JP2001084578A

JP2001084578A - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法

Info

Publication number: JP2001084578A
Application number: JP25616399A
Authority: JP
Inventors: Yozo Nakano; 洋三中野; Kanki Horisaka; 環樹堀坂
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 1999-09-09
Filing date: 1999-09-09
Publication date: 2001-03-30

Abstract

(57)【要約】【課題】ガラス基板表面への付着物の付着及び再付着
を抑制し、洗浄後のガラス基板表面の清浄度を向上させ
ることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を
提供する。【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス基
板材料の主表面を研磨した後、洗浄することにより形成
される。洗浄はパッドを用い水性溶媒にてガラス基板材
料の主表面に対して加圧下にスクラブすることにより行
われる。このとき、パッドの圧力をｐ(g/cm²) 、洗浄時
間をｔ(sec) としたとき、ｐ×ｔが２０００〜１５００
０の範囲となる条件が望ましい。また、水性溶媒はｐＨ
８〜１２の範囲のものでが好ましい。さらに、水性溶媒
は比抵抗が４ＭΩ・ｍ以上のものが好ましい。加えて、
水性溶媒は１ｍｌ中に存在する０．５μｍ以上の径の粒
子が１００個以下のものが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、磁気ディスクや
光ディスク等の情報記録媒体となるガラス基板材料の表
面を研磨加工する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
に関するものである。さらに詳しくは、ガラス基板材料
の主表面を研磨した後、水性媒体にて加圧下に洗浄を行
う情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】ガラス基板材料を用いた磁気ディスクに
おいては、記録容量を増大させるため高密度記録化や記
録領域の拡大が要請されている。このため、ガラス基板
材料の記録部となる表面（以下、主表面という）をでき
るだけ平滑にする必要があるとともに、その面積をでき
るだけ広く確保する必要がある。

【０００３】また、光ディスクは一般にガラス基板材料
を鏡面研磨した後、精密洗浄し、その上にレジストが塗
布される。さらに、そのレジスト上にレーザ光を照射
し、現像してピットを形成し、このピットが形成された
ガラス基板にニッケルメッキを施して作製される。

【０００４】一般に、これらの情報記録媒体用ガラス基
板においては、所定の研磨材が分散されたスラリー液を
用いた一段階或いは複数段階の研磨加工が施された後、
ガラス基板表面の清浄度を保つために水による洗浄が行
われている。この水による洗浄は、研磨材による研磨加
工後のガラス基板を直ちに水の入った容器内に投入して
水没させ、その状態を保持することにより行われてい
た。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、この従来の
水による洗浄はガラス基板を水中に単に水没させた状態
で行われることから、ガラス基板表面に付着した研磨材
等の付着物がそのまま残存しやすく、水による洗浄後の
ガラス基板表面に付着物の付着量が多く、しかも付着物
の付着状態がばらつくという問題があった。

【０００６】加えて、水による洗浄でガラス基板表面か
ら一旦水中へ分散した付着物が、水中に浸漬された状態
のガラス基板表面へ移動して再付着しやすいという問題
があった。従って、水による洗浄後のガラス基板表面の
清浄度が低いという問題があった。

【０００７】この発明は、上記のような従来技術に存在
する問題点に着目してなされたものである。その目的と
するところは、ガラス基板表面への付着物の付着及び再
付着を抑制し、洗浄後のガラス基板表面の清浄度を向上
させることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方
法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１に記載の発明の情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法は、ガラス基板材料の主表面を研磨した
後、洗浄することにより形成される情報記録媒体用ガラ
ス基板の製造方法であって、前記洗浄は水性溶媒にてガ
ラス基板材料の主表面に対して加圧下に行われることを
特徴とするものである。

【０００９】請求項２に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法は、請求項１に記載の発明におい
て、前記水性溶媒による洗浄はパッドを用い、そのパッ
ドの圧力をｐ(g/cm²) 、洗浄時間をｔ(sec) としたと
き、ｐ×ｔが２０００〜１５０００の範囲となる条件下
に行われるものである。

【００１０】請求項３に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法は、請求項１又は請求項２に記載の
発明において、前記水性溶媒はｐＨ８〜１２の範囲のも
のである。

【００１１】請求項４に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法は、請求項１から請求項３のいずれ
か一項に記載の発明において、前記水性溶媒は比抵抗が
４ＭΩ・ｍ以上のものである。

【００１２】請求項５に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法は、請求項１から請求項４のいずれ
か一項に記載の発明において、前記水性溶媒は１ｍｌ中
に存在する０．５μｍ以上の径の粒子が１００個以下の
ものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て詳細に説明する。情報記録媒体用ガラス基板は、ガラ
ス基板材料の主表面を研磨材を用いて研磨した後、水性
溶媒にて加圧下に洗浄を行うことにより製作される。ガ
ラス基板材料としては、アルミノシリケートガラス、結
晶化ガラス、ソーダライムガラス等のいずれも使用され
る。それらのうち、情報記録媒体用の基板材料としての
硬度、耐衝撃性等の良好な性能を有する観点から、モル
％で表して次のような組成のアルミノシリケートガラス
が好適である。

【００１４】酸化珪素（ＳｉＯ₂）４０〜７２％、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）０．５〜２５％、酸化リチウム（Ｌｉ₂Ｏ）０〜２２％、酸化ナトリウム（Ｎａ₂Ｏ）０〜１４％、酸化カリウム（Ｋ₂Ｏ）０〜１０％、Ｒ₂Ｏ２〜３０％但し、Ｒ₂Ｏ＝Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ酸化マグネシウム（ＭｇＯ）０〜２５％、酸化カルシウム（ＣａＯ）０〜２５％、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）０〜１０％、酸化バリウム（ＢａＯ）０〜１０％、ＲＯ０〜４０％但し、ＲＯ＝ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ酸化チタン（ＴｉＯ₂）０〜１０％酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）０〜１０％以上の成分の合計が９５％以上このような組成を有するガラスは、フロート法により製
造可能で、溶融温度が低く、化学強化処理後の耐水性や
耐候性が良好で、しかも金属製品と組み合わせて使用可
能な膨張係数を有する。フロート法は、溶融スズを収容
し、上部空間を還元性雰囲気とした高温のバス中へ、一
端から溶融ガラスを流入し、他端からガラスを引き延ば
して板状のガラスを製造する方法である。このフロート
法によれば、得られるガラスは両面が平行でゆがみがな
く、表面光沢があるとともに、多量生産が可能で、板幅
の変更も容易であり、自動化を図ることも容易である。

【００１５】前記のようなガラス組成において、ＳｉＯ
₂はガラスの主要成分であり、必須の構成成分である。
その含有量が４０重量％未満の場合、強化処理のための
イオン交換後の耐水性が悪化し、７２重量％を越える場
合、ガラス融液の粘性が高くなりすぎ、溶融や成形が困
難になるとともに、膨張係数が小さくなりすぎる。

【００１６】Ａｌ₂Ｏ₃はイオン交換速度を速くし、イ
オン交換後の耐水性を向上させるために必要な成分であ
る。その含有量が０．５重量％未満の場合、そのような
効果が不十分であり、２５重量％を越える場合、ガラス
融液の粘性が高くなりすぎ、溶融や成形が困難になると
ともに、膨張係数が小さくなりすぎる。

【００１７】Ｌｉ₂Ｏはイオン交換を行うための必須の
構成成分であるとともに、溶解性を高める成分である。
その含有量が２２重量％を越える場合、イオン交換後の
耐水性が悪化するとともに、液相温度が上がり、成形が
困難となる。

【００１８】Ｎａ₂Ｏは溶解性を高める成分である。そ
の含有量が１４重量％を越える場合、イオン交換後の耐
水性が悪化する。また、Ｋ₂Ｏは溶解性を高める成分で
あり、その含有量が１０重量％を越える場合、イオン交
換後の表面圧縮応力が低下する。

【００１９】さらに、上記Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ及びＫ₂
Ｏの合計Ｒ₂Ｏが２重量％未満の場合、ガラス融液の粘
性が高くなりすぎ、溶融や成形が困難となるとともに、
膨張係数が小さくなりすぎ、３０重量％を越える場合、
イオン交換後の耐水性が悪化する。

【００２０】ＭｇＯは溶解性を高める成分であり、２５
重量％を越える場合、液相温度が上がり、成形が困難に
なる。ＣａＯは溶解性を高める成分であるとともに、イ
オン交換速度を調整するための必須成分である。その含
有量が２５重量％を越える場合、液相温度が上がり、成
形が困難になる。ＳｒＯは溶解性を高める成分であると
ともに、液相温度を下げるのに有効な成分である。その
含有量が１０重量％を越える場合、ガラスの密度が大き
くなるとともに、製造コストが上昇する。ＢａＯは溶解
性を高める成分であるとともに、液相温度を下げるのに
有効な成分である。その含有量が１０重量％を越える場
合、ガラスの密度が大きくなるとともに、製造コストが
上昇する。

【００２１】さらに、上記ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及び
ＢａＯの合計ＲＯが、４０重量％を越える場合、液相温
度が上がり、成形が困難となる。ＴｉＯ₂が１０重量％
を越える場合、ガラス素地の品質が悪化するとともに、
製造コストが上昇する。ＺｒＯ₂が１０重量％を越える
場合、ガラス素地の溶融温度又は粘性が上昇し、ガラス
基板材料の製造が困難になりやすい。

【００２２】前記ガラスは、情報記録媒体用基板として
要求される強度、耐熱性、平坦性等を維持するため、そ
の表面に化学強化処理が施されていることが望ましい。
この化学強化処理は、ガラスがその組成中に含まれる一
価の金属イオンよりイオン半径が大きな一価の金属イオ
ンを含有する溶融塩中に浸漬され、ガラス中の金属イオ
ンと溶融塩中の金属イオンとがイオン交換されることに
より行われる。

【００２３】例えば、ガラス基板を加熱された硝酸カリ
ウム溶液中に浸漬することにより、ガラス基板表面近傍
のナトリウムイオンがそれより大きなイオン半径を有す
るカリウムイオンに置き換えられ、その結果圧縮応力が
作用してガラス基板表面が強化される。また、ガラス基
板を硝酸銀（０. ５〜３％）と硝酸カリウム（９７〜９
９. ５％）の混合溶液中に、３０分から１時間浸漬して
もよい。それにより、銀イオンがガラス基板表面に速や
かに浸透され、ガラス基板表面の強化が促進される。ま
た、硝酸銀と硝酸カリウムの混合溶液に代えて、硝酸カ
リウムと硝酸ナトリウムの混合溶液を使用することがで
きる。

【００２４】上記のようなガラス基板材料はシート状に
形成された後、研削砥石により円盤状に加工される。次
いで、この円盤状に形成されたガラス基板材料は、その
主表面が研磨材によって研磨される。この研磨はガラス
基板材料の主表面を粗研磨する工程と、その後に行われ
る精密研磨する工程とにより行われる。さらに、円盤状
のガラス基板材料の外周面と中央の孔の周面とが面取り
される。

【００２５】次に、研磨工程の後に水性溶媒にて加圧下
に洗浄が行われる。水性溶媒は水のほか、水にアルカリ
を加えた水溶液、水に水溶性の有機溶媒を加えた溶液な
どが使用される。この水性溶媒としては、ガラス基板表
面のｐＨを調整してそこに残存する研磨材等を効率良く
除去するために、ｐＨ８〜１２の範囲のアルカリ性のも
のが好ましい。このｐＨが８未満の場合、研磨材等の除
去能力が低下する傾向にあり、ｐＨが１２を越える場
合、基板にダメージを与えやすくなる。

【００２６】また、水性溶媒はガラス基板表面における
荷電（帯電）状態を調整してガラス基板表面に残存する
研磨材等を取り除くために、比抵抗が４ＭΩ・ｍ以上で
あるものが望ましい。この比抵抗が４ＭΩ・ｍ未満の場
合、研磨材等の除去能力が低下しやすいからである。ま
た、その比抵抗の上限は限定されないが、通常６ＭΩ・
ｍ以下であることが望ましい。６ＭΩ・ｍを越えても研
磨材等の除去能力はそれ以上向上しないからである。

【００２７】さらに、水性溶媒はその中に存在する粒子
数を低減させてガラス基板表面に付着する粒子を減少さ
せるため、１ｍｌ中に存在する０．５μｍ以上の径（直
径）の粒子が１００個以下のものであることが好適であ
る。１ｍｌ中に存在する０．５μｍ以上の径の粒子が１
００個を越える場合、ガラス基板表面にそれらの粒子が
多数付着する結果となり、目的とする情報記録媒体用ガ
ラス基板を得ることが困難になる。なお、水性溶媒中に
存在する粒子の径の上限については特に規定されない
が、通常１０μｍ以下である。

【００２８】この水性溶媒による洗浄はパッド等を用い
て加圧下に行われる。その場合の洗浄条件としては、パ
ッドの圧力をｐ(g/cm²) 、洗浄時間をｔ(sec) としたと
き、ｐ×ｔが２０００〜１５０００の範囲であることが
望ましい。つまり、この範囲内においてパッドの圧力が
高いときには洗浄時間を短く、パッドの圧力が低いとき
には洗浄時間を長くして、ガラス基板表面に損傷を与え
ることなく洗浄が行われる。ｐ×ｔの値を上記範囲内に
設定することにより、ガラス基板表面への研磨材等の付
着物の付着を有効に抑制することができるとともに、一
旦ガラス基板表面から水性溶媒中に分散した付着物がガ
ラス基板表面に再度付着するのを抑制することができ
る。

【００２９】ｐ×ｔが２０００未満の場合、研磨材等の
除去能力が十分に発揮されない。ｐ×ｔが１５０００を
越える場合、基板表面に研磨材等が埋め込まれるように
なり残存しやすくなる。

【００３０】水性溶媒による洗浄は、ガラス基板材料表
面をガラス基板材料よりも硬度の小さいパッドで摩擦し
ながら行うスクラブ処理によるのが望ましい。また、パ
ッドの材質としては、スウェード（革の肉面をサンドペ
ーパーで起毛仕上げしたもの）製のもの、ポリビニルア
ルコール製のスポンジ等の有機材料のほか、無機材料、
金属材料又はそれらの複合材料が使用され、硬質又は軟
質のいずれであってもよい。パッドの表面形状は、繊維
状、バルク状、バルク状で多孔質又はそれらの複合形状
である。パッドの大きさ及び形状は、直径０．８〜３．
５インチのガラス基板材料をスクラブ処理できるのであ
れば任意の形状でよいが、円板状、円柱状等が採用され
る。

【００３１】また、水性溶媒による洗浄方法としては、
パッドをガラス基板の主表面で回転させるか又は回転か
つ公転させる方法が採用される。このような水性溶媒に
よるスクラブ処理（スクラブ洗浄）により、ガラス基板
表面に付着する研磨材や化学強化処理後の溶融塩等の付
着物の除去能力を向上させることができる。その結果、
ガラス基板表面への付着物の付着を有効に抑制すること
ができ、しかも一旦ガラス基板表面から水性溶媒中に分
散した付着物のガラス基板表面への再付着をも抑制する
ことができる。

【００３２】上記のようにして形成された洗浄後のガラ
ス基板材料表面には、その洗浄状態を維持した状態で例
えば磁気特性を向上させるための下地層、磁気媒体層、
保護層さらに潤滑層を順次設けることにより、磁気ディ
スク用ガラス基板が作製される。磁気特性をさらに向上
させたり、付着力を向上させたりする等の目的のため、
ガラス基板と下地層との間に、さらに複数の中間膜を形
成してもよい。

【００３３】また、洗浄後のガラス基板材料表面にはレ
ジストを塗布し、そのレジスト上にレーザ光を照射し、
さらに現像してピットを形成する。次いで、このピット
が形成されたガラス基板にニッケルメッキを施すことに
より光ディスク用ガラス基板が作製される。

【００３４】以上のように、この実施形態によれば、次
のような効果が発揮される。・研磨材による研磨の後にパッドを用いて水性溶媒に
て加圧下に洗浄を行うことによって、ガラス基板表面へ
の研磨材等の付着物の付着及び一旦水性溶媒に分散した
付着物の再付着を抑制することができる。このため、水
性溶媒による洗浄後のガラス基板表面の清浄度を向上さ
せることができる。

【００３５】・水性溶媒による洗浄はパッドを使用し
て行われ、そのパッドの圧力をｐ(g/cm²) 、洗浄時間を
ｔ(sec) としたとき、ｐ×ｔが２０００〜１５０００の
範囲となる条件下に行われる。このため、ガラス基板表
面への研磨材等の付着物の付着を有効に抑制することが
できるとともに、一旦ガラス基板表面から水性溶媒中に
分散した付着物がガラス基板表面に再付着するのを確実
に抑制することができる。

【００３６】・水性溶媒としてｐＨ８〜１２の範囲の
ものを使用することにより、ガラス基板表面のｐＨを調
整してガラス基板表面への研磨材等の付着物の付着及び
再付着を一層効果的に抑制することができる。

【００３７】・水性溶媒として比抵抗が４ＭΩ・ｍ以
上のものを用いることにより、ガラス基板表面の荷電状
態を調整してガラス基板表面への研磨材等の付着物の付
着及び再付着を一層効果的に抑制することができる。

【００３８】・水性溶媒として１ｍｌ中に存在する
０．５μｍ以上の径の粒子が１００個以下のものを使用
することにより、水性溶媒中に存在する粒子のガラス基
板表面に対する付着量を低減させることができ、目的と
する情報記録媒体用ガラス基板を得ることができる。

【００３９】・上記のように表面が洗浄されたガラス
基板は、表面品質に優れ、情報記録媒体を製作する場合
の歩留りを向上させることができる。

【００４０】

【実施例】次に、実施例及び比較例を挙げ、前記実施形
態をさらに具体的に説明する。（比較例１）直径３．０インチで厚さ１．１ｍｍの円盤
状をなすガラス基板材料の主表面を研磨加工した。用い
たガラス基板材料は次のような組成（モル％）を有する
アルミノシリケートガラス製のものである。

【００４１】ＳｉＯ₂ ６６％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０％、
Ｌｉ₂Ｏ７％、Ｎａ₂Ｏ１０％、ＭｇＯ３％、Ｃ
ａＯ４％。研磨加工は、研磨材としてフジミ研磨社製のＦＯ＃１０
００を使用して行った。この研磨加工の最後に、研磨さ
れたガラス基板材料を水道水に浸漬し、その表面に付着
した研磨材を洗浄した。このような研磨及び洗浄を１０
０枚のサンプルについて行った。そして、各サンプルに
ついてその表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で写真撮影
し、その写真から各サンプルの表面に付着した付着物の
数を測定した。付着物の数を測定した範囲は、一辺が１
０μｍの正方形の範囲（□１０μｍ）であり、付着物の
数は付着物の各基準の大きさ（３ｎｍ、５ｎｍ、７ｎ
ｍ）以上の付着物について１００枚のサンプルの平均値
である。その結果を表１に示した。（実施例１）比較例１と同じ組成を有するアルミノシリ
ケートガラス製の円盤状をなすガラス基板材料を用い、
比較例１と同様にしてその主表面を研磨加工した。この
研磨加工の最後に、研磨されたガラス基板材料を純水で
洗浄した。純水はｐＨ７、比抵抗５ＭΩ・ｍ、１ｍｌ中
に存在する０．５μｍ以上の粒子が５０個である。この
洗浄はパッドを使用して行い、パッドの圧力ｐを９０(g
/cm²) 、洗浄時間ｔを３０(sec) として行った（ｐ×ｔ
＝２７００）。パッドとしては、スウェードで作製され
たものを使用した。

【００４２】このような研磨及び洗浄を行った１００枚
のサンプルについて、比較例１と同様にしてＡＦＭで写
真撮影し、その写真から各サンプルの表面に付着した付
着物の数を測定した。その結果を表１に示した。

【００４３】さらに、研磨及び洗浄を行った１００枚の
ガラス基板の主表面に磁性膜を含む薄膜、カーボン系保
護膜及びフッ素系潤滑膜を順次形成して磁気ディスクと
した。かかる磁気ディスクについて、２５．０ｎｍのグ
ライド評価を行った。２５．０ｎｍのグライド評価と
は、磁気ヘッドを基板表面から２５．０ｎｍ浮かした状
態で基板表面の全面にわたりサーチさせた場合に、磁気
ヘッドが基板に全くヒットしない場合を良品とする評価
方法である。その結果、グライド評価の良品率は９６％
であり、歩留りに優れていた。

【００４４】

【表１】表１に示したように、比較例１では洗浄を水に浸漬する
だけで行ったのに対し、実施例１においては水による洗
浄をパッドにより行ったことから、付着物の数をいずれ
の大きさについても大幅に減少させることができた。こ
れは、パッドを用いた水洗浄により、ガラス基板表面に
対する研磨材や溶融塩の付着を抑制できるうえ、研磨材
や溶融塩の再付着を防止できるためと考えられる。

【００４５】なお、前記実施形態を以下のように変更し
て具体化することもできる。・水性溶媒による洗浄を、水性溶媒を攪拌したり、ガ
ラス基板表面に吹き付けたりして加圧状態で行うように
してもよい。このように構成した場合、洗浄を比較的容
易に行うことができる。

【００４６】・前記水性溶媒による洗浄後に純水によ
る洗浄、界面活性剤による洗浄、溶剤による洗浄、超音
波による洗浄等を行うことができる。このような洗浄を
行うことによって、ガラス基板表面の清浄度を目的とす
るレベルに高めることができる。

【００４７】・前記水性溶媒による洗浄を、パッドに
よるスクラブ洗浄と、水性溶媒の攪拌又は吹き付けによ
る洗浄とを併用して行うようにしてもよい。このような
洗浄方法によれば、ガラス基板表面の清浄度をより迅速
かつ確実に向上させることができる。

【００４８】さらに、前記実施形態より把握される技術
的思想について以下に記載する。・前記水性溶媒による洗浄はパッドを用いたスクラブ
洗浄である請求項１から請求項５のいずれか一項に記載
の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。

【００４９】このように構成した場合、ガラス基板表面
への付着物の付着及び再付着を効果的に抑制することが
でき、洗浄後のガラス基板表面の清浄度をより確実に向
上させることができる。

【００５０】・前記ガラス基板材料はアルミノシリケ
ートガラスである請求項１から請求項５のいずれか一項
に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。このよ
うに構成した場合、情報記録媒体用の基板材料としての
硬度、耐衝撃性等の良好な性能を有し、その主表面に研
磨及び洗浄を施したときに表面品質の良い情報記録媒体
用ガラス基板を得ることができる。

【００５１】・請求項１から請求項５のいずれか一項
に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製
造された情報記録媒体用ガラス基板。このように構成し
た場合、ガラス基板表面への付着物の付着及び再付着を
抑制し、洗浄後のガラス基板表面の清浄度を向上させた
情報記録媒体用ガラス基板とすることができる。

【００５２】

【発明の効果】この発明は以上のように構成されている
ため、次のような効果を奏する。請求項１に記載の発明
の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、ガラ
ス基板表面への付着物の付着及び再付着を抑制し、洗浄
後のガラス基板表面の清浄度を向上させることができ
る。

【００５３】請求項２に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法によれば、請求項１に記載の発明の
効果をより有効かつ確実に発揮させることができる。請
求項３に記載の発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造
方法によれば、請求項１又は請求項２に記載の発明の効
果に加え、ガラス基板表面のｐＨを調整してガラス基板
表面への付着物の付着及び再付着を一層効果的に抑制す
ることができる。

【００５４】請求項４に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法によれば、請求項１から請求項３の
いずれか一項に記載の発明の効果に加え、ガラス基板表
面の荷電状態を調整してガラス基板表面への付着物の付
着及び再付着を一層効果的に抑制することができる。

【００５５】請求項５に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法によれば、請求項１から請求項４の
いずれか一項に記載の発明の効果に加え、水性溶媒中に
存在する粒子のガラス基板表面に対する付着量を低減さ
せることができ、目的とする表面品質の良い情報記録媒
体用ガラス基板を得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 3B201 AA03 AB01 BA06 BA08 BA11 BB02 BB92 BB93 CC21 4G059 AA09 AB01 AB03 AC30 5D112 AA02 AA24 BA03 GA08 GA26

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス基板材料の主表面を研磨した後、
洗浄することにより形成される情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法であって、前記洗浄は水性溶媒にてガラス
基板材料の主表面に対して加圧下に行われることを特徴
とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】前記水性溶媒による洗浄はパッドを用
い、そのパッドの圧力をｐ(g/cm²) 、洗浄時間をｔ(se
c) としたとき、ｐ×ｔが２０００〜１５０００の範囲
となる条件下に行われるものである請求項１に記載の情
報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】前記水性溶媒はｐＨ８〜１２の範囲のも
のである請求項１又は請求項２に記載の情報記録媒体用
ガラス基板の製造方法。
【請求項４】前記水性溶媒は比抵抗が４ＭΩ・ｍ以上
のものである請求項１から請求項３のいずれか一項に記
載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】前記水性溶媒は１ｍｌ中に存在する０．
５μｍ以上の径の粒子が１００個以下のものである請求
項１から請求項４のいずれか一項に記載の情報記録媒体
用ガラス基板の製造方法。