JP2007014846A - 基板用搬送除塵装置の使用方法および基板用搬送除塵装置 - Google Patents
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- 239000000428 dust Substances 0.000 title claims abstract description 392
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 390
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 60
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 95
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 41
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract
基板の先端が除塵ユニットに導入される際の撓みや振動が生じないようにするとともに、ベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増加するようにして、薄く柔軟性を有する基板であっても安定した搬送や、塵埃等の吸引の増加を実現するような基板用搬送除塵装置の使用方法、および、基板用搬送除塵装置を提供する。
【解決手段】
下側除塵ユニット210のエア吸引室211,213の吸引スリットの長手方向が基板搬送方向aに対して略直角となるように配置するとともに、基板Gの一辺方向が基板搬送方向aの略垂直方向に対して所定の交差角αで傾斜した状態であって基板Gの突端が先頭となるように下側除塵ユニット210に搬送されつつ除塵を受けるような基板用搬送除塵装置およびその使用方法とした。
【選択図】 図1
Description
下側除塵ユニット210は、基板搬送方向(矢印a方向)に沿って、エア吸引室211、エア噴出室212、エア吸引室213が並べられて構成されており、搬送ローラ100側(下側)に配置されている。エア吸引室211,213は、図示しない吸気ポンプへ、また、エア噴出室212は図示しない送風ポンプへ、それぞれ接続されるものとする。エア吸引室211、エア噴出室212、エア吸引室213はそれぞれ吸引スリット214、噴出スリット215’、吸引スリット216を備える。
このような基板Gの先端の一辺は、図18,図19で示すように、下側除塵ユニット210,上側除塵ユニット220の吸引スリット214,216,224,226および噴出スリット215’,225’の長手方向に対して略平行、つまり基板搬送方向aに対して略垂直な状態で搬送される。
同様に上側除塵ユニット220では、エア噴出室222から洗浄エアが噴出され、洗浄エアによって剥離した塵埃をエア吸引室221,223で吸引除去する。上側除塵ユニット220による基板Gの除塵対象面は、上側除塵ユニット220と対向している基板面(図18では表面)となる。
このようなガラス基板では破損を防ぐためガラス基板に柔軟性を持たせることで対処している。この柔軟性を確保するためガラス基板の厚みが薄くなる傾向にある。ガラス基板が薄くなるにともないガラス基板の重量も減少しつつある。このようにガラス基板が薄くなるにつれて、新たな問題が生じていた。以下、この点について説明する。
図18で示す基板用搬送除塵装置1000では、基板Gの重量の減少に伴い、搬送ローラ100と基板Gとの間の摩擦力が減少し、基板Gを搬送する搬送ローラ100は空転し易いという事象が散見されるようになった。そこで、安定した搬送を実現するため、ベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増大したいという要請がある。
除塵能力の増大も求められている。除塵能力を増大させるためには、エア噴出室212,222からの噴出量を多くし、それに伴い基板Gに働かせるエア吸引室211,221やエア吸引室213,223の吸引力も多くする必要がある。こうすればベンチュリ効果のバランスを維持したまま、噴出圧力の増大により塵埃を確実に除去できるようになる。上記の(1)の事情も考慮すると、噴出圧力・吸引圧力を大きくしつつベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増大することが考えられる。
特に、図20(a)のような撓みの発生から、基板Gに振動が生じるという問題があった。この振動について説明する。なお、ここでは説明の簡略化のため、吸引スリット214,224をV1スリットと、噴出スリット215’,225’をPスリットと、吸引スリット216,226をV2スリットと、として説明する。
下側除塵ユニット210,上側除塵ユニット220の間に基板Gがない場合、図18で示すように噴出スリット215’,225’は上下方向に伸びるものであるため、上下のPスリットから出た洗浄エアはぶつかり合い、エアが乱れた状態となっている。このような状況下、基板Gが進行して、図18,図19で示すようにエア吸引室211,221の直下まで来ると、図19の基板Gの先端の斜線部が上下のV1スリットの間に介在して上下のV1スリットへエアが流入しにくくなって、反対側の上下のPスリット−V2スリット間のエア流量が増加し、Pスリット−V2スリット間とPスリット−V1スリット間に圧力差が生じる(Pスリット−V2スリット間の圧力がPスリット−V1スリット間に比較し低くなる。)。このため、ベンチュリ効果のバランスが乱れることとなる。
薄くなった基板Gは、柔軟性を持つようになったことから撓みやすくなっている。例えば、図20(a)で示すように、基板Gの先端が吸引されて撓むと、下側除塵ユニット210の直近の搬送ローラ100に加わる力が大きくなって制動力となる車輪抵抗が大きくなり、さらに外側の搬送ローラ100では逆に基板Gが浮いてしまって回転力が伝わりにくくなり、これら作用が相乗的に相俟って空転に繋がるという問題があった。
なお、図20(b)で示すように、撓みは搬送途中でも常に起こりうる問題であるが、この場合は両側の搬送ローラ100で基板Gを支持していることから撓み量は少なくなっており、図20(a)のように先端の撓みのみ考慮すればよい。先に(1)〜(3)の課題解決のためベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増加することを検討していたが、下側への吸引力を増加する場合は、逆に撓みが増大するという問題もあった。 そこで、撓みの抑制も実現したいという要請がある。
基板の下側から支持力を付与し、所定の基板搬送方向へ基板を搬送する搬送手段と、
少なくとも各1個のエア吸引室およびエア噴出室を有する上側除塵ユニットおよび下側除塵ユニットを基板の表裏面両側に二個一組で対向させつつ配置するとともに、エア噴出室の線状のスリットを介して基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸引室の線状のスリットを介して吸引するようにした除塵ユニットと、
を備える基板用搬送除塵装置の使用方法であって、
除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向に対して一辺方向が所定の交差角で傾斜するように配置された略四角形の基板とし、この基板の突端が先頭となるように除塵ユニットに搬送されつつ除塵を受けることを特徴とする。
請求項1に記載の基板用搬送除塵装置の使用方法であって、
吸引スリットおよび噴出スリットの長手方向が基板搬送方向に対して略垂直であるとともに、略四角形の基板の一辺方向が基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜することを特徴とする。
請求項1に記載の基板用搬送除塵装置の使用方法であって、
略四角形の基板の一辺方向が基板搬送方向に対して略垂直であるとともに、吸引スリットおよび噴出スリットの長手方向が基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜することを特徴とする。
基板の下側から支持力を付与し、所定の基板搬送方向へ基板を搬送する搬送手段と、
少なくとも各1個のエア吸引室およびエア噴出室を有する上側除塵ユニットおよび下側除塵ユニットを基板の表裏面両側に二個一組で対向させつつ配置するとともに、エア噴出室の線状のスリットを介して基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸引室の線状のスリットを介して吸引するようにした除塵ユニットと、
を備える基板用搬送除塵装置であって、
除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向が略平行であり、かつそれぞれ基板搬送方向に対して略垂直となるように配置するとともに、
略四角状の基板の一辺方向が基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜した状態であって基板の突端が先頭となるように除塵ユニットに搬送されつつ除塵を受けることを特徴とする。
基板の下側から支持力を付与し、所定の基板搬送方向へ基板を搬送する搬送手段と、
少なくとも各1個のエア吸引室およびエア噴出室を有する上側除塵ユニットおよび下側除塵ユニットを基板の表裏面両側に二個一組で対向させつつ配置するとともに、エア噴出室の線状のスリットを介して基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸引室の線状のスリットを介して吸引するようにした除塵ユニットと、
を備える基板用搬送除塵装置であって、
除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向が略平行であって基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜するように配置するとともに、
略四角状の基板の搬送先端の一辺が基板搬送方向に対して略垂直であり、かつ基板の突端が先頭となるように除塵ユニットに搬送されつつ除塵を受けることを特徴とする。
請求項4記載の基板用搬送除塵装置において、
前記搬送手段は、棒状の搬送ローラを含み、
棒状の搬送ローラの軸方向は、除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向と略平行であり、かつそれぞれ搬送方向に対して略垂直となるように配置することを特徴とする。
請求項5記載の基板用搬送除塵装置において、
前記搬送手段は、傾斜した配列方向に並べて配置された複数の円板状の搬送ローラを含み、
円板状の搬送ローラの配列方向は、除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向と略平行であって、基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜するように配置することを特徴とする。
請求項4〜請求項7の何れか一項に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする。
請求項8記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットへの吸引圧力と上側除塵ユニットへの吸引圧力とを同じにするとともに下側除塵ユニットからの噴出圧力を上側除塵ユニットからの噴出圧力よりも大きくすることで、下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする。
請求項8記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットからの噴出圧力と上側除塵ユニットからの噴出圧力とを同じにするとともに下側除塵ユニットへの吸引圧力を上側除塵ユニットへの吸引圧力よりも大きくすることで、下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする。
請求項8記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットから基板面までの間隔を、上側除塵ユニットから基板面までの間隔よりも下回る長さとするように調整することで、 下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする。
請求項9に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットおよび上側除塵ユニットからの噴出圧力を計測して、上側除塵ユニットからの噴出圧力が下側除塵ユニットからの噴出圧力よりも大きい場合に基板を除塵ユニットへの搬送を停止するように制御することを特徴とする。
請求項4〜請求項12の何れか一項に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットは、搬送される基板に当接して回動する補助ローラを備えることを特徴とする。
請求項13に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記補助ローラは下側除塵ユニットの搬入側の外側部に配置されることを特徴とする。
請求項13または請求項14に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記補助ローラは下側除塵ユニットのエア吸引室の吸引スリット内に配置されることを特徴とする。
請求項4〜請求項15の何れか一項に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記下側除塵ユニットおよび前記上側除塵ユニットは、エア噴出室とこれを挟む二個のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて配置されることを特徴とする。
搬送ローラ100は、図3(a)で示すように、基板Gの両側を渡される長いロッド状の搬送ローラ100とする場合と、図3(b)で示すように基板Gの一部のみ当接する複数個(図3(b)では四個)の短い棒状の搬送ローラ100とする場合と、二通りの態様がある。このような態様は適宜選択される。本形態の搬送ローラ100は、図3(a)で示すような長尺の搬送ローラ100であるものとして以下、説明する。
この場合、上側除塵ユニット220は機械的に固定されているが、基板Gは搬送ローラ100上に載置されているのみであるため、基板Gが搬送ローラ100から離れて上昇する。
このようにベンチュリ効果により、基板Gが上側除塵ユニット220へ吸引される。
これにより下側除塵ユニット210のベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニット220のベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板Gを搬送ローラ100に当接させる。
特に、本実施形態では薄くして柔軟性を有するようになった、TFT液晶パネル用のガラス基板を対象としている。
複数の基板Gが、所定の間隔を隔てて設けられた搬送ローラ100上を順次搬送されるものとする。
この際、基板Gは、図1,図2で示すように、搬送ローラ100により支持されて搬送平面上を移動するものであり、さらに略四角形の基板Gの一辺方向と、下側除塵ユニット210,上側除塵ユニット220のエア吸引室211,213,221,223の吸引スリット214,216,224,226およびエア噴出室212,222の噴出スリット215,225の長手方向と、が所定の交差角で傾斜して交差しつつ搬送される。基板搬送方向aを基準に取れば、吸引スリット214,216,224,226および噴出スリット215,225の長手方向が基板搬送方向aに対して略垂直であるとともに、略四角形の基板の一辺方向が基板搬送方向aの略垂直方向に対して所定の交差角αで傾斜する。この交差角は図1(a)で示すように、角度αをなすように配置される。この交差角αについては後述する。
基板Gの突端G1は先端の一部であり、図5(a)で示すように突端G1がエア吸引室211,221の吸引スリット214,216の間に進入する。この場合、基板Gの突端G1の斜線部のみに吸引圧力が加わっているため吸引圧力は小さく、従来技術のような先端全体に吸引圧力が加わらないため(図19参照)、撓みが発生するおそれを著しく低減している。
このため、Pスリット−V1スリット間のエア流量と、反対側のPスリット−V2スリット間のエア流量とは均衡して、Pスリット−V1スリット間とPスリット−V2スリット間に圧力差がほぼ0(Pスリット−V1スリット間の圧力がPスリット−V2スリット間の圧力とほぼ同じである。)という状態を維持し、この点でも洗浄エアの流れが乱れるような事態はおこらない。したがってこれら作用が相俟ってベンチュリ効果のバランスが維持される。
この際も吸引圧力・噴出圧力等が加わる。しかしながら、搬送ローラ100から基板Gが突出する量(以下オーバハング量という)は基板Gの全長よりも充分小さいことに加え、先に説明した原理により、噴射・吸引により加わる圧力を斜線領域で示すように従来よりも少なくし、かつベンチュリ効果のバランスも維持されるため、撓み・振動等を抑制しつつそのまま搬入が続いて、下側除塵ユニット210の両側の搬送ローラ100により支持される。その後は、基板Gは、吸引力と自重とが相俟って搬送ローラ100へ強固に当接するため、基板Gが搬送ローラ100から離脱するという事態は発生しない。
本形態の基板用搬送除塵装置は、図6で示すように、搬送ローラ100、除塵ユニット200、搬送制御部300を備えている。図2に示す第1形態の構成にさらに搬送制御部300を追加した構成である。この基板用搬送除塵装置1では矢印a方向に基板Gが搬送される。
搬送ローラ100、除塵ユニット200は、第1形態と同じであり、その重複する説明を省略する。
搬送制御部300は、図6で示す二個の圧力導入部301、差圧センサ302、駆動制御部303からなるものである。
差圧センサ302は、二個の圧力導入部301からのエアを入力し、これらエアの差圧を計測して差圧信号を出力する。
駆動制御部303は、差圧センサ302から出力される差圧信号に応じて、搬送ローラ100の駆動制御を行う。
これら構成は適宜選択されるが、例えば、小規模な装置では、図4で示すような差圧センサ302を用いる形態がコスト等の観点から好ましい。
複数の基板Gが、所定の間隔を隔てて順次搬送され、除塵が行われるものとする。この場合下側除塵ユニット210,上側除塵ユニット220は、エア噴出室212,222による洗浄エアの噴出、および、エア吸引室211,213,221,223による塵埃の吸引が常時行われているものとする。
この場合、下側除塵ユニット210のエア噴出室212(下側)から噴出される洗浄エアの噴出圧力は、上側除塵ユニット220のエア噴出室201P(上側)から噴出される洗浄エアの噴出圧力より大きい値としており、先に説明したように下側へ吸引されるように調整されている。
また、基板Gが下側除塵ユニット210,上側除塵ユニット220の間で挟まれている場合、基板Gの裏面から下側除塵ユニット210までの間隔と、基板Gの表面から上側除塵ユニット220までの間隔と、は略等しくなるように配置される。
駆動制御部303は、上側から噴出される洗浄エアの噴出圧力が、下側から噴出される洗浄エアの噴出圧力より大きい値であるならば異常状態と、それ以外は正常状態と判定する。
駆動制御部303は、噴出圧力が正常状態であると判断したならば、搬送ローラ100を回転するように制御して、基板Gを下側除塵ユニット210,上側除塵ユニット220の間に進入させる。一方、異常状態では搬送ローラ100を停止するように制御する。
本形態の基板用搬送除塵装置は、図2で示す第1形態に対し、さらに補助ローラ102を設けた形態である。
図7で示すように、下側除塵ユニット210の搬入側と搬出側との両外側部に補助ローラ102が配置される。補助ローラ102は、例えば、図8(a)で示すように側面から見て一輪の構成としたり、図8(b)で示すように二輪(あるいは三以上の複数輪)の構成としてもよい。本形態では図8(b)の複数輪であるものとして説明する。
複数の基板Gが、所定の間隔を隔てて順次搬送され、除塵が行われるものとする。この場合除塵ユニット200で、エア噴出室212,222による洗浄エアの噴出、および、エア吸引室211,213,221,223による塵埃の吸引が常時行われているものとする。
基板Gは、ベンチュリ効果により下側除塵ユニット210がある下側へ吸引される。しかしながら、搬送ローラ100に加え補助ローラ102が基板Gを支持しているため、従来よりオーバハング量を減少させており、基板Gは補助ローラ102・搬送ローラ100に当接したまま搬入され、下側除塵ユニット210の両側にある補助ローラ102・搬送ローラ100に支持される。その後は、吸引力と相俟って基板Gが補助ローラ102・搬送ローラ100に確実に当接するため、基板Gが搬送ローラ100から離脱するという事態は発生しない。
このため、基板Gが損傷するおそれを除くと共に、搬送機構としては最小限の搬送ローラ100・補助ローラ102のみで済むので、広大な設備スペースや複雑、高価な装置構成が不要になる。
このため、基板Gが損傷するおそれを除くと共に、搬送機構としては最小限の搬送ローラ100・補助ローラ103のみで済むので、広大な設備スペースや複雑、高価な装置構成が不要になる。
そして、略四角形の基板Gの一辺方向に対して、下側除塵ユニット210および上側除塵ユニット220のエア吸引室212,222の線状の吸引スリット215,225の長手方向、および、エア噴出室211,213,221,223の線状の噴出スリット214,216,224,226の長手方向は所定の交差角で傾斜するように構成されている。なお、基板搬送方向aを基準にとれば、略四角形の基板Gの一辺方向が基板搬送方向aに対して略垂直であるとともに、吸引スリット215,225および噴出スリット214,216,224,226の長手方向が基板搬送方向aの略垂直方向に対して所定の交差角αで傾斜する。このような基板Gの突端G1が先頭となるように除塵ユニット200に搬送されつつ除塵を受ける。この交差角は図14で示すように、角度αをなすように構成される。
複数の基板Gが、所定の間隔を隔てて設けられた搬送ローラ100,104上を順次搬送されるものとする。
このような傾斜した状態の基板Gが下側除塵ユニット210および上側除塵ユニット220に入って、除塵が行われるものとする。この場合、下側除塵ユニット210,上側除塵ユニット220は、エア噴出室212,222による洗浄エアの噴出、および、エア吸引室211,213,221,223による塵埃の吸引を常時行っているものとする。つまり基板Gにおいて、表裏両面が除塵対象面となる。
基板Gの突端G1の一部は、図15(a)で示すようにエア吸引室211,221の間に進入する。この場合、基板Gの斜線部のみに吸引圧力が加わっているため吸引圧力は小さく、従来技術のような先端全体に吸引圧力が加わらないため(図19参照)、撓みが発生するおそれを著しく低減している。
例えば、下側除塵ユニット210からの噴出圧力と上側除塵ユニット220からの噴出圧力とを同じにするとともに、下側除塵ユニット210への吸引圧力を上側除塵ユニット220への吸引圧力よりも大きくすることで、下側除塵ユニット210のベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニット220のベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板Gを搬送ローラ100,104や補助ローラ102,103へ押圧する力を付与するようにしても良い。なお、この場合、図6,図9,図12の形態の搬送制御部は採用できない。
また、図7の補助ローラ102と図10の補助ローラ103とを共に備えるような搬送手段としても良い。
まず、図4で示す傾斜スリットによりエアが乱れないようにしてベンチュリ効果のバランスが崩れないようにできるため(3)振動の問題、(4)撓みの問題が解消された。
また、図1,図14で示すような略四角形の基板の一辺方向と、除塵ユニットのエア吸引室の吸引スリットおよびエア噴出室の噴出スリットの長手方向と、が所定の交差角で交差しつつ搬送・除塵されるようにしたため、オーバハングされる基板Gへの圧力を減少させて、この点でも(3)振動の問題、(4)撓みの問題が解消された。
そして、振動や撓みが起こりにくくなったため、噴出圧力や吸引圧力を増大させるとともにベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増大させることも可能となり、(1)空転の問題、(2)除塵能力の増大がそれぞれ解消された。
これらが相乗的に相俟って信頼性を高めた基板用搬送除塵装置およびその使用方法とすることができた。
100:搬送ローラ
101:支軸
102,103:補助ローラ
104:搬送ローラ
105:支軸
106:板バネ
200:除塵ユニット
210:下側除塵ユニット
211,213:エア吸引室
212:エア噴出室
214,216:吸引スリット
215:噴出スリット
220:上側除塵ユニット
221,223:エア吸引室
222:エア噴出室
224,226:吸引スリット
225:噴出スリット
300:搬送制御部
301:圧力導入部
302:差圧センサ
303:駆動制御部
G:基板
Claims (16)
- 基板の下側から支持力を付与し、所定の基板搬送方向へ基板を搬送する搬送手段と、
少なくとも各1個のエア吸引室およびエア噴出室を有する上側除塵ユニットおよび下側除塵ユニットを基板の表裏面両側に二個一組で対向させつつ配置するとともに、エア噴出室の線状のスリットを介して基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸引室の線状のスリットを介して吸引するようにした除塵ユニットと、
を備える基板用搬送除塵装置の使用方法であって、
除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向に対して一辺方向が所定の交差角で傾斜するように配置された略四角形の基板とし、この基板の突端が先頭となるように除塵ユニットに搬送されつつ除塵を受けることを特徴とする基板用搬送除塵装置の使用方法。 - 請求項1に記載の基板用搬送除塵装置の使用方法であって、
吸引スリットおよび噴出スリットの長手方向が基板搬送方向に対して略垂直であるとともに、略四角形の基板の一辺方向が基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜することを特徴とする基板用搬送除塵装置の使用方法。 - 請求項1に記載の基板用搬送除塵装置の使用方法であって、
略四角形の基板の一辺方向が基板搬送方向に対して略垂直であるとともに、吸引スリットおよび噴出スリットの長手方向が基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜することを特徴とする基板用搬送除塵装置の使用方法。 - 基板の下側から支持力を付与し、所定の基板搬送方向へ基板を搬送する搬送手段と、
少なくとも各1個のエア吸引室およびエア噴出室を有する上側除塵ユニットおよび下側除塵ユニットを基板の表裏面両側に二個一組で対向させつつ配置するとともに、エア噴出室の線状のスリットを介して基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸引室の線状のスリットを介して吸引するようにした除塵ユニットと、
を備える基板用搬送除塵装置であって、
除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向が略平行であり、かつそれぞれ基板搬送方向に対して略垂直となるように配置するとともに、
略四角状の基板の一辺方向が基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜した状態であって基板の突端が先頭となるように除塵ユニットに搬送されつつ除塵を受けることを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 基板の下側から支持力を付与し、所定の基板搬送方向へ基板を搬送する搬送手段と、
少なくとも各1個のエア吸引室およびエア噴出室を有する上側除塵ユニットおよび下側除塵ユニットを基板の表裏面両側に二個一組で対向させつつ配置するとともに、エア噴出室の線状のスリットを介して基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸引室の線状のスリットを介して吸引するようにした除塵ユニットと、
を備える基板用搬送除塵装置であって、
除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向が略平行であって基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜するように配置するとともに、
略四角状の基板の搬送先端の一辺が基板搬送方向に対して略垂直であり、かつ基板の突端が先頭となるように除塵ユニットに搬送されつつ除塵を受けることを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項4記載の基板用搬送除塵装置において、
前記搬送手段は、棒状の搬送ローラを含み、
棒状の搬送ローラの軸方向は、除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向と略平行であり、かつそれぞれ搬送方向に対して略垂直となるように配置することを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項5記載の基板用搬送除塵装置において、
前記搬送手段は、傾斜した配列方向に並べて配置された複数の円板状の搬送ローラを含み、
円板状の搬送ローラの配列方向は、除塵ユニットのエア吸引室の線状の吸引スリットの長手方向およびエア噴出室の線状の噴出スリットの長手方向と略平行であって、基板搬送方向の略垂直方向に対して所定の交差角で傾斜するように配置することを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項4〜請求項7の何れか一項に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項8記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットへの吸引圧力と上側除塵ユニットへの吸引圧力とを同じにするとともに下側除塵ユニットからの噴出圧力を上側除塵ユニットからの噴出圧力よりも大きくすることで、下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項8記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットからの噴出圧力と上側除塵ユニットからの噴出圧力とを同じにするとともに下側除塵ユニットへの吸引圧力を上側除塵ユニットへの吸引圧力よりも大きくすることで、下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項8記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットから基板面までの間隔を、上側除塵ユニットから基板面までの間隔よりも下回る長さとするように調整することで、 下側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、上側除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力よりも大きい力とし、基板を搬送手段へ押圧する力を付与することを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項9に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットおよび上側除塵ユニットからの噴出圧力を計測して、上側除塵ユニットからの噴出圧力が下側除塵ユニットからの噴出圧力よりも大きい場合に基板を除塵ユニットへの搬送を停止するように制御することを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項4〜請求項12の何れか一項に記載の基板用搬送除塵装置において、
下側除塵ユニットは、搬送される基板に当接して回動する補助ローラを備えることを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項13に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記補助ローラは下側除塵ユニットの搬入側の外側部に配置されることを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項13または請求項14に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記補助ローラは下側除塵ユニットのエア吸引室の吸引スリット内に配置されることを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 請求項4〜請求項15の何れか一項に記載の基板用搬送除塵装置において、
前記下側除塵ユニットおよび前記上側除塵ユニットは、エア噴出室とこれを挟む二個のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて配置されることを特徴とする基板用搬送除塵装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005196981A JP4579071B2 (ja) | 2005-07-06 | 2005-07-06 | 基板用搬送除塵装置 |
PCT/JP2005/014805 WO2007004308A1 (ja) | 2005-07-06 | 2005-08-05 | 基板用搬送除塵装置の使用方法および基板用搬送除塵装置 |
KR1020077020773A KR101248534B1 (ko) | 2005-07-06 | 2005-08-05 | 기판용 반송 제진 장치의 사용 방법 및 기판용 반송 제진장치 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005196981A JP4579071B2 (ja) | 2005-07-06 | 2005-07-06 | 基板用搬送除塵装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007014846A true JP2007014846A (ja) | 2007-01-25 |
JP4579071B2 JP4579071B2 (ja) | 2010-11-10 |
Family
ID=37604187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005196981A Active JP4579071B2 (ja) | 2005-07-06 | 2005-07-06 | 基板用搬送除塵装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4579071B2 (ja) |
KR (1) | KR101248534B1 (ja) |
CN (1) | CN101171092B (ja) |
TW (1) | TW200702265A (ja) |
WO (1) | WO2007004308A1 (ja) |
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- 2005-08-05 KR KR1020077020773A patent/KR101248534B1/ko active IP Right Grant
- 2005-08-05 WO PCT/JP2005/014805 patent/WO2007004308A1/ja active Application Filing
- 2005-08-05 CN CN200580049716XA patent/CN101171092B/zh active Active
- 2005-08-10 TW TW094127090A patent/TW200702265A/zh unknown
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JP7065650B2 (ja) | 2018-03-12 | 2022-05-12 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 |
JP7120688B1 (ja) | 2021-11-08 | 2022-08-17 | ヒューグル開発株式会社 | クリーニングヘッド |
JP2023069722A (ja) * | 2021-11-08 | 2023-05-18 | ヒューグル開発株式会社 | クリーニングヘッド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101248534B1 (ko) | 2013-04-02 |
WO2007004308A1 (ja) | 2007-01-11 |
TWI305191B (ja) | 2009-01-11 |
CN101171092B (zh) | 2011-08-03 |
JP4579071B2 (ja) | 2010-11-10 |
CN101171092A (zh) | 2008-04-30 |
TW200702265A (en) | 2007-01-16 |
KR20080031850A (ko) | 2008-04-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100810 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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