JPS60168580A - 基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はブラッシングによるスクラバー洗浄部を有する
ガラス基板洗浄装置に関する。

従来よりブラッシングによるスクラバー洗浄部を有する
、高密度配線基板製造用フォトマスク、レチクル、ウェ
ハー等のガラス基板ガラス基板洗浄装置は種々存在し、
かかる装置においては洗浄効果を上げる為に、前記スク
ラバー洗浄を行なう前に、ガラス基板の脱脂等の前洗浄
工程が必要である。

しかしながら前記スクラバー洗浄はガラス基板の両面の
洗浄が必要な為、前記ガラス基板をカセットキャリアに
収納したまま洗浄を行なう、いわゆるバッチ洗浄を行な
いにくく、この為、ガラス基板の脱脂等を行なう前洗浄
工程とスクラバー洗浄部を一体化した従来のガラス基板
洗浄装置においては、前記ガラス基板を個別に各洗浄部
内に搬送して洗浄を行なっているが、このような洗浄方
法では、前記ガラス基板の脱脂等を行なう前洗浄工程の
洗浄時間がスクラバー洗浄部の洗浄時間の数倍要する為
、必然的に装置全体の洗浄時間が極めて長くなり、大量
処理が出来にくいという欠点を有していた。

又、かかる欠点を解消する為、前記ガラス基板をカセッ
トキャリアに収納したまま、前洗浄とスクラブ洗浄を行
なうバッチ処理システムも考えられるが、このような方
法を用いても前洗浄工程とスクラバー洗浄部の時間的差
異によるアイドル時間を解消する事は出来ず、又前記ガ
ラス基板をカセットキャリアに収納したままスクラバー
洗浄を行なお゛うとすると、機構が複雑化するのみなら
ず、電力消費量が大になり、コスト及び省資源の面から
も問題がある。

本発明はかかる従来技術の欠点に鑑み、ガラス基板の脱
脂等を行なう前洗浄工程とスクラバー洗浄部間に緩衝水
洗槽を介在させる事により、前記前洗浄工程の洗浄時間
に制限される事なく、ガラス基板を連続的に洗浄する事
が出来るガラス基板洗浄装置を提供する事を目的とする
。

この結果、従来装置に比較して装置全体の洗浄時間を大
幅に短縮が出来るにも拘らず、スクラバー洗浄部の機構
の単純化と電力消費量の低減を図る事が出来るガラス基
板洗浄装置の提供が可能となる。

以下図面に基づいて本発明を説明する。

第１図は本発明の実施例に係るガラス基板洗浄装置の概
略図を示し、硫酸浸漬槽ｌと超音波水洗槽２からなる前
洗浄工程３と、該前洗浄工程３で処理されたガラス基板
４をカセットキャリア５に収納したまま一時保管する緩
衝水洗槽６と、前記緩衝水洗槽６より取り出したガラス
基板４を個々にスクラバー洗浄を行なうスクラバー洗浄
槽７と、洗浄後のガラス基板４の乾燥を行なうＩＰＡベ
ーパ槽８を横一列上に配置している。

そしてこれらの各種の一側側方には、ガラス基板４を収
納したカセットキャリア５を前記硫酸浸漬槽ｌから超音
波水洗槽２及び緩衝水洗槽６に順次搬送する第１の搬送
機構９を配置し、又他側側方には前記緩衝水洗槽６内に
一時保管されたガラス基板４をカセットキャリア５から
取り出し、前記スクラバー洗浄槽７からＩＰＡベーパ槽
８まで搬送する第２の搬送機構１０が配設されている。

硫酸浸漬槽１は、テフロン又は石英等の耐酸性を有する
防蝕材を内壁面に内貼りして形成すると共に、公害防止
の為該浸漬槽ｌ内の硫酸排液が回収可能な管路を配設し
である。

そして第１の搬送機構８を介して、前記浸漬槽１内に所
定枚数のガラス基板４を収納したカセットキャリア５を
浸漬し、ガラス基板４表面の脱脂を行なった後、前記カ
セットキャリア５を超音波水洗槽２内に搬送する。

超音波水洗槽２は、純水を゛張った水中内に超音波振動
子１１を配置すると共に、ソレノイドバルブ１２により
処理時間中、該水洗槽２内の純水をオーバーフローさせ
ている。

この結果、前記水洗槽２内には常に清浄な純水が滞留さ
れると共に、該水洗槽２内には超音波振動子１１により
超音波振動発生している為、水洗槽２内に配置されたガ
ラス基板４の表面に付着した硫酸と塵埃等の除去を行な
う事が出来る。

このような硫酸浸漬層ｌと超音波水洗層からなる前洗浄
工程の処理時間は、後工程のスクラバー洗浄とＩＰＡベ
ーパ乾燥の数倍要するのが通常である。そして前記洗浄
終了後、第１の搬送機構８を介して前記カセットキャリ
ア５を緩衝水洗槽６内に搬送する。

緩衝水洗槽６は、後工程のスクラｌく一洗浄とＩＰＡベ
ーパ乾燥が連続処理可能に、ガラス基板４をカセットキ
ャリア５に収納したまま保管する九に用いる槽で、該カ
セットキャリア５を保管中ソレノイドバルブ１３により
水洗槽６内に張られた純水が常に対流且つオーバーフロ
ーする如く構成し、該水洗槽８内に一時保管中にガラス
基板４表面に塵埃等が再付着するのを防止している。

一方、前記第１の搬送機構８は、ガラス基板４が収納さ
れたカセットキャリア５を緩衝水洗槽Ｂ内に戴置すると
共に、第２の搬送機構１０によりガラス基板４が取り出
された前のカセットキャリア５を取り出し、次に該キャ
リア５を所定の位置に戴置させた後、次の未処理のガラ
ス基板４を収納したカセットキャリア５を保持して元の
硫酸浸漬層まで復帰する。

又、前記カセットキャリア５には、前記前洗浄部の洗浄
時間と後工程のガラス基板４処理時間がほぼ一致するよ
うな処理枚数のガラス基板４を収納している為、前記第
１の搬送機構９には待ち時間が生ずる事がない。

そして前記カセットキャリア５に収納されたガラス基板
４は、第２の搬送機構１０により一つ一つ順次取り出し
、スクラバー洗浄槽７内に搬送するスクラバー洗浄槽７
は、ガラス基板４の昇降線に沿ってノズル面が対向する
如く対称に配設した上下各一対のスプレーノズル１’５
．１８と、該両スプレーノズル１５　、　ｔｅ間にブラ
シ面を対向して配設したブラシ体１７とを有し、−のス
プレーノズル１５からは中性洗剤が、又他のスプレーノ
ズル１Ｂからは純水がシャワーされる如く構成している
。又前記ブラシ体１７は回転可能に構成され、前記ブラ
シ面中央より排出される純水と相俟ってガラス基板４両
面をスクラブ洗浄可能に構成している。

この結果、前記構成のスクラバー洗浄槽７では、第２の
搬送機構ｌＯにより緩衝水洗槽６より取り出されたガラ
ス基板４を、下側スプレーノズル１５と対応する位置ま
で下降させ、前記ガラス基板４両面に中性洗剤を塗布し
た後、前記ガラス基板４を上昇させ、ブラシ体１７によ
りスクラバー洗浄を行ない表面の塵埃等を強制除去した
後、上側スプレーノズルによりガラス基板４両面を純水
をシャワーして前記中性洗剤等を除去する。以下これを
複数回繰り返す事によりスクラバー洗浄が終了する。

前記スクラバー洗浄が終了したガラス基板４は第２の搬
送機構１０によりＩＰ＾ベーパ槽８内に搬送される。

ＩＰＡベーパ槽８は、槽底部に滞留するＩＰＡ（イソプ
ロピルアルコール）液を熱するヒータ部１８を底部下面
に取り付けると共に、槽上側入口部に冷却管１９を環設
し、前記ヒータ部１８により８０〜９０度に熱せられ、
ベーパ化したＩＰＡが槽上方に逃げる事なく槽内に滞留
する如く構成する。更に該槽内にガラス基板４より流下
した水滴を受ける受け皿２゜を配設すると共に、該受は
皿２０に滞留した水滴を外部に排出する排出管路２１を
形成する。

この結果、ＩＰＡベーパ槽８内の前記受は皿２ｏ上方に
ガラス基板４が搬送位置せしめる事と、該ガラス基板４
は常温であり一方ＩＰＡベーパは８０〜８０度に熱せら
れている為、両者の温度差により前記ガラス基板４表面
に付着している水分が受け皿２０上に流下し、該受は皿
２０より外部に排出する。そして乾燥後のガラス基板４
は前記ベーパ槽より所定のカセット（図示せず）内に搬
送され、以下これを繰り返す。

かかる実施例によれば、前洗浄工程３とスクラバー洗浄
槽７間に、ガラス基板４をカセットキャリア５に収納し
たまま一時保管させる緩衝水洗槽６を介在させた為、前
洗浄工程３の洗浄時間に制限される車なく、ガラス基板
４を連続的に洗浄する事が出来る。

又、かかる実施例は、緩衝水洗槽Ｂ内に保管されている
ガラス基板４を、第２の搬送機構１０を介してカセット
キャリア５に収納したまま取り出し可能に構成する必要
がある。

第２図乃至第３図は前記カセットキャリア５に収納した
ガラス基板４の取り出しを容易に構成したカセットキャ
リア５と第２搬送機構の要部構成を示す。

第２図において、カセットキャリア５は平行に配設した
一対の側板５１．５２と、第１の搬送機構９保持具９ａ
に係止される一対の係合軸５３．５４と、前記ガラス基
板４を４５度変位させて保持する上下各一対の支持軸５
５，５Ｅｔ、５７．５８とよりなる。

前記側板５１．５２は、平面上に戴置可能に形成した方
形の下部より４５度方向に拡開して略逆山形状に形成さ
れ、該側板５１．５２間に前記係合軸５３，５４を、該
側板５１．５２の上側左右両端位置に架設固定し、第１
の搬送機構８の下端に取り付けられた　′係合部９ａに
係合可能に構成する。

又支持軸５５・・・はガラス基板４と対応する数のＶ字
状環状溝５５ａ・・・を直列に形成し、前記保合軸５３
．５４に挟まれる側板５１．５２間に、垂直線より左右
に４５度変位させた傾斜線上に上下各一対づつ対称に配
設している。そして支持軸５５・・・上にガラス基板４
を戴置した際、ガラス基板４が４５度変位して戴置可能
にして且つ該ガラス基板４の水平方同封角線に位置する
両角隅部４ａ、４ｂが側板５１．５２上面より上方に位
置する如く構成する。

このように構成すれば、前記ガラス基板４の隣接する両
側端面が支持軸５５・・・の環状溝５５ａ・・・上に点
接触で垂直に保持される為、ガラス基板４洗浄面には前
記支持軸５５・・・が−切触れることなく効果ガラス基
板４は、水平方向対角線に位置する両角隅部４ａ、４ｂ
が側板５１．５２上面より上方に位置している為、カセ
ットキャリア５よりガラス基板４を取り出す際、第２の
搬送機構ＩＯの後記する保持部材６３を前記角隅部４ａ
、４ｂ下側端面に係止するだけで簡単に取り出しが出来
る。

第３図において、前記ガラス基板４を係止する第２の搬
送機構ｌＯは、下方に垂下された垂直軸よリコの字状に
対称に分岐して配設された一対の分岐軸６１．６２を有
し、該分岐軸８１．６２は、その下側水平方向に延伸す
る先端部８１ａ、Ｅ１２ｂに保持部材８３を取り付ける
。該保持部材６３は先側に４５度の傾斜角をもって斜め
上方に切断した保持面８３ａを形成し、該保持面６３ａ
はＶ溝状に！！Ｔ設され、ガラス基板４角隅部４ａ、４
ｂ下側近傍の側端面を線接触にて係止可能に構成してい
る。

このように構成すれば高配ガラス基板４を前記構成のカ
セットキャリア５に収納したまま簡単に取り出す事が出
来、又、ガラス基板４角隅部４ａ、４ｂ下側近傍の両側
端面に保持部材６３のＶ溝状保持面１３３ａに線接触で
保持される事となる為、ガラス基板４洗浄面には前記保
持部材８３が一切触れる事なく効果的にスクラバー洗浄
を行なう事が可能、となる。

以上記載した如く本発明によれば、ガラス基板の脱脂等
を行なう前洗浄工程とスクラバー洗浄部間に緩衝水洗槽
を介在させた為、前記前洗浄工程の洗浄時間に制限され
る事なく、ガラス基板を連続的に洗浄する裏が出来るガ
ラス基板洗浄装置を提供する事が出来る。

この結果、従来装置に比較して装置全体の洗浄時間を大
幅に短縮が出来るにも拘らず、スクラバー洗浄部の機構
の単純化と電力消費量の低減が可能となる等の種々の著
効が誘引される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例に係るガラス基板洗浄装置の概
略図を示す。第２図乃至第３図はカセットキャリアに収
納したガラス基板の取り出しを容易に構成したカセット
キャリアと第２搬送機構の要部＃Ｉ成を示し、第２Ａ図
及び第３Ａ図は正面図、第２Ｂ図及び第３Ｂ図は平面図
である。 特許出願人：呉船産業株式会社 第２Ａ図 第２８図 第３Ａ図 第３８図 ム

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ガラス基板の脱脂等を行なう前洗浄工程とスクラバー洗
   浄部との間に、ガラス基板をカセットキャリアに収納し
   たまま一時保管させる緩衝水洗槽を介在させると共に、
   前記カセットキャリアを前記前洗浄工程から緩衝水洗槽
   まで搬送する第１の搬送機構と、前記緩衝水洗槽に保管
   されたカセットキャリアよりガラス基板を取り出し、前
   記スクラバー洗浄部まで搬送する事により、該ガラス基
   板を個別にスクラバー洗浄を行なわしめる第２の搬送機
   構とよりなる事を特徴とするガラス基板洗浄装置。