JP3995902B2

JP3995902B2 - 情報記録媒体用ガラス基板及びそれを用いた磁気情報記録媒体

Info

Publication number: JP3995902B2
Application number: JP2001165226A
Authority: JP
Inventors: 幹男八田; 温子白川; 学禄鄒
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2001-05-31
Filing date: 2001-05-31
Publication date: 2007-10-24
Anticipated expiration: 2021-05-31
Also published as: US8222170B2; US8697592B2; US20100160141A1; US20130040169A1; US7090937B2; US20030109370A1; US20060205584A1; JP2002358626A; US20090220824A1; US6818576B2; US20040180239A1

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板およびそれを用いた磁気情報記録媒体に関する。さらに詳しくは、本発明は、耐擦傷性に優れ、かつ軽量で、破壊靭性の大きな情報記録媒体用ガラス基板、および該情報記録媒体用ガラス基板を用いた、ハードディスクに代表される磁気情報記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、磁気情報記録媒体用基板材料としては、アルミニウム、ガラス、セラミックスなどが用いられてきた。現在、サイズや用途に応じて主にアルミニウムとガラスが実用化されている。その中でガラス基板は、表面欠陥が少なく、平滑性や表面硬度が優れているため、その使用範囲が年々拡大してきている。磁気情報記録媒体用基板として用いられるガラスとしては、イオン交換法による化学強化ガラス、結晶化ガラスなどが知られている。化学強化ガラスとしては、例えば、特開平１−２３９０３６号公報には、重量％表示で、ＳｉＯ₂：５０〜６５％、Ａｌ₂Ｏ₃：０．５〜１４％、Ｒ₂Ｏ（但しＲはアルカリ金属イオン）：１０〜３２％、ＺｎＯ：１〜１５％、Ｂ₂Ｏ₃：１．１〜１４％を含むガラスをアルカリイオンによるイオン交換法によってガラス基板の表面に圧縮応力層を形成し化学強化された磁気ディスク用ガラス基板が開示されている。また、結晶化ガラスとしては、例えば、米国特許第５３９１５２２号明細書には、重量％表示で、ＳｉＯ₂：６５〜８３％、Ｌｉ₂Ｏ：８〜１３％、Ｋ₂Ｏ：０〜７％、ＭｇＯ：０．５〜５％、ＺｎＯ：０〜５％、ＰｂＯ：０〜５％、ただし、ＭｇＯ＋ＺｎＯ＋ＰｂＯ：０．５〜５％、Ｐ₂Ｏ₅：１〜４％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜７％、Ａｓ₂Ｏ₃＋Ｓｂ₂Ｏ₃：０〜２％を含み、主結晶として微細なＬｉ₂Ｏ・２ＳｉＯ₂結晶粒子を含む磁気ディスク用結晶化ガラス基板が開示されている。
【０００３】
しかしながら、近年ハードディスクに代表される磁気ディスクなどの情報記録装置には記録の高密度化、データの書きこみや読み取りの高速化が求められているため、ディスク回転の高速化が必要とされている。現在のディスクの回転速度は７２００ｒｐｍ程度ではあるが、将来的には１５０００ｒｐｍあるいはそれ以上に高速化することが予想される。特に大量のデータを処理するサーバー用ハードディスクドライブにはこの要求がさらに強くなると思われる。しかしながら、記録媒体の回転数を高めると、記録媒体にたわみが生じ共振が大きくなり、記録媒体の表面が磁気ヘッドと衝突して読み取りエラーや磁気ヘッドがクラッシュする危険性が高くなる。したがって、現状の記録媒体では磁気ヘッドと記録媒体の距離（浮上距離）をある程度以下に小さくすることができないので、磁気記録装置の記録密度増加の阻害要因となりつつある。この記録媒体のたわみと共振の問題は高弾性率基板材料の使用により解決される。
【０００４】
しかしながら、これまで一般に使用されてきたアルミニウム基板は、弾性率が７２ＧＰａ程度で、ガラス基板は８０〜１００ＧＰａ程度であって高速回転化にはまだ対応できないため、基板を厚くしてハードディスクの高速回転化に対応しようとする動きがでてきている。基板の厚み増は重量増を伴うので高速回転化の消耗電力が大きくなる。したがって、密度の大きいアルミニウム合金（２．７６ｇ／ｃｍ³）より軽い基板材料が市場から求められる。また、アルミニウム基板はガラスより表面硬度が遥かに低く塑性変形が起き易いため、高速回転基板と磁気ヘッドの衝突で記録媒体の表面が凹んでしまうおそれがある。一方、ガラス基板は、弾性率と表面硬度及び表面平滑性ともにアルミニウム基板よりも優れているが、アルミニウム基板より脆いため傷つきやすく、製造工程において形成されるわずかな傷の存在が破損につながる。例えば、磁気ディスク基板としてガラスを用いる場合、円形加工、芯抜き、内外円周面加工など多くの加工処理が必要となる。これらの加工処理中にやはりガラスエッジ部などに破壊基点となりうる傷が多数発生し、製造工程においてのみならずスピンドルへの装着その他取り扱い時においても形成されるわずかな傷が基板破損につながる。特に磁気ディスク回転の高速化にともなってこの問題がより重要となる。これらの問題を解決するため、密度が小さくかつ傷つきにくい基板ガラス、またはガラスの破壊進行に対する抵抗力すなわち破壊靭性が高い基板ガラスを提供することが必要となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような事情のもとで、高速回転化や高記録密度化動向に対応することのできる、密度が小さく、かつ耐擦傷性に優れ、傷が付きにくい上、破壊進行に対する抵抗力、すなわち破壊靭性の大きな情報記録媒体用ガラス基板、およびそれを用いた磁気情報記録媒体を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、水中および／または乾燥雰囲気において測定された脆さ指標値がある値以下のガラス基板、あるいは特定の組成のガラスからなるガラス基板が、情報記録媒体用ガラス基板として、その目的に適合し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、
（１）水中における脆さ指標値が１２μｍ^-1/2以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板（以下、情報記録媒体用ガラス基板Ｉと称す。）、
（２）露点が−５℃以下の雰囲気における脆さ指標値が７μｍ^-1/2以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板（以下、情報記録媒体用ガラス基板IIと称す。）、
（３）水中における脆さ指標値が１２μｍ^-1/2以下であり、かつ露点が−５℃以下の雰囲気における脆さ指標値が７μｍ^-1/2以下であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板（以下、情報記録媒体用ガラス基板IIIと称す。）、
（４）モル％で、ＳｉＯ₂と、Ｂ₂Ｏ₃および／またはＡｌ₂Ｏ₃とを合計量で６５％より多く含むと共に、ＲＯ（ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｚｎ、ＳｒおよびＢａの中から選ばれる少なくとも１種）０〜２０％、Ｒ'₂Ｏ（Ｒ'はＬｉ、ＮａおよびＫの中から選ばれる少なくとも１種）０〜２８％、ＴｉＯ₂０〜１０％およびＺｒＯ₂０〜１０％を含み、かつ上記成分の合計含有量が９５％以上であるガラスからなる上記（１）、（２）または（３）に記載の情報記録媒体用ガラス基板、
【０００８】
（５）モル％で、ＳｉＯ₂ ４０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃および／またはＡｌ₂Ｏ₃ ２〜４５％およびＲ'₂Ｏ（Ｒ'はＬｉ、ＮａおよびＫの中から選ばれる少なくとも１種）０〜４０％を含み、かつＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃とＡｌ₂Ｏ₃とＲ'₂Ｏとの合計含有量が９０％以上であるガラスからなることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板（以下、情報記録媒体用ガラス基板IVと称す。）、
（６）水中における脆さ指標値が１２μｍ^-1/2以下である上記（５）に記載の情報記録媒体用ガラス基板、
（７）露点が−５℃以下の雰囲気における脆さ指標値が７μｍ^-1/2以下である上記（５）または（６）に記載の情報記録媒体用ガラス基板、
（８）ヤング率が７０ＧＰａ以上である上記（１）ないし（７）のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板、
（９）剛性率が２０ＧＰａ以上である上記（１）ないし（８）のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板、
（１０）液相温度以上の温度領域において、粘度が１Ｐａ・ｓ以上である領域を有するガラスからなる上記（１）ないし（９）のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板、
【０００９】
（１１）熱膨張係数が、１００〜３００℃の温度において、６０×１０^-7／℃以上であるガラスからなる上記（１）ないし（１０）のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板、
（１２）化学強化層を有さない上記（１）ないし（１１）のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板、
（１３）化学強化層を有する上記（１）ないし（１１）のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板、および
（１４）上記（１）ないし（１３）のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも磁気記録層を有することを特徴とする磁気情報記録媒体、
を提供するものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板には、四つの態様、すなわち情報記録媒体用ガラス基板Ｉ〜IVがある。
本発明の情報記録媒体用ガラス基板Ｉは、水中における脆さ指標値が１２μｍ^-1/2以下のガラス基板である。この水中における脆さ指標値は、その値が低いほど、脆くないガラス基板となる。該水中における脆さ指標値は、好ましくは１０．５μｍ^-1/2以下、より好ましくは９μｍ^-1/2以下、さらに好ましくは８μｍ^-1/2以下である。水中における脆さ指標値がこのような値であることにより、研磨液に浸った状態で行われるガラス基板の研磨加工時や、研磨液、洗浄液でぬれている状態のガラス基板のハンドリング時の破壊が起こりにくくなる。
【００１１】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板IIは、露点が−５℃以下の雰囲気における脆さ指標値が７μｍ^-1/2以下のガラス基板である。該指標値は、好ましくは６μｍ^-1/2以下、より好ましくは５μｍ^-1/2以下、さらに好ましくは４μｍ^-1/2以下である。露点が−５℃以下の雰囲気、すなわち乾燥雰囲気における脆さ指標値がこのような値であることにより、乾燥雰囲気において、情報記録媒体用ガラス基板をハンドリングする際や、該ガラス基板を用いた情報記録媒体の使用時に破壊が起こりにくい。
【００１２】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板IIIは、水中における脆さ指標値が１２μｍ^-1/2以下であり、かつ露点が−５℃以下の雰囲気における脆さ指標値が７μｍ^-1/2以下のガラス基板である。上記水中における脆さ指標値は、好ましくは１０．５μｍ^-1/2以下、より好ましくは９μｍ^-1/2以下、さらに好ましくは８μｍ^-1/2以下であり、上記露点−５℃以下の雰囲気における脆さ指標値は、好ましくは６μｍ^-1/2以下、より好ましくは５μｍ^-1/2以下、さらに好ましくは４μｍ^-1/2以下である。このガラス基板IIIは、前記ガラス基板ＩおよびIIの両方の性質を備えており、いかなる環境下に使用したり、ハンドリングしても、破壊が起こりにくい。
【００１３】
本発明においては、前記ガラス基板の脆さ指標値として、Ｂ.Ｒ.Ｌａｗｎらによって提案された脆さ指標値Ｂを採用する［「ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（Ｊ.Ａｍ.Ｃｈｅｍ.Ｓｏｃ.）」第６２巻、第３４７〜３５０ページ（１９７９年）］。ここで、脆さ指標値Ｂは、ガラスのビッカース硬度値Ｈｖと破壊靭性値Ｋｃから、式
Ｂ＝Ｈｖ／Ｋｃ
から定義される。
【００１４】
ガラスのビッカース硬度値Ｈｖと破壊靭性値Ｋｃは、ビッカース硬度計の鋭いダイヤモンド圧子をガラスに押し込む方法により測定するこができる。すなわち、ガラスの硬度はビッカース圧子を押しこんだときにガラスの表面に残る圧子の圧痕の大きさより次式で求められる。
【００１５】
【数１】

【００１６】
ここで、Ｐはビッカース圧子の押しこみ荷重であり、ａはビッカース圧痕の対角線長である。一方、ガラスの破壊靭性Ｋｃはビッカース圧子を押しこんだときにガラスの表面に残る圧子の圧痕の大きさと圧痕の隅から発生するクラックの長さより次式で求められる。
【００１７】
【数２】

【００１８】
ここで、Ｅはガラスのヤング率、Ｃは圧痕の隅から発生するクラックの長さである。Ｋｃを正しく求めるための必要条件はＣ／ａ比が２．５以上に大きくなることである。
【００１９】
ガラスの脆さ指標値Ｂは、上記で求めたＨｖおよびＫｃから、Ｂ＝Ｈｖ／Ｋｃで算出されるが、本発明においては、後述の比較例と比較するために、該比較例を記載する特開平１０−１５８０２８号公報に示した方法、すなわち
【００２０】
【数３】

【００２１】
により算出した値を採用する。
【００２２】
特開平１０−１５８０２８号公報に示した計算式を用いた脆さの値とＨｖ／Ｋｃ式で評価した脆さの値との差は殆ど５％以下であるので、特開平１０−１５８０２８号公報に示した式を用いても正しく評価できる。実際には特開平１０−１５８０２８号公報に示した計算式はＬａｗｎらのＨｖ／Ｋｃ計算式をベースにして導出されたもので、基本概念が同じである。
【００２３】
水中における脆さ指標値は、試料表面に純水の水滴を落とし、３０秒後にその水滴の上からビッカース圧子を押し込み圧痕およびクラックを導入する。その後すぐに試料を純水中に浸漬し２４時間後に取り出し水を拭き取り、直ちに、圧痕、クラックの大きさを測定して算出した値である。また、露点が−５℃以下の雰囲気における脆さ指標値は、乾燥窒素雰囲気下で、試料周辺の露点を測定し、該露点が−５℃以下であることを確認しながら、ビッカース圧子を押し込み圧痕およびクラックを導入し、それらの大きさを測定して算出した値である。
【００２４】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板Ｉ、II及びIIIは、前述のような脆さ指標値を有することから、傷が付きにくい上、従来のガラスと同等な化学強化も可能であるため、製造工程における破損や、製品として使用中の破損を大幅に減少させることができる。
【００２５】
このようなガラス基板Ｉ〜IIIとしては、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ₂と、Ｂ₂Ｏ₃および／またはＡｌ₂Ｏ₃とを合計量で６５％より多く含むと共に、ＲＯ（ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｚｎ、ＳｒおよびＢａの中から選ばれる少なくとも１種）０〜２０％、Ｒ'₂Ｏ（Ｒ'はＬｉ、ＮａおよびＫの中から選ばれる少なくとも１種）０〜２８％、ＴｉＯ₂０〜１０％およびＺｒＯ₂０〜１０％を含み、かつ上記成分の合計含有量が９５％以上であるガラスからなるものを挙げることができる。
【００２６】
このガラス組成において、ＳｉＯ₂と、Ｂ₂Ｏ₃および／またはＡｌ₂Ｏ₃との合計含有量は、好ましくは６５モル％より多く９０モル％以下、より好ましくは７０〜９０モル％、さらに好ましくは７０〜８５モル％の範囲である。また、ＳｉＯ₂の含有量は、好ましくは４０〜７５モル％、より好ましくは５０〜７０モル％であり、Ａｌ₂Ｏ₃の含有量は、好ましくは０〜２５モル％、より好ましくは１〜２０モル％、さらに好ましくは２〜１５モル％である。Ｂ₂Ｏ₃の含有量は、好ましくは０〜２５モル％、より好ましくは１〜２５モル％、さらに好ましくは２〜２０モル％である。前記ＲＯの含有量は、好ましくは１５モル％以下、より好ましくは１２モル％以下である。また、ＭｇＯの含有量は、好ましくは１５モル％以下、より好ましくは１２モル％以下であり、ＣａＯの含有量は、好ましくは１０モル％以下、より好ましくは８モル％以下である。ＺｎＯの含有量は、好ましくは１０モル％以下、より好ましくは８モル％以下であり、ＳｒＯの含有量は、好ましくは１０モル％以下、より好ましくは８モル％以下である。ＢａＯの含有量は、好ましくは１０モル％以下、より好ましくは５モル％以下である。このＲＯとしては、ＭｇＯが好ましい。
【００２７】
Ｒ'₂Ｏの含有量は、好ましくは２５モル％以下、より好ましくは１０〜２５モル％である。また、Ｌｉ₂Ｏの含有量は、好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１８モル％以下、さらに好ましくは５〜１５モル％であり、Ｎａ₂Ｏの含有量は、好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１５モル％以下、さらに好ましくは１〜１０モル％である。Ｋ₂Ｏの含有量は、好ましくは１５モル％以下、より好ましくは１０モル％以下、さらに好ましくは０〜８モル％である。また、ＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃とＡｌ₂Ｏ₃とＲＯとＲ'₂Ｏとの合計含有量は、好ましくは８５モル％以上、より好ましくは９０モル％以上、さらに好ましくは９５モル％以上である。
【００２８】
さらに、ＴｉＯ₂の含有量は、好ましくは０〜７モル％、より好ましくは０〜５モル％であり、ＺｒＯ₂の含有量は、好ましくは０〜８モル％、より好ましくは０〜６モル％である。また、ＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃とＡｌ₂Ｏ₃とＲＯとＲ'₂ＯとＴｉＯ₂とＺｒＯ₂との合計含有量は、好ましくは９５モル％以上、より好ましくは９８モル％以上である。さらに、Ｂ₂Ｏ₃とＡｌ₂Ｏ₃のモル比（Ｂ₂Ｏ₃／Ａｌ₂Ｏ₃）は０．５〜１．５の範囲が好ましく、より好ましくは０．８〜１．２の範囲である。
【００２９】
以上の成分の組み合わせとしては、例えばモル％で、ＳｉＯ₂ ４０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ １〜２５％、Ａｌ₂Ｏ₃ １〜２０％（ただし、ＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃とＡｌ₂Ｏ₃との合計含有量が６５％を超える。）、ＭｇＯ０〜１５％、ＺｎＯ０〜１０％、ＣａＯ０〜１０％、ＳｒＯ０〜１０％、ＢａＯ０〜１０％（ただし、ＭｇＯとＣａＯとＺｎＯとＳｒＯとＢａＯの合計含有量が２０％未満である。）、Ｌｉ₂Ｏ０〜２０％、Ｎａ₂Ｏ０〜２０％、Ｋ₂Ｏ０〜１５％（ただし、Ｌｉ₂ＯとＮａ₂ＯとＫ₂Ｏとの合計含有量が２８％未満である。）、ＴｉＯ₂ ０〜１０％およびＺｒＯ₂ ０〜１０％を含み、かつ上記成分の合計含有量が９５％以上であるガラス挙げることができる。
【００３０】
ＳｉＯ₂はガラスの網目構造を形成する主成分であり、その含有量は、４０モル％未満では、ガラスの耐久性が悪化し、ガラスが失透しやすくなる。一方、７５モル％を超えると、高温粘性が高くなり、ガラスが溶けにくくなる。したがって、ＳｉＯ₂の含有率は４０〜７５モル％の範囲が好ましく、特に５０〜７０モル％の範囲が好ましい。
【００３１】
Ｂ₂Ｏ₃は本発明の重要な成分である。ＳｉＯ₂の代わりにＢ₂Ｏ₃を導入すると、ガラスの脆さが大幅に低下し、比重も低くなる上、高温粘性も低下してガラスの溶解性が大きく改善される。しかし、その導入量が２５モル％を超えて多くなると、ガラスの耐久性が悪化し、分相しやすくなるので良質なガラスが作れなくなる場合がある。一方、その導入量が１モル％未満では脆さが悪化し、高温粘性も高くなるので、低コストの量産化ができなくなるおそれがある。したがって、Ｂ₂Ｏ₃の含有量は１〜２５モル％が好ましく、特に２〜２０モル％の範囲が好ましい。
【００３２】
Ａｌ₂Ｏ₃はガラスに耐熱性や耐久性及び低脆性を寄与する成分としても、ＳｉＯ₂とともにガラス構造の安定化及びその剛性度を高める成分としても非常に重要である。しかし、その含有率が１モル％未満ではガラスからのアルカリの溶出を抑える効果が小さく、耐久性のよいガラスを作りにくいし、２０モル％を超えて導入すると、ガラスの高温溶融性が悪化するので、その含有率は１〜２０モル％の範囲が好ましく、より好ましくは２〜１５モル％の範囲である。
【００３３】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＳｒＯ及びＢａＯはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶融性や量産性を高めるために導入された成分である。合計含有量が２０モル％以上では脆さが高くなるのでガラスが傷つきやすくなり、比重も失透温度も高くなる傾向がある。ガラスの溶解性と低脆性の両方を考慮してＭｇＯ、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの含有量は、ＭｇＯが０〜１５モル％、好ましくは０〜１２モル％、ＺｎＯが０〜１０モル％、好ましくは０〜８モル％、ＣａＯが０〜１０モル％、好ましくは０〜８モル％、ＳｒＯが０〜１０モル％、好ましくは０〜８モル％、ＢａＯが０〜１０モル％、好ましくは０〜５モル％の範囲であり、それらの合計含有量は好ましくは２０モル％未満、より好ましくは１５モル％以下である。
【００３４】
Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏはガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進するとともに、ガラスの脆さを低くする非常に有用な成分である。しかし、その導入量が２８％以上になると、化学的耐久性が悪化するだけでなく、アルカリがガラス表面に多く析出するようになるため、磁性膜を侵食してしまう恐れがあるので、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏの含有量を、Ｌｉ₂Ｏが０〜２０モル％、好ましくは０〜１８モル％、Ｎａ₂Ｏが０〜２０モル％、好ましくは０〜１５モル％、Ｋ₂Ｏが０〜１５モル％、好ましくは０〜１０モル％とすると共に、それらの合計含有量を好ましくは２８モル％未満、より好ましくは２５モル％以下に抑える。
【００３５】
ＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃とＡｌ₂Ｏ₃との合計含有量は、好ましくは７０〜９０モル％、より好ましくは８０〜９０モル％の範囲であり、ＲＯとＲ'₂Ｏとの合計含有量は、好ましくは５〜３５モル％、より好ましくは１０〜３０モル％、さらに好ましくは１０〜２５モル％、特に好ましくは１０〜２２モル％である。
【００３６】
ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂はガラスの化学的耐久性を向上させ、剛性度を高めるために導入される成分である。少量のＺｒＯ₂及びＴｉＯ₂をガラスに添加すると、ガラスの耐久性も弾性率も脆さも改善されるが、比重が急増するし、より多く導入するとガラスの失透傾向が強くなる。したがって、ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の含有量がそれぞれ０〜１０モル％、好ましくは０〜７モル％および０〜１０モル％、好ましくは０〜８モル％に制限される。
また、上記成分の合計含有量は９５モル％以上である。
【００３７】
このガラスには、上記成分以外に、ガラスの溶解性、清澄性、成形性などを改善するため、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｆ、Ｃｌ、ＳＯ₃を合計で２モル％以下に導入することが可能である。また、ガラスの耐久性や弾性率を向上させるため、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃などの希土類金属酸化物などその他の酸化物を５モル％以下の割合で添加できる。
【００３８】
さらに、モル％で、ＳｉＯ₂ ５５〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜２０％、Ａｌ₂Ｏ₃１〜２０％（ただし、ＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃とＡｌ₂Ｏ₃との合計含有量が６５％以上）、ＭｇＯ０〜１５％、ＺｎＯ０〜１０％、ＣａＯ０〜１０％、ＳｒＯ０〜１０％、ＢａＯ０〜１０％（ただし、ＭｇＯとＣａＯとＺｎＯとＳｒＯとＢａＯの合計含有量（ＲＯの含有量）が２０％以下）、Ｌｉ₂Ｏ０〜２０％、Ｎａ₂Ｏ０〜２０％、Ｋ₂Ｏ０〜６％（ただし、Ｌｉ₂ＯとＮａ₂ＯとＫ₂Ｏとの合計含有量（Ｒ'₂Ｏ含有量）が２８％以下）、ＴｉＯ₂ ０〜１０％およびＺｒＯ₂ ０〜１０％を含み、かつ上記成分の合計含有量が９５％以上のガラスも挙げることができる。
【００３９】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板IVは、モル％でＳｉＯ₂ ４０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃および／またはＡｌ₂Ｏ₃ ２〜４５％およびＲ'₂Ｏ（Ｒ'はＬｉ、ＮａおよびＫの中から選ばれる少なくとも１種）０〜４０％を含み、かつＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃とＡｌ₂Ｏ₃とＲ'₂Ｏとの合計含有量が９０％以上であるガラスからなるものである。
【００４０】
このガラス組成において、ＳｉＯ₂の含有量は５０〜７０モル％が好ましく、Ｂ₂Ｏ₃の含有量は、好ましくは０〜２５モル％、より好ましくは１〜２５モル％、さらに好ましくは２〜２０モル％であり、Ａｌ₂Ｏ₃の含有量は、好ましくは０〜２５モル％、より好ましくは１〜２０モル％、さらに好ましくは２〜１５モル％である。ＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃とＡｌ₂Ｏ₃との合計含有量は、好ましくは６５〜９０モル％、より好ましくは７０〜９０モル％、さらに好ましくは７０〜８５モル％である。Ｒ'₂Ｏ含有量は、好ましくは０〜２８モル％（ただし、ＲＯが０モル％の場合は０を除く）、より好ましくは２５モル％以下、さらに好ましくは１０〜２５モル％である。Ｌｉ₂Ｏの含有量は、好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１８モル％以下、さらに好ましくは５〜１５モル％であり、Ｎａ₂Ｏの含有量は、好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１５モル％以下、さらに好ましくは１〜１０モル％であり、Ｋ₂Ｏの含有量は、好ましくは１５モル％以下、より好ましくは１０モル％以下、さらに好ましくは０〜８モル％である。さらに、ＲＯの含有量は、好ましくは１５モル％以下、より好ましくは１２モル％以下である。また、ＭｇＯの含有量は、好ましくは１５モル％以下、より好ましくは１２モル％以下であり、ＣａＯの含有量は、好ましくは１０モル％以下、より好ましくは８モル％以下である。ＺｎＯの含有量は、好ましくは１０モル％以下、より好ましくは８モル％以下であり、ＳｒＯの含有量は、好ましくは１０モル％以下、より好ましくは８モル％以下である。ＢａＯの含有量は、好ましくは１０モル％以下、より好ましくは５モル％以下である。ＲＯとしては、特にＭｇＯが好ましい。
【００４１】
ＲＯとＲ'₂Ｏとの合計含有量は、好ましくは５〜３５モル％、より好ましくは１０〜３０モル％、さらに好ましくは１０〜２５モル％、特に好ましくは１０〜２２モル％である。さらに、ＴｉＯ₂ ０〜１０モル％を含むことができ、好ましいＴｉＯ₂の含有量は０〜７モル％である。またＺｒＯ₂ ０〜１０モル％を含むことができ、好ましいＺｒＯ₂含有量は０〜７モル％である。
【００４２】
このガラス基板IVは、水中における脆さ指標値を１２μｍ^-1/2以下、好ましくは１０．５μｍ^-1/2以下、より好ましくは９μｍ^-1/2以下、さらに好ましくは８μｍ^-1/2以下とすることができる。また、露点が−５℃以下の雰囲気における脆さ指標値を７μｍ^-1/2以下、好ましくは６μｍ^-1/2以下、より好ましくは５μｍ^-1/2以下、さらに好ましくは４μｍ^-1/2以下とすることができる。
【００４３】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板Ｉ〜IVにおいては、ヤング率を７０ＧＰａ以上、好ましくは７５ＧＰａ以上、より好ましくは８５ＧＰａ以上とすることができる。
【００４４】
薄肉のガラス基板を含む情報記録媒体を高速回転させた際に当該ガラス基板が共振等によって変形するのを防止する上からは、ガラス基板のヤング率を高めることが好ましい。例えばヤング率が７０ＧＰａ以上のガラスからなる、直径３．５インチ、厚さ０．６３５ｍｍのガラス基板を用いて作製した磁気ディスクを１００００ｒｐｍで回転させた際に、当該磁気ディスクと記録再生ヘッドとのフライングハイトを概ね１μｍ以下で安定に確保することができる。
【００４５】
また、水中における脆さ指標値の低いガラス基板において、さらにヤング率が７０ＧＰａ以上であることにより、ガラス基板を研磨液に浸った状態で研削、研磨する際の割れや、研磨液や洗浄液でぬれた状態のガラス基板をハンドリングする際の破壊が格段に起こりにくくなる。
【００４６】
さらに、水中および／または乾燥雰囲気中における脆さ指標値の低いガラス基板において、さらにヤング率が７０ＧＰａ以上であることにより、ガラス基板が回転や荷重によりたわみにくいため、ガラス基板の研磨加工時や情報記録媒体使用時、特に情報記録媒体が高速回転する際の破壊がさらに起こりにくくなる。
【００４７】
また、本発明のガラス基板Ｉ〜IVにおいては、剛性率を２０ＧＰａ以上、好ましくは２５ＧＰａ以上、より好ましくは３０ＧＰａ以上とすることができる。
【００４８】
薄肉のガラス基板を含む情報記録媒体を高速回転させた際に当該ガラス基板が共振等によって変形するのを防止する上からは、ガラス基板の剛性率を高めることが好ましい。例えば剛性率が２０ＧＰａ以上のガラスからなる、直径３．５インチ、厚さ０．６３５ｍｍのガラス基板を用いて作製した磁気ディスクを１００００ｒｐｍで回転させた際に、当該磁気ディスクと記録再生ヘッドとのフライングハイトを概ね１μｍ以下で安定に確保することができる。
【００４９】
また、水中における脆さ指標値の低いガラス基板において、さらに剛性率が２０ＧＰａ以上であることにより、ガラス基板を研磨液に浸った状態で研削、研磨する際の割れや、研磨液や洗浄液でぬれた状態のガラス基板をハンドリングする際の破壊が格段に起こりにくくなる。
【００５０】
さらに、水中および／または乾燥雰囲気中における脆さ指標値の低いガラス基板において、さらに剛性率が２０ＧＰａ以上であることにより、ガラス基板が回転や荷重によりたわみにくいため、ガラス基板の研磨加工時や情報記録媒体使用時、特に情報記録媒体が高速回転する際の破壊がさらに起こりにくくなる。
【００５１】
また、本発明のガラス基板Ｉ〜IVにおいて、比弾性率（ヤング率をその密度で除した値）が２７×１０⁶Ｎ・ｍ／ｋｇ以上とすることができる。
この比弾性率が２７×１０⁶Ｎ・ｍ／ｋｇ以上では、情報記録媒体の高速回転時のたわみを２μｍ以下にすることができ、その結果として、フライングハイトを１μｍ以下で安定に確保することできる。また、高速回転時のたわみが少ないことにより、脆さ指標値の小さいガラス基板では、破壊がさらに起こりにくくなる。この比弾性率は３０×１０⁶Ｎ・ｍ／ｋｇ以上であることがより好ましい。
【００５２】
また、本発明のガラス基板Ｉ〜IVにおいては、密度を２．６５ｇ／ｃｍ³以下、好ましくは２．５０ｇ／ｃｍ³以下とすることもできる。
さらに、本発明のガラス基板Ｉ〜IVにおいては、破壊靭性値を０．７５ＭＰａ／ｍ^1/2以上、好ましくは０．８０ＭＰａ／ｍ^1/2以上、より好ましくは０．８３ＭＰａ／ｍ^1/2以上である。破壊靭性値が０．７５ＭＰａ／ｍ^1/2以上であるとガラス基板加工時や、情報記録媒体の使用時における破壊が起こりにくくなる。
【００５３】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板Ｉ〜IVにおいては、液相温度以上の温度領域において、粘度が１Ｐａ・ｓ以上である領域を有するガラスからなるものが好ましい。
【００５４】
情報記録媒体用ガラス基板を得るためには、その製造工程で実質的に失透しないようにする必要があり、そのためには少なくとも原料の溶解、溶解したガラスの成形型への供給を液相温度以上で行う必要がある。
このため、本発明のガラス基板Ｉ〜IVにおいては材料ガラスの液相温度を１３５０℃以下とすることが好ましく、１２５０℃以下であることがより好ましく、１１５０℃以下であることが特に好ましい。
【００５５】
ここで、溶融ガラスを成形型へ供給する際の粘度が１Ｐａ・ｓ未満であると、溶融ガラスの流量の制御が困難になるばかりか、プレス成形により薄肉で平坦な情報記録媒体用ガラス基板を得ることが困難となる。
なお、本発明のガラス基板Ｉ〜IVは、液相温度以上の温度領域において粘度が３Ｐａ・ｓ以上である領域を有するガラスからなるものが、より好ましい。
【００５６】
本発明のガラス基板Ｉ〜IVにおいては、材料ガラスの転移点を４７０〜６４０℃とすることができる。ガラス転移点が高すぎるとプレス成形できる温度領域が狭くなり、薄肉のガラス基板をプレス成形しにくくなるし、一方、ガラス転移点が低すぎるとガラス基板に記録層などの磁性膜を形成する際または形成した後に、磁気特性の向上などの目的で行う加熱処理温度の範囲が狭くなる。好ましい転移点は４７０〜６２０℃の範囲である。
【００５７】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板Ｉ〜IVにおいては、熱膨張係数が、１００〜３００℃の温度において、６０×１０^-7／℃以上であるガラスからなるものが好ましい。
磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク等の情報記録媒体へ情報を記録する際、あるいは、当該情報記録媒体に記録されている情報を再生する際には、当該情報記録媒体は情報処理装置内に設けられているドライブモータのスピンドルにクランプによって固定された状態で回転するが、この際、情報記録媒体の熱膨張係数と前記のクランプの熱膨張係数とが著しく異なっていると、次のような問題が生じる。
【００５８】
すなわち、情報記録媒体を回転させる際には、ドライブモータの発熱等によって、情報記録媒体、スピンドル、クランプ等の温度が例えば９０℃程度まで急激に昇温するが、情報記録媒体の熱膨張係数と前記のクランプの熱膨張係数とが著しく異なっていると、前記の昇温によって情報記録媒体とクランプとの間で緩みが生じたり、情報記録媒体に歪みや撓みが生じ、その結果として、情報記録媒体におけるデータ記録箇所（トラック）の位置が変化して、情報の記録あるいは再生にエラーが生じやすくなる。このような問題は、特に、３．５インチのような大きな基板で問題になる。
【００５９】
したがって、本発明のガラス基板Ｉ〜IVの熱膨張係数は前記のクランプの熱膨張係数にできるだけ近似していることが好ましい。前記のクランプは一般にステンレス合金によって作製されているので、本発明のガラス基板Ｉ〜IVの１００〜３００℃における熱膨張係数は、６０×１０^-7／℃以上であるのが好ましく、より好ましくは７０×１０^-7／℃以上、さらに好ましくは７０×１０^-7／℃〜１２０×１０^-7／℃、特に好ましくは８０×１０^-7／℃〜１００×１０^-7／℃である。
【００６０】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板Ｉ〜IVは、化学強化層を有していないものであってもよいし、所望により、公知の化学強化処理を行い、化学強化層を設けたものであってもよい。化学強化処理を行う場合には、前述のガラス組成の範囲の中から、化学強化処理に適した組成を選択するのがよい。
【００６１】
化学強化処理は、イオン交換法によって行うことができる。このイオン交換法は、Ｎａイオン、Ｋイオンを含有する溶融塩を用いて行われ、化学強化ガラスが得られる。Ｎａイオン、Ｋイオンを含む処理溶融塩としては、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム及びその混合溶融塩を用いるのが好ましいが、硝酸塩に限定されるものではなく、硫酸塩、重硫酸塩、炭酸塩、ハロゲン化物などを用いてもよい。前述のように、本発明で用いるガラスは、低脆さ高破壊靭性を有し、イオン交換により曲げ強度も高くなるので、得られた化学強化ガラスは優れた破壊耐性を有する。
【００６２】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法としては特に制限はなく、各種の方法を用いることができる。例えば、高温溶融法すなわち所定の割合のガラス原料を空気中か不活性ガス雰囲気で溶解し、バブリングや攪拌などによってガラスの均質化を行い、周知のプレス法、ダウンドロー法及びフロート法により板ガラスに成形され、その後、円形加工、芯抜き、内外円周加工、研削、研磨などが施され、所望のサイズ、形状の情報記録媒体用基板とされる。なお、研磨では研磨材やダイヤモンドペレットによりラップイング及び酸化セリウムなどの研磨材によるポリシング加工を行うことで、表面精度を例えば０．１〜０．６ｎｍの範囲にすることができる。
【００６３】
本発明の磁気情報記録媒体は、前述の本発明の情報記録媒体用ガラス基板Ｉ〜IV上に、少なくとも磁気記録層を有するものであり、該磁気情報記録媒体の構成としては、例えば前記ガラス基板上に、順次下地層、磁気記録層、保護層、潤滑層を順次設けた構成を挙げることができる。
【００６４】
ここで、磁気記録層としては、例えばＣｏ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ系、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｐｔ系及びＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系などを用いることができる。下地層としては、例えばＮｉ層、Ｎｉ−Ｐ層、Ｃｒ層などを用いることができ、保護層としては、例えばカーボン膜などを用いることができ、潤滑層としては、例えばパーフルオロポリエーテル系などの潤滑材を使用することができる。
【００６５】
【実施例】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
【００６６】
なお、各例で得られたガラスの物性は、以下に示す方法に従って測定した。
（１）ヤング率
２０×２０×１００ｍｍの試料を作製し、５ＭＨｚの超音波が前記の試料中を伝播する際の縦波速度（Ｖl）と横波速度（Ｖs）とをシングアラウンド式音速測定装置（超音波工業社製のＵＶＭ−２）を用いて測定した後、次式によって求めた。
ヤング率＝（４Ｇ²−３Ｇ・Ｖl²・ρ）／（Ｇ−Ｖl²・ρ）
Ｇ＝Ｖs²・ρ
ρ：試料の密度（ｇ／ｃｍ³）
【００６７】
（２）剛性率
上記（１）のヤング率測定時にＧとして剛性率を求めることができる。
（３）液相温度
試料を白金製の容器に入れて傾斜温度炉内に３０分間放置した後、試料の表面および内部における結晶の有無を光学顕微鏡を用いて観察した。そして、結晶が析出しない最低温度を液相温度とした。
（４）ガラス転移点（Ｔg）、屈服点（Ｔｄ）
５ｍｍφ×２０ｍｍの試料について、リガク社製の熱機械分析装置（ＴＭＡ８１４０）を用いて＋４℃／分の昇温速度で測定した。なお、標準試料としてはＳｉＯ₂を用いた。
【００６８】
（５）熱膨張係数
１００〜３００℃における平均熱膨張係数を意味し、ガラス転移点の測定時に一緒に測定した。
（６）脆さ指標値
（株）明石製作所の微小硬度計（ＭＶＫ-Ｅ）を用いて、２ｍｍ厚の板状に加工した試料に対して表１〜表１５中に示した押し込み荷重でビッカース圧子を押し込み、試料に圧痕及びクラックを導入した。
【００６９】
押し込み荷重は、プロバビリティーが６０以上となるような値にすることが、正確な脆さ指標値、ビッカース硬度、破壊靭性等を測定するうえで好ましく、７０以上となるような値がより好ましく、８０以上となるような値がさらに好ましい。測定されたビッカース圧痕の対角線長ａ、ビッカース圧子を押し込んだときに試料表面に生じる、ビッカース圧痕の隅から発生するクラックの長さＣを測定した。
以上の測定値より、前記数式（１）〜（３）を用いて、ビッカース硬度Ｈｖ、破壊靭性Ｋｃ、脆さ指標値Ｂを求めた。
【００７０】
なお、水中における脆さ指標値Ｂ、ビッカース硬度Ｈｖ、破壊靭性Ｋｃ等を求めるためには、試料表面に純粋の水滴を落とし、３０秒後にその水滴の上からビッカース圧子を試料に押し込み圧痕及びクラックを導入する。
【００７１】
また、露点が−５℃以下の雰囲気における脆さ指標値Ｂ、ビッカース硬度Ｈｖ、破壊靭性Ｋｃ等を求めるためには、乾燥窒素雰囲気下で、試料周辺の露点が−５℃以下であることを確認しながら、試料にビッカース圧子を押し込み、圧痕及びクラックを導入する。
なお、表１〜表１４中のプロバビリティとは、圧痕の４つの各頂点から生じるクラックの各頂点当たりの発生確率のことである。
【００７２】
実施例１〜８１
表１〜表１４に示す組成のガラスが得られるように、出発原料としてＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ａｌ（ＯＨ）₃、Ｂ₂Ｏ₃、ＨＢＯ₃、ＭｇＯ、Ｍｇ（ＯＨ）₂、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＺｎＯ、Ｌｉ₂ＣＯ₃、Ｎａ₂ＣＯ₃、Ｋ₂ＣＯ₃、ＴｉＯ₂、及びＺｒＯ₂などを用いて３００〜１５００ｇ秤量し、十分に混合して調合バッチと成し、これを白金坩堝に入れ、１４００〜１６００℃の温度で空気中約３〜８時間ガラスの溶解を行った。溶融後、ガラス融液を４０×４０×２０ｍｍカーボン金型に流し、ガラスの転移点温度まで放冷してから直ちにアニール炉に入れ、１時間保持した後、炉内で室温まで放冷した。得られたガラスは顕微鏡で観察できるほどの結晶が析出しなかった。
このようにして得られたガラスを加工して、各物性評価用のサンプルを作製し、物性評価を行った。その結果を表１〜表１４に示す。
【００７３】
【表１】

【００７４】
【表２】

【００７５】
【表３】

【００７６】
【表４】

【００７７】
【表５】

【００７８】
【表６】

【００７９】
【表７】

【００８０】
【表８】

【００８１】
【表９】

【００８２】
【表１０】

【００８３】
【表１１】

【００８４】
【表１２】

【００８５】
【表１３】

【００８６】
【表１４】

【００８７】
比較例１〜３
特開平１０−１５８０２８号公報に記載されているガラスについて、その物性を表１５に示した。
【００８８】
【表１５】

【００８９】
実施例８２
実施例１〜８１で得られたガラスを用い、（１）粗ラッピング工程（粗研削工程）、（２）形状加工工程、（３）精ラッピング工程（精研削工程）、（４）端面鏡面加工工程、（５）第１研磨工程、（６）第２研磨工程、（７）検査工程及び（８）磁気ディスク製造工程を順次行うことにより、情報記録媒体用ガラス基板を作製し、さらに磁気ディスクを製造した。
なお、上記（４）端面鏡面加工工程から（６）第２研磨工程までの研磨装置に使用する研磨液の水は、純水を使用した。
【００９０】
（１）粗ラッピング工程
まず、溶融ガラスから上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスにより直径９６ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍの円盤状のガラス基板を得た。なお、この場合、ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円盤状のガラス基板を得てもよい。
【００９１】
次いで、ガラス基板に寸法精度及び形状精度を向上させるためラッピング工程を行った。このラッピング工程は両面ラッピング装置を用い、粒度＃４００の砥粒を用いて行なった。具体的には、はじめに粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、荷重を９８０Ｎ程度に設定して、サンギアとインターナルギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラス基板の両面を面精度０〜１μｍ、表面粗さ（Ｒｍａｘ）６μｍ程度にラッピングした。
【００９２】
（２）形状加工工程
次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔を空けると共に、外周端面の研削をして直径を９５ｍｍφとした後、外周端面および内周端面に所定の面取り加工を施した。この際のガラス基板端面の表面粗さは、Ｒｍａｘで４μｍ程度であった。
【００９３】
（３）精ラッピング工程
次に、砥粒の粒度を＃１０００に変え、ガラス基板表面をラッピングすることにより、表面粗さをＲｍａｘで２μｍ程度、Ｒａで０．２μｍ程度とした。上記ラッピング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄槽（超音波印加）に順次浸漬して、超音波洗浄を行なった。
【００９４】
（４）端面鏡面加工工程
次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させながらガラス基板の端面（内周、外周）の表面の粗さを、Ｒｍａｘで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。そして、上記端面鏡面加工を終えたガラス基板の表面を水洗浄した。
【００９５】
（５）第１研磨工程
次に、上述したラッピング工程で残留した傷や歪みを除去するため第１研磨工程を両面研磨装置を用いて行なった。両面研磨装置においては、研磨パッドが貼り付けられた上下定盤の間にキャリアにより保持したガラス基板を密着させ、このキャリアをサンギアとインターナルギアとに噛合させ、上記ガラス基板を上下定盤によって挟圧する。その後、研磨パッドとガラス基板の研磨面との間に研磨液を供給して回転させることによって、ガラス基板が定盤上で自転しながら公転して両面を同時に研磨加工するものである。以下、実施例で使用する両面研磨装置としては同一装置を用いた。
【００９６】
具体的には、ポリシャとして硬質ポリシャ（硬質発泡ウレタン）を用い、研磨工程を実施した。研磨条件は、研磨液として酸化セリウム（平均粒径１．３μｍ）＋純水とし、荷重：９．８ｍＮ／ｍｍ²、研磨時間：１５分とした。上記第１研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、純水、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
【００９７】
（６）第２研磨工程
次に第１研磨工程で使用したものと同じタイプの両面研磨装置を用い、ポリシャを軟質ポリシャ（スウェードパット）に変えて、第２研磨工程を実施した。この第２研磨工程は、上述した第１研磨工程で得られた平坦な表面を維持しつつ、例えば表面粗さＲａを１．０〜０．３μｍ程度以下まで低減させることを目的とするものである。研磨条件は、研磨液として酸化セリウム（平均粒径０．８μｍ）＋純水とし、荷重：９．８ｍＮ／ｍｍ²、研磨時間を５分とした。上記第２研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
本実施例のガラス基板は、化学強化層を有さないが、前記研磨工程中や工程と工程のハンドリング時においてガラス基板が破壊しなかった。
【００９８】
（７）検査工程
次に、上記乾燥を終えたガラス基板表面の目視検査及び光の反射・散乱・透過を利用した精密検査を実施した。その結果、ガラス基板表面に傷等の欠陥は発見されなかった。
また、上記工程を経て得られたガラス基板の主表面の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定したところ、Ｒｍａｘ＝２．１３ｎｍ、Ｒａ＝０．２０ｎｍと超平滑な表面を持つ磁気ディスク用ガラス基板を得た。
【００９９】
（８）磁気ディスク製造工程
上記工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板の両主表面に、インライン型スパッタリング装置を用いて、ＮｉＡｌシード層、ＣｒＶ下地層、ＣｏＰｔＣｒＢ磁性層、水素化カーボン保護層を順次成膜し、さらにディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して磁気ディスクを得た。得られた磁気ディスクについて、タッチダウンハイト試験を実施したところ、タッチダウンハイトが５ｎｍと良好な値を示した。また、ロードアンロード試験（１０万回）を行なってもヘッドがクラッシュすることがなかった。
【０１００】
実施例８３
実施例８２における前記（６）第２研磨工程と前記（７）の検査工程の間に下記化学強化工程を行ったこと以外は、実施例８２と同様に磁気ディスクの製造を行った。
化学強化工程は硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合物を含む化学強化液を用意し、この化学強化溶液を３８０℃に加熱し、上記洗浄・乾燥済みのガラス基板を約４時間浸漬して化学強化処理を行ない、化学強化を終えたガラス基板を硫酸、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
【０１０１】
得られたガラス基板について、０．４ｍｍの薄片を切り出し、偏光顕微鏡を使用して測定したところ、化学強化層が形成されていることが確認された。本実施例のガラス基板は、前記研磨工程中や工程と工程のハンドリング時においてガラス基板が破壊しなかった。
得られた磁気ディスクについて、タッチダウンハイト試験を実施したところ、タッチダウンハイトが５ｎｍと良好な値を示した。また、ロードアンロード試験（１０万回）を行なってもヘッドがクラッシュすることがなかった。
【０１０２】
【発明の効果】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、耐擦傷性に優れ、かつ軽量で破壊進行に対する抵抗力、すなわち破壊靭性が大きく、従来の情報記録媒体用ガラス基板に比べて磁気ディスクなどの生産加工中の破損や情報記録媒体としての使用中の破損が大幅に低減できる。さらに、ガラスとしても、市販のガラス基板と同程度または低いコストで大量生産できるため、安価な次世代磁気記録媒体用ガラス基板として大きく期待できる。

Claims

ＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃ 、Ａｌ₂Ｏ₃ およびＬｉ ₂ Ｏを必須成分として含み、モル％で、ＳｉＯ₂ ４０〜７５％、Ｂ ₂ Ｏ ₃ １〜２５％、Ａｌ ₂ Ｏ ₃ ２〜１５％、およびＬｉ ₂ Ｏ５〜１５％（ただし、Ｒ ' ₂ Ｏ（Ｒ ' はＬｉ、ＮａおよびＫの中から選ばれる少なくとも１種）４０％以下）を含み、かつＳｉＯ₂とＢ₂Ｏ₃とＡｌ₂Ｏ₃とＲ'₂Ｏとの合計含有量が９０％以上であるガラスであって、ヤング率が７０ＧＰａ以上、熱膨張係数が、１００〜３００℃の温度において７０×１０ ^-7 ／℃以上のガラスからなることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板。
水中における脆さ指標値が１２μｍ^-1/2以下である請求項１に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板。
露点が−５℃以下の雰囲気における脆さ指標値が７μｍ^-1/2以下である請求項１または２に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板。
ヤング率が７０ＧＰａ以上である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板。
剛性率が２０ＧＰａ以上である請求項１ないし４のいずれか１項に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板。
液相温度以上の温度領域において、粘度が１Ｐａ・ｓ以上である領域を有するガラスからなる請求項１ないし５のいずれか１項に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板。
熱膨張係数が、１００〜３００℃の温度において、６０×１０^-7／℃以上であるガラスからなる請求項１ないし６のいずれか１項に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板。
化学強化層を有さない請求項１ないし７のいずれか１項に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板。
化学強化層を有する請求項１ないし７のいずれか１項に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板。
請求項１ないし９のいずれか１項に記載の磁気情報記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも磁気記録層を有することを特徴とする磁気情報記録媒体。