JP3025654B2

JP3025654B2 - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JP3025654B2
Application number: JP9041513A
Authority: JP
Inventors: 基延越阪部; 伸行江藤; 浩二高橋
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1997-02-09
Filing date: 1997-02-09
Publication date: 2000-03-27
Anticipated expiration: 2017-02-09
Also published as: JPH10228643A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は情報処理機器の記録
媒体として使用される情報記録媒体、及びその基板の製
造方法等に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の情報記録媒体の一つとして磁気
ディスクがある。磁気ディスクは、基板上に磁性層等の
薄膜を形成して構成されたものであり、その基板として
はアルミやガラス基板が用いられてきた。しかし、最近
では、高記録密度化の追求に呼応して、アルミと較べて
磁気ヘッドと磁気記録媒体との間隔をより狭くすること
が可能なガラス基板の占める比率が次第に高くなってき
ている。このように増加の傾向にあるガラス基板は、磁
気ディスクドライバーに装着された際の衝撃に耐えるよ
うに一般的に強度を増すために化学強化されて製造され
ている。又、ガラス基板表面は磁気ヘッドの浮上高さを
極力下げることができるように、高精度に研磨して高記
録密度化を実現している。

【０００３】他方、ガラス基板だけではなく、磁気ヘッ
ドも薄膜ヘッドから磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）に
推移し、高記録密度化に応えている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述したように高記録
密度化にとって必要な低フライングハイト化のために磁
気ディスク表面の高い平坦性は必要不可欠である。加え
て、ＭＲヘッドを用いた場合，ＴＡ（サーマル・アスフ
ェリティー）の問題からも磁気記録媒体の表面には高い
平坦性が必要となる。このサーマル・アスフェリティー
は、磁気ディスクの表面上に突起があると、この突起に
ＭＲヘッドが影響をうけてＭＲヘッドに熱が発生し、こ
の熱によってヘッドの抵抗値が変動し電磁変換に誤動作
を引き起こす現象である。

【０００５】このように、低フライングハイト化にとっ
ても、サーマル・アスフェリティーの発生防止のために
も磁気ディスク表面の高い平坦性の要請は日増に高まっ
てきている。このような、磁気ディスク表面の高い平坦
性を得るためには結局高い平坦性の基板表面が求められ
ることになるが、もはや、高精度に基板表面を研磨する
だけでは、磁気ディスクの高記録密度化を実現できない
段階まで来ている。つまり、いくら、高精度に研磨して
も基板上に異物が付着していては高い平坦性は得られな
い。勿論、従来から異物の除去はなされていたが、従来
では許容されていた基板上の異物が、今日の高密度化の
レベルでは問題視される状況にある。

【０００６】この種の異物としては、例えば、通常の洗
浄では除去できない極めて微小な鉄粉、ステンレス、ニ
ッケル、クロム、あるいはこれらの金属酸化物が挙げら
れる。この鉄粉がガラス基板上に付着した状態で磁性膜
等の薄膜を積層すると、磁気ディスク表面に突部が形成
され、低フライング・ハイト化や、サーマル・アスフェ
リティーの防止の阻害要因になる。

【０００７】本発明は、このような微小な鉄粉等の金属
片等がガラス基板に付着することの防止を目的とする。
又、他の目的は、膜下欠陥となる異物を除去したガラス
基板を使用することにより、高い歩留まりで情報記録媒
体を製造することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、上述した目的
を鑑みてなされたものであり、以下の構成を採用した。

【０００９】本発明の第１の構成は、主表面を精密研磨
した情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガ
ラス基板を塩酸で洗浄することを特徴とする情報記録媒
体用ガラス基板の製造方法。

【００１０】本発明の第２の構成は、ガラス基板の中に
含まれる一部のイオンを、そのイオンより大きなイオン
径のイオンに置換することによりガラス基板を強化する
化学強化工程を含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方
法において、化学強化工程の前工程又は後工程としてガ
ラス基板を塩酸で洗浄することを特徴とする情報記録媒
体用ガラス基板の製造方法。

【００１１】本発明の第３の構成は、情報記録媒体用ガ
ラス基板が磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴
とする前記構成１又は２記載の情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法。本発明の第４の構成は、情報記録媒体用
ガラス基板が磁気抵抗型ヘッド用ガラス基板であること
を特徴とする前記構成３記載の情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法。

【００１２】本発明の第５の構成は、前記構成１〜４記
載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得ら
れたガラス基板上に少なくとも記録層を形成することを
特徴とする情報記録媒体の製造方法。

【００１３】本発明の第６の構成は、記録層が磁性層で
あることを特徴とする前記第５の構成記載の情報記録媒
体の製造方法。

【００１４】以下、本発明の情報記録媒体用ガラス基板
の製造方法について説明する。

【００１５】本発明において、ガラス基板の種類、サイ
ズ、厚さ等は特に制限されない。ガラス基板の材質とし
ては、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライ
ムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロ
シリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラ
ス、チェーンシリケートガラス、又は、結晶化ガラス等
のガラスセラミックなどが挙げられる。

【００１６】アルミノシリケートガラスとしては、Ｓｉ
Ｏ₂：６２〜７５重量％、Ａｌ₂Ｏ₃：５〜１５重量％、
Ｌｉ₂Ｏ：４〜１０重量％、Ｎａ₂Ｏ：４〜１２重量％、
ＺｒＯ₂：５．５〜１５重量％を主成分として含有する
とともに、Ｎａ₂Ｏ／ＺｒＯ₂の重量比が０．５〜２．
０、Ａｌ₂Ｏ₃／ＺｒＯ₂の重量比が０．４〜２．５であ
る化学強化用ガラス等が好ましい。また、ＺｒＯ₂の未
溶解物が原因で生じるガラス基板表面の突起をなくすた
めには、モル％表示で、ＳｉＯ₂を５７〜７４％、Ｚｎ
Ｏ₂を０〜２．８％、Ａｌ₂Ｏ₃を３〜１５％、ＬｉＯ₂を
７〜１６％、Ｎａ₂Ｏを４〜１４％含有する化学強化用
ガラス等を使用することが好ましい。このような組成の
アルミノシリケートガラス等は、化学強化することによ
って、抗折強度が増加し、圧縮応力層の深さも深く、ヌ
ープ硬度にも優れる。

【００１７】本発明では、耐衝撃性や耐振動性等の向上
を目的として、ガラス基板の表面に低温イオン交換法に
よる化学強化処理を施すことがある。ここで、化学強化
方法としては、従来より公知の化学強化法であれば特に
制限されないが、例えば、ガラス転移点の観点から転移
温度を超えない領域でイオン交換を行う低温型化学強化
などが好ましい。化学強化に用いるアルカリ溶融塩とし
ては、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、あるいは、それ
らを混合した硝酸塩などが挙げられる。

【００１８】本発明の化学強化するときのガラス基板の
保持手段としては、種々の形態が考えられるが、要は、
ガラス基板に化学強化処理液が所定の状態で接触するこ
とが可能であり、液ダレを起こさないものが好ましい。
又、ガラス基板の保持手段又は化学強化処理液槽の材質
は、マルテンサイト系又はオーステナイト系ステンレス
合金にするのが好ましい。これらのマルテンサイト系又
はオーステナイト系ステンレス合金は化学強化時の高温
域における耐食性が優れているので、鉄、ニッケル、ク
ロム等金属片又は金属酸化物の発塵を防止できる。又、
化学強化処理液はフィルター等を通して清浄度を高めた
り、磁石等により化学強化処理液中の鉄粉等を捕捉して
化学強化処理液の清浄度を高めることが好ましい。化学
強化処理液の加熱温度は２００〜５００℃ぐらいが好ま
しい。

【００１９】本発明において、塩酸洗浄は、特に鉄コン
タミを効果的に溶解して除去することができるが、他の
異物（例えば、ニッケル、ステンレス、クロム、あるい
はそれらの酸化物）も除去することができる。塩酸洗浄
する工程は、情報記録媒体用ガラス基板の製造工程のど
の工程で実施してもよいが、研磨工程から完成したガラ
ス基板を梱包する前工程間での間の一工程又は複数の工
程で行うことが効果的である。特に、化学強化工程を含
む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、こ
の化学強化工程の前工程で行うと、ガラス基板表面にお
ける異物による未化学強化部分の発生を効果的に防止で
きる。又、化学強化工程と溶融塩等の洗浄工程をクリー
ン・ブース等により清浄度の高い空気を循環させた雰囲
気下で行い、ガラス基板の梱包前に塩酸洗浄しても良
い。

【００２０】塩酸洗浄する対象は、ガラス基板全体が好
ましいが、膜下欠陥防止のためガラス基板の主表面ある
いは、後工程で端面に付着した鉄コンタミ等が主表面に
付着することを防止するために内外周の端面を選択的に
洗浄してもよい。又、洗浄の方法としてはガラス基板を
塩酸に浸漬したり、塩酸をガラス基板に吹き付ける等の
方法がある。又、単に塩酸とガラス基板を接触させるだ
けでなく、塩酸洗浄中に超音波をかけたり、塩酸洗浄中
又は洗浄後にスクラブ洗浄して効果を高めることができ
る。塩酸は、１〜１２規定の濃度の希塩酸又は濃塩酸が
好ましい。

【００２１】上記本発明の製造方法に係る情報記録媒体
用ガラス基板は、磁気記録媒体用のガラス基板、光磁気
ディスク用のガラス基板、光ディスクなどの電子光学用
ディスク基板として利用できる。特に、磁気抵抗型（大
型磁気抵抗型ヘッドも含む）ヘッドで記録再生する磁気
抵抗型ヘッド用の磁気ディスク基板、及びそれを用いた
情報記録媒体の製造方法に好適に利用できる。

【００２２】次に、本発明の情報記録媒体の製造方法に
ついて説明する。

【００２３】本発明の情報記録媒体の製造方法は、上記
本発明で得られる情報記録媒体用ガラス基板上に、少な
くとも磁性層等の記録層を形成することを特徴とする。

【００２４】本発明では、特に、磁気記録媒体の場合、
サーマル・アスフェリティーあるいはヘッドクラッシュ
の原因となるパーティクルが発生することがないので、
ガラス基板上に磁性層等を形成した磁気記録媒体を高歩
留まりで製造することができる。又、磁気抵抗型ヘッド
の機能を十分に引き出すことができる。また、磁気抵抗
型ヘッドに好適に使用することができるＣｏＰｔ系等の
磁気記録媒体としてもその性能を十分に引き出すことが
できる。

【００２５】同様に、磁気記録媒体の記録・再生面にお
いてもサーマル・アスフェリティーの原因となるパーテ
ィクルによって形成される凸部が発生せず、より高いレ
ベルでヘッドクラッシュを防止できる。

【００２６】また、サーマル・アスフェリティーの原因
となるパーティクルによって、磁性層等の膜に欠陥が発
生しエラーの原因となるということもない。

【００２７】磁気記録媒体は、通常、所定の平坦度、表
面粗さを有し、必要に応じ表面の化学強化処理を施した
磁気ディスク用ガラス基板上に、下地層、磁性層、保護
層、潤滑層を順次積層して製造する。

【００２８】磁気記録媒体における下地層は、磁性層に
応じて選択される。

【００２９】下地層としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔ
ａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌなどの非磁性金属から選ば
れる少なくとも一種以上の材料からなる下地層等が挙げ
られる。Ｃｏを主成分とする磁性層の場合には、磁気特
性向上等の観点からＣｒ単体やＣｒ合金であることが好
ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種
の層を積層した複数層構造とすることもできる。例え
ば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、Ｃｒ
Ｖ／ＣｒＶ、Ａｌ／Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ａｌ／Ｃｒ／Ｃ
ｒ、Ａｌ／Ｃｒ／ＣｒＶ、Ａｌ／ＣｒＶ／ＣｒＶ等の多
層下地層等が挙げられる。

【００３０】磁気記録媒体における磁性層の材料は特に
制限されない。

【００３１】磁性層としては、例えば、Ｃｏを主成分と
するＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、Ｃ
ｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔや、ＣｏＮｉ
ＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＴａＰｔ、Ｃｏ
ＣｒＰｔＳｉＯなどの磁性薄膜が挙げられる。磁性層
は、磁性膜を非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、Ｃｒ
Ｖなど）で分割してノイズの低減を図った多層構成（例
えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣ
ｒＴａＰｔ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＴａＰｔなど）として
もよい。

【００３２】磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）又は大型
磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）対応の磁性層として
は、Ｃｏ系合金に、Ｙ、Ｓｉ、希土類元素、Ｈｆ、Ｇ
ｅ、Ｓｎ、Ｚｎから選択される不純物元素、又はこれら
の不純物元素の酸化物を含有させたものなども含まれ
る。

【００３３】また、磁性層としては、上記の他、フェラ
イト系、鉄−希土類系や、ＳｉＯ₂、ＢＮなどからなる
非磁性膜中にＦｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の
磁性粒子が分散された構造のグラニュラーなどであって
もよい。また、磁性層は、内面型、垂直型のいずれの記
録形式であってもよい。

【００３４】磁気記録媒体における保護層は特に制限さ
れない。

【００３５】保護層としては、例えば、Ｃｒ膜、Ｃｒ合
金膜、カーボン膜、ジルコニア膜、シリカ膜等が挙げら
れる。これらの保護膜は、下地層、磁性層等とともにイ
ンライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、
これらの保護膜は、単層としてもよく、あるいは、同一
又は異種の膜からなる多層構成としてもよい。

【００３６】本発明では、上記保護層上に、あるいは上
記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例え
ば、上記保護層に替えて、Ｃｒ膜の上にテトラアルコキ
シランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダ
ルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化
ケイ素（ＳｉＯ₂）膜を形成してもよい。

【００３７】磁気記録媒体における潤滑層は特に制限さ
れない。

【００３８】潤滑層は、例えば、液体潤滑剤であるパー
フロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系などの溶
媒で希釈し、媒体表面にディッピング法、スピンコート
法、スプレイ法によって塗布し、必要に応じ加熱処理を
行って形成する。

【００３９】

【実施例】以下、実施例にもとづき本発明をさらに具体
的に説明する。

【００４０】実施例１

【００４１】（１）荒ずり工程まず、ダウンドロー法で形成したシートガラスから、研
削砥石で直径６６ｍｍφ、厚さ３ｍｍの円盤状に切り出
したアルミノシリケイトガラスからなるガラス基板を、
比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工して、直径６６
ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍに成形した。この場合、ダウン
ドロー法の代わりに、溶融ガラスを、上型、下型、胴型
を用いてダイレクト・プレスして、円盤状のガラス体を
得てもよい。又、フロート法で形成しても良い。

【００４２】なお、アルミノシリケイトガラスとして
は、モル％表示で、ＳｉＯ₂を５７〜７４％、ＺｎＯ₂を
０〜２．８％、Ａｌ₂Ｏ₃を３〜１５％、ＬｉＯ₂を７〜
１６％、Ｎａ₂Ｏを４〜１４％、を主成分として含有す
る化学強化用ガラス（例えば、モル％表示で、Ｓｉ
Ｏ₂：６７．０％、ＺｎＯ₂：１．０％、Ａｌ₂Ｏ₃：９．
０％、ＬｉＯ₂：１２．０％、Ｎａ₂Ｏ：１０．０％を主
成分として含有する化学強化用ガラス）を使用した。

【００４３】次いで、上記砥石よりも粒度の細かいダイ
ヤモンド砥石で上記ガラス基板の両面を片面ずつ研削加
工した。このときの荷重は１００ｋｇ程度とした。これ
により、ガラス基板両面の表面粗さをＲｍａｘ（ＪＩＳ
Ｂ０６０１で測定）で１０μｍ程度に仕上げた。

【００４４】次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の
中央部分に孔を開けるとともに、外周端面も研削して直
径を６５ｍｍφとした後、外周端面及び内周面に所定の
面取り加工を施した。このときのガラス基板端面の表面
粗さは、Ｒｍａｘで４μｍ程度であった。

【００４５】（２）端面鏡面加工工程次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させなが
らガラス基板の端面の表面粗さを、Ｒｍａｘで１μｍ、
Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。

【００４６】上記端面鏡面加工を終えたガラス基板の表
面を水洗浄した。

【００４７】（３）砂掛け（ラッピング）工程次に、ガラス基板に砂掛け加工を施した。この砂掛け工
程は、寸法精度及び形状精度の向上を目的としている。
砂掛け加工は、ラッピング装置を用いて行い、砥粒の粒
度を＃４００、＃１０００と替えて２回行った。

【００４８】詳しくは、はじめに、粒度＃４００のアル
ミナ砥粒を用い、荷重Ｌを１００ｋｇ程度に設定して、
内転ギアと外転ギアを回転させることによって、キャリ
ア内に収納したガラス基板の両面を面精度０〜１μｍ、
表面粗さ（Ｒｍａｘ）６μｍ程度にラッピングした。

【００４９】次いで、アルミナ砥粒の粒度を＃１０００
に替えてラッピングを行い、表面粗さ（Ｒｍａｘ）２μ
ｍ程度とした。

【００５０】上記砂掛け加工を終えたガラス基板を、中
性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。

【００５１】（４）第一研磨工程次に、第一研磨工程を施した。この第一研磨工程は、上
述した砂掛け工程で残留したキズや歪みの除去を目的と
するもので、研磨装置を用いて行った。

【００５２】詳しくは、ポリシャ（研磨粉）として硬質
ポリシャ（セリウムパッドＭＨＣ１５：スピードファム
社製）を用い、以下の研磨条件で第一研磨工程を実施し
た。

【００５３】研磨液：酸化セリウム＋水荷重：３００ｇ／ｃｍ²（Ｌ＝２３８ｋｇ）研磨時間：１５分除去量：３０μｍ下定盤回転数：４０ｒｐｍ上定盤回転数：３５ｒｐｍ内ギア回転数：１４ｒｐｍ外ギア回転数：２９ｒｐｍ

【００５４】上記第一研磨工程を終えたガラス基板を、
中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬して、
洗浄した。

【００５５】（５）第二研磨工程次に、第一研磨工程で使用した研磨装置を用い、ポリシ
ャを硬質ポリシャから軟質ポリシャ（ポリラックス：ス
ピードファム社製）に替えて、第二研磨工程を実施し
た。研磨条件は、荷重を１００ｇ／ｃｍ²、研磨時間を
５分、除去量を５μｍとしたこと以外は、第一研磨工程
と同様とした。上記第二研磨工程を終えたガラス基板を
洗浄する。この洗浄工程からケースへの梱包に至るプロ
セスは、クリーンブースによって供給された清浄な空気
の環境下で実施した。先ず、最初の洗浄はガラス基板
を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、ＩＰＡ（イソプ
ロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に
順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を
印加した。

【００５６】（６）塩酸洗浄次に、このガラス基板を塩酸で洗浄してガラス基板の表
面と内周及び外周端面に付着している微細な鉄コンタミ
を溶解して除去した。塩酸洗浄の方法は、洗浄槽に収容
された塩酸に複数枚保持されたガラス基板を浸漬して
（約１０分）行った。このように、次工程の化学強化の
前に鉄コンタミを除去することにより、膜下欠陥を防止
できる。特にこの塩酸洗浄を化学強化前に行うことは重
要である。つまり、鉄コンタミがガラス基板上に付着し
た状態で化学強化を行うと、鉄コンタミの下のガラス基
板の表面部分が化学強化されないで残ってしまい、この
未強化部分が膜下欠陥となるからである。このような膜
下欠陥の発生を上述の塩酸洗浄で防止できる。

【００５７】（７）化学強化工程次に、洗浄工程を終えたガラス基板に化学強化を施し
た。化学強化は、化学強化処理液を化学強化処理槽に入
れ、保持部材で保持したガラス基板を化学強化処理液に
浸漬して行う。尚、ガラス基板の保持部材は、ガラス基
板の配列方向に等間隔でＶ溝を複数個形成した３本の支
柱を、その両端面で連結部材で連結して形成されてい
る。複数のガラス基板は、各ガラス基板が３本の支柱の
同一平面内にあるＶ溝によって３点支持されて保持さ
れ、支柱の延在する方向に複数枚配列されている。

【００５８】本実施例の保持部材の各支柱と連結部材は
化学強化の際必要となる高温域での耐食性に優れたオー
ステナイト系ステンレス合金であるＳＵＳ３１６で構成
している。又、化学強化処理槽は，オーステナイト系ス
テンレス合金のＳＵＳ３０４で構成している。化学強化
処理槽と保持手段の材料は、同種でも異種でも良い。他
のステンレス合金としては、例えば、ＳＵＳ３１６Ｌな
どが好適である。又、本実施例の化学強化処理液は、フ
ィルターを通して循環しているので、化学強化処理液が
清浄に保たれている。

【００５９】化学強化の具体的方法は、硝酸カリウム
（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学
強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱
し、３００℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約３
時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表
面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス
基板が端面で保持されるように保持部材で保持して行っ
た。

【００６０】このように、化学強化溶液に浸漬処理する
ことによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナト
リウムイオンは、化学強化溶液中のナトリウムイオン、
カリウムイオンにそれぞれ置換されガラス基板は強化さ
れる。

【００６１】ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層
の厚さは、約１００〜２００μｍであった。又、化学強
化の際、高温の化学強化処理液に接触する化学強化処理
槽とガラス基板の保持部材を化学的耐久性に優れたオー
ステナイト系ステンレス合金で構成したこと、並びに化
学強化処理液をフィルターを通して循環していることに
より、化学強化の工程で、鉄粉、クロム等の金属片や金
属酸化物がガラス基板に付着することを防止できた。

【００６２】上記化学強化を終えたガラス基板を、２０
℃の水槽に浸漬して急冷し約１０分間維持した。これに
より、微小クラックが入った不良品を除去できる。

【００６３】（８）洗浄・梱包工程上記急冷を終えたガラス基板を、約１４０℃に加熱した
硫酸に浸漬し、超音波をかけながら洗浄を行った。この
硫酸洗浄によってガラス基板のアルカリイオンの溶出を
防止することができる。又、ガラス基板上の化学強化処
理液による析出塩を除去できる。この後、最終洗浄を行
いベーパー乾燥してケースに梱包した。

【００６４】上記の工程を経て得られたガラス基板の主
表面の表面粗さＲａは０．５〜１ｎｍであった。さら
に、ガラス表面を精密検査したところサーマル・アスフ
ェリティーの原因となるパーティクルは認められなかっ
た。特に０．１〜５ミクロン以上の微小鉄粉は全く認め
られなかった。本実施例では、鉄コンタミの除去のた
め、塩酸洗浄以外に、清浄な環境コントロール、化学強
化処理液の清浄化コントロールも行っているので、鉄コ
ンタミをほぼ完全に除去することができた。尚、上述し
た実施例では塩酸洗浄を化学強化の前工程で行ったが、
化学強化後、硫酸洗浄後に代わりに行ってもよい。ある
いは、化学強化の前、化学強化の後、硫酸洗浄の後の全
て、又は選択的に組み合わされた複数工程で行っても良
い。

【００６５】（９）磁気ディスク製造工程上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板
の両面に、インライン式のスパッタリング装置を用い
て、ＡｌＮのスパッタによるテクスチャー層、Ｃｒ下地
層、ＣｒＭｏ下地層、ＣｏＰｔＣｒＴａ磁性層、Ｃ保護
層を順次成膜して磁気ディスクを得た。

【００６６】得られた磁気ディスクについてグライドテ
ストを実施したところ、ヒット（ヘッドが磁気ディスク
表面の突起にかすること）やクラッシュ（ヘッドが磁気
ディスク表面の突起に衝突すること）は認められなかっ
た。また、サーマル・アスフェリティーの原因となるパ
ーティクルによって、磁性層等の膜に欠陥が発生してい
ないことも確認できた。

【００６７】なお、本実施例のように塩酸洗浄により鉄
コンタミを除去した基板と、塩酸処理しない比較例とを
比較したところ、比較例のものは、ガラス基板の表面上
に１０ミクロン〜８０ミクロンの微小鉄粉が数多く認め
られた。上述の本実施例とこの比較例の結果を比べる
と、本実施例の優位性が判る。

【００６８】また、グライドテストを終えた本実施例の
磁気ディスクについて、磁気抵抗型ヘッドで再生試験を
行ったが、複数のサンプル（５００枚）の全数について
サーマル・アスフェリティーによる再生の誤動作は認め
られなかった。

【００６９】実施例２〜３アルミノシリケートガラスの代わりにソーダライムガラ
ス（実施例２）、ソーダアルミノケイ酸ガラス（実施例
３）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、磁気デ
ィスク用ガラス基板及び磁気ディスクを得た。

【００７０】その結果、実施例１と同様に表面に鉄粉等
の金属片がない化学強化ガラスが得られた。

【００７１】次に、ガラスの種類を結晶化ガラスに変
え、化学強化工程、洗浄工程を実施せずに、研磨後に塩
酸洗浄を行った。この場合も上述の実施例と同様の鉄の
コンタミ除去効果が得られた。

【００７２】実施例４実施例１で得られた磁気ディスク用ガラス基板の両面
に、Ａｌ（膜厚５０オングストローム）／Ｃｒ（１００
０オングストローム）／ＣｒＭｏ（１００オングストロ
ーム）からなる下地層、ＣｏＰｔＣｒ（１２０オングス
トローム）／ＣｒＭｏ（５０オングストローム）／Ｃｏ
ＰｔＣｒ（１２０オングストローム）からなる磁性層、
Ｃｒ（５０オングストローム）保護層をインライン型ス
パッタ装置で形成した。

【００７３】上記基板を、シリカ微粒子（粒経１００オ
ングストローム）を分散した有機ケイ素化合物溶液（水
とＩＰＡとテトラエトキシシランとの混合液）に浸し、
焼成することによってＳｉＯ₂からなるテクスチャー機
能を持った保護層を形成し、さらに、この保護層上をパ
ーフロロポリエーテルからなる潤滑剤でディップ処理し
て潤滑層を形成して、ＭＲヘッド用磁気ディスクを得
た。

【００７４】得られた磁気ディスクについてグライドテ
ストを実施したところ、ヒットやクラッシュは認められ
なかった。また、磁性層等の膜に欠陥が発生していない
ことも確認できた。さらに、磁気抵抗型ヘッドによる再
生試験の結果、サーマル・アスフェリティーによる再生
の誤動作は認められなかった。

【００７５】実施例５下地層をＡｌ／Ｃｒ／Ｃｒとし、磁性層をＣｏＮｉＣｒ
Ｔａとしたこと以外は実施例４と同様にして薄膜ヘッド
用磁気ディスクを得た。

【００７６】上記磁気ディスクについて実施例４と同様
のことが確認された。

【００７７】以上好ましい実施例を挙げて本発明を説明
したが、本発明は必ずしも上記実施例に限定されるもの
ではない。

【００７８】例えば、ガラス基板の種類や磁性層の種類
は実施例のものに限定されない。

【００７９】

【発明の効果】以上説明したように本発明では、ガラス
基板上に鉄コンタミ等の金属又は金属酸化物等の異物が
付着していない情報記録媒体用ガラス基板を得られる。
又この情報記録媒体用ガラス基板を用いて情報記録層等
を製造すれば、膜下欠陥のない情報記録媒体が得られ
る。

【００８０】特に、磁気記録媒体の場合、へッドクラッ
シュの無い低フライングハイトを実現できる。更に、磁
気抵抗型ヘッドにより電磁変換する磁気記録媒体の場
合、サーマル・アスフェリティーの原因となるパーティ
クルが発生しないので、サーマル・アスフェリティーに
よる再生機能の低下を防止することができる。また、サ
ーマル・アスフェリティーの原因となるパーティクルに
起因する製造不良を回避でき、より高品質の磁気記録媒
体が高歩留まりで得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平９−22525（ＪＰ，Ａ) 特開平７−334841（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 5/84 C03C 15/00 C03C 19/00 C03C 21/00

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】主表面を精密研磨した磁気ディスク用ガ
ラス基板の製造方法において、前記磁気ディスク用ガラス基板は、磁気抵抗型ヘッド用
磁気ディスク用ガラス基板であって、鉄コンタミを効果的に溶解して除去することができるよ
うに、ガラス基板を塩酸で洗浄することを特徴とする磁
気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】ガラス基板の中に含まれる一部のイオン
を、そのイオンより大きなイオン径のイオンに置換する
ことによりガラス基板を強化する化学強化工程を含む磁
気ディスク用ガラス基板の製造方法において、前記磁気ディスク用ガラス基板は、磁気抵抗型ヘッド用
磁気ディスク用ガラス基板であって、前記化学強化工程の前工程又は後工程として、鉄コンタ
ミを効果的に溶解して除去することができるように、ガ
ラス基板を塩酸で洗浄することを特徴とする磁気ディス
ク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】ガラス基板の中に含まれる一部のイオン
を、そのイオンより大きなイオン径のイオンに置換する
ことによりガラス基板を強化する化学強化工程を含む磁
気ディスク用ガラス基板の製造方法において、前記磁気ディスク用ガラス基板は、磁気抵抗型ヘッド用
磁気ディスク用ガラス基板であって、前記化学強化工程の前工程として、ガラス基板を塩酸で
洗浄することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の
製造方法。
【請求項４】ニッケル、ステンレス、クロム、あるい
はそれらの酸化物を除去することができるように、ガラ
ス基板を塩酸で洗浄することを特徴とする請求項１乃至
３のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造
方法。
【請求項５】前記ガラス基板の主表面及び端面を研磨
した後、前記塩酸洗浄を行うことを特徴とする請求項１
乃至４のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の
製造方法。
【請求項６】請求項１乃至５のいずれかに記載の磁気
ディスク用ガラス基板の製造方法によって得られたガラ
ス基板上に少なくとも磁性層を形成することを特徴とす
る磁気ディスクの製造方法。