JP5319095B2 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5319095B2 JP5319095B2 JP2007255138A JP2007255138A JP5319095B2 JP 5319095 B2 JP5319095 B2 JP 5319095B2 JP 2007255138 A JP2007255138 A JP 2007255138A JP 2007255138 A JP2007255138 A JP 2007255138A JP 5319095 B2 JP5319095 B2 JP 5319095B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- abrasive
- glass substrate
- polishing
- additive
- surface roughness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
(実施例1)
(1)粗研削工程
まず、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスして、直径66mmφ、厚さ1.2mmの円板状のアルミノシリケートガラスで構成されたガラス基板を得た。この場合、ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円板状のガラス基板を得ても良い。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO2:58〜75重量%、Al2O3:5〜23重量%、LiO2:3〜10重量%、Na2O:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化基板用ガラスを使用した。
次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔をあけると共に、外周端面も研削して直径65mmφとした後、外周端面及び内周端面に所定の面取加工を施した。このときのガラス基板端面(内周、外周)の表面粗さは、Rmaxで4μmであった。
次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させながらガラス基板の端面(内周、外周)の表面粗さをRmaxで1μm、Raで0.3μm程度に研磨した。上記端面研磨工程を終えたガラス基板の表面を水洗浄した。
次に、砥粒の粒度を#1000に変え、ガラス基板表面を研削することにより、平坦度3μm、表面粗さRmaxが2μm程度、Raが0.2μm程度とした。なお、Rmax、Raは原子間力顕微鏡(AFM)(デジタルインスツルメンツ社製ナノスコープ)にて測定し、平坦度は平坦度測定装置で測定しており、基板表面の最も高い部分と、最も低い部分との上下方向(表面に垂直な方向)の距離(高低差)である。上記精研削工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄層に順次浸漬して洗浄した。
次に、上記工程を経たガラス基板に対して研磨を施した。研磨工程は、上述した研磨工程で残留したキズや歪みの除去を目的とするもので、両面研磨装置を用いて行った。詳しくは、ポリシャとして硬質ポリシャを用い、以下の研磨条件で実施した。
研磨材:酸化セリウム(平均粒径:1.5μm)+水
荷重:80g/cm2〜100g/cm2
研磨時間:30分〜50分
除去量:35μm〜45μm
上記第1研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄層に順次浸漬して洗浄した。
次に、第1研磨工程で使用したタイプと同じ両面研磨装置を用い、ポリシャとして軟質ポリシャに変えて最終研磨工程を実施した。研磨条件は以下のようにした。
研磨材:コロイダルシリカ(平均粒径:0.03μm、研磨粒子濃度:9重量%、pH4)、添加剤としてNa2SO4を1.0重量%含む。
荷重:60g/cm2〜120g/cm2
研磨時間:5分〜40分
上記最終研磨工程を終えたガラス基板を、濃度0.1〜5重量%のKOH水溶液に浸漬してアルカリ洗浄を行った。なお、洗浄は超音波を印加して行った。さらに、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。
次に、上記研削、研磨、最終研磨後洗浄工程を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化塩を375℃に過熱し、300℃に予熱された洗浄済みガラス基板を約3時間浸漬することにより行った。このように、化学強化塩に浸漬処理することによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンは、化学強化塩中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換されガラス基板は強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは約100〜200μmであった。上記化学強化を終えたガラス基板を20℃の水槽に浸漬して急冷し、約10分維持した。
上記急冷を終えたガラス基板を、約40℃に加熱した硫酸に浸漬し、超音波を印加しながら洗浄を行った。
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にCr合金で構成された付着層、CoTaZr基合金で構成された軟磁性層、Ruで構成された下地層、CoCrPt基合金で構成された垂直磁気記録層、水素化炭素で構成された保護層、パーフルオロポリエーテルで構成された潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層などを構成してもよい。
最終研磨工程において、添加剤としてNa2SO4を1.0重量%含み、pH6であるコロイダルシリカを用いて最終研磨を行うこと以外は実施例1と同様にしてガラス基板を製造した。このガラス基板について実施例1と同様にして研磨速度、表面粗さRa、及び表面欠陥数を調べた。その結果を図2〜図5及び表1に併記した。
最終研磨工程において、添加剤としてNa2SO4を1.0重量%含み、pH10であるコロイダルシリカを用いて最終研磨を行うこと以外は実施例1と同様にしてガラス基板を製造した。このガラス基板について実施例1と同様にして研磨速度、表面粗さRa、及び表面欠陥数を調べた。その結果を図2〜図5及び表1に併記した。
最終研磨工程において、添加剤を添加せず、pH2であるコロイダルシリカを用いて最終研磨を行うこと以外は実施例1と同様にしてガラス基板を製造した。このガラス基板について実施例1と同様にして研磨速度、表面粗さRa、及び表面欠陥数を調べた。その結果を図2〜図5及び表1に併記した。
最終研磨工程において、添加剤を添加せず、pH4であるコロイダルシリカを用いて最終研磨を行うこと以外は実施例1と同様にしてガラス基板を製造した。このガラス基板について実施例1と同様にして研磨速度、表面粗さRa、及び表面欠陥数を調べた。その結果を図2〜図5及び表1に併記した。
最終研磨工程において、添加剤を添加せず、pH6であるコロイダルシリカを用いて最終研磨を行うこと以外は実施例1と同様にしてガラス基板を製造した。このガラス基板について実施例1と同様にして研磨速度、表面粗さRa、及び表面欠陥数を調べた。その結果を図2〜図5及び表1に併記した。
最終研磨工程において、添加剤を添加せず、pH10であるコロイダルシリカを用いて最終研磨を行うこと以外は実施例1と同様にしてガラス基板を製造した。このガラス基板について実施例1と同様にして研磨速度、表面粗さRa、及び表面欠陥数を調べた。その結果を図2〜図5及び表1に併記した。
Claims (2)
- 化学強化基板用ガラスであるアルミノシリケートガラスからなるガラス基板の主表面に対して研磨材を用いて研磨を行う工程と、前記研磨を行う工程を経た前記ガラス基板をアルカリ性の薬液により洗浄する工程と、を含み、前記洗浄する工程後の前記ガラス基板の主表面の表面粗さRaが0.12nm以下である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記研磨材のpHが4〜6であり、前記研磨材は、研磨粒子と、前記研磨粒子を分散させる分散媒と、前記研磨材のpHを変化させずに、前記研磨材における電解質濃度を上げる添加剤と、を有し、前記研磨材がコロイダルシリカであり、前記添加剤が硫酸化合物、燐酸化合物、及び硝酸化合物からなる群より選ばれた少なくとも一つであり、前記添加剤の添加量は、前記研磨材の総重量に対して0.1重量%〜5.0重量%であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 化学強化基板用ガラスであるアルミノシリケートガラスからなるガラス基板の主表面に対して研磨材を用いて研磨を行う工程と、前記研磨を行う工程を経た前記ガラス基板をアルカリ性の薬液により洗浄する工程と、を含み、前記洗浄する工程後の前記ガラス基板の主表面の表面粗さRaが0.12nm以下である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記研磨材のpHが4〜6であり、前記研磨材は、所定のゼータ電位を持つ研磨粒子と、前記研磨粒子を分散させる分散媒と、前記pHにおいて前記ゼータ電位を零に近づける添加剤と、を有し、前記研磨材がコロイダルシリカであり、前記添加剤が硫酸化合物、燐酸化合物、及び硝酸化合物からなる群より選ばれた少なくとも一つであり、前記添加剤の添加量は、前記研磨材の総重量に対して0.1重量%〜5.0重量%であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007255138A JP5319095B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007255138A JP5319095B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009087439A JP2009087439A (ja) | 2009-04-23 |
JP5319095B2 true JP5319095B2 (ja) | 2013-10-16 |
Family
ID=40660682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007255138A Active JP5319095B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5319095B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8603350B2 (en) | 2009-07-17 | 2013-12-10 | Ohara Inc. | Method of manufacturing substrate for information storage media |
JP2011040144A (ja) * | 2009-07-17 | 2011-02-24 | Ohara Inc | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
JP5759171B2 (ja) * | 2010-12-27 | 2015-08-05 | Hoya株式会社 | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 |
WO2016038747A1 (ja) * | 2014-09-12 | 2016-03-17 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3665777B2 (ja) * | 2001-09-28 | 2005-06-29 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法 |
JP4713064B2 (ja) * | 2002-06-05 | 2011-06-29 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその製造方法で製造された情報記録媒体用ガラス基板 |
JP4414292B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2010-02-10 | 花王株式会社 | 研磨速度向上方法 |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007255138A patent/JP5319095B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009087439A (ja) | 2009-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9186771B2 (en) | Method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk and method of manufacturing a magnetic disk | |
JP6078942B2 (ja) | ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びにガラス基板用研磨液組成物 | |
JP5744159B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5319095B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
US8969277B2 (en) | Manufacturing method of a glass substrate for a magnetic disk | |
JP6467025B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
CN108564970B (zh) | 玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法 | |
JP6480611B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5778165B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体の製造方法 | |
JP2010108590A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2010080015A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板製造用ガラス素材、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2014116046A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
WO2012090755A1 (ja) | 記録媒体用ガラス基板を製造する方法 | |
US8926759B2 (en) | Manufacturing method of a glass substrate for a magnetic disk | |
WO2012042735A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
CN109285565B (zh) | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法 | |
JP5722618B2 (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2013012282A (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
SG173344A1 (en) | Method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk | |
WO2014103284A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
WO2012090597A1 (ja) | 記録媒体用ガラス基板を製造する方法 | |
JP2015069667A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
WO2012086256A1 (ja) | 記録媒体用ガラス基板を製造する方法 | |
WO2012090754A1 (ja) | 記録媒体用ガラス基板を製造する方法 | |
JP2011076647A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100924 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110920 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120131 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120402 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20121030 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130130 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130315 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130514 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130709 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130711 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5319095 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |