JPS6345875B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はブラツシングによるスクラバー洗浄部
を有する基板洗浄装置に関する。

従来よりブラツシングによるスクラバー洗浄部
を有する、高密度配線基板製造用フオツトマス
ク、レチクル、ウエハー等の基板洗浄装置は種々
存在し、かかる装置においては洗浄効果を上げる
為に、前記スクラバー洗浄を行なう前に、基板の
脱脂等の前洗浄工程が必要である。

しかしながら前記スクラバー洗浄は基板の両面
の洗浄が必要な為、前記基板をカセツトキヤリア
に収納したまま洗浄を行なう、いわゆるバツチ洗
浄を行ないにくく、この為、基板の脱脂等を行な
う前洗浄工程とスクラバー洗浄部を一体化した従
来の基板洗浄装置においては、前記基板を個別に
各洗浄部内に搬送して洗浄を行なつているが、こ
のような洗浄方法では、前記基板の脱脂等を行な
う前洗浄工程の洗浄時間がスクラバー洗浄部の洗
浄時間の数倍要する為、必然的に装置全体の洗浄
時間が極めて長くなり、大量処理が出来にくいと
いう欠点を有していた。

又、かかる欠点を解消する為、前記基板をカセ
ツトキヤリアに収納したまま、前洗浄とスクラブ
洗浄を行なうバツチ処理システムも考えられる
が、このような方法を用いても前洗浄工程とスク
ラバー洗浄部の時間的差異によるアイドル時間を
解消する事は出来ず、又前記基板をカセツトキヤ
リアに収納したままスクラバー洗浄を行なおうと
すると、機構が複雑化するのみならず、電力消費
量が大になり、コスト及び省資源の面からも問題
がある。

本発明はかかる従来技術の欠点に鑑み、基板の
脱脂等を行なう前洗浄工程とスクラバー洗浄部間
に緩衝水洗槽を介在させる事により、前記前洗浄
工程の洗浄時間に制限される事なく、基板を連続
的に洗浄する事が出来るガラス基板洗浄装置を提
供する事を目的とする。

この結果、従来装置に比較して装置全体の洗浄
時間を大幅に短縮が出来るにも拘らず、スクラバ
ー洗浄部の機構の単純化ち電力消費量の低減を図
る事が出来る基板洗浄装置の提供が可能となる。

以下図面に基づいて本発明の実施例を説明す
る。

第１図は本発明の実施例に係るガラス基板洗浄
装置の概略図を示し、硫酸浸漬槽１と超音波水洗
槽２からなる前洗浄工程３と、該前洗浄工程３で
処理されたガラス基板４をカセツトキヤリア５に
収納したまま一時保管する緩衝水洗槽６と、前記
緩衝水洗槽６より取り出したガラス基板４を個々
にスクラバー洗浄を行なうスクラバー洗浄槽７
と、洗浄後のガラス基板４の乾燥を行なうIPAベ
ーパ槽８を横一列上に配置している。

そしてこれらの各槽の一側側方には、ガラス基
板４を収納したカセツトキヤリア５を前記硫酸浸
漬槽１から超音波水洗槽２及び緩衝水洗槽６に順
次搬送する第１の搬送機構９を配置し、又他側側
方には前記緩衝水洗槽６内に一時保管されたガラ
ス基板４をカセツトキヤリア５から取り出し、前
記スクラバー洗浄槽７からIPAベーパ槽８まで搬
送する第２の搬送機構１０が配設されている。

硫酸浸漬槽１は、テフロン又は石英等の耐酸性
を有する防蝕材を内壁面に内貼りして形成すると
共に、公害防止の為該浸漬槽１内の硫酸排液が回
収可能な管路を配設してある。

そして第１の搬送機構９を介して、前記浸漬槽
１内に所定枚数のガラス基板４を収納したカセツ
トキヤリア５を浸漬し、ガラス基板４表面の脱脂
を行なつた後、前記カセツトキヤリア５を超音波
水洗槽２内に搬送する。

超音波水洗槽２は、純水を張つた水中内に超音
波振動子１１を配置すると共に、ソレノイドバル
ブ１２により処理時間中、該水洗槽２内の純水を
オーバーフローさせている。

この結果、前記水洗槽２内には常に清浄な純水
が滞留されると共、該水洗槽２内には超音波振動
子１１により超音波振動発生している為、水洗槽
２内に配置されたガラス基板４の表面に付着した
硫酸と塵埃等の除去を行なう事が出来る。

このような硫酸浸漬層１と超音波水洗槽からな
る前洗浄工程の処理時間は、後工程のスクラバー
洗浄とIPAベーパ乾燥の数倍要するのが通常であ
る。そして前記洗浄終了後、第１の搬送機構９を
介して前記カセツトキヤリア５を緩衝水洗槽６内
に搬送する。

緩衝水洗槽６は、後工程のスクラバー洗浄と
IPAベーパ乾燥が連続処理可能に、ガラス基板４
をカセツトキヤリア５に収納したまま保管する為
に用いる槽で、該カセツトキヤリア５を保管中ソ
レノイドバルブ１３により水洗槽６内に張られた
純水が常に対流且つオーバーフローする如く構成
し、該水洗槽６内に一時保管中にガラス基板４表
面に塵埃等が再付着するのを防止している。

一方、前記第１の搬送機構９はガラス基板４が
収納されたカセツトキヤリア５を緩衝水洗槽６内
に載置すると共に、第２の搬送機構１０によりガ
ラス基板６が取り出された前のカセツトキヤリア
５を取り出し、次に該キヤリア５を所定の位置に
載置させた後、次の未処理のガラス基板４を収納
したカセツトキヤリア５を保持して元の硫酸浸漬
層まで復帰する。

又、前記カセツトキヤリア５には、前記前洗浄
部の洗浄時間と後工程のガラス基板４処理時間が
ほぼ一致するような処理枚数のガラス基板４を収
納している為、前記第１の搬送機構９に待ち時間
が生ずる事がない。

そして前記カセツトキヤリア５に収納されたガ
ラス基板４は、第２の搬送機構１０により一つ一
つ順次取り出し、スクラバー洗浄槽７内に搬送す
る。

スクラバー洗浄槽７は、ガラス基板４の昇降線
に沿つてノズル面が対向する如く対称に配設した
上下各一対のスプレーノズル１５，１６と、該両
スプレーノズル１５，１６間にブラシ面を対向し
て配設したブラシ体１７とを有し、一のスプレー
ノズル１５からは中性洗剤が、又他のスプレーノ
ズル１６からは純水がシヤワーされる如く構成し
ている。又前記ブラシ体１７は回転可能に構成さ
れ、前記ブラシ面中央より排出される銃水と相俟
つてガラス基板４両面をスクラブ洗浄可能に構成
している。

この結果、前記構成のスクラバー洗浄槽７で
は、第２の搬送機構１０により緩衝水洗槽６より
取り出されたガラス基板４を、下側スプレーノズ
ル１５と対応する位置まで下降させ、前記ガラス
基板４両面に中性洗剤を塗布した後、前記ガラス
基板４を上昇させ、ブラシ体１７によりスクラバ
ー洗浄を行ない表面の塵埃等を強制除去した後、
上側スプレーノズルによりガラス基板４両面を純
水をシヤワーして前記中性洗剤等を除去する。以
下これを複数回繰り返す事によりスクラバー洗浄
が終了する。

前記スクラバー洗浄が終了したガラス基板４は
第２の搬送機構１０によりIPAベーパ槽８内に搬
送される。

IPAベーパ槽８は、槽底部に滞留するIPA（イ
ソプロピルアルコール）液を熱するヒータ部１８
を底部下面に取り付けると共に、槽上側入口部に
冷却管１９を環設し、前記ヒータ部１８により80
〜90度に熱せられ、ベーバ化したIPAが槽上方に
逃げる事なく槽内に滞留する如く構成する。更に
該槽内にガラス基板４より流下した水滴を受ける
受け皿２０を配設すると共に、該受け皿２０に滞
留した水滴を外部に排出する排出管路２１を形成
する。

この結果、IPAベーパ槽８内の前記受け皿２０
上方にガラス基板４が搬送位置せしめる事と、該
ガラス基板４は常温であり一方IPAベーパは80〜
90度に熱せられている為、両者の温度差により前
記ガラス基板４表面に付着している水分が受け皿
２０上に流下し、該受け皿２０より外部に排出す
る。

かかる実施例によれば、前洗浄工程３とスクラ
バー洗浄槽７間に、ガラス基板４をカセツトキヤ
リア５に収納したまま一時保管させる緩衝水洗槽
６を介在させた為、前洗浄工程３の洗浄時間に制
限される事なく、ガラス基板４を連続的に洗浄す
る事が出来る。

又、かかる実施例は、緩衝水洗槽６内に保管さ
れているガラス基板４を、第２の搬送機構１０を
介してカセツトキヤリア５に収納したまま取り出
し可能に構成する必要がある。

第２図乃至第３図は前記カセツトキヤリア５に
収納したガラス基板４の取り出しを容易に構成し
たなカセツトキヤリア５と第２搬送機構の要部構
成を示す。

第２図において、カセツトキヤリア５は平行に
配設した一対の側板５１，５２と、第１の搬送機
構９保持具９ａに係止される一対の係合軸５３，
５４と、前記ガラス基板４を４５度変位させて保
持する上下各一対の支持軸５５，５６，５７，５
８とよりなる。

前記側板５１，５２は、平面上に載置可能に形
成した方形の下部より45度方向に拡開して略逆山
形状に形成され、該側板５１，５２間に前記係合
軸５３，５４を、該側板５１，５２の上側左右両
端位置に架設固定し、第１の搬送機構９の下端に
取り付けられた係合部９ａに係合可能に構成す
る。

又支持軸５５…はガラス基板４と対応する数の
Ｖ字状環状溝５５ａ…を直列に形成し、前記係合
軸５３，５４に挟まれる側板５１，５２間に、垂
直線より左右に45度変位させた傾斜線上に上下各
一対づつ対称に配設している。そして支持軸５５
…上にガラス基板４を載置した際、ガラス基板４
が45度変位して載置可能にして且つガラス基板４
の水平方向対角線に位置する両角隅部４ａ，４ｂ
が側板５１，５２上面より上方に位置する如く構
成する。

このように構成すれば、前記ガラス基板４の隣
接する両側端面が支持軸５５…の環状溝５５ａ…
上に点接触で垂直に保持される為、ガラス基板４
洗浄面には前記支持軸５５…が一切触れることな
く効果的に前洗浄が可能となる。

又、前記該カセツトキヤリア５上に保持された
ガラス基板４には、水平方向対角線に位置する両
角隅部４ａ，４ｂが側板５１，５２上面より上方
に位置している為、カセツトキヤリア５よりガラ
ス基板４を取り出す際、第２の搬送機構１０の後
記する保持部材６３を前記角隅部４ａ，４ｂ下側
端面に係止するだけで簡単に取り出しが出来る。

第３図において、前記ガラス基板４を係止する
第２の搬送機構１０は、下方に垂下された垂直軸
よりコ字状に対称に分岐して配設された一対の分
岐軸６１，６２を有し、該分岐軸６１，６２は、
その下側水平方向に延伸する先端部６１ａ，６１
ｂに保持部材６３を取り付ける。該保持部材６３
は先側に45度の傾斜角をもつて斜め上方に切断し
た保持面６３ａを形成し、該保持面６３ａはＶ溝
状に凹設され、ガラス基板４角隅部４ａ，４ｂ下
側近傍の側端面を線接触にて係止可能に構成して
いる。

このように構成すれば前記ガラス基板４を前記
構成のカセツトキヤリア５に収納したまま簡単に
取り出す事が出来、又、ガラス基板４角隅部４
ａ，４ｂ下側近傍の両側端面に保持部材６３のＶ
溝状保持面６３ａに線接触で保持される事となる
為、ガラス基板４洗浄面には前記保持部材６３が
一切触れる事なく効果的にスクラバー洗浄を行な
う事が可能となる。

以上記載した如く本発明によれば、基板の脱脂
等を行なう前洗浄工程とスクラバー洗浄部間に緩
衝水洗槽を介在させた為、前記前洗浄工程の洗浄
時間に制限される事なく、基板を連続的に洗浄す
る事が出来る基板洗浄装置を提供する事が出来
る。

この結果、従来装置に比較して装置全体の洗浄
時間を大幅に短縮が出来るにも拘らず、スクラバ
ー洗浄部の機構の単純化と電力消費量の低減が可
能となる等の種々の著効が誘引される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例に係るガラス基板洗浄
装置の概略図を示す。第２図乃至第３図はカセツ
トキヤリアに収納したガラス基板の取り出し容易
に構成したカセツトキヤリアと第２搬送機構の要
部構成を示し、第２Ａ図及び第３図は正面図、第
２Ｂ図及び第３Ｂ図は平面図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ ブラツシングによるスクラバー洗浄部を有す
   る基板洗浄装置において、カセツトキヤリアに収
   納したまま基板の脱脂等を行なう前洗浄工程と、
   個別に基板の洗浄を行うスクラバー洗浄部との間
   に、前洗浄後の基板を収納したカセツトキヤリア
   を一時保管させる緩衝水洗槽を介在させると共
   に、該カセツトキヤリアを前記前洗浄工程から緩
   衝水洗槽まで搬送する第１の搬送機構と、前記緩
   衝水洗槽に保管されたカセツトキヤリアより基板
   を取り出し、前記スクラバー洗浄部まで個別に基
   板を搬送する第２の搬送機構とを設けた事を特徴
   とする基板洗浄装置。