JP2000185927A

JP2000185927A - 研磨方法及び研磨装置並びに磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2000185927A
Application number: JP37660398A
Authority: JP
Inventors: Takemi Miyamoto; 武美宮本
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1998-12-23
Filing date: 1998-12-23
Publication date: 2000-07-04
Anticipated expiration: 2018-12-23
Also published as: JP3619381B2

Abstract

(57)【要約】【課題】簡便な方法及び装置でガラス基板の内周端面
及び／又は外周端面を平滑に研磨でき、ガラス基板表面
の高清浄化を高いレベルで達成しうる研磨方法及び研磨
装置等を提供する。【解決手段】中心部に円孔を有する円板状のガラス基
板（ＭＤ基板１）の内周端面部分等に、遊離砥粒を含有
した研磨液５０を供給するとともに、前記ガラス基板の
内周端面等に研磨ブラシ（回転ブラシ４）を回転接触さ
せて研磨する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、研磨方法及び研磨
装置に関し、特に磁気記録媒体用ガラス基板等の内周端
面及び外周端面の研磨に好適に使用できる研磨方法及び
研磨装置等に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク等の磁気記録媒体用基板と
しては、アルミニウム基板が広く用いられてきたが、磁
気ディスクの小型・薄板化と、高密度記録化に伴い、ア
ルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性及び基板強度に
優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。この磁
気記録媒体用ガラス基板には、一般に基板強度を上げる
ため、化学強化されたガラス基板や、結晶化によって基
板強度を上げた結晶化ガラス基板が用いられている。

【０００３】また、磁気ヘッドの方も高密度記録化に伴
って、薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッ
ド）、大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移
してきている。したがって、ガラス基板を用いた磁気記
録媒体を磁気抵抗型ヘッドで再生することが、これから
の大きな潮流となることが予想されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このように磁気ディス
クは高密度記録化のため種々の改良が加えられており、
このような磁気ディスクの進歩に伴って、磁気記録媒体
用ガラス基板にも次々に新しい課題が発生してきてい
る。その一つにガラス基板表面の高清浄化がある。これ
は、ガラス基板表面に異物が付着していると、ガラス基
板表面上に形成する薄膜の膜欠陥の原因となったり、薄
膜表面の凸部となって、適正なグライド・ハイトが得ら
れないといった問題を引き起こす。また、ガラス基板を
用いた磁気記録媒体を磁気抵抗型ヘッドで再生する際、
記録密度の向上を求めてヘッドのフライングハイト（浮
上高さ）を下げると、再生の誤動作、あるいは、再生が
不可能になる現象に遭遇することがあり、問題となって
いる。この原因は、磁気ディスク表面にガラス基板上の
パーティクルによって形成された凸部が、サーマル・ア
スフェリティ（ＴｈｅｒｍａｌＡｓｐｅｒｉｔｙ）と
なって、磁気抵抗型ヘッドに熱が発生し、ヘッドの抵抗
値を変動させ、電磁変換に悪影響を与えていることがそ
の原因である。

【０００５】上述したような磁気記録媒体用ガラス基板
表面の異物の原因は、ガラス基板の端面の表面状態が平
滑でないため、この端面が樹脂製ケースの壁面と擦過
し、この擦過によって発生する樹脂やガラスのパーティ
クルや、ガラス基板の内周端面及び外周端面部に捕捉さ
れるその他のパーティクルが、表面に付着することが大
きな要因となっている。特に、ガラス基板の内周端面は
外周端面に比べ表面状態が粗いのでパーティクルを捕捉
しやすく、ガラス基板表面の高清浄化の障害になってい
ることを本発明者らは突き止めた。

【０００６】なお、ガラス基板の端面部に発生するクラ
ックを化学的エッチングで除去して基板強度の向上を図
る技術が提案されているが（特開平７−２３０６２１号
公報）、この場合、クラックの深さは減少するがクラッ
クがエッチングで広がり窪みとなってパーティクルを捕
捉しやすくなり、かえってガラス基板表面の高清浄化の
障害になるという問題がある。また、化学的エッチング
によるものなので端面部の表面精度を高いレベルでコン
トロールすることが困難であるという問題もある。さら
に、クラックを完全に除去することが困難であり抗折強
度が十分でないという問題がある。

【０００７】本発明は上述した背景の下になされたもの
であり、ガラス基板等の端面の表面状態を低コストで効
率よく高いレベルで平滑にでき、特に研磨が困難なガラ
ス基板等の内周端面の表面状態を低コストで効率よく高
いレベルで平滑にでき、したがって基板表面の高清浄化
を高いレベルで達成しうる研磨方法及び研磨装置の提供
を第一の目的とする。また、ガラス基板表面の高清浄化
を高いレベルで達成した磁気記録媒体用ガラス基板の提
供を第二の目的とする。さらに、基板表面の異物に起因
するトラブルを極力抑えた磁気記録媒体の提供を第三の
目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は以下の構成としてある。

【０００９】（構成１）中心部に円孔を有する円板状の
ガラス基板の内周端面部分及び／又は外周端面部分に、
遊離砥粒を含有した研磨液を供給するとともに、前記ガ
ラス基板の内周端面及び／又は外周端面に研磨ブラシ又
は研磨パッドを回転接触させて研磨することを特徴とす
る研磨方法。

【００１０】（構成２）複数枚のガラス基板の内周端面
及び／又は外周端面が同時に研磨されるようにガラス基
板を複数枚重ねて研磨を行うことを特徴とする構成１記
載の研磨方法。

【００１１】（構成３）前記遊離砥粒を含有した研磨液
を、５００ｍｌ／ｍｉｎ〜３０００ｍｌ／ｍｉｎの流量
で供給して研磨を行うことを特徴とする構成１又は２記
載の研磨方法。

【００１２】（構成４）前記研磨ブラシのブラシ毛は回
転軸に垂直な平面に対し傾斜を持たせて配設されてお
り、前記研磨液が複数枚重ねたガラス基板の円孔部分に
吸い込まれる方向に研磨ブラシを回転させることを特徴
とする構成１乃至３記載の研磨方法。

【００１３】（構成５）前記研磨ブラシのブラシ毛の傾
斜角が、２°〜３０°であることを特徴とする構成４記
載の研磨方法。

【００１４】（構成６）前記遊離砥粒を含有した研磨液
の粘度が、１．５〜２５ｃｐｓであることを特徴とする
構成１乃至５記載の研磨方法。

【００１５】（構成７）中心部に円孔を有する円板状の
ガラス基板を複数枚重ねて保持する保持手段と、該保持
手段を回転させる回転手段と、前記複数枚重ねられたガ
ラス基板の円孔部分に挿入される回転ブラシと、前記複
数枚重ねられたガラス基板の円孔部分に研磨液を供給す
る研磨液供給手段とを備えたことを特徴とする研磨装
置。

【００１６】（構成８）中心部に円孔を有する円板状の
ガラス基板を複数枚重ねて保持する保持手段と、該保持
手段を回転させる回転手段と、前記複数枚重ねられたガ
ラス基板の外周に接触する回転ブラシと、前記複数枚重
ねられたガラス基板の外周端面部分に研磨液を供給する
研磨液供給手段とを備えたことを特徴とする研磨装置。

【００１７】（構成９）構成１乃至６記載の研磨方法に
よりガラス基板の内周端面及び／又は外周端面を研磨す
る工程を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス
基板の製造方法。

【００１８】（構成１０）構成９記載の磁気記録媒体用
ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。

【００１９】なお、本発明でいう内周端面及び外周端面
には、図４に示すように、面取りした面取り部１ｂと、
側壁部１ａとをそれぞれ含む。

【作用】

【００２０】構成１によれば、遊離砥粒を含有した研磨
液を用いて研磨することで、ダイヤモンド砥石（固定砥
粒）を用いた研磨や、化学エッチングを利用した研磨に
比べ、ガラス基板等の内周端面及び外周端面の表面状態
を低コストで効率よく高いレベルで平滑にできる。特に
高精度の研磨が困難なガラス基板等の内周端面の表面状
態を低コストで効率よく高いレベルで平滑にできる。ダ
イヤモンド砥石を用いた場合、被研磨表面の高い部分
（突起の頂部）だけが削られるので平滑性が悪い。化学
的エッチングによる場合は、クラックがエッチングで広
がり窪みとなってパーティクルを捕捉しやすくなりガラ
ス基板表面の高清浄化の障害になるとともに、ガラス基
板端面の表面の平坦性が悪く摩過等による異物発生の原
因となり、さらにクラックを完全に除去することが困難
であるので抗折強度に劣る。また、ガラス基板の内周端
面部分及び外周端面部分に、遊離砥粒を含有した研磨液
の供給と研磨ブラシ等とを組み合わせることで、特に高
精度の研磨が困難なガラス基板等の内周端面等の表面状
態を簡便な方法で、またより低コストで効率よく高いレ
ベルで平滑にできる。また、ガラス基板全体を研磨液に
浸す浸漬式による研磨に比べ、常に新鮮な研磨液がガラ
ス基板の端面部分に供給されるので、研磨の加工速度が
良好で、再現性が高く、高精度の研磨が可能である。ま
た、ガラス基板の内周端面及び外周端面における面取り
部に加え側壁部も同時に低コストで効率よく高いレベル
で平滑にできる。面取り部と側壁部の両方が平滑であれ
ば本発明の効果はより大きい。本発明の研磨方法によれ
ば、ガラス基板の内周端面及び外周端面の表面粗さが、
サーマル・アスフェリティを防止しうる程度、すなわ
ち、Ｒａで０．００１〜０．５μｍ、好ましくは０．０
０１〜０．１μｍ、Ｒｍａｘで０．０１〜４μｍ、好ま
しくは０．０１〜２μｍ，さらに好ましくは０．０１〜
１μｍであるガラス基板を再現性良く得ることができ
る。

【００２１】構成２によれば、複数枚のガラス基板の内
周端面及び／又は外周端面が同時に研磨されるようにガ
ラス基板を複数枚重ねて研磨を行うことにより、より低
コスト化及び効率化が実現できる。

【００２２】構成３によれば、遊離砥粒を含有した研磨
液を、５００ｍｌ／ｍｉｎ〜３０００ｍｌ／ｍｉｎの流
量で供給（吹き掛け等）して研磨を行うことによって、
常にガラス基板の内周端面及び／又は外周端面と、研磨
ブラシや研磨パッドとの間に研磨液が介在された状態で
研磨を行うことができるので、高精度の研磨が可能にな
るとともに、研磨ブラシ等が直接ガラス基板に接触して
できる傷等の研磨不良を防止することができる。研磨液
を供給する流量が５００ｍｌ／ｍｉｎ未満の場合、十分
に研磨液が研磨ブラシ等に行き渡らないので、研磨ブラ
シ等が直接ガラス基板と接触することになり研磨不足や
研磨不良（傷）が発生するので好ましくない。また、研
磨液を供給する流量が３０００ｍｌ／ｍｉｎを超える場
合、研磨の加工速度が上がらないので好ましくない。研
磨液の液切れによる研磨不足や研磨不良を防止するに
は、研磨ブラシ又は研磨パッドの回転数を、１００〜１
５０００ｒｐｍにすると良い。

【００２３】構成４によれば、研磨ブラシのブラシ毛は
回転軸に垂直な平面に対し傾斜を持たせて配設（配置、
植毛等）されており、研磨液が複数枚重ねたガラス基板
の円孔部分に研磨液が吸い込まれるように研磨ブラシを
回転させることにより、研磨液の液切れによる研磨不足
や研磨不良を防止でき、高精度の研磨が可能となる。例
えば、穴径の小さい内周端面等を回転ブラシで研磨しよ
うとする場合、高速回転する回転ブラシによって研磨液
が飛散してしまったり、回転ブラシの周囲が真空状態と
なって研磨剤が入らなかったりして被研磨面に研磨液が
十分に行き渡らないといった可能性もあるが、傾斜を持
たせたブラシ毛の配置と、特定方向の回転によって、ま
た、さらには、研磨液の吹き付け流量を制御することに
よって、液切れによる研磨不足や研磨不良を防止するこ
とができた。

【００２４】構成５によれば、研磨ブラシのブラシ毛の
傾斜角は、２°〜３０°にすることが好ましい。ブラシ
毛の傾斜角をこの範囲にすることによって、研磨液の流
動を促し常に新鮮な研磨液を供給することができ、研磨
効率、再現性及び研磨精度を高めることができる。ブラ
シ毛の傾斜角が２°未満の場合、研磨液が被研磨面に十
分に行き渡らず研磨不良による不良率が高くなるので好
ましくない。また、ブラシ毛の傾斜角が３０°を超える
場合、研磨の加工速度が遅くなるので好ましくない。研
磨ブラシのブラシ毛は、例えば、植毛する回転軸上に螺
旋状に植毛する。

【００２５】構成６によれば、遊離砥粒を含有した研磨
液の粘度を１．５〜２５ｃｐｓ（２０℃）の範囲とする
ことで、研磨効率、再現性及び研磨精度を高めることが
できるとともに、被研磨面にスクラッチ等の傷をつける
恐れを著しく軽減できる。同様の観点から、遊離砥粒を
含有した研磨液の粘度は１．８〜５ｃｐｓ（２０℃）の
範囲とすることがより好ましい。

【００２６】構成７によれば、高精度の研磨が困難なガ
ラス基板等の内周端面の表面状態を、簡便な装置で、ま
た他の装置に比べより低コストで効率よく高いレベルで
平滑にできる。

【００２７】構成８によれば、ガラス基板等の外周端面
の表面状態を、簡便な装置で、また他の装置に比べより
低コストで効率よく高いレベルで平滑にできる。なお、
複数枚重ねられたガラス基板の外周に接触する回転ブラ
シは、複数本とすることで効率を高めることが可能であ
る。

【００２８】構成９によれば、ガラス基板表面の高清浄
化を高いレベルで達成しうるとともに、抗折強度に優れ
た磁気記録媒体用ガラス基板を製造できる。

【００２９】構成１０によれば、磁気記録媒体用ガラス
基板表面の高清浄化及び抗折強度の向上を図っているの
で、磁気記録媒体とした場合、ガラス基板表面に端面に
起因する異物が付着することがないのでガラス基板表面
上に形成する薄膜の膜欠陥がなく、また、グライド・ハ
イトを低くできる。

【００３０】

【実施例】以下、実施例にもとづき本発明をさらに具体
的に説明する。

【００３１】実施例１図１は本発明の一実施例に係る研磨装置の断面図、図２
は図１における軸受け部分のＡ−Ａ線方向の断面図、図
３は回転ブラシ及びブラシ毛を示す模式図、図４は磁気
ディスク用ガラス基板を切断して見たときの斜視図であ
る。以下、これらの図面を参照して本発明の研磨方法及
び研磨装置を磁気ディスク用ガラス基板の内周端面の研
磨に適用した場合の一例について説明する。

【００３２】まず、本発明の研磨装置の一例について説
明する。図１において、１は研磨対象である磁気ディス
ク用ガラス基板（以下ＭＤ基板という）、２は多数のＭ
Ｄ基板１を収納する基板ケース、３は基板ケース２を回
動自在に固定保持する回転保持台、４は多数枚重ねられ
たＭＤ基板１の円孔部分（内周穴部）に挿入された回転
ブラシ、５は研磨液を供給する研磨液供給部である。

【００３３】基板ケース２は、軸方向上部からカラー２
１を介して締め付けカバー２２を締め込むことで、各Ｍ
Ｄ基板１どうしの主表面間の摩擦係数により、基板ケー
ス２や回転ブラシ４の回転に影響されることなくＭＤ基
板１を保持する機構を有する。

【００３４】回転保持台３は、回転軸部３１の回転軸３
２に結合され、その回転軸３２を回転駆動する回転駆動
装置３４によって正逆の双方向に回転できるようになっ
ている。なお、この回転駆動装置３４はその回転数を可
変できるようになっており、研磨目的に応じた適切な回
転数を選定できるようになっている。また、回転軸部３
１における回転軸カバー３３に設けられたエアー供給口
３５からエアー供給路３６を通じてエアーを供給するこ
とにより、エアーシール部３７あるいはエアーカーテン
等を形成して、研磨液が回転軸３２に流入するのを防
ぐ。

【００３５】回転ブラシ４は、回転駆動装置４１の回転
軸４２に接続されており、正逆の双方向に回転可能に構
成されている。但し、研磨中は、通常、研磨液が下方向
（ＭＤ基板が積み重ねられた状態における下方向）に吸
い込まれる方向にのみ回転させる。回転ブラシ４は、初
期状態においては回転ブラシ４の回転中心の位置が、基
板ケース２の回転中心と一致するように設定されてい
る。また、回転ブラシ４は、ブラシ毛４３のＭＤ基板１
への接触長さを加減するため、エアシリンダ等を利用し
た機構（図示せず）によって、ＭＤ基板１の内周端面へ
の押しつけ、つまりブラシの回転軸方向に対し垂直方向
への押しつけ量が調整可能に構成されている。なお、回
転ブラシ４は固定で、基板ケース２を移動させて押しつ
け量を調整することもできる。回転ブラシ４は、カム機
構（図示せず）によって、上記内周端面への押しつけと
同時にブラシの回転軸方向に沿って往復しつつ揺動運動
ができるように構成されている。

【００３６】なお、回転ブラシ４は、図１及び図２に示
すように、少なくとも回転駆動装置側の回転軸４４とは
反対側の回転軸４５に回転軸を固定する軸受４６を設
け、この軸受に回転軸を挿入することにより、端面の研
磨時においても回転軸がずれることがなく研磨すること
ができ、表面粗さ、サイズにばらつきがない高精度な研
磨を行うことができるので好ましい。軸受としては、べ
アリング、ボ−ル軸受、ころ軸受、すべり軸受など公知
の軸受を使用することができる。なお、軸受は、回転ブ
ラシを挿入する際のガイド部材としての役割も果たす。
この場合、軸受の入口の内径を広くすることができ、こ
れにより回転ブラシの回転軸を軸受に挿入し易くなるの
で好ましい。また、軸受は、複数設けることができ、回
転駆動装置側の回転軸にも設けることができる。

【００３７】回転ブラシ４は、図１に示すように、ブラ
シ毛４３を螺旋状に植毛したものであり、ブラシ毛の傾
斜角（図３（ａ）に示す螺旋状に植毛したブラシ毛４３
の傾斜角α）は２°〜３０°である。また、ブラシ毛４
３としては、図３（ｂ）に示す蛇行形にカールさせたナ
イロン繊維（直径０．１〜０．３ｍｍ、長さ５〜１０ｍ
ｍ）が使用されているが、ナイロン繊維の代わりに塩化
ビニル繊維、豚毛、ピアノ線、ステンレス製繊維などを
用いてもよい。硬度が低い繊維、あるいは柔軟性の高い
繊維を利用すれば、ブラシ毛の弾性変形によって擦る力
が過大になることを防止でき、スクラッチなどの傷の発
生をより良好に防止できる。また、カールさせた繊維
は、窪み等に対する接触性がよく、例えば、図４に示す
ＭＤ基板の面取り部１ｂをより効率よく研磨することが
可能になるが、面取り部１ｂの研磨の効率をそれ程考慮
しなければカールのない直線状の繊維を利用してもよ
い。なお、ブラシ毛４３として、樹脂に研磨剤を混入し
これを成形してブラシ毛に研磨剤を含有したものを用い
れば、研磨速度をさらに高めることができる。

【００３８】研磨剤としては、酸化セリウムが使用され
ているが、他にも酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ジル
コニウム、酸化マンガン等の研磨剤を用いることもでき
る。好ましくは、被研磨物の材料（ＭＤ基板）に近い硬
さのものが望ましく、ガラス基板の場合、酸化セリウム
が望ましい。研磨剤が硬すぎるとガラス基板端面に傷を
与えることになってしまい好ましくない。また、研磨剤
が軟らかすぎるとガラス基板端面を鏡面にすることがで
きなくなるので好ましくない。研磨剤の平均粒径として
は、１〜５μｍが好ましい。１μｍ未満の場合、研磨剤
がガラス基板を研削する力が弱く、回転ブラシの先端が
直接ガラス基板端面に接触した状態で研磨されることが
多くなるので、ＭＤ基板の面取り形状を制御することが
難しく、端面（側壁面）と面取り部の間の箇所が、だれ
てしまうので好ましくない。また、５μｍを超える場
合、研磨剤の粒径が大きいので表面粗さが大きくなるの
で好ましくない。

【００３９】研磨パッドとしては、例えば、スウェー
ド、ベロアを素材とする軟質ポリシャや、硬質ベロア、
ウレタン発砲、ピッチ含浸スウェード等の硬質ポリシャ
などが挙げられる。

【００４０】研磨液供給部による研磨液の供給の態様は
特に制限されず、例えば、１本の水流、シャワー、水滴
等によって、吹き掛け、吹き付け、放水、塗布する態様
などが挙げられる。なお、本発明の研磨装置は図１には
図示していないが、研磨液供給部から供給した研磨液を
回収する研磨液回収部と、回収した研磨液を清浄にし、
再び研磨液供給部へと循環させる循環機構が装備されて
いる。

【００４１】次に、上記研磨装置を用いた研磨方法の一
例について説明する。まず、回転ブラシ４を基板ケース
２の上から適当量退避させておき、基板ケース２に多数
のＭＤ基板１を、カラー２１を上下に配置して締め付け
カバー２２を締め込むことによりクランプする。このと
き、ＭＤ基板１の内周穴部の芯ずれは、基板ケース２の
内周部とＭＤ基板１の外周部との寸法差によるクリアラ
ンスで決定される。このクリアランスについては、作業
性、基板ケース内周部の真円度により調整が必要だが、
ＪＩＳＢ０４０１（１９８６）における、はめあいの
すきまばめから中間ばめの範囲が適正である。

【００４２】上記ＭＤ基板１を多数セットした基板ケー
ス２を、回転保持台３にセットする。ここで、セットす
るＭＤ基板１は既に内外周の面取り加工等が済んだもの
である。

【００４３】次いで、基板ケース２の回転中心と同一線
上にある回転ブラシ４（螺旋状に植毛された傾斜角２°
のブラシ毛）を図１のようにＭＤ基板１の内周部に挿入
する。回転ブラシ４の停止位置はセットされたＭＤ基板
１の最下部１’から最上部１”までの範囲が回転ブラシ
４のブラシ毛４３の植毛範囲内に収まる位置とする。

【００４４】続いて、研磨液供給部５からＭＤ基板の内
周部に向けて、５００ｍｌ／ｍｉｎ〜３０００ｍｌ／ｍ
ｉｎの流量の研磨液を、ブラシの回転によって生じる下
方向への吸い込みを利用して供給する。次に、回転ブラ
シ４のブラシ毛４３がＭＤ基板１の内周端面に当接する
ように、回転ブラシ４の押し付け量を調整する。この調
整は、ブラシ毛４３がカールしたナイロン繊維の場合に
あっては、ブラシ毛４３の先端位置がＭＤ基板１の被研
磨面に１〜５ｍｍ程度押しつけられた位置とする。な
お、エアシリンダ等を利用した機構によって、ＭＤ基板
１の内周端面への押しつけによるブラシの接触圧を調整
することが好ましい。具体的には、例えば、強いブラシ
毛ではエアシリンダの空気圧を０．０５〜０．１ＭＰａ
の範囲とすることが好ましく、弱いブラシ毛ではエアシ
リンダの空気圧を０．０５〜１ＭＰａの範囲とすること
が好ましい。

【００４５】次に、回転保持台３と回転ブラシ４とを互
いに逆方向に回転させた状態で、研磨を行う。この場
合、好ましい回転ブラシの回転数は空転時で１００〜１
５０００ｒｐｍである。本実施例では、回転保持台３の
回転数は６０ｒｐｍとし、回転ブラシ４の回転数は４０
００ｒｐｍ（空転時は１００００ｒｐｍ）とし、研磨時
間は約１０分とした。そして、所定量の研磨が終了した
ら、装置を止め、基板ケース２を取り出す。なお、この
基板ケース２の取り外しの際は、回転ブラシ４を基板ケ
ース２の脱着に干渉しない位置へ移動させておく必要が
ある。最後に、取り出した基板ケース２からＭＤ基板１
をセットしたときと逆の順番で取り出す。

【００４６】評価上記で得られたガラス基板の内周端面（面取部１ｂ及び
／側壁部１ａ）の表面粗さは、Ｒｍａｘ：０．５μｍ、
Ｒａ：０．０３μｍであった。

【００４７】実施例２以下の工程を経て磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記
録媒体を製造した。

【００４８】（１）第１砂掛け工程まず、ダウンドロー法で形成したシートガラスから、研
削砥石で直径６６ｍｍφ、厚さ１．１ｍｍ、及び直径９
６ｍｍφ、厚さ１．４ｍｍの円盤状にそれぞれ切り出し
たアルミノシリケイトガラスからなるガラス基板を、比
較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工して、直径９５ｍ
ｍ（３．５インチ）φ、厚さ０．８ｍｍ及び直径６５ｍ
ｍ（２．５インチ）φ、厚さ０．６ｍｍに成形した。こ
の場合、ダウンドロー法の代わりに、溶融ガラスを、上
型、下型、胴型を用いてダイレクト・プレスして、円盤
状のガラス基板を得てもよい。

【００４９】なお、アルミノシリケイトガラスとして
は、モル％表示で、ＳｉＯ₂を５７〜７４％、ＺｎＯ₂を
０〜２．８％、Ａｌ₂Ｏ₃を３〜１５％、ＬｉＯ₂を７〜
１６％、Ｎａ₂Ｏを４〜１４％、を主成分として含有す
る化学強化用ガラスを使用した。

【００５０】次いで、ガラス基板に砂掛け加工を施し
た。この砂掛け工程は、寸法精度及び形状精度の向上を
目的としている。砂掛け加工は、ラッピング装置を用い
て行い、砥粒の粒度を＃４００として行った。

【００５１】詳しくは、粒度＃４００のアルミナ砥粒を
用い、荷重Ｌを１００ｋｇ程度に設定して、内転ギアと
外転ギアを回転させることによって、キャリア内に収納
したガラス基板の両面を面精度０〜１μｍ、表面粗さ
（Ｒｍａｘ）（ＪＩＳＢ０６０１で測定）６μｍ程度
にラッピングした。

【００５２】次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の
中心部に円孔（直径２０ｍｍφ）を開けるとともに、外
周端面及び内周端面に所定の面取り加工を施した。この
ときのガラス基板の内外周端面の表面粗さは、Ｒｍａｘ
で１４μｍ程度であった。

【００５３】（２）端面研磨工程図５に示すように、直径２３０ｍｍφの回転ブラシ４
（毛足１０〜３０ｍｍ）を７００〜１０００ｒｐｍで回
転させ、積層したＭＤ基板１を６０ｒｐｍで回転させ、
基板外周端面部分にだけ研磨液を供給して１５分間研磨
を行った。

【００５４】次いで、実施例１に示す研磨装置及び研磨
方法を用いてガラス基板の内周端面を研磨した。なお、
この端面研磨工程は、ガラス基板を重ね合わせて端面研
磨する際にガラス基板の主表面にキズ等が付くことをよ
り以上に避けるため、後述する第一研磨工程の前、ある
いは、第二研磨工程の前後に行うことが好ましい。

【００５５】上記端面研磨を終えたガラス基板を水洗浄
した。

【００５６】（３）第２砂掛け工程次に、ラッピング装置を用い、粒度＃１０００のアルミ
ナ砥粒を使用し、荷重Ｌを１００ｋｇ程度に設定して、
内転ギアと外転ギアを回転させることによって、ラッピ
ングを行い、ガラス基板の両面の表面粗さ（Ｒｍａｘ）
を２μｍ程度とした。

【００５７】上記砂掛け加工を終えたガラス基板を、中
性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。

【００５８】（４）第一研磨工程次に、第一研磨工程を施した。この第一研磨工程は、上
述した砂掛け工程で残留したキズや歪みの除去を目的と
するもので、研磨装置を用いて行った。

【００５９】詳しくは、ポリシャ（研磨布）として硬質
ポリシャ（セリウムパッドＭＨＣ１５：スピードファム
社製）を用い、以下の研磨条件で第一研磨工程を実施し
た。

【００６０】研磨液：酸化セリウム＋水荷重：３００ｇ／ｃｍ²（Ｌ＝２３８ｋｇ）研磨時間：１５分除去量：３０μｍ下定盤回転数：４０ｒｐｍ上定盤回転数：３５ｒｐｍ内ギア回転数：１４ｒｐｍ外ギア回転数：２９ｒｐｍ

【００６１】上記第一研磨工程を終えたガラス基板を、
中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、
洗浄した。

【００６２】（５）第二研磨工程次に、第一研磨工程で使用した研磨装置を用い、ポリシ
ャを硬質ポリシャから軟質ポリシャ（ポリラックス：ス
ピードファム社製）に替えて、第二研磨工程を実施し
た。研磨条件は、荷重を１００ｇ／ｃｍ²、研磨時間を
５分、除去量を５μｍとしたこと以外は、第一研磨工程
と同様とした。

【００６３】上記第二研磨工程を終えたガラス基板を、
中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピ
ルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次
浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加
した。

【００６４】（６）化学強化工程次に、上記研削、研磨工程を終えたガラス基板に化学強
化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝
酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意
し、この化学強化溶液を４００℃に加熱し、３００℃に
予熱された洗浄済みのガラス基板を約３時間浸漬して行
った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強
化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保
持されるようにホルダーに収納した状態で行った。

【００６５】このように、化学強化溶液に浸漬処理する
ことによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナト
リウムイオンは、化学強化溶液中のナトリウムイオン、
カリウムイオンにそれぞれ置換されガラス基板は強化さ
れる。

【００６６】ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層
の厚さは、約１００〜２００μｍであった。

【００６７】上記化学強化を終えたガラス基板を、２０
℃の水槽に浸漬して急冷し約１０分間維持した。

【００６８】上記急冷を終えたガラス基板を、約４０℃
に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに上記
硫酸洗浄を終えたガラス基板を、純水、純水、ＩＰＡ
（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各
洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には
超音波を印加した。

【００６９】評価上記の工程を経て得られた磁気記録媒体用ガラス基板の
内周端面の表面粗さＲａは図４に示す面取部１ｂで０．
０２８μｍ、側壁部１ａで０．０３０μｍであった。外
周端面における表面粗さＲａは面取部で０．０４μｍ、
側壁部で０．０７μｍであった。また、ガラス基板の主
表面の表面粗さＲａは０．３〜０．７ｎｍ（ＡＦＭで測
定）であった。電子顕微鏡（４０００倍）で端面表面を
観察したところ鏡面状態であった。また、磁気記録媒体
用ガラス基板の内周端面に異物やクラックは認められ
ず、ガラス表面についても異物やサーマル・アスペリテ
ィの原因となるパーティクルは認められなかった。さら
に、図６に示す抗折強度試験機（島津オートグラフＤＤ
Ｓ−２０００）を用い、抗折強度を測定したところ、１
２〜２０ｋｇであった。なお、化学強化レベルを変化さ
せて同様に抗折強度を測定したところ、約１０〜２５ｋ
ｇであった。

【００７０】（７）磁気ディスク製造工程上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板
の両面に、インライン式のスパッタリング装置を用い
て、ＡｌＮのスパッタによるテクスチャー層、Ｃｒ下地
層、ＣｒＭｏ下地層、ＣｏＰｔＣｒＴａ磁性層、Ｃ保護
層を順次成膜してＭＲヘッド用磁気ディスクを得た。

【００７１】得られた磁気ディスクについて異物により
磁性層等の膜に欠陥が発生していないことを確認した。
また、グライドテストを実施したところ、ヒット（ヘッ
ドが磁気ディスク表面の突起にかすること）やクラッシ
ュ（ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること）
は認められなかった。さらに、磁気抵抗型ヘッドで再生
試験を行ったところ、サーマル・アスペリティによる再
生の誤動作は認められなかった。

【００７２】実施例３回転ブラシの代わりに研磨パッドを用いて内外周端面の
研磨を行ったこと以外は実施例２と同様にして磁気記録
媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体を得た。その結果、
外周端面における表面粗さＲａは面取部で０．０３μ
ｍ、側壁部で０．０１μｍであり、また、内周端面にお
ける表面粗さＲａは面取部で０．０３μｍ、側壁部で
０．０１μｍであった。

【００７３】比較例１回転ブラシの代わりにダイヤモンド砥石を用いて内周端
面の研磨を行ったこと以外は実施例２と同様にして磁気
記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体を得た。その結
果、実施例２における面取り加工直後の内外周端面の表
面粗さと同程度であった。また、電子顕微鏡（４０００
倍）で端面表面を観察したところ荒削りした状態であり
平滑性が極めて悪かった。

【００７４】比較例２回転ブラシの代わりに化学的エッチングによって内外周
端面のエッチング処理を行ったこと以外は実施例２と同
様にして磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体を
得た。その結果、エッチング処理前と比べ、Ｒａで０．
１μｍ程度、Ｒｍａｘで０．７μｍ程度悪化した。ま
た、電子顕微鏡（４０００倍）で端面表面を観察したと
ころ、クラックがエッチングで広がり窪みとなってパー
ティクルを捕捉しやすい状態となっており、平坦性が悪
く、クラックの残りが認められた。

【００７５】実施例４〜７、及び比較例３〜４次に、回転ブラシ４の回転数を適宜調整し、研磨液の流
量を８０ｍｌ／ｍｉｎ（比較例３）、１００ｍｌ／ｍｉ
ｎ（実施例４）、２５０ｍｌ／ｍｉｎ（実施例５）、７
５０ｍｌ／ｍｉｎ（実施例６）、１０００ｍｌ／ｍｉｎ
（実施例７）、１２００ｍｌ／ｍｉｎ（比較例４）と変
えたこと以外は、実施例１と同様にしてガラス基板を作
製した。その結果を表１に示す。測定枚数は１００枚
で、表面状態は、光学顕微鏡による表面観察で、スクラ
ッチ等の傷がなかったものを「○」、スクラッチ等の傷
があったものを「×」とした。

【００７６】

【表１】

【００７７】表１に示すように、研磨液の流量が４５０
ｍｌ／ｍｉｎの場合に、端面にスクラッチ状の傷がある
ことが確認された。これは、研磨液の流量が５００ｍｌ
／ｍｉｎ未満の場合、研磨液が研磨ブラシに十分に行き
渡らないので、研磨ブラシが直接ガラス基板端面に接触
することになり、傷が発生したものと考えられる。ま
た、研磨液の流量が３０００ｍｌ／ｍｉｎを超える場
合、スクラッチ状の傷は発生しないものの、研磨の加工
速度が上がらないので好ましくない。

【００７８】実施例８〜１０、及び比較例５〜６次に、回転ブラシ４の螺旋状に植毛されたブラシ毛４３
の傾斜角を１°（比較例５）、５°（実施例８）、１５
°（実施例９）、３０°（実施例１０）、３５°（比較
例６）と変えたこと以外は、実施例１と同様にしてガラ
ス基板を作製した。その結果を表２に示す。測定枚数は
１００枚で、光学顕微鏡による表面観察で、スクラッチ
等の傷があったものを不良と判断し、不良率を算出し
た。

【００７９】

【表２】

【００８０】表２に示すように、ブラシ毛４３の傾斜角
が１°の場合に、端面にスクラッチ状の傷がある研磨不
良が発生し、不良率が高くなった。これは、ブラシ毛の
傾斜角が２°未満の場合、研磨液が被研磨面に十分に行
き渡らず、研磨ブラシが直接ガラス基板端面に接触する
ものが多くなり、不良率が高くなったものと考えられ
る。また、ブラシ毛の傾斜角が３０°を超える場合、傾
斜角が小さい場合よりは研磨液がブラシ毛に沿って浸透
しやすくなっているものの、常にブラシ毛がガラス基板
端面に接触した状態にならないので、研磨の加工速度が
遅くなるので好ましくない。

【００８１】実施例１１〜１４、及び比較例７〜８次に、遊離砥粒の種類等を適宜選択し、上述の端面研磨
工程時に使用する遊離砥粒を含有した研磨液の粘度を、
１．３ｃｐｓ（比較例７）、１．５ｃｐｓ（実施例１
１）、５．０ｃｐｓ（実施例１２）、１０．０ｃｐｓ
（実施例１３）、２５．０ｃｐｓ（実施例１４）、２
７．０ｃｐｓ（比較例８）と変えたこと以外は、実施例
１と同様にしてガラス基板を作製した。その結果を表３
に示す。表面状態は、光学顕微鏡による表面観察で、ス
クラッチ等の傷がなかったものを「○」、スクラッチ等
の傷があったものを「×」とした。

【００８２】

【表３】

【００８３】表３に示すように、研磨液の粘度が１．３
ｃｐｓ、２７．０ｃｐｓのものには、端面にスクラッチ
状の傷があることが確認された。これは、粘度が１．５
ｃｐｓ未満の場合、研磨時にブラシとガラス基板との間
に砥粒が介在されていない箇所が発生し、ブラシが直接
ガラス基板に接触することによってできた傷と考えられ
る。また、２５．０ｃｐｓを超える場合は、粘度が大き
いために、回転ブラシを回転させる回転駆動装置に加わ
る負荷が大きくなるとともに、研磨剤が凝集しやすくな
り、凝集した研磨剤がブラシとガラス基板との間に介在
され研磨されることによってできた傷と考えられる。

【００８４】実施例１５〜１６アルミノシリケートガラスの代わりにソーダライムガラ
ス（実施例１５）、ソーダアルミノケイ酸ガラス（実施
例１６）を用いたこと以外は実施例２と同様にして、磁
気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを得た。

【００８５】その結果、ソーダライムガラスの場合、ガ
ラス基板の外周端面と内周端面の表面粗さは、アルミノ
シリケートガラスに比べやや粗面ではあったが、実用上
問題はなかった。

【００８６】実施例１７実施例２で得られた磁気ディスク用ガラス基板の両面
に、Ａｌ（膜厚５０オングストローム）／Ｃｒ（１００
０オングストローム）／ＣｒＭｏ（１００オングストロ
ーム）からなる下地層、ＣｏＰｔＣｒ（１２０オングス
トローム）／ＣｒＭｏ（５０オングストローム）／Ｃｏ
ＰｔＣｒ（１２０オングストローム）からなる磁性層、
Ｃｒ（５０オングストローム）保護層をインライン型ス
パッタ装置で形成した。

【００８７】上記基板を、シリカ微粒子（粒経１００オ
ングストローム）を分散した有機ケイ素化合物溶液（水
とＩＰＡとテトラエトキシシランとの混合液）に浸し、
焼成することによってＳｉＯ₂からなるテクスチャー機
能を持った保護層を形成し、さらに、この保護層上をパ
ーフロロポリエーテルからなる潤滑剤でディップ処理し
て潤滑層を形成して、ＭＲヘッド用磁気ディスクを得
た。

【００８８】上記磁気ディスクについて実施例２と同様
のことが確認された。

【００８９】実施例１８下地層をＡｌ／Ｃｒ／Ｃｒとし、磁性層をＣｏＮｉＣｒ
Ｔａとしたこと以外は実施例１７と同様にして薄膜ヘッ
ド用磁気ディスクを得た。

【００９０】上記磁気ディスクについて上記実施例と同
様のことが確認された。

【００９１】以上好ましい実施例を挙げて本発明を説明
したが、本発明は必ずしも上記実施例に限定されるもの
ではない。

【００９２】例えば、ガラス基板の種類や磁性層の種類
は実施例のものに限定されない。

【００９３】ガラス基板の材質としては、例えば、アル
ミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダア
ルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、
ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケー
トガラス、又は、結晶化ガラス等のガラスセラミックな
どが挙げられる。

【００９４】アルミノシリケートガラスとしては、Ｓｉ
Ｏ₂：６２〜７５重量％、Ａｌ₂Ｏ₃：５〜１５重量％、
Ｌｉ₂Ｏ：４〜１０重量％、Ｎａ₂Ｏ：４〜１２重量％、
ＺｒＯ₂：５．５〜１５重量％を主成分として含有する
とともに、Ｎａ₂Ｏ／ＺｒＯ₂の重量比が０．５〜２．
０、Ａｌ₂Ｏ₃／ＺｒＯ₂の重量比が０．４〜２．５であ
る化学強化用ガラス等が好ましい。また、ＺｒＯ₂の未
溶解物が原因で生じるガラス基板表面の突起をなくすた
めには、モル％表示で、ＳｉＯ₂を５７〜７４％、Ｚｎ
Ｏ₂を０〜２．８％、Ａｌ₂Ｏ₃を３〜１５％、ＬｉＯ₂を
７〜１６％、Ｎａ₂Ｏを４〜１４％含有する化学強化用
ガラス等を使用することが好ましい。このような組成の
アルミノシリケートガラス等は、化学強化することによ
って、抗折強度が増加し、圧縮応力層の深さも深く、ヌ
ープ硬度にも優れる。

【００９５】磁性層としては、例えば、Ｃｏを主成分と
するＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、Ｃ
ｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔや、ＣｏＮｉ
ＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＴａＰｔ、Ｃｏ
ＣｒＰｔＳｉＯなどの磁性薄膜が挙げられる。磁性層
は、磁性膜を非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、Ｃｒ
Ｖなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成（例
えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣ
ｒＴａＰｔ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＴａＰｔなど）として
もよい。

【００９６】磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）又は大型
磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）対応の磁性層として
は、Ｃｏ系合金に、Ｙ、Ｓｉ、希土類元素、Ｈｆ、Ｇ
ｅ、Ｓｎ、Ｚｎから選択される不純物元素、又はこれら
の不純物元素の酸化物を含有させたものなども含まれ
る。

【００９７】また、磁性層としては、上記の他、フェラ
イト系、鉄−希土類系や、ＳｉＯ₂、ＢＮなどからなる
非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の
磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどであって
もよい。また、磁性層は、内面型、垂直型のいずれの記
録形式であってもよい。

【００９８】本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は、ガ
ラス基板端面から発生する微細なパーティクルを嫌う光
磁気ディスク用のガラス基板や、光ディスクなどの電子
光学用ディスク基板としても利用できる。また、本発明
の研磨方法及び研磨装置は、ガラス状カーボン、結晶材
料（単結晶材料を含む）、セラミック材料などの脆性材
料や、金属材料等の研磨方法及び研磨装置としても利用
できる。

【００９９】

【発明の効果】以上説明したように本発明の研磨方法及
び研磨装置によれば、ガラス基板等の内周端面及び／又
は外周端面の表面状態を低コストで効率よく高いレベル
で平滑にできる。したがって、基板表面の高清浄度化と
ともに、抗折強度の向上を図ることができる。特に、ガ
ラス基板の内周端面及び外周端面に、遊離砥粒を含有し
た研磨液の吹き付けと研磨ブラシ等とを組み合わせるこ
とで、高精度の研磨が困難なガラス基板等の内周端面等
の表面状態を簡便な方法で、またより低コストで効率よ
く高いレベルで平滑にできる。また、ガラス基板の内周
端面及びは外周端面における面取り部に加え側壁部も同
時に低コストで効率よく高いレベルで平滑にできる。

【０１００】また、本発明の研磨装置によれば、ガラス
基板の保持手段回転運動及び回転ブラシの回転運動と研
磨液の供給とにより、簡便な装置で、ガラス基板の内周
端面及や外周端面の表面状態を他の装置に比べより低コ
ストで効率よく高いレベルで平滑にできる。

【０１０１】さらに本発明の磁気記録媒体によれば、ガ
ラス基板表面の異物による問題を回避でき、特に、磁気
抵抗型ヘッド又は大型磁気抵抗型ヘッド対応の磁気記録
媒体として好適な磁気記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る研磨装置を示す断面図
である。

【図２】図１における軸受け部分のＡ−Ａ線方向の断面
図である。

【図３】回転ブラシ及びブラシ毛を示す模式図であり、
（ａ）は正面図、（ｂ）は部分断面図である。

【図４】磁気ディスク用ガラス基板を切断して見たとき
の斜視図である。

【図５】外周端面の研磨の様子を示す平面図である。

【図６】抗折強度試験機を示す断面図である。

【符号の説明】

１ＭＤ基板１ａ側壁部１ｂ面取部２基板ケース３回転保持台４回転ブラシ５研磨液供給部３１回転軸部４３ブラシ毛５０研磨液

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｇ１１Ｂ 5/84 ＡＦターム(参考） 3C049 AA06 AA07 AA09 AA18 AB04 AB08 AC04 CA01 CA06 CB02 CB03 CB05 CB10 3C058 AA06 AA07 AA09 AA18 AB04 AB08 AC04 CA01 CA06 CB02 CB03 CB05 CB10 DA17 4G015 BB05 4G059 AA09 AB03 AB19 AC03 5D112 AA02 BA03 GA02 GA04 GA10 GA14

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】中心部に円孔を有する円板状のガラス基
板の内周端面部分及び／又は外周端面部分に、遊離砥粒
を含有した研磨液を供給するとともに、前記ガラス基板
の内周端面及び／又は外周端面に研磨ブラシ又は研磨パ
ッドを回転接触させて研磨することを特徴とする研磨方
法。
【請求項２】複数枚のガラス基板の内周端面及び／又
は外周端面が同時に研磨されるようにガラス基板を複数
枚重ねて研磨を行うことを特徴とする請求項１記載の研
磨方法。
【請求項３】前記遊離砥粒を含有した研磨液を、５０
０ｍｌ／ｍｉｎ〜３０００ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し
て研磨を行うことを特徴とする請求項１又は２記載の研
磨方法。
【請求項４】前記研磨ブラシのブラシ毛は回転軸に垂
直な平面に対し傾斜を持たせて配設されており、前記研
磨液が複数枚重ねたガラス基板の円孔部分に吸い込まれ
る方向に研磨ブラシを回転させることを特徴とする請求
項１乃至３記載の研磨方法。
【請求項５】前記研磨ブラシのブラシ毛の傾斜角が、
２°〜３０°であることを特徴とする請求項４記載の研
磨方法。
【請求項６】前記遊離砥粒を含有した研磨液の粘度
が、１．５〜２５ｃｐｓであることを特徴とする請求項
１乃至５記載の研磨方法。
【請求項７】中心部に円孔を有する円板状のガラス基
板を複数枚重ねて保持する保持手段と、該保持手段を回
転させる回転手段と、前記複数枚重ねられたガラス基板
の円孔部分に挿入される回転ブラシと、前記複数枚重ね
られたガラス基板の円孔部分に研磨液を供給する研磨液
供給手段とを備えたことを特徴とする研磨装置。
【請求項８】中心部に円孔を有する円板状のガラス基
板を複数枚重ねて保持する保持手段と、該保持手段を回
転させる回転手段と、前記複数枚重ねられたガラス基板
の外周に接触する回転ブラシと、前記複数枚重ねられた
ガラス基板の外周端面部分に研磨液を供給する研磨液供
給手段とを備えたことを特徴とする研磨装置。
【請求項９】請求項１乃至６記載の研磨方法によりガ
ラス基板の内周端面及び／又は外周端面を研磨する工程
を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の
製造方法。
【請求項１０】請求項９記載の磁気記録媒体用ガラス
基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。