性
洗剤、純水、純水、ＩＰＡ、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗
浄槽に順次浸漬して洗浄した。この得られたガラス基板
の表面をＡＦＭ（デジタルインスツルメンツ社製ナノス
コープ）により観察したところ、コロイダルシリカの研
磨残りは確認されなかった。また、アルカリ洗浄ダメー
ジによる凹欠陥もなかった。なお、濃度３ｗｔ％〜５ｗ
ｔ％のＮａＯＨ水溶液のＰＨは、１３．８７５〜１４．
０９７である。

【００３８】（８）化学強化工程次に、上記研削、研磨、最終研磨後洗浄工程を終えたガ
ラス基板に化学強化を施した。化学強化には、硝酸カリ
ウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した
化学強化塩を用意し、この化学強化塩を３７５℃に加熱
し、３００℃に予熱された洗浄済みガラス基板を約３時
間浸漬して行った。このように、化学強化塩に浸漬処理
することによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、
ナトリウムイオンは、化学強化塩中のナトリウムイオ
ン、カリウムイオンにそれぞれ置換されガラス基板は強
化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の
厚さは約１００〜２００μｍであった。上記化学強化を
終えたガラス基板を２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約
１０分維持した。

【００３９】（９）強化後洗浄工程上記急冷を終えたガラス基板を、約４０℃に加熱した硫
酸に浸漬し、超音波を掛けながら洗浄を行った。このよ
うにして得られたガラス基板の表面粗さをＡＦＭ（デジ
タルインスツルメンツ社製ナノスコープ）で測定したと
ころ、Ｒｍａｘ＝２．６２ｎｍ、Ｒａ＝０．３１ｎｍで
良好な結果が得られた。従って、Ｒｍａｘ／Ｒａは。
８．４５である。なお、Ｒｍａｘ及びＲａは、日本工業
規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１に規定の定義に基づく。

【００４０】（１０）磁気ディスク製造工程上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板
に対し、スパッタリング装置にて、ＮｉＡｌシード層、
ＣｒＶ下地層、ＣｏＣｒＰｔＢ磁性層、水素化カーボン
保護層を成膜し、ディップ法によりパーフルオロポリエ
ーテル潤滑層を形成して磁気ディスクを作製した。得ら
れた磁気ディスクに対し、グライド高さ、ロードアンロ
ード試験（４０万回）を行ったところ、浮上量４．５ｎ
ｍまでは、ヘッド−媒体間に接触が発生しないことが確
認できた。また、クラッシュが発生せず、記録再生試験
においても信号エラーはなかった。なお、グライド高さ
の観点でいえば、５．０ｎｍまでは、ヘッド−媒体間に
接触が発生しないことが好ましい。即ち、グライド高さ
は５．０ｎｍ以下であることが好ましい。

【００４１】（実施例２）次に、実施例１において、研
磨液中に含まれるアルカリの量を調整し、研磨液のｐＨ
濃度を調整した以外は実施例１と同様にして磁気ディス
ク用ガラス基板及び磁気ディスクを作製した。

【００４２】その結果、図１に示すように、ｐＨ濃度を
上げるにしたがって、ガラス基板に対する研磨速度が向
上することが確認できる。また、研磨液のｐＨ濃度が１
２を超えた場合、コロイダルシリカの溶解が始まり加工
できない結果となった。

【００４３】尚、研磨液のｐＨ濃度が１２以下の範囲内
でｐＨ濃度を変えて得られたガラス基板の表面粗さをＡ
ＦＭ（デジタルインスツルメンツ社製ナノスコープ）で
確認したところ、実施例１と同程度であり表面粗さには
ほとんど変化していないことが確認された。

【００４４】実施例１と同様にこれらの得られたガラス
基板表面のコロイダルシリカの研磨残りは確認されず、
また、アルカリ洗浄ダメージによる凹欠陥もなかった。

【００４５】また、得られた磁気ディスクに対し、グラ
イド高さ、ロードアンロード試験（４０万回）を行った
ところ、浮上量４．５ｎｍまでは、ヘッド−媒体間に接
触が発生しないことが確認できた。また、クラッシュが
発生せず、記録再生試験においても信号エラーはなかっ
た。

【００４６】（比較例１）次に実施例１における最終研
磨工程において、研磨液としてＮａＯＨを加えなかった
（研磨液のｐＨ濃度：１０．２）以外は実施例１と同様
にして磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを作
製した。尚、コロイダルシリカ砥粒の研磨残りをなくす
ために、アルカリ洗浄におけるＮａＯＨ濃度は７ｗｔ％
とし、超音波を強く印加した。なお、アルカリ洗浄にお
けるＮａＯＨ濃度が７ｗｔ％のとき、ＰＨは１４．２４
３であった。比較例１の結果は図１に示す。

【００４７】その結果、図１に示すとおり、研磨速度
は、０．０４μｍ／ｍｉｎに低下した。従って、実施例
と同様の表面粗さに仕上げるためには研磨加工時間が余
計にかかり、これは、生産枚数に比べると１００枚に相
当する。（また、特開平１０−２４１１４４にあるよう
に、研磨工程を３段階にした場合と実施例と比較した場
合、生産枚数に比べると１５０枚に相当する。）

【００４８】実施例１では、研磨速度は０．０７μｍ／
ｍｉｎであったので、例えば、研磨加工に必要な研磨除
去量が１．５μｍであった場合、２１．４分の研磨時間
が必要である。比較例１では、研磨速度は０．０４μｍ
／ｍｉｎであったので、例えば研磨加工に必要な研磨除
去量が１．５μｍであった場合、３７．５分の研磨時間
が必要である。

【００４９】従って、例えば、一度に１００枚の磁気デ
ィスク用ガラス基板を研磨する研磨装置を用いた場合に
あっては、実施例１の場合、１時間で約３００枚の研磨
加工でできるのに対し、比較例１の場合、１時間で１０
０枚程度〜２００枚未満しか研磨加工できないために、
製造コストが高くなる。本発明においては、研磨速度は
０．０５μｍ／ｍｉｎ以上が得られると好ましい。この
場合、例えば、研磨加工に必要な研磨除去量が１．５μ
ｍであった場合、研磨時間は３０分となるので、例え
ば、一度に１００枚の磁気ディスク用ガラス基板を研磨
する研磨装置を用いた場合にあっては、１時間で２００
枚の研磨加工が可能となる。

【００５０】また、ガラス基板表面のコロイダルシリカ
の研磨残りは確認されなかったが、研磨剤を落とすため
にアルカリ（ＮａＯＨ）濃度が高く、洗浄条件（超音
波）も強くなり、アルカリ洗浄ダメージによる凹欠陥も
見られた。

【００５１】また、得られた磁気ディスクに対し、グラ
イド高さ、ロードアンロード試験を行った結果、実施例
との差は見られなかったが、記録再生試験において凹欠
陥による信号エラーが確認された。

【００５２】（実施例３）実施例１の（６）最終研磨工
程において、研磨液に含有させるアルカリをＮａＯＨに
替えて、ＫＯＨとした（実施例３）。研磨液に含有させ
るアルカリをＫＯＨに変更した点以外は実施例１と同様
の製造方法による同様のガラス基板である。なお、研磨
液のＰＨは１０．８となるように、ＫＯＨの濃度を調節
した。その結果、研磨速度は０．０７μｍ／ｍｉｎであ
った。得られたガラス基板の表面粗さを実施例１と同様
に測定したところ、Ｒｍａｘ＝２．９１ｎｍ、Ｒａ＝
０．２９ｎｍであった。従って、Ｒｍａｘ／Ｒａ＝１０
であった。また、研磨残りと、アルカリ洗浄ダメージに
よる凹欠陥も確認されなかった。

【００５３】得られた磁気ディスク用ガラス基板に対し
て、実施例１と同様に（１０）磁気ディスク製造工程を
施し、得られた磁気ディスクを実施例１と同様に試験し
たところ、浮上量４．８ｎｍまでは、ヘッド−媒体間に
接触が発生しなかった。また、クラッシュが発生せず、
記録再生試験においても信号エラーはなかった。実施例
１と実施例３と結果とを比較すると、実施例３において
も好適な結果が得られていることが分かるが、実施例１
ではグライド高さが４．５ｎｍであるのに対し、実施例
３では、グライド高さが４．８ｎｍとやや悪化してい
る。これは、実施例３において、Ｒｍａｘ／Ｒａが１０
以上となったことによるものと考えられる。グライド高
さの観点からは、本発明において、Ｒｍａｘ／Ｒａが１
０未満とすると好ましいと考えられる。

【００５４】なお、実施例１に比べて実施例３でグライ
ド高さがやや悪化した原因を調査したところ、目視検査
では確認できなかったが、電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用い
た精密検査の結果、極微量の研磨剤残りが基板表面に僅
かに残留していることが分かった。

【００５５】（参考例）次に実施例１におけるガラス基
板を石英ガラスにし、研磨液に含まれるＮａＯＨを変化
させた以外は実施例１と同様にして磁気ディスク用ガラ
ス基板及び磁気ディスクを作製した。

【００５６】その結果、ｐＨ濃度を変化させても研磨速
度にはほとんど変化は見られなかった。また、アルカリ
洗浄ダメージによる凹欠陥はなかった。

【００５７】また、得られた磁気ディスクに対するグラ
イド高さ、ロードアンロード試験、記録再生試験におい
ても実施例と同様の結果となった。

【００５８】よって、実施例と参考例の結果を比較する
と、生産性を考慮して研磨速度を調整でき、かつアルカ
リに対する化学的耐久性に良好なアルミノシリケートガ
ラスが適していることが確認された。

【００５９】

【発明の効果】本発明によれば、研磨残りや凹欠陥のな
い高い平滑性の磁気記録媒体用ガラス基板を得ることが
でき、磁気記録媒体の高密度記録化を達成することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】研磨液のｐＨ濃度と研磨速度の関係を示すグ
ラフである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円板状ガラス基板を研削した後、研磨砥粒
を含む研磨液によって研磨する磁気記録媒体用ガラス基
板の製造方法において、前記研磨砥粒はコロイダルシリカ砥粒であって、前記研
磨液にアルカリを含有させることにより研磨液のｐＨが
１０．２を超え、１２以下となるように調整されている
ことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方
法。
【請求項２】前記コロイダルシリカ砥粒による研磨を行
った後、アルカリ洗浄を行うことを特徴とする請求項１
に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】前記研磨液に含有させるアルカリ及び、研
磨後のアルカリ洗浄に用いるアルカリを同じアルカリ成
分とすることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気
記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】前記ガラス基板は、アルミノシリケートガ
ラスからなることを特徴とする請求項１乃至３の何れか
に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法
【請求項５】請求項１乃至４の何れかに記載の磁気記録
媒体用ガラス基板の製造方法によって得られた磁気記録
媒体用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形
成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。