JP5759171B2 - ハードディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
ハードディスク用ガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5759171B2 JP5759171B2 JP2010291209A JP2010291209A JP5759171B2 JP 5759171 B2 JP5759171 B2 JP 5759171B2 JP 2010291209 A JP2010291209 A JP 2010291209A JP 2010291209 A JP2010291209 A JP 2010291209A JP 5759171 B2 JP5759171 B2 JP 5759171B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- glass substrate
- hard disk
- base plate
- slurry
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
<研磨工程>
前記研磨工程は、後述するラッピング工程が施されたガラス素板の表面に研磨を施す工程である。この研磨は、上述したラッピング工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするもので、下記の研磨方法を用いて実施する。
<円盤加工工程>
前記円盤加工工程は、所定の組成のガラス素材から板状に成形したガラス素板から、図2に示すように、内周及び外周が同心円となるように、中心部に貫通孔10aが形成された円盤状のガラス素板10に加工する工程である。具体的には、例えば、以下のようにして加工する。まず、板状に成形したガラス素板であって、そのガラス組成が、後述する組成であって、その厚み0.95mmであるガラス素板を所定の大きさの四角形に切断する。
<ラッピング行程>
前記ラッピング工程は、前記ガラス素板を所定の板厚に加工する工程である。具体的には、ガラス素板の両面を研削(ラッピング)加工する工程等が挙げられる。このように加工することによって、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを調整することができる。また、このラッピング工程は、1回であってもよいし、2回以上であってもよい。例えば、2回行う場合、1回目のラッピング工程(第1ラッピング工程)で、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを予備調整し、2回目のラッピング工程(第2ラッピング工程)で、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを微調整することが可能となる。
<洗浄工程>
前記洗浄工程は、前記粗研磨工程が施されたガラス素板を洗浄する工程である。
<化学強化工程>
本発明の製造方法における化学強化工程は、公知の方法であれば、特に限定されない。具体的には、例えば、ガラス素板を化学強化処理液に浸漬させる工程等が挙げられる。そうすることによって、ガラス素板の表面、例えば、ガラス素板表面から5μmの領域に化学強化層を形成することができる。そして、化学強化層を形成することで耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させることができる。
<最終洗浄工程>
前記最終洗浄工程は、研磨されたガラス素板の表面から研磨剤を除去するように洗浄する工程である。具体的には、精密研磨工程を終えたガラス素板に対して、例えば、下記のように行う工程等が挙げられる。
以後に示すゼータ電位及び粒径の測定条件は以下の通りである。
・測定機器:ELSZ−2(大塚電子社製)
・印加電圧:60V/cm
・測定試料:各々実施例/比較例の研磨液組成物を、遠心分離機で分離を行い(遠心力35000g、30分)、上澄み液を取り出した。この上澄み液に、当該研磨液組成物を0.2重量%添加混合し、これを測定試料とした。
・測定回数:同一試料、同一測定条件にて、ゼータ電位及び粒径の測定を3回繰り返し、これら3回の平均値を測定値とした。
なお、表面粗さRaは原子間力顕微鏡(AFM社)によって測定される。
基板上のディフェクト数(欠陥や付着物)の測定は、KLA Tencor社 Optical Surface Analyzer「Candela6300」を用いて測定した。
研磨前後のガラス基板の板厚について、レーザ変位計(キーエンス社)を用いて測定し、加工時間で割って研磨レートを算出した。
上述のように、研磨スラリーのpHを2とし、表1のように電界印加手段及び可変制御手段にて研磨スラリー粒子の表面電位を経時的に調整しながら、ガラス基板を本発明の研磨装置にて研磨を行った。
上述のように、電界印加手段及び可変制御手段を用いずに、表2のように研磨スラリーのpHを調整しながら、ガラス基板を本発明の研磨装置にて研磨を行った。なお、pHの酸性から塩基性へのシフトは、研磨スラリーにアンモニア水を添加することで調整した。
続いて、比較例1では、通常の粗研磨工程と精密研磨工程を施した。すなわち、粗研磨工程ではガラス基板を、平均粒子径約80nmのコロイダルシリカにて15分間研磨を行い、精密研磨工程では粗研磨工程で用いた研磨機とは異なる研磨機を用いて平均粒子径約20nmのコロイダルシリカにて15分間研磨を行った。
比較例2では、通常の粗研磨工程と精密研磨工程を施したことについては、前記比較例1と同じである。しかし、粗研磨工程ではガラス基板を、平均粒子径約80nmのコロイダルシリカにて15分間研磨を行い、その後、ガラス基板や研磨パッドに付着した研磨剤を除去するリンス行程を経て、粗研磨工程で用いた研磨機と同じ研磨機を用いて平均粒子径約20nmのコロイダルシリカにて15分間の精密研磨を行った。
比較例3では、ガラス基板を精密研磨工程のみを行った。すなわち、平均粒子径約20nmのコロイダルシリカにて30分間研磨を行った。
比較例4では、研磨スラリーに100Hzの交流電流を印加しながら、平均粒子径約20nmのコロイダルシリカにて15分間ガラス基板の研磨を行った。
2 上定盤
3 下定盤
4 研磨パッド
6 電界印加手段
7 可変制御手段
8 ポンプ
10 ガラス基板
101 ハードディスク用ガラス基板
Claims (7)
- 研磨スラリー粒子を含む研磨スラリーを用いてガラス基板表面の研磨を行う研磨工程を含むハードディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨工程において、前記研磨工程中に、前記研磨スラリー粒子に交流電流を印加し、前記交流電流の振幅を時間的に制御することで、前記研磨スラリー粒子の表面電位を経時的に変化させる手段により、前記研磨スラリー粒子の実効粒子径を経時的に変化させる処理を用いることを特徴とするハードディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記研磨スラリー粒子の表面電位を経時的に変化させる手段が、前記研磨スラリーのpHを変化させる手段を含む請求項1に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨スラリー粒子の表面電位を時間的に変化させることであって、前記研磨スラリーのpHを5以上変化させることを特徴とする請求項2に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨工程は、1次研磨工程と2次研磨工程とを含み、
1次研磨工程から2次研磨工程に至る過程において、前記研磨スラリー粒子の表面電位を10mV以上から−5mV以下へ減少させる請求項1〜3のいずれか1項に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記スラリー粒子の表面電位を20mV以上変化させる請求項4に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨スラリー粒子の実効粒子径を制御する手段が、研磨工程の開始から終了までの間にかけて行われることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨工程の前後に化学強化工程をさらに備えることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のハードディスク用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010291209A JP5759171B2 (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010291209A JP5759171B2 (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012138156A JP2012138156A (ja) | 2012-07-19 |
JP5759171B2 true JP5759171B2 (ja) | 2015-08-05 |
Family
ID=46675445
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010291209A Expired - Fee Related JP5759171B2 (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5759171B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5942773B2 (ja) * | 2012-10-19 | 2016-06-29 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の研磨方法 |
JP5942774B2 (ja) * | 2012-10-19 | 2016-06-29 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の研磨方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11156718A (ja) * | 1997-11-21 | 1999-06-15 | Sony Corp | 研磨装置および研磨方法 |
JP4713064B2 (ja) * | 2002-06-05 | 2011-06-29 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその製造方法で製造された情報記録媒体用ガラス基板 |
JP2005044488A (ja) * | 2003-07-09 | 2005-02-17 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体用基板及び磁気記録媒体の製造方法並びに基板洗浄装置 |
JP4414292B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2010-02-10 | 花王株式会社 | 研磨速度向上方法 |
JP5319095B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2013-10-16 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
-
2010
- 2010-12-27 JP JP2010291209A patent/JP5759171B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012138156A (ja) | 2012-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4982810B2 (ja) | ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 | |
JP5037975B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5577290B2 (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5635078B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5759171B2 (ja) | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP4860580B2 (ja) | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク | |
JP2012216251A (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5695068B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体の製造方法 | |
JP5706250B2 (ja) | Hdd用ガラス基板 | |
WO2013001722A1 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
WO2012090426A1 (ja) | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 | |
WO2012042735A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5722618B2 (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2014116046A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5859757B2 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP2012079365A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5636243B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2012203960A (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5386037B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2010073289A (ja) | 磁気ディスク用基板および磁気ディスク | |
JP2013012282A (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP2012203959A (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
WO2014156114A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2012079370A (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2015011735A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20130418 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131202 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20140120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140902 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141031 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150303 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150428 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150526 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150605 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5759171 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |