JPH08221748A - ディスク状基板保持用カセット及びディスク状基板の洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ディスク状基板を洗浄する際、洗浄効果を高
くして歩留まりの向上、処理時間の短縮を図る。 【構成】 縁部に、ディスク状基板１の外周縁が挿入さ
れる、逆Ｖ字形の切込よりなる支持部が形成された薄板
よりなる基板保持板４を、その板面がディスク面に対し
て直交方向となるように配置してなるディスク状基板保
持用カセット２。基板１が洗浄液中に完全に浸漬される
位置から洗浄液から完全に露出する位置までカセット２
を上下動させて洗浄する。 【効果】 基板と基板保持板の基板支持部とが近接する
面積を小さくし、基板表面と洗浄液との接触不良部分を
最小にすると共に、カセット引き上げ時に発生する液溜
まりを減少させる。基板が洗浄液から完全に露出される
位置まで揺動させることにより、基板表面に接触する洗
浄液の置換効率を高め、良好な洗浄効果を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体等に用い
られるディスク状基板を保持するためのカセット及びこ
のカセットにディスク状基板を保持した状態でディスク
状基板を洗浄する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク等のディスク状基板を用い
る製造プロセスでは、前工程ないし搬送中に生じた付着
物を次工程での処理前に完全に除去するために、スクラ
ブ、高圧水、超音波（ＵＳ）等を用いた様々な洗浄工程
を経る。この洗浄に当っては、洗浄中に物理的な作用に
より基板表面に欠陥が発生すること及び装置の複雑化を
避けるために、洗浄液もしくは純水（以下、純水等を含
めて「洗浄液」と称す。）に被洗浄基板を浸漬する浸漬
洗浄とし、揺動、超音波（ＵＳ）印加等との組み合わせ
による洗浄方法が多く用いられる。

【０００３】図７〜１０を参照して、従来の洗浄用カセ
ットについて説明する。図７（ａ）は従来の洗浄用カセ
ットの側面図、図７（ｂ）は同正面図、図８は図７
（ｂ）の部の拡大図、図９は図８の−線に沿う支
持部材２２の断面図、図１０は基板支持部の拡大斜視図
である。なお、図９において、基板は一点鎖線で示され
ている。

【０００４】このカセット２０は、側板２１，２１間に
複数本（図７では４本）の棒状支持部材２２が架設され
たものであり、この棒状支持部材２２は、Ｖ字状の周回
溝（凹部２２Ａ）が一定ピッチで連続的に形成され、算
盤玉を多数連ねた外観形状のものとなっている。ディス
ク状基板１は、この凹部２２Ａにその縁部を挿入するよ
うにして支持されている。図７に示す如くディスク状基
板１をその板面が鉛直となるようにカセット２０に保持
し、図５の如くカセットごと洗浄液中に浸漬し、カセッ
ト２０を上下動させ、同時にＵＳを印加して該ディスク
状基板１を洗浄する。この洗浄方法であれば、洗浄中に
基板に物理的な力が作用することがないため、洗浄によ
る基板の欠陥の発生を防止できると共に、複数枚の基板
を一度に効率的に洗浄することができる。

【０００５】なお、カセット２０は、ディスク状基板１
が常に洗浄液中に没したままとなるように図５のＣとＣ
´との間を矢印Ａの如く往復動される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来の洗浄用カセット
２０では、図１０に示されている通り、保持されている
基板１の表面のうち、棒状支持部材２２の凹部２２Ａの
斜面２２ａに近接している部分（図１０でドットを付し
た部分１Ａ）の面積が大きく、この近接部分１Ａに液が
淀み易く、該部分１Ａの洗浄が不十分になり易い。ま
た、洗浄液から基板１をカセット２０と共に引き上げた
際、基板１の下部（図９のドットを付した部分１Ｂ）に
多量の液が付着、残留し、液溜まりが発生し易い。

【０００７】さらに、図５に示すカセットＣの位置とカ
セットＣ′の位置とを上下動させる従来の洗浄方法で
は、基板表面に接触する洗浄液の更新が円滑に行われな
い。このため、特に、粘性の高い洗浄液の場合には、洗
浄効果が十分でなかったり、洗浄に長時間を要するとい
った問題がある。

【０００８】本発明は上記従来の問題点を解決し、洗浄
時間を短縮して効率的な洗浄を行えるディスク状基板保
持用カセット及びディスク状基板の洗浄方法を提供する
ことを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１のディスク状基
板保持用カセットは、ディスク状基板を該基板のディス
ク面が略鉛直となるように保持するためのカセットにお
いて、縁部に、ディスク状基板の外周縁が挿入される、
略Ｖ字形の切込よりなる支持部が形成された薄板よりな
る基板保持板を、その板面が、保持されるディスク状基
板のディスク面に対して直交方向となるように配置して
なることを特徴とする。

【００１０】請求項２のディスク状基板の洗浄方法は、
請求項１に記載のカセットにディスク状基板を保持した
状態で該ディスク状基板を洗浄液中に出し入れして洗浄
する方法であって、該ディスク状基板の全体が洗浄液液
面下に没した状態と該ディスク状基板の全体が洗浄液液
面上に露出した状態とをとるように該ディスク状基板を
上下動させることを特徴とする。

【００１１】請求項３のディスク状基板の洗浄方法は、
請求項２に記載の洗浄方法において、洗浄液液面上に露
出したディスク状基板に向けて洗浄液を噴霧することを
特徴とする。

【００１２】

【作用】本発明のディスク状基板保持用カセットであれ
ば、基板と基板保持板の基板支持部とが近接する面積を
小さくすることができ、これにより、基板表面と洗浄液
との接触不良部分を著しく小さくできると共に、カセッ
ト引き上げ時に発生する液溜まりを著しく減少させるこ
とができる。

【００１３】また、本発明の洗浄方法であれば、基板が
洗浄液から完全に露出される位置まで移動させることに
より、基板表面に接触する洗浄液の置換効率を高め、良
好な洗浄効果を得ることができる。特に、液面上に露出
したディスク状基板に対しクリーンな洗浄液を噴出する
ことにより、基板表面での洗浄液の置換効率がより一層
高められ、しかも、基板が洗浄中に不均一に乾燥してし
まうことを防ぐこともでき、良好な洗浄効果を得ること
ができる。

【００１４】

【実施例】以下、図面を参照して実施例を説明する。

【００１５】図１（ａ）は本発明のディスク状基板保持
用カセットの一実施例を示す側面図、図１（ｂ）は同正
面図、図２（ａ）は図１に示すカセットの要部拡大図
（図１（ｂ）の部の拡大図）、図２（ｂ）は図２
（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、図３（ａ）は図１に示
すカセットの要部拡大図（図１（ｂ）の部を上方から
見た図）、図３（ｂ）は図３（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断
面図、図３（ｃ）は図３（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面
図、図４は基板保持板による基板の支持方法を説明する
拡大斜視図、図５，６は洗浄方法の一実施例を示す正面
図である。

【００１６】まず、図１〜４を参照して本発明のディス
ク状基板保持用カセットの一実施例について説明する。

【００１７】本実施例のディスク状基板保持用カセット
２は、１対の側板３，３間に棒状部材５を架設し、該棒
状部材５に基板保持板４を取り付けたものである。

【００１８】基板保持板４は、細幅の薄板よりなり、そ
の長手方向の側縁には、図４に示す如く、基板１の外周
縁が挿入される、略Ｖ字形状の切込よりなる支持部６が
複数設けられている。

【００１９】本実施例では、ディスク状基板１の最下端
を支持する１枚の基板保持板４（４ａ）と、ディスク状
基板１を両側から支えるように２枚の基板保持板４（４
ｂ，４ｃ）が設けられている。

【００２０】ディスク状基板１の最下端を支持する基板
保持板４ａは、図２の通り板面が鉛直となるようにかつ
支持部６が上向きとなるように棒状部材５に取り付けら
れている。この棒状部材５には、補助板７が基板保持板
４ａと平行に取り付けられている。この基板保持板４と
補助板７との間にはスペーサ８が介在され、隙間９が形
成されている。補助板７の上縁は、基板保持板４ａの上
縁よりも下方で、且つＶ字状支持部６の谷底部より上方
とされている。

【００２１】ディスク状基板１の側方を支える１対の基
板保持板４（４ｂ），４（４ｂ）は、支持部６，６を対
向させて配置されている。これらの基板保持板４，４
は、支持部６を有する側辺が他方の側辺よりも若干上位
となるように傾斜配置されている。

【００２２】このような基板保持板４により基板１を支
持した場合、図４に示すようにディスク状基板１が支持
部６で挟まれる部分１Ｃは、薄板状の基板保持板４の厚
さｔの範囲となり、従来の図１０の１Ａ部分に比べ著し
く小さなものとなる。

【００２３】本実施例においては、基板の下端縁部を支
持する基板保持板４と補助板７との間には隙間９が形成
されるが、この隙間９に生じる毛管現像を利用して、洗
浄液からカセットを引き上げた際に、基板表面に付着し
た洗浄液を強制的にこの隙間９に吸引して排除すること
ができる。

【００２４】本発明において、基板保持板４の板厚（図
４のｔ）は２ｍｍ以下であることが好ましい。

【００２５】基板保持板４の略Ｖ字形状の支持部６の該
Ｖ字の角度（図４のθ）は、基板最外周部のチャンファ
ー角度にほぼ一致させ、６０〜１２０°程度とするのが
好ましい。また、支持部６の深さ（図４のｈ）は１．８
〜５．５ｍｍ程度とするのが好ましい。

【００２６】なお、毛管現像を利用して基板下部の液溜
まりを排除する方法として、基板下部の支持部にアスピ
レータを設ける、もしくはスリットを設けるというよう
な構成が考えられるが、それらの方法と比較して、上記
補助板を設けるものは、構成部品が少ないことに加えて
加工が容易であるため、製作コストを低減できるという
利点がある。

【００２７】補助板７と基板保持板４との間隔（図２
（ｂ）のｄ）は、毛管現像が生起し得る程度であれば良
く、各々の構成材料や洗浄液の種類等によっても異なる
が、通常の場合、０．１〜３ｍｍ程度とされる。

【００２８】なお、補助板７は、その上縁７Ａが、基板
１の下端と基板保持板４との接触位置と同レベルとなる
ように設けるのが好ましい。

【００２９】本発明のディスク状基板保持用カセットに
おいて、基板保持板４や補助板７といった基板１と直接
接触する部材の材質は、ステンレス等の防錆性金属でも
良いが、基板との接触部におけるキズの発生防止に有効
であることから、塩化ビニル、テフロン等の樹脂もしく
はステンレスにテフロンコーティングを施した材料等を
選定するのが好ましい。

【００３０】なお、基板と直接接触しない部材の材質に
ついては特に制限はない。

【００３１】このような本発明のディスク状基板保持用
カセットは、特にディスク状基板の浸漬洗浄の際に、基
板の保持に用いるカセットとして有用である。

【００３２】次に、図５，６を参照して本発明のディス
ク状基板の洗浄方法の一実施例方法について説明する。

【００３３】本発明の方法においては、図５に示す如
く、洗浄槽１１に貯留された洗浄液１０中にディスク状
基板保持用カセット２に保持された基板１が完全に洗浄
液１０中に浸漬している状態Ｃと、基板１が完全に洗浄
液１０から露出している状態Ｃ″とを取るように該カセ
ット２を上下に往復動させる。

【００３４】このように、Ｃ⇔Ｃ″間を上下動させて洗
浄することにより、基板表面と接触する洗浄液を効率的
に更新し、良好な洗浄効果を得ることができる。しかも
このカセット２の液切れが良いため、洗浄効果がより一
層優れたものとなる。

【００３５】本発明において、上下動の速度については
特に制限はないが、上下１往復を１分間に３〜２０回程
度行うのが好ましい。

【００３６】本発明においては、図６に示す如く、洗浄
槽１１の上方に、シャワーノズル１２を設け、揺動によ
り洗浄液から引き上げられた基板１に対して洗浄液を噴
霧ないし散布することにより、より一層基板表面の洗浄
液の更新を効率的に行って、良好な洗浄効果を得ること
ができる。

【００３７】なお、本発明の洗浄方法においても、洗浄
中に揺動と共にＵＳ又はメガソニック等を印加すること
により、より一層洗浄効果を高めることができる。

【００３８】以下に具体的な実施例及び比較例を挙げて
本発明をより詳細に説明する。

【００３９】なお、実施例で用いたカセットは、図１〜
４に示すようなものであり、各部の寸法及び材質は次の
通りである。

【００４０】基板保持板の厚さｔ＝１ｍｍ 基板保持板の切込の角度θ＝９０° 基板保持板の切込の深さｈ＝３．１８ｍｍ 基板保持板の切込の個数：２５個 基板間隔（図２（ａ）のＬ）＝６．３５ｍｍ 補助板の厚さ：１ｍｍ 補助板と基板保持板との間隔（図２（ｂ）のｄ）：０．
８ｍｍ 補助板及び基板保持板の材質：塩化ビニル 一方、比較例で用いたカセットは、図７に示すような従
来のカセットであり、保持できる基板枚数及び基板間隔
は実施例で用いたものと同様である。

【００４１】また、洗浄したディスク状基板は外径９５
ｍｍ，厚さ０．８１ｍｍ，チャンファー角度４５°のも
のである。

【００４２】実施例１ ディスク状基板保持用カセットにディスク状基板を２５
枚保持させ、純水中でＵＳを印加しながら、図５の矢印
Ｂで示す範囲を上下動させる揺動洗浄を行った。揺動速
度は、上下１往復の揺動を１分間に１０回行う速度とし
た。洗浄中は、図６に示す如く、シャワーノズルで純水
によるシャワーリングを行い、９０秒間洗浄を行った。

【００４３】このようにして洗浄を行ったディスク状基
板を用いて常法に従って磁気ディスクを製造したとこ
ろ、得られた磁気ディスクの信号の読み取りエラーの発
生率は８．４％であった。

【００４４】比較例１ 従来のカセットに２５枚のディスク状基板を保持し、図
５の矢印Ａで示す範囲を揺動させて、シャワーリングを
行うことなく、ＵＳ併用の揺動洗浄を９０秒間行った。

【００４５】このようにして洗浄を行ったディスク状基
板を用いて常法に従って磁気ディスクを製造したとこ
ろ、得られた磁気ディスクの信号の読み取りエラーの発
生率は１８％と実施例１の場合に比べて高かった。

【００４６】実施例２ ５重量％リン酸溶液に９０秒間浸漬したディスク状基板
の洗浄を、洗浄時間を種々変えて実施例１と同様にして
行い、洗浄後のディスク状基板を用いて製造した磁気デ
ィスクの信号の読み取りエラーの発生率を調べ、結果を
表１に示した。

【００４７】比較例２ ５重量％リン酸溶液に９０秒間浸漬したディスク状基板
の洗浄を、洗浄時間を種々変えて比較例１と同様にして
行い、洗浄後のディスク状基板を用いて製造した磁気デ
ィスクの信号の読み取りエラーの発生率を調べ、結果を
表１に示した。

【００４８】

【表１】

【００４９】表１より、次のことが明らかである。即
ち、リン酸溶液等の粘性の高い液が付着した場合、従来
のカセット及び洗浄方法では効果的な洗浄を実施するこ
とが困難であり、洗浄に長時間を要するのに対し、本発
明によるカセット及び洗浄方法を用いると、短時間で十
分な洗浄効果が発揮される。

【００５０】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のディスク状
基板保持用カセット及びディスク状基板の洗浄方法によ
れば、基板表面における洗浄液の置換効率が高くなり、
洗浄効果が上がることにより歩留まりが向上する。ま
た、洗浄時間が短縮できるため、生産性が向上する。

【００５１】特に、請求項２の洗浄方法によれば、洗浄
液の置換効率をより一層高めると共に、洗浄中の基板の
不均一な乾燥が防止でき、良好な洗浄効果を得ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）は本発明のディスク状基板保持用カ
セットの一実施例を示す側面図、図１（ｂ）は同正面図
である。

【図２】図２（ａ）は図１に示すカセットの要部拡大
図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図で
ある。

【図３】図３（ａ）は図１に示すカセットの要部拡大
図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、
図３（ｃ）は図３（ａ）のＣ−Ｃ線に沿う断面図であ
る。

【図４】基板保持板による基板の支持方法を説明する拡
大斜視図である。

【図５】洗浄方法を示す正面図である。

【図６】請求項２による洗浄方法を示す正面図である。

【図７】図７（ａ）は従来の洗浄用カセットの側面図、
図７（ｂ）は同正面図である。

【図８】図７（ｂ）の部の拡大図である。

【図９】図８の−線に沿う支持部材２２の断面図で
ある。

【図１０】従来のカセットの基板支持部の拡大斜視図で
ある。

【符号の説明】

１ ディスク状基板 ２ ディスク状基板保持用カセット ３ 側板 ４ 基板保持板 ５ 棒状部材 ６ 支持部 ７ 補助板 ８ スペーサ １０ 洗浄液 １２ シャワーノズル

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ディスク状基板を該基板のディスク面が
   略鉛直となるように保持するためのカセットにおいて、 縁部に、ディスク状基板の外周縁が挿入される、略Ｖ字
   形の切込よりなる支持部が形成された薄板よりなる基板
   保持板を、その板面が、保持されるディスク状基板のデ
   ィスク面に対して直交方向となるように配置してなるこ
   とを特徴とするディスク状基板保持用カセット。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のカセットにディスク状
   基板を保持した状態で該ディスク状基板を洗浄液中に出
   し入れして洗浄する方法であって、該ディスク状基板の
   全体が洗浄液液面下に没した状態と該ディスク状基板の
   全体が洗浄液液面上に露出した状態とをとるように該デ
   ィスク状基板を上下動させることを特徴とするディスク
   状基板の洗浄方法。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の洗浄方法において、洗
   浄液液面上に露出したディスク状基板に向けて洗浄液を
   噴霧することを特徴とするディスク状基板の洗浄方法。