JP3177736B2 - 処理装置 - Google Patents

処理装置

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JP3177736B2
JP3177736B2 JP26921397A JP26921397A JP3177736B2 JP 3177736 B2 JP3177736 B2 JP 3177736B2 JP 26921397 A JP26921397 A JP 26921397A JP 26921397 A JP26921397 A JP 26921397A JP 3177736 B2 JP3177736 B2 JP 3177736B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウ
エハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理体を洗浄あるいは
乾燥する処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程にお
いては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス等の被処理体
（以下にウエハ等という）を例えばアンモニア水（ＮＨ
4ＯＨ）やフッ化水素酸（ＨＦ）等の薬液やリンス液
（純水）等の洗浄液が貯留された処理部例えば洗浄槽に
順次浸漬して洗浄を行う洗浄処理装置や洗浄後のウエハ
等を乾燥させる乾燥処理装置等の処理装置が広く採用さ
れている。
【０００３】従来のこの種の洗浄処理装置としては、洗
浄液を貯留すると共に洗浄液中に被処理体を浸漬してそ
の表面を洗浄する処理部例えば洗浄槽と、純水供給源と
を接続する洗浄液供給管に、薬液を貯留する薬液貯留容
器を接続してなり、薬液貯留容器内の薬液に搬送用ガス
例えば窒素（Ｎ2）ガスを加圧して、洗浄液供給管内を
流れる純水中に薬液を注入して、所定の濃度の薬液を洗
浄槽内に供給して洗浄処理を行う構造のものが広く使用
されている。
【０００４】また、従来の乾燥処理装置は、ウエハ等に
乾燥ガスを接触させて乾燥する処理部例えば乾燥容器
と、この乾燥容器と乾燥ガス用搬送ガス例えばＮ2ガス
の供給源とを接続するＮ2ガス供給管と、薬液例えばＩ
ＰＡ（イソプロピルアルコール）等の有機溶剤を貯留す
る薬液貯留容器と、Ｎ2ガス供給管に介設される乾燥ガ
ス生成部とを具備してなり、薬液貯留容器内のＩＰＡを
搬送用ガス例えばＮ2ガスにて加圧して、乾燥ガス生成
部に注入して、所定濃度の乾燥ガスを乾燥容器内に供給
して乾燥処理を行なうものが広く使用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の処理装置においては、薬液貯留容器内に貯留さ
れた薬液を不活性ガス例えばＮ2ガスにて加圧して薬液
を純水ライン中あるいは乾燥ガス生成部に注入する方式
であるため、純水あるいは乾燥用ガスの流量又は圧力の
変動に大きく左右され易く、薬液の定量性に劣るという
問題があった。そのため、薬液濃度が不安定となり、洗
浄効率あるいは乾燥効率が低下すると共に、歩留まりの
低下をきたすという問題もあった。
【０００６】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、純水あるいは乾燥ガス用搬送ガス等の処理媒体の流
量又は圧力の変動に影響を受けることなく、所定量の薬
液を純水中や乾燥ガス生成部に注入して所定濃度の薬液
を洗浄あるいは乾燥等の処理に供せるようにした処理装
置を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は以下のように構成する。
【０００８】（１）請求項１記載の処理装置は、洗浄液
を貯留すると共に洗浄液中に被処理体を浸漬してその表
面を洗浄する処理部と、 上記処理部と純水供給源とを
接続する供給管と、 薬液を貯留する薬液貯留容器と、
開閉切換手段を介して上記供給管と薬液貯留容器とを
接続する薬液供給管と、 上記薬液供給管に介設される
薬液供給手段とを具備してなり、 上記薬液供給手段
を、１又は互いに連動する複数のダイヤフラムを有する
空気圧式ダイヤフラムポンプにて形成し、 上記ダイヤ
フラムポンプの駆動部と駆動空気供給源とを接続する空
気供給管に、空気圧調整手段と管路開閉切換手段を介設
し、 上記ダイヤフラムポンプの吐出側に圧力検出手段
を設け、 予め設定された制御信号と圧力検出手段から
の検出信号を比較演算処理して、上記管路開閉切換手段
を制御可能に形成してなる、ことを特徴とする。
【０００９】このように構成することにより、供給管中
を流れる純水の流量又は圧力の変動に左右されることな
く、また、薬液の注入量を監視しつつ適量の薬液を純水
中に注入して、所定濃度の薬液を処理部内に供給するこ
とができる。したがって、洗浄効率の向上が図れると共
に、歩留まりの向上が図れる。
【００１０】（２）請求項２記載の処理装置は、洗浄液
を貯留すると共に洗浄液中に被処理体を浸漬してその表
面を洗浄する処理部と、 上記処理部と純水供給源とを
接続する供給管と、 薬液を貯留する薬液貯留容器と、
開閉切換手段を介して上記供給管と薬液貯留容器とを
接続する薬液供給管と、 上記薬液供給管に介設される
薬液供給手段とを具備してなり、 上記薬液供給手段
を、往復駆動式ポンプにて形成し、 上記薬液供給管に
おける上記薬液供給手段の薬液吐出側と、上記薬液貯留
容器とに循環管路を接続すると共に、この循環管路に開
閉手段及びフィルタを介設してなる、ことを特徴とす
る。
【００１１】このように構成することにより、供給管中
を流れる純水の流量又は圧力の変動に左右されることな
く所定量の薬液を純水中に注入して、所定濃度の薬液を
処理部内に供給することができる上、待機中の薬液を常
時循環すると共にフィルタリングして、薬液注入の円滑
化及び注入量の定量化を図ることができる。
【００１２】（３）請求項３記載の処理装置は、被処理
体に乾燥ガスを接触させて乾燥する処理部と、 上記処
理部と乾燥ガス用搬送ガスの供給源とを接続する供給管
と、薬液を貯留する薬液貯留容器と、 上記供給管に介
設される乾燥ガス生成部と、 乾燥ガス生成部と薬液貯
留部とを接続する薬液供給管と、 上気薬液供給管に介
設される薬液供給手段とを具備してなり、 上記薬液供
給手段を、往復駆動式ポンプにて形成してなる、ことを
特徴とする。
【００１３】このように構成することにより、乾燥ガス
生成部内に供給される搬送用ガスの流量又は圧力の変動
に左右されることなく所定量の薬液を搬送用ガス中に注
入（混入）して、所定濃度の薬液を処理部内に供給する
ことができる。したがって、乾燥効率の向上が図れると
共に、歩留まりの向上を図ることができる。
【００１４】（４）請求項４記載の処理装置は、被処理
体に乾燥ガスを接触させて乾燥する処理部と、 上記処
理部と乾燥ガス用搬送ガスの供給源とを接続する供給管
と、薬液を貯留する薬液貯留容器と、 上記供給管に介
設される乾燥ガス生成部と、 乾燥ガス生成部と薬液貯
留部とを接続する薬液供給管と、 上気薬液供給管に介
設される薬液供給手段とを具備してなり、 上記薬液供
給手段を、往復駆動式ポンプにて形成し、 上記薬液供
給管における上記薬液供給手段の薬液吐出側と、上記薬
液貯留容器とに循環路を接続すると共に、この循環路に
開閉手段及びフィルタを介設してなる、ことを特徴とす
る。
【００１５】このように構成することにより、乾燥ガス
生成部内に供給される搬送用ガスの流量又は圧力の変動
に左右されることなく所定量の薬液を搬送用ガス中に注
入（混入）して、所定濃度の薬液を処理部内に供給する
ことができる。したがって、乾燥効率の向上が図れると
共に、歩留まりの向上を図ることができる上、待機中の
薬液を常時循環すると共に、フィルタリングして、薬液
注入（混合）の円滑化及び注入量（混合比）の定量化を
図ることができる。
【００１６】（５）請求項５記載の処理装置によれば、
請求項１ないし４のいずれかに記載の処理装置におい
て、 上記薬液供給管における薬液供給手段の薬液吐出
側に、フィルタを介設してなる、ことを特徴とする。こ
のように構成することにより、薬液注入時に薬液をフィ
ルタリングすることができ、薬液中に混入するパーティ
クル等の不純物を除去することができる。
【００１７】（６）請求項６記載の処理装置は、請求項
２ないし４のいずれかに記載の処理装置において、 上
記往復駆動式ポンプを、１又は互いに連動する複数のダ
イヤフラムを有する空気圧式ダイヤフラムポンプにて形
成し、 上記ダイヤフラムポンプの駆動部と駆動空気供
給源とを接続する空気供給管に、空気圧調整手段と管路
開閉切換手段を介設し、 上記管路開閉切換手段の切換
速度を制御可能に形成してなる、ことを特徴とする。こ
のように構成することにより、所定量の薬液を確実に純
水中あるいは乾燥ガス生成部に注入することができ、薬
液の濃度調整を容易にすることができる。
【００１８】（７）請求項７記載の処理装置は、請求項
２ないし４のいずれかに記載の処理装置において、 上
記往復駆動式ポンプを、１又は互いに連通する複数の電
動式べローズポンプにて形成してなる、ことを特徴とす
る。この場合、ベローズポンプの駆動部に例えばボール
ねじ機構を用いることができる。このように構成するこ
とにより、所定量の薬液を確実に純水中あるいは乾燥ガ
ス生成部に注入することができ、またベローズポンプの
ストロークを長くすることで、連続した薬液の注入を可
能にすることができる。
【００１９】（８）請求項８記載の処理装置は、請求項
２ないし４のいずれかに記載の処理装置において、 上
記往復駆動式ポンプを、互いに連通する複数の電動式ベ
ローズポンプにて形成すると共に、各ベローズポンプの
駆動に位相差をもたせるようにした、ことを特徴とす
る。このように構成することにより、一方のベローズポ
ンプが吸入工程の際に他方のベローズポンプを吐出工程
とすることができるので、薬液の連続注入を可能にする
ことができる。
【００２０】（９）請求項９記載の処理装置は、請求項
２ないし４のいずれかに記載の処理装置において、 上
記往復駆動式ポンプの吐出側に圧力検出手段を設け、こ
の圧力検出手段からの検出信号に基づいて薬液吐出量を
制御するように上記往復駆動式ポンプの駆動部を制御す
る、ことを特徴とする。このように構成することによ
り、薬液の注入量を監視しつつ適量の薬液を純水中ある
いは乾燥ガス生成部に注入することができる。
【００２１】（１０）請求項１０記載の処理装置は、請
求項１又は２に記載の処理装置において、 上記処理部
を、被処理体を浸漬する内槽と、この内槽の開口部の外
方縁部を覆う外槽とで構成し、 上記外槽の底部と、上
記内槽内に配設される洗浄液供給部とを、循環管路にて
接続し、 上記乾燥管路に、循環ポンプ，温度調整機構
及びフィルタを介設してなる、ことを特徴とする。この
ように構成することにより、処理部内に貯留された薬液
を所定温度に温度調整すると共に、フィルタリングしつ
つ循環供給することができる。したがって、薬液の消費
量の削減が図れると共に、薬液の有効利用が図れる。
【００２２】（１１）請求項１１記載の処理装置は、請
求項１ないし４のいずれかに記載の処理装置において、
上記薬液供給管における薬液供給手段の吐出側に、脈
動緩衝手段を介設してなることを特徴とする。このよう
に構成することにより、薬液供給手段によって吐出され
る薬液の断続波形を連続的な波形に修正することがで
き、薬液の純水中あるいは乾燥ガス生成部への注入を円
滑にすることができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄処理システムに適用した場合について説
明する。
【００２４】図１はこの発明に係る洗浄処理装置を適用
した洗浄処理システムの一例を示す概略平面図、図２は
図１の一部の概略側面図である。
【００２５】上記洗浄処理システムは、被処理体である
半導体ウエハＷ（以下にウエハという）を水平状態に収
納する容器例えばキャリア１を搬入、搬出するための搬
送部２と、ウエハＷを薬液、洗浄液等の液処理すると共
に乾燥処理する洗浄・乾燥処理部３と、搬送部２と洗浄
・乾燥処理部３との間に位置してウエハＷの受渡し、位
置調整及び姿勢変換等を行うインターフェース部４とで
主に構成されている。
【００２６】上記搬送部２は、洗浄処理システムの一側
端部に併設して設けられる搬入部５と搬出部６とで構成
されている。また、搬入部５は、上部搬送機構７からキ
ャリア１を受け取る受取り部５ａと、この受取り部５ａ
から水平に搬送されるキャリア１を載置する受渡し部５
ｂとからなり、受渡し部５ｂには、キャリア１を上部位
置とインターフェース部４の搬入口（図示せず）との間
で搬送するキャリアリフタ８が配設されている。また、
搬出部６には、キャリア１をインターフェース部４の搬
出口（図示せず）と上部との間で搬送するキャリアリフ
タ８が配設され、これらキャリアリフタ８によって搬入
部５間又は搬出部６間でのキャリア１の搬送を行うこと
ができると共に、空のキャリア１をインターフェース部
４の上方に設けられたキャリア待機部９への受け渡し及
びキャリア待機部９からの受け取りを行うことができる
ように構成されている（図２参照）。
【００２７】上記インターフェース部４は、区画壁４ｃ
によって区画される搬送部２に隣接する第１の室４ａ
と、洗浄・乾燥処理部３に隣接する第２の室４ｂとで構
成されている。そして、第１の室４ａ内には、搬入部５
（具体的には受渡し部５ｂ）のキャリア１から複数枚の
ウエハＷを取り出して搬送する水平方向（Ｘ，Ｙ方
向），垂直方向（Ｚ方向）及び回転（θ方向）可能なウ
エハ取出しアーム１０と、ウエハＷに設けられたノッチ
を揃えるノッチアライナー１１と、ウエハ取出しアーム
１０によって取り出された複数枚のウエハＷの間隔を調
整する間隔調整機構（図示せず）を具備すると共に、水
平状態のウエハＷを垂直状態に変換する第１の姿勢変換
装置１２が配設されている。
【００２８】また、第２の室４ｂ内には、処理済みの複
数枚のウエハＷを洗浄・乾燥処理部３から垂直状態のま
ま搬送する後述するウエハ搬送チャック２３から受け取
ったウエハＷを垂直状態から水平状態に変換する第２の
姿勢変換装置１３と、この第２の姿勢変換装置１３によ
って水平状態に変換された複数枚のウエハＷを受け取っ
てウエハ受取り部１４に搬送された空のキャリア１内に
収納する水平方向（Ｘ，Ｙ方向），垂直方向（Ｚ方向）
及び回転（θ方向）可能なウエハ収納アーム１５が配設
されている。なお、ウエハ受取り部１４には、ウエハ受
取り部１４とキャリア待機部９との間でキャリアを搬送
するキャリアリフタ８が配設されている。また、キャリ
ア待機部９には、ウエハ受渡し部５ｂによってウエハＷ
を受渡した後の空のキャリア１やウエハ受取り部１４で
キャリア１内にウエハＷを収容したキャリタ１を所定の
待機位置あるいはウエハ受取り部１４からキャリア待機
部９に搬送されたウエハＷを収納したキャリア１を搬出
部６の上方へ移動するキャリア搬送ロボット１６が配設
されている。
【００２９】一方、上記洗浄・乾燥処理部３には、ウエ
ハＷに付着するパーティクルや有機物汚染を除去する第
１の処理ユニット１９と、ウエハＷに付着する金属汚染
を除去する第２の処理ユニット１８と、ウエハＷに付着
する酸化膜を除去する第３の処理ユニット１７及びチャ
ック洗浄ユニット２０が直線状に配列されている。な
お、第３の処理ユニット１７の上方には乾燥処理ユニッ
ト２１が配設されている。なおこの場合、第３の処理ユ
ニット１７又は乾燥処理ユニット２１にこの発明に係る
処理装置が適用されている。また、これら各ユニット１
７〜２０と対向する位置から上記インターフェース部４
に延在して設けられた搬送路２２に、Ｘ，Ｙ方向（水平
方向）、Ｚ方向（垂直方向）及び回転（θ）可能なウエ
ハ搬送チャック２３が配設されている。
【００３０】次に、この発明の洗浄処理装置について説
明する。 ◎第一実施形態 図３はこの発明の処理装置の第一実施形態を示す概略断
面図である。
【００３１】上記処理装置１７は、薬液例えばフッ化水
素酸（ＨＦ）の希釈液（ＤＨＦ）やリンス液例えば純水
等の洗浄液を貯留すると共に洗浄液中に被処理体例えば
半導体ウエハＷ（以下にウエハという）を浸漬してその
表面を洗浄する処理部例えば洗浄槽３０と、この洗浄槽
３０と純水供給源３１とを接続すべく洗浄槽３０内に配
設される洗浄液供給ノズル３２と純水供給源３１とを接
続する洗浄液供給管３３と、薬液例えばフッ化水素酸
（ＨＦ）を貯留する薬液貯留容器３４と、注入開閉切換
弁３５（開閉切換手段）を介して洗浄液供給管３３と薬
液貯留容器３４とを接続する薬液供給管３６と、薬液供
給管３６に介設される薬液供給手段例えば往復駆動式ポ
ンプ３７とを具備してなる。なお、洗浄液供給管３３に
おける純水供給源３１の吐出側には開閉弁３１Ａが介設
されている。
【００３２】また、薬液供給管３６における往復駆動式
ポンプ３７の吸入側及び吐出側にはそれぞれ逆止弁３８
ａ，３８ｂが介設されており、往復駆動式ポンプ３７の
吐出側と薬液貯留容器３４とに循環管路３９が接続さ
れ、この循環管路３９には、ポンプ吐出側から薬液貯留
容器側に向かって開閉弁４０及びフィルタ４１が介設さ
れている。このように、ポンプ吐出側と薬液貯留容器側
とを循環管路３９にて接続し、この循環管路３９に開閉
弁４０とフィルタ４１を介設することにより、薬液の純
水への注入を停止している待機状態において、薬液貯留
容器３４内に貯留された薬液例えばＨＦを濾過（フィル
タリング）しつつ循環することができる。したがって、
待機中の薬液を常時循環すると共にフィルタリングし
て、薬液注入の円滑化及び注入量の定量化を図ることが
できる。
【００３３】なおこの場合、図３に２点鎖線で示すよう
に、フィルタ４１を薬液供給管３６におけるポンプ３７
の吐出側に介設してもよい。このように構成することに
より、待機中の薬液を常時循環すると共にフィルタリン
グして、薬液注入の円滑化及び注入量の定量化を図るこ
とができる上、薬液の注入時においてフィルタリングし
て薬液中に混入するパーティクル等を除去することがで
きる。
【００３４】なお、薬液貯留容器３４の外側には、容器
３４内の薬液の液面を検出するレベルセンサ４２が配設
されており、このレベルセンサ４２によって検出された
信号は図示しない制御手段に伝達され、制御手段からの
制御信号に基づいて薬液供給用開閉弁４３が開放されて
薬液供給源４４から薬液が容器３４内に供給されるよう
に構成されている。なお、薬液貯留容器３４の頂部には
空気抜き孔が設けられ、この空気抜き孔を介して空気抜
き部３４ａに接続されている。
【００３５】また、薬液供給管３６におけるポンプ吐出
側には、脈動緩衝手段例えばダンパ８０が介設されてお
り、このダンパ８０によって往復駆動式ポンプ３７から
断続的に吐出される薬液の流量波形を連続的な波形に修
正して、薬液の純水への注入を円滑に行えるようにして
いる。
【００３６】一方、上記往復駆動式ポンプ３７は、図４
に示すように、上記薬液貯留容器３４側に接続する２つ
の吸入ポート４５ａと、洗浄液供給管３３側に接続する
２つの吐出ポート４５ｂとをそれぞれ連通する２つの通
路４５を具備しており、各通路４５に向かって進退移動
する一対のダイヤフラム４６ａ，４６ｂを連結ロッド４
７にて連結すると共に、各ダイヤフラム４６ａ，４６ｂ
の通路４５と反対側の室４８内に駆動空気を供給すべく
空気供給ポート４８ａを設けた往復動式のダイヤフラム
ポンプにて構成されている。なお、連結ロッド４７は、
両室４８を連通する貫通孔４８ｂ内にＯリング４８ｃを
介して摺動自在に配設されている。
【００３７】この場合、各空気吸入・排出ポート４８ａ
と空気供給源４９とを接続する空気供給管５０には、管
路切換手段例えば４ポート２位置切換弁５１（以下に切
換弁）と空気圧調整用のレギュレータ５２が介設されて
おり、レギュレータ５２によって所定の圧力に調整され
た駆動空気を切換弁５１の切換動作によって各ダイヤフ
ラム４６ａ，４６ｂに加圧するように構成されている。
このように構成することにより、切換弁５１を切換動作
させると、各ダイヤフラム４６ａ，４６ｂに交互に空気
が加圧されるので、ダイヤフラム４６ａ，４６ｂの往復
動作によって薬液貯留容器３４内の薬液を断続的ではあ
るが、所定量を洗浄液供給管３３中を流れる純水中に注
入することができる。なおこの場合、切換弁５１は、例
えば中央演算処理装置５３（ＣＰＵ）で予め設定された
制御信号例えば吐出量選択信号，吐出動作信号等を記憶
したシーケンサ５４からの信号に基づいて切換動作し得
るように構成されている。また、空気供給管５０におけ
る切換弁５１の流出・流入側には、それぞれファイバー
センサ９０が介設されており、これらファイバーセンサ
９０によってダイヤフラムポンプ３７側から切換弁５１
へ流入する薬液の逆流の有無が検知されるようになって
いる。
【００３８】また、上記薬液供給管３６におけるダイヤ
フラムポンプ３７（往復駆動式ポンプ）の吸入ポート４
５ａ側及び吐出ポート４５ｂ側にはそれぞれ２つの逆止
弁３８ａ，３８ａ；３８ｂ，３８ｂが介設されており、
ダイヤフラムポンプ３７の動作時における薬液の逆流を
確実に阻止し得るように構成されている。また、ダイヤ
フラムポンプ３７の吐出側における薬液供給管３６に
は、圧力検出センサ５６が介設されている。この圧力検
出センサ５６によって検出された検出信号は、上記ＣＰ
Ｕ５３に伝達され、ＣＰＵ５３に予め記憶された情報と
比較演算処理されて、上記シーケンサ５４に伝達される
一方、ハード停止信号として切換弁５１の駆動部に直接
伝達されるように構成されている。
【００３９】上記のように構成される処理装置におい
て、開閉弁３１Ａを開放すると共に、注入開閉切換弁３
５を操作して、純水供給源３１と洗浄槽３０とを連通状
態にすることにより、純水供給源３１から洗浄液供給管
３３及び洗浄液供給ノズル３２を介して純水が洗浄槽３
０内に貯留されると共に、オーバーフローして洗浄槽３
０内に収容される複数枚のウエハＷの洗浄を行うことが
できる。
【００４０】また、注入開閉切換弁３５を操作して純水
供給源３１からの純水を流通させた状態で薬液供給管３
６側を開放状態とし、この状態で、レギュレータ５２を
作動すると共に、切換弁５１を切換操作することによ
り、予めシュミレータによって設定された所定の圧力の
駆動空気がダイヤフラムポンプ３７の各ダイヤフラム４
６ａ，４６ｂに交互に加圧して、薬液貯留容器３４内か
ら薬液例えばフッ化水素酸（ＨＦ）の所定量が薬液供給
管３６を介して洗浄液供給管３３内に流れ、純水によっ
て希釈されて所定濃度の薬液すなわち希釈フッ化水素酸
（ＤＨＦ）が洗浄槽３０内に供給される。これにより、
予めシュミレータによって設定された所定濃度のＤＨＦ
が洗浄槽３０内に貯留されると共に、オーバーフローし
て洗浄槽３０内に収容されたウエハＷの表面に付着する
パーティクルや酸化膜等を除去することができる。
【００４１】このようにして薬液処理を行った後、注入
開閉切換弁３５を操作して、再び純水供給源３１と洗浄
槽３０とを連通状態にする一方、薬液供給管３６との連
通を閉じて、洗浄槽３０内に純水を供給してＤＨＦを純
水に置換し、純水内にウエハＷを浸漬すると共に、純水
をオーバーフローしてウエハＷに付着する薬液すなわち
ＨＦを除去することができる。
【００４２】◎第二実施形態 図５はこの発明の処理装置の第二実施形態を示す概略断
面図である。
【００４３】上記第一実施形態では、往復駆動式ポンプ
に復動式のダイヤフラムポンプ３７を用いた場合につい
て説明したが、往復駆動式ポンプは必しも復動式ダイヤ
フラムポンプである必要はなく、単動式のダイヤフラム
ポンプを用いてもよい。すなわち、図５に示すように、
上記薬液貯留容器３４側に接続する吸入ポート４５ａ
と、洗浄液供給管３６側に接続する吐出ポート４５ｂと
を連通する通路４５に向かって進退移動するダイヤフラ
ム４６を具備し、ダイヤフラム４６の通路４５と反対側
の室４８内に駆動空気を供給すべく空気供給ポート４８
ａを設けた単動式ダイヤフラムポンプ３７Ａを用いても
よい。この場合、空気供給管５０には２ポート２位置切
換弁５１Ａ（管路切換手段）が介設されている。
【００４４】なお、第二実施形態において、その他の部
分は上記第一実施形態と同じであるので、同一部分には
同一符号を付して、その説明は省略する。
【００４５】◎第三実施形態 図６はこの発明の処理装置の第三実施形態を示す概略断
面図（ａ）及びその要部拡大断面図（ｂ）である。
【００４６】第三実施形態は、往復駆動式ポンプの駆動
時の慣性流を少なくするように配慮した場合である。す
なわち、図６に示すように、往復駆動式ポンプ例えばダ
イヤフラムポンプ３７Ｂの吸入ポート４５ａをダイヤフ
ラム４６の対向面に設けると共に、この吸入ポート４５
ａの外周側にＯリング３７ｂを嵌着し、空気圧によって
往復動するポンプシャフト３７ａによってダイヤフラム
４６がＯリング３７ｂに圧接することにより、薬液の吐
出を終了すると共に、通路４５を閉じるように構成した
場合である。なおこの場合、ダイヤフラムポンプ３７Ｂ
の本体側に取り付けられた調整可能なストロークストッ
パ３７ｃとポンプシャフト３７ａに突設されたストッパ
片３７ｄとの係合によって吐出量が調整できるように構
成されている。
【００４７】このように、吸入ポート４５ａ部に設けら
れたＯリング３７ｂに直接ダイヤフラム４６を圧接して
通路４５を閉じることにより、吐出側に背圧をかけるこ
とができるので、慣性流現象を抑制することができ、ダ
イヤフラムポンプ３７Ｂの吐出精度をより高くすること
ができる。ここで、慣性流現象とは、ポンプの吐出流量
を大きくしてゆくと、ポンプ室から吐出された薬液自信
の慣性力が大きくなってゆき、ダイヤフラム４６が停止
しても、吐出の液流が停止しない現象をいう。
【００４８】なお、上記説明では、単動式のダイヤフラ
ムポンプについて述べたが、第一実施形態の往復動式ダ
イヤフラムポンプにも適用できることは勿論である。な
お、第三実施形態において、その他の部分は上記第一及
び第二実施形態と同じであるので、同一部分には同一符
号を付して、その説明は省略する。
【００４９】◎第四実施形態 図７はこの発明の処理装置の第四実施形態を示す概略断
面図である。
【００５０】第四実施形態は、往復駆動式ポンプに電動
式ベローズポンプ３７Ｃを用いた場合である。すなわ
ち、図７に示すように、べローズ５７の一端に固設され
る側壁５８ａに、薬液貯留容器３４側の薬液供給管３６
に接続する吸入ポート５９ａと、洗浄液供給管３３側の
薬液供給管３６に接続する吐出ポート５９ｂを設け、べ
ローズ５７の他端に固設される可動壁５８ｂに、ボール
ねじ機構６０の可動子６１に連結する操作部材６２を連
結して、ボールねじ機構６０のモータ６３の正逆回転駆
動によりねじ軸６４を回転させて、可動子６１及び操作
部材６２を介して可動壁５８ｂを移動させて所定量の薬
液を純水中へ注入するようにした場合である。
【００５１】この場合、薬液供給管３６におけるべロー
ズポンプ３７Ｂの吸入ポート５９ａ側及び吐出ポート５
９ｂ側にはそれぞれ逆止弁６５が介設されており、ま
た、吐出側における薬液供給管３６には、圧力検出セン
サ５６が介設されている。この圧力検出センサ５６によ
って検出された検出信号は、上記ＣＰＵ５３に伝達さ
れ、ＣＰＵ５３に予め記憶された情報と比較演算処理さ
れて、上記シーケンサ５４に伝達され、ボールねじ機構
６０のモータ６３に伝達される一方、ハード停止信号と
してボールねじ機構６０のモータ６３に直接伝達される
ように構成されている。
【００５２】なお、第四実施形態において、その他の部
分は上記第一実施形態ないし第三実施形態と同じである
ので、同一部分には同一符号を付して、その説明は省略
する。
【００５３】上記のように構成される第四実施形態の処
理装置によれば、ＣＰＵ５３から予め設定された制御信
号（吐出量選択信号，吐出動作信号）を受けたシーケン
サ５４からの操作信号によってモータ６３が所定の回転
数で正逆回転することにより、ベローズ５７を往復移動
させて、所定量の薬液を純水中へ注入することができ
る。したがって、上記第一実施形態ないし第三実施形態
に示したダイヤフラムポンプに比べて薬液の注入量及び
注入時間を多くすることができる。
【００５４】◎第五実施形態 図８はこの発明の処理装置の第五実施形態を示す概略断
面図である。
【００５５】上記第四実施形態では、１つのべローズポ
ンプ３７Ｃを用いて薬液貯留容器３４内の所定量の薬液
を洗浄液供給管３３中を流れる純水中に注入する場合に
ついて説明したが、図８に示すように、複数（図面では
２つの場合を示す）のベローズポンプ３７Ｄ，３７Ｅを
互いに並列に連通させて設けるようにしてもよい。この
場合、一方のベローズポンプ３７Ｄのボールねじ機構６
０のねじ軸６４のねじの傾きに対して、他方のベローズ
ポンプ３７Ｅのボールねじ機構６０のねじ軸６４のねじ
の傾きを反対にすることにより、各ベローズポンプ３７
Ｄ，３７Ｅの駆動に位相差をもたせることができる。つ
まり、一方のベローズポンプ３７Ｄが薬液の吐出工程の
際に、他方のべローズポンプ３７Ｅを吸入工程とするこ
とができ、両べローズポンプ３７Ｄ，３７Ｅを交互に駆
動させることによって連続した薬液の注入を行うことが
できる。
【００５６】なお、第五実施形態において、その他の部
分は上記第一実施形態ないし第四実施形態と同じである
ので、同一部分には同一符号を付して、その説明は省略
する。
【００５７】◎第六実施形態 図９はこの発明の処理装置の第六実施形態を示す概略断
面図である。
【００５８】第六実施形態は、薬液の消費量を削減する
と共に、薬液の有効利用を図れるようにした場合であ
る。すなわち、上記洗浄槽３０を構成する外槽３０ｂの
底部に設けられた排出口と、洗浄槽３０内に配設される
洗浄液供給ノズル３２（洗浄液供給部）とを循環管路７
０にて接続すると共に、この循環管路７０に、排出口側
から洗浄液供給ノズル３２側に向かって順に、第１の開
閉弁７１，循環ポンプ７２，温度調整機構７３，フィル
タ７４及び第２の開閉弁７５を介設して、洗浄槽３０内
に貯留された薬液例えばＤＨＦ等を循環供給してウエハ
Ｗの表面に付着する金属汚染物や酸化膜を除去するよう
にした場合である。
【００５９】上記第六実施形態において、その他の部分
は、上記第一実施形態と同じであるので、同一部分には
同一符号を付して、その説明は省略する。
【００６０】上記のように構成される処理装置におい
て、洗浄槽３０内に貯留される薬液例えばＤＨＦをオー
バーフローして洗浄槽３０内に収容されたウエハＷの表
面に付着する金属汚染物や酸化膜等を除去した後、開閉
弁３１Ａを閉じて純水の供給を停止すると共に、注入開
閉切換弁３５を閉じて、循環管路７０の第１及び第２の
開閉弁７１，７５を開放すると共に、循環ポンプ７２を
駆動することにより、洗浄槽３０内に貯留されたＤＨＦ
を、温度調整機構７３により所定温度に温調すると共
に、フィルタ７４によってフィルタリングして循環供給
し、ＤＨＦ中に浸漬されるウエハＷ表面に付着する金属
汚染物あるいは酸化膜の除去を続行する。
【００６１】このようにして薬液処理を行った後、第１
及び第２の開閉弁７１，７５を閉じると共に、開閉弁３
１Ａを開放して、再び純水供給源３１と洗浄槽３０とを
連通状態にする一方、注入開閉切換弁３５を閉じたまま
にして、洗浄槽３０内に純水を供給してＤＨＦを純水に
置換し、純水内にウエハＷを浸漬すると共に、純水をオ
ーバーフローしてウエハＷに付着する薬液すなわちＨＦ
を除去することができる。
【００６２】上記のように、洗浄槽３０で純水をオーバ
ーフローさせてウエハＷを洗浄した後、洗浄槽３０に連
続して供給される純水中に所定の濃度に希釈される薬液
例えばＤＨＦをオーバーフローさせてウエハＷを洗浄
し、その後、ＤＨＦの供給を停止して、洗浄槽３０内に
貯留されたＤＨＦを温調すると共にフィルタリングしつ
つ循環供給して洗浄し、再び洗浄槽３０で純水をオーバ
ーフローさせてウエハＷに付着するＨＦを洗浄すること
により、純水からＤＨＦに置換される際にウエハＷの面
内均一性が低下するが、再びＤＨＦから純水に置換する
ことで、均一性が修復されるので、高いエッチング均一
性が得られ、洗浄効率の向上を図ることができる。ま
た、洗浄槽３０内に貯留された薬液例えばＤＨＦを温調
すると共にフィルタリングしつつ循環供給することで、
ＤＨＦの消費量を低減することができると共に、ＤＨＦ
の有効利用を図ることができる。
【００６３】◎第七実施形態 図１０はこの発明の処理装置の第七実施形態を示す概略
断面図である。
【００６４】第七実施形態は、この発明の処理装置を乾
燥処理ユニット２１に適用した場合である。
【００６５】この場合、上記処理装置は、薬液例えばＩ
ＰＡ（イソプロピルアルコール）等の有機溶剤の蒸気と
乾燥ガス用搬送ガス例えば不Ｎ2ガスとの混合ガスから
なる乾燥ガスを洗浄後のウエハＷに接触して乾燥する処
理部例えば乾燥容器１００と、この乾燥容器１００と乾
燥ガス用搬送ガスの供給源例えばＮ2ガス供給源１０１
と、乾燥容器１００とＮ2ガス供給源１０１とを接続す
るＮ2ガス供給管１０２に介設される乾燥ガス生成部１
０３と、薬液例えばＩＰＡを貯留する薬液貯留容器３４
と、注入開閉切換弁３５を介して乾燥ガス生成部１０３
と薬液貯留容器３４とを接続する薬液供給管３６とを具
備してなり、薬液供給管３６に上記第一実施形態と同様
に構成される往復駆動式ポンプ３７を介設した構造とな
っている。なお、Ｎ2ガス供給管１０２における乾燥ガ
ス生成部１０３の吐出側には開閉制御弁１０４及びフィ
ルタ１０５が介設され、またＮ2ガス供給管１０２にお
けるＮ2ガス供給源１０１の吐出側には、順に開閉弁１
０６及びＮ2ガス用ヒータ１０７が介設されている。
【００６６】なおこの場合、上記乾燥ガス生成部１０３
は、図１１に示すように、蒸気媒体用の気体としてのＮ
2ガスの供給管１０２に接続する流入口１１１と流出口
１１２を有する例えばステンレス鋼製のパイプ状の中細
ノズル１１０を具備している。この中細ノズル１１０
は、内周面にＮ2ガスの流れ方向に沿って漸次狭小とな
る先細ノズル部１１３と、この先細ノズル部１１３の狭
小部（スロート部）１１４から流れ方向に沿って徐々に
拡開する末広ノズル部１１５とからなり、スロート部１
１４近傍の流出口側（二次側）に衝撃波形成部１１６が
形成されている。
【００６７】また、中細ノズル１１０のスロート部１１
４近傍の末広ノズル部１１５には、被蒸発液としてのＩ
ＰＡの供給口１１７が開設されており、この供給口１１
７に薬液供給管３６を介して薬液貯留容器３４が接続さ
れている。また、末広ノズル部１１５の流出口１１２側
の中細ノズル１１０内に第１の加熱体である内筒ヒータ
１１８が挿入され、その外側には第２の加熱体である外
筒ヒータ１１９が配設されて、流れ方向に２段階以上の
加熱能力が発揮できるように構成されている。すなわ
ち、加熱能力がＮ2ガスの流れに沿って密から粗へ推移
するように構成されている。なおこの場合、衝撃波形成
部１１６及びＩＰＡ供給口１１７付近にヒータを設けて
もよい。
【００６８】また、中細ノズル１１０の流入口１１１側
と流出口１１２側には分岐路１２０が接続され、この分
岐路１２０に圧力調整弁１２１が介設されており、この
圧力調整弁１２１の調節によって中細ノズル１１０に供
給されるＮ2ガスの供給圧力の変動に対応し得るように
構成されている。つまり、中細ノズル１１０のオリフィ
ス径は可変ではなく固定されているため、中細ノズル一
次側（流入口側）圧力に上限値を設けた場合、中細ノズ
ル１１０を通るＮ2ガスの流量にもおのずと上限値が設
定されることになる。しかし、プロセス条件より更に大
きなＮ2ガス流量が要求された場合、このような分岐路
１２０を設け、中細ノズル１１０下流側（流出口側）に
Ｎ2ガスを導入することにより、広範囲の流量を供給す
ることができる。この場合、分岐路１２０中に介設され
た圧力調整弁１２１によってＮ2ガスの補充流量を調整
することができる。また、圧力調整弁１２１の調節によ
って衝撃波の発生条件が適宜設定することができる。
【００６９】また、前記ＩＰＡの供給口１１７に接続す
る薬液供給管３６には冷却手段１２２が配設されてい
る。この冷却手段１２２は、例えば薬液供給管３６を包
囲するジャケットに冷媒を循環供給するなどして薬液供
給管３６内を流れるＩＰＡを沸点以下に冷却し得るよう
に構成されている。このように、冷却手段１２２によっ
てＩＰＡの温度を沸点温度以下に冷却することによっ
て、例えば微小量のＩＰＡを供給する場合に、前記加熱
手段すなわち内筒ヒータ１１８及び外筒ヒータ１１９か
らの熱影響によってＩＰＡが蒸発するのを防止すること
ができ、ＩＰＡを液体状態のまま確実に中細ノズル１１
０の供給口１１７から供給することができる。
【００７０】上記のように構成することにより、蒸気媒
体用の気体であるＮ2ガスが中細ノズル１１０の流入口
から流出口に向かって流れると、Ｎ2ガスは先細ノズル
部１１３によって加速され、スロート部１１４で音速に
到達した後、末広ノズル部１１５に入ってからも大きな
圧力差によって更に膨脹増速されて超音速の流れとな
り、音速以上の流速で噴出して衝撃波が発生する。この
ような状態下において供給口１１７からＩＰＡを供給す
ると、突発的な衝撃波が発生し、この衝撃波のエネルギ
を利用してＩＰＡが霧化される。この霧状となったＩＰ
Ａを内筒ヒータ１１８と外筒ヒータ１１９により加熱す
ることにより、ＩＰＡガス（蒸気）が生成される。この
際、内筒ヒータ１１８と外筒ヒータ１１９の加熱能力が
Ｎ2ガスの流れ方向に少なくとも２段階以上有し、かつ
加熱能力をＮ2ガスの流れ方向に沿って密から粗へ推移
させるようにすることにより、内筒ヒータ１１８及び外
筒ヒータ１１９の温度バランスを是正することができ、
ヒータ５５，５６の寿命の増大が図れる。
【００７１】上記のように構成される処理装置によれ
ば、開閉弁１０６を開放すると共に、注入開閉切換弁３
５を開放した状態で、上述のように往復駆動式ポンプ３
７を駆動して、所定量の薬液例えばＩＰＡを乾燥ガス生
成部１０３内に注入してＮ2ガスとＩＰＡとを混合する
と共に、加熱して所定濃度の乾燥ガスを生成することが
できる。そして、生成された乾燥ガスを、乾燥容器１０
０内に収容されたウエハＷに対して供給してウエハＷに
接触することにより、乾燥ガスの蒸気が凝縮あるいは吸
着されて、ウエハＷの水分の除去及び乾燥を行なう。
【００７２】なお、第七実施形態において、往復駆動式
ポンプ３７として第一実施形態ないし第五実施形態のい
ずれのポンプを用いることができる。また、第七実施形
態において、その他の部分は上記第一実施形態と同じで
あるので、同一部分には同一符号を付して、その説明は
省略する。
【００７３】◎その他の実施形態 上記第一実施形態ないし第六実施形態では、この発明の
処理装置が第３の処理ユニット１７に適用される場合に
ついて説明したが、第１又は第２の処理ユニット１９，
１８にも適用できることは勿論である。
【００７４】なお、上記実施形態では、この発明の処理
装置及び洗浄処理方法を半導体ウエハの洗浄処理システ
ムに適用した場合について説明したが、半導体ウエハ以
外のＬＣＤ用ガラス基板等にも適用できることは勿論で
ある。
【００７５】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、上記のように構成されているので、以下のような優
れた効果が得られる。
【００７６】（１）請求項１記載の発明によれば、供給
管中を流れる純水の流量又は圧力の変動に左右されるこ
となく、また、薬液の注入量を監視しつつ適量の薬液を
純水中に注入して、所定濃度の薬液を洗浄槽内に供給す
ることができるので、洗浄効率の向上が図れると共に、
歩留まりの向上が図れる。
【００７７】（２）請求項２記載の発明によれば、上記
（１）に加えて待機中の薬液を常時循環すると共にフィ
ルタリングして、薬液注入の円滑化及び注入量の定量化
を図ることができる。
【００７８】（３）請求項３記載の発明によれば、乾燥
ガス生成部内に供給される搬送用ガスの流量又は圧力の
変動に左右されることなく所定量の薬液を搬送用ガス中
に注入（混入）して、所定濃度の薬液を処理部内に供給
することができる。したがって、乾燥効率の向上が図れ
ると共に、歩留まりの向上を図ることができる。
【００７９】（４）請求項４記載の発明によれば、上記
（３）に加えて待機中の薬液を常時循環すると共にフィ
ルタリングして、薬液注入の円滑化及び注入量の定量化
を図ることができる。
【００８０】（５）請求項５記載の発明によれば、上記
（１）〜（４）に加えて薬液注入時に薬液をフィルタリ
ングすることができ、薬液中に混入するパーティクル等
の不純物を除去することができる。
【００８１】（６）請求項６記載の発明によれば、往復
駆動式ポンプを、１又は互いに連動する複数のダイヤフ
ラムを有する空気圧式ダイヤフラムポンプにて形成し、
ダイヤフラムポンプの駆動部と駆動空気供給源とを接続
する空気供給管に、空気圧調整手段と管路開閉切換手段
を介設し、管路開閉切換手段の切換速度を制御可能に形
成するので、上記（１），（３）に加えて所定量の薬液
を確実に純水中あるいは乾燥ガス生成部に注入すること
ができ、薬液の濃度調整を容易にすることができる。
【００８２】（７）請求項７記載の発明によれば、上記
（１），（３）に加えて所定量の薬液を確実に純水中あ
るいは乾燥ガス生成部に注入することができ、またベロ
ーズポンプのストロークを長くすることで、連続した薬
液の注入を可能にすることができる。
【００８３】（８）請求項８記載の発明によれば、往復
駆動式ポンプを、互いに連通する複数の電動式ベローズ
ポンプにて形成すると共に、各ベローズポンプの駆動に
位相差をもたせるようにしたので、上記（１），（３）
に加えて一方のベローズポンプが吸入工程の際に他方の
ベローズポンプを吐出工程とすることができ、薬液の連
続注入を可能にすることができる。
【００８４】（９）請求項９記載の発明によれば、往復
駆動式ポンプの吐出側に圧力検出手段を設け、この圧力
検出手段からの検出信号に基づいて薬液吐出量を制御す
るように往復駆動式ポンプの駆動部を制御するので、上
記（１），（３）に加えて薬液の注入量を監視しつつ適
量の薬液を純水中あるいは乾燥ガス生成部に注入するこ
とができる。
【００８５】（１０）請求項１０記載の発明によれば、
処理部を、被処理体を浸漬する内槽と、この内槽の開口
部の外方縁部を覆う外槽とで構成し、外槽の底部と、内
槽内に配設される洗浄液供給部とを、循環管路にて接続
し、乾燥管路に、循環ポンプ，温度調整機構及びフィル
タを介設してなるので、洗浄槽内に貯留された薬液を所
定温度に温度調整すると共に、フィルタリングしつつ循
環供給することができる。したがって、上記（１）に加
えて薬液の消費量の削減が図れると共に、薬液の有効利
用が図れる。
【００８６】（１１）請求項１１記載の発明によれば、
薬液供給管における薬液供給手段の吐出側に、脈動緩衝
手段を介設してなるので、上記（１），（３）に加えて
薬液供給手段によって吐出される薬液の断続波形を連続
的な波形に修正することができ、薬液の純水中あるいは
乾燥ガス生成部への注入を円滑にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の処理装置を適用した洗浄処理システ
ムの概略平面図である。
【図２】上記洗浄処理システムの一部の概略側面図であ
る。
【図３】この発明の処理装置の第一実施形態を示す概略
断面図である。
【図４】第一実施形態の要部を示す概略断面図である。
【図５】この発明の処理装置の第二実施形態の要部を示
す概略断面図である。
【図６】この発明の処理装置の第三実施形態を示す概略
断面図（ａ）及びその要部拡大断面図（ｂ）である。
【図７】この発明の処理装置の第四実施形態の要部を示
す概略断面図である。
【図８】この発明の処理装置の第五実施形態の要部を示
す概略断面図である。
【図９】この発明の処理装置の第六実施形態を示す概略
断面図である。
【図１０】この発明の処理装置の第七実施形態を示す概
略断面図である。
【図１１】第七実施形態における乾燥ガス生成部を示す
断面図である。
【符号の説明】
Ｗ 半導体ウエハ（被処理体） ３０ 洗浄槽（処理部） ３０ａ 内槽 ３０ｂ 外槽 ３１ 純水供給源 ３３ 洗浄液供給管 ３４ 薬液貯留容器 ３５ 注入開閉切換弁（開閉切換手段） ３６ 薬液供給管 ３７，３７Ａ，３７Ｂ ダイヤフラムポンプ（往復駆動
式ポンプ） ３７Ｃ〜３７Ｅ べローズポンプ（往復駆動式ポンプ） ３９ 循環管路 ４０ 開閉弁 ４１ フィルタ ４９ 空気供給源 ５１ ４ポート２位置切換弁（管路切換手段） ５２ レギュレータ（空気圧調整手段） ５３ ＣＰＵ ５４ シーケンサ ５６ 圧力検出センサ（圧力検出手段） ６０ ボールねじ機構 ７０ 循環管路 ７１ 開閉弁 ７２ 循環ポンプ ７３ 温度調整機構 ７４ フィルタ ８０ ダンパ（脈動緩衝手段） １００ 乾燥容器（処理部） １０１ Ｎ2ガス供給源（乾燥ガス用搬送ガス供給源） １０２ Ｎ2ガス供給管 １０３ 乾燥ガス生成部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−42531（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−342880（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−245289（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−177106（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−50282（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−148464（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−278530（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−64010（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−87295（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−22259（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−62838（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 648 H01L 21/304 651 B08B 3/00 - 3/04

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 洗浄液を貯留すると共に洗浄液中に被処
    理体を浸漬してその表面を洗浄する処理部と、 上記処理部と純水供給源とを接続する供給管と、 薬液を貯留する薬液貯留容器と、 開閉切換手段を介して上記供給管と薬液貯留容器とを接
    続する薬液供給管と、 上記薬液供給管に介設される薬液供給手段とを具備して
    なり、 上記薬液供給手段を、１又は互いに連動する複数のダイ
    ヤフラムを有する空気圧式ダイヤフラムポンプにて形成
    し、 上記ダイヤフラムポンプの駆動部と駆動空気供給源とを
    接続する空気供給管に、空気圧調整手段と管路開閉切換
    手段を介設し、 上記ダイヤフラムポンプの吐出側に圧力検出手段を設
    け、 予め設定された制御信号と圧力検出手段からの検出信号
    を比較演算処理して、上記管路開閉切換手段を制御可能
    に形成してなる 、ことを特徴とする処理装置。
  2. 【請求項２】 洗浄液を貯留すると共に洗浄液中に被処
    理体を浸漬してその表面を洗浄する処理部と、 上記処理部と純水供給源とを接続する供給管と、 薬液を貯留する薬液貯留容器と、 開閉切換手段を介して上記供給管と薬液貯留容器とを接
    続する薬液供給管と、 上記薬液供給管に介設される薬液供給手段とを具備して
    なり、 上記薬液供給手段を、往復駆動式ポンプにて形成し、 上記薬液供給管における上記薬液供給手段の薬液吐出側
    と、上記薬液貯留容器とに循環管路を接続すると共に、
    この循環管路に開閉手段及びフィルタを介設してなる、 ことを特徴とする処理装置。
  3. 【請求項３】 被処理体に乾燥ガスを接触させて乾燥す
    る処理部と、 上記処理部と乾燥ガス用搬送ガスの供給源とを接続する
    供給管と、 薬液を貯留する薬液貯留容器と、 上記供給管に介設される乾燥ガス生成部と、 乾燥ガス生成部と薬液貯留部とを接続する薬液供給管
    と、 上気薬液供給管に介設される薬液供給手段とを具備して
    なり、 上記薬液供給手段を、往復駆動式ポンプにて形成してな
    る、 ことを特徴とする処理装置。
  4. 【請求項４】 被処理体に乾燥ガスを接触させて乾燥す
    る処理部と、 上記処理部と乾燥ガス用搬送ガスの供給源とを接続する
    供給管と、 薬液を貯留する薬液貯留容器と、 上記供給管に介設される乾燥ガス生成部と、 乾燥ガス生成部と薬液貯留部とを接続する薬液供給管
    と、 上気薬液供給管に介設される薬液供給手段とを具備して
    なり、 上記薬液供給手段を、往復駆動式ポンプにて形成し、 上記薬液供給管における上記薬液供給手段の薬液吐出側
    と、上記薬液貯留容器とに循環管路を接続すると共に、
    この循環管路に開閉手段及びフィルタを介設してなる、
    ことを特徴とする処理装置。
  5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の処
    理装置において、 上記薬液供給管における薬液供給手段の薬液吐出側に、
    フィルタを介設してなる、ことを特徴とする処理装置。
  6. 【請求項６】 請求項２ないし４のいずれかに記載の処
    理装置において、 上記往復駆動式ポンプを、１又は互いに連動する複数の
    ダイヤフラムを有する空気圧式ダイヤフラムポンプにて
    形成し、 上記ダイヤフラムポンプの駆動部と駆動空気供給源とを
    接続する空気供給管に、空気圧調整手段と管路開閉切換
    手段を介設し、 上記管路開閉切換手段の切換速度を制御可能に形成して
    なる、 ことを特徴とする処理装置。
  7. 【請求項７】 請求項２ないし４のいずれかに記載の処
    理装置において、 上記往復駆動式ポンプを、１又は互いに連通する複数の
    電動式べローズポンプにて形成してなる、ことを特徴と
    する処理装置。
  8. 【請求項８】 請求項２ないし４のいずれかに記載の処
    理装置において、 上記往復駆動式ポンプを、互いに連通する複数の電動式
    ベローズポンプにて形成すると共に、各ベローズポンプ
    の駆動に位相差をもたせるようにした、ことを特徴とす
    る処理装置。
  9. 【請求項９】 請求項２ないし４のいずれかに記載の処
    理装置において、 上記往復駆動式ポンプの吐出側に圧力検出手段を設け、
    この圧力検出手段からの検出信号に基づいて薬液吐出量
    を制御するように上記往復駆動式ポンプの駆動部を制御
    する、ことを特徴とする処理装置。
  10. 【請求項１０】 請求項１又は２に記載の処理装置にお
    いて、 上記処理部を、被処理体を浸漬する内槽と、この内槽の
    開口部の外方縁部を覆う外槽とで構成し、 上記外槽の底部と、上記内槽内に配設される洗浄液供給
    部とを、循環管路にて接続し、 上記循環管路に、循環ポンプ，温度調整機構及びフィル
    タを介設してなる、 ことを特徴とする処理装置。
  11. 【請求項１１】 請求項１ないし４のいずれかに記載の
    処理装置において、 上記薬液供給管における薬液供給手段の吐出側に、脈動
    緩衝手段を介設してなることを特徴とする処理装置。
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