JP2003332401A - 基板用搬送除塵装置 - Google Patents
基板用搬送除塵装置Info
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- JP2003332401A JP2003332401A JP2002133458A JP2002133458A JP2003332401A JP 2003332401 A JP2003332401 A JP 2003332401A JP 2002133458 A JP2002133458 A JP 2002133458A JP 2002133458 A JP2002133458 A JP 2002133458A JP 2003332401 A JP2003332401 A JP 2003332401A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】基板の浮き上がり現象を防止し、装置全体の構
造の簡素化、低コスト化を可能にした基板用搬送除塵装
置を提供する。 【解決手段】エア吸引室３０１Ｖ，３０２Ｖ及びエア噴
出室３０１Ｐを有する除塵ユニット３００へ、基板Ｇが
搬送ローラ１００により搬送され、エア噴出室３０１Ｐ
から基板Ｇの除塵対称面に向けて噴出する洗浄エアによ
り飛散した塵埃を、エア吸引室３０１Ｖ，３０２Ｖで吸
引する装置であって、搬送ローラ１００側にのみ除塵ユ
ニット３００を配置し、ベンチュリ効果により基板Ｇを
搬送ローラ１００側へ吸引する基板用搬送除塵装置とし
た。
造の簡素化、低コスト化を可能にした基板用搬送除塵装
置を提供する。 【解決手段】エア吸引室３０１Ｖ，３０２Ｖ及びエア噴
出室３０１Ｐを有する除塵ユニット３００へ、基板Ｇが
搬送ローラ１００により搬送され、エア噴出室３０１Ｐ
から基板Ｇの除塵対称面に向けて噴出する洗浄エアによ
り飛散した塵埃を、エア吸引室３０１Ｖ，３０２Ｖで吸
引する装置であって、搬送ローラ１００側にのみ除塵ユ
ニット３００を配置し、ベンチュリ効果により基板Ｇを
搬送ローラ１００側へ吸引する基板用搬送除塵装置とし
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス板、合成樹
脂板、または、金属板などの基板を搬送する装置に係
り、詳しくは、その基板表面に付着する塵や埃等（以
下、これらを総称して塵埃という）を単なる清浄エアや
超音波周波数で振動する超音波エア（以下、これらを総
称して洗浄エアという）により塵埃を飛散させて吸引除
去する基板用搬送除塵装置に関するものである。
脂板、または、金属板などの基板を搬送する装置に係
り、詳しくは、その基板表面に付着する塵や埃等（以
下、これらを総称して塵埃という）を単なる清浄エアや
超音波周波数で振動する超音波エア（以下、これらを総
称して洗浄エアという）により塵埃を飛散させて吸引除
去する基板用搬送除塵装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】除塵対象となる基板には、例えば、ＴＦ
Ｔ（薄膜トランジスタ）液晶パネル、ＰＤＰ（プラズマ
・ディスプレイ・パネル）、または、ＬＣＤ（液晶ディ
スプレイ）等に用いられるガラス基板が挙げられる。こ
のような基板を対象とする基板用搬送除塵装置として、
例えば、図１３で示すものが知られている。図１３は、
従来技術の基板用搬送除塵装置の説明図である。
Ｔ（薄膜トランジスタ）液晶パネル、ＰＤＰ（プラズマ
・ディスプレイ・パネル）、または、ＬＣＤ（液晶ディ
スプレイ）等に用いられるガラス基板が挙げられる。こ
のような基板を対象とする基板用搬送除塵装置として、
例えば、図１３で示すものが知られている。図１３は、
従来技術の基板用搬送除塵装置の説明図である。
【０００３】従来技術の基板用搬送除塵装置では、図１
３で示すように、搬送ローラ１００、除塵ユニット２０
０を備えている。この基板用搬送除塵装置では基板Ｇが
搬送される。この除塵ユニット２００は、さらに、エア
吸引室２０１Ｖ，２０２Ｖ、エア噴出室２０１Ｐを備え
ている。
３で示すように、搬送ローラ１００、除塵ユニット２０
０を備えている。この基板用搬送除塵装置では基板Ｇが
搬送される。この除塵ユニット２００は、さらに、エア
吸引室２０１Ｖ，２０２Ｖ、エア噴出室２０１Ｐを備え
ている。
【０００４】続いて、従来技術による除塵について説明
する。基板Ｇは、搬送ローラ１００上を矢印ａ方向に搬
送され、除塵ユニット２００により除塵される。除塵ユ
ニット２００では、エア噴出室２０１Ｐから洗浄エアが
噴出され、洗浄エアによって舞い上がった塵埃をエア吸
引室２０１Ｖ，２０２Ｖで吸引除去する。基板Ｇの除塵
対象面は、除塵ユニット２００と対向している基板面
（図１３では表面）となる。
する。基板Ｇは、搬送ローラ１００上を矢印ａ方向に搬
送され、除塵ユニット２００により除塵される。除塵ユ
ニット２００では、エア噴出室２０１Ｐから洗浄エアが
噴出され、洗浄エアによって舞い上がった塵埃をエア吸
引室２０１Ｖ，２０２Ｖで吸引除去する。基板Ｇの除塵
対象面は、除塵ユニット２００と対向している基板面
（図１３では表面）となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような構造を採用する基板用搬送除塵装置では、除塵
ユニット２００の直下に搬送されてきた基板Ｇが上方へ
吸い上げられる現象（以下、吸引現象という）が確認さ
れている。一般的に、除塵効率を上げるために、除塵ユ
ニット２００の噴出口・吸引口と基板Ｇ表面との間隔は
可能な限り短く設定されているため、吸引上昇した基板
Ｇが除塵ユニット２００の噴出口・吸引口に接触した
り、また噴出口・吸引口に接触しなくても下降時に搬送
ローラ１００と衝突するおそれもあり、この吸引現象が
基板Ｇを損傷させる原因ともなる。また、基板Ｇが引っ
掛かって搬送停止という事態に陥るおそれもある。特
に、ＴＦＴ液晶パネル用のガラス基板は０．３ｍｍ〜
１．１ｍｍという薄い基板であって比較的軽いため、吸
引現象が発生する確率が高く、また、吸引現象が発生し
たならば、破損するおそれが大きい。
たような構造を採用する基板用搬送除塵装置では、除塵
ユニット２００の直下に搬送されてきた基板Ｇが上方へ
吸い上げられる現象（以下、吸引現象という）が確認さ
れている。一般的に、除塵効率を上げるために、除塵ユ
ニット２００の噴出口・吸引口と基板Ｇ表面との間隔は
可能な限り短く設定されているため、吸引上昇した基板
Ｇが除塵ユニット２００の噴出口・吸引口に接触した
り、また噴出口・吸引口に接触しなくても下降時に搬送
ローラ１００と衝突するおそれもあり、この吸引現象が
基板Ｇを損傷させる原因ともなる。また、基板Ｇが引っ
掛かって搬送停止という事態に陥るおそれもある。特
に、ＴＦＴ液晶パネル用のガラス基板は０．３ｍｍ〜
１．１ｍｍという薄い基板であって比較的軽いため、吸
引現象が発生する確率が高く、また、吸引現象が発生し
たならば、破損するおそれが大きい。
【０００６】当初、この吸引現象は、エア吸引室２０１
Ｖ，２０２Ｖによる吸引力に起因するものと理解されて
いた。しかしながら、本発明者が鋭意研究・実験等を行
って吸引現象を追究した結果、この吸引現象はベンチュ
リ効果によるとの知見が得られた。
Ｖ，２０２Ｖによる吸引力に起因するものと理解されて
いた。しかしながら、本発明者が鋭意研究・実験等を行
って吸引現象を追究した結果、この吸引現象はベンチュ
リ効果によるとの知見が得られた。
【０００７】このベンチュリ効果による吸引現象につい
て図を参照しつつ説明する。図１４はベンチュリ効果を
説明する説明図である。エア噴出室２０１Ｐから噴出さ
れた洗浄エアは、例えば、光のように反射してエア吸引
室２０１Ｖ，２０２Ｖへ向かうというものではなく、図
１４で示すように、基板Ｇの表面に沿って流れるという
特性がある。さらに、除塵ユニット２００の直下では流
路が狭く、除塵ユニット２００の両外側では流路が広い
構造となっている。
て図を参照しつつ説明する。図１４はベンチュリ効果を
説明する説明図である。エア噴出室２０１Ｐから噴出さ
れた洗浄エアは、例えば、光のように反射してエア吸引
室２０１Ｖ，２０２Ｖへ向かうというものではなく、図
１４で示すように、基板Ｇの表面に沿って流れるという
特性がある。さらに、除塵ユニット２００の直下では流
路が狭く、除塵ユニット２００の両外側では流路が広い
構造となっている。
【０００８】このような状況下では、ベンチュリ効果に
より、流路が狭い除塵ユニット２００の直下では圧力が
低い状態になろうとするため、除塵ユニット２００と基
板Ｇとが吸引されるという吸引現象が発生する。この場
合、除塵ユニット２００は機械的に固定されているが、
基板Ｇは搬送ローラ１００上に載置されているのみであ
るため、基板Ｇが搬送ローラ１００から離れて上昇す
る。このようにベンチュリ効果により、基板Ｇが除塵ユ
ニット２００へ吸引されるという問題点があった。
より、流路が狭い除塵ユニット２００の直下では圧力が
低い状態になろうとするため、除塵ユニット２００と基
板Ｇとが吸引されるという吸引現象が発生する。この場
合、除塵ユニット２００は機械的に固定されているが、
基板Ｇは搬送ローラ１００上に載置されているのみであ
るため、基板Ｇが搬送ローラ１００から離れて上昇す
る。このようにベンチュリ効果により、基板Ｇが除塵ユ
ニット２００へ吸引されるという問題点があった。
【０００９】そこで、本発明は上記の問題点を解消する
ためになされたものであり、その目的は、従来では問題
となっていたベンチュリ効果による吸引力を逆に活用で
きる構造を採用し、基板を確実に搬送ローラへ当接する
ようにして衝突等の発生を防止するとともに装置全体の
構造の簡素化、低コスト化を可能にした基板用搬送除塵
装置を提供することにある。
ためになされたものであり、その目的は、従来では問題
となっていたベンチュリ効果による吸引力を逆に活用で
きる構造を採用し、基板を確実に搬送ローラへ当接する
ようにして衝突等の発生を防止するとともに装置全体の
構造の簡素化、低コスト化を可能にした基板用搬送除塵
装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の課題を解決する
ため、請求項１に係る発明の基板用搬送除塵装置によれ
ば、少なくとも各１個のエア吸引室およびエア噴出室を
有する除塵ユニットを備え、除塵ユニット方向へ搬送ロ
ーラにより搬送される基板に対し、エア噴出室から基板
表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸
引室で吸引するようにした基板用搬送除塵装置におい
て、搬送ローラ側にのみ除塵ユニットを配置し、ベンチ
ュリ効果により基板を搬送ローラに当接させることを特
徴とする。
ため、請求項１に係る発明の基板用搬送除塵装置によれ
ば、少なくとも各１個のエア吸引室およびエア噴出室を
有する除塵ユニットを備え、除塵ユニット方向へ搬送ロ
ーラにより搬送される基板に対し、エア噴出室から基板
表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃をエア吸
引室で吸引するようにした基板用搬送除塵装置におい
て、搬送ローラ側にのみ除塵ユニットを配置し、ベンチ
ュリ効果により基板を搬送ローラに当接させることを特
徴とする。
【００１１】また、請求項２に係る発明の基板用搬送除
塵装置によれば、少なくとも各１個のエア吸引室および
エア噴出室を有する除塵ユニットを備え、除塵ユニット
方向へ搬送ローラにより搬送される基板に対し、エア噴
出室から基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する
塵埃をエア吸引室で吸引するようにした基板用搬送除塵
装置において、基板の表裏面両側に二個一組の除塵ユニ
ットを対向させて配置し、搬送ローラ側の除塵ユニット
のベンチュリ効果による吸引力を、他方の除塵ユニット
のベンチュリ効果による吸引力以上の力とし、基板を搬
送ローラに当接させることを特徴とする。
塵装置によれば、少なくとも各１個のエア吸引室および
エア噴出室を有する除塵ユニットを備え、除塵ユニット
方向へ搬送ローラにより搬送される基板に対し、エア噴
出室から基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する
塵埃をエア吸引室で吸引するようにした基板用搬送除塵
装置において、基板の表裏面両側に二個一組の除塵ユニ
ットを対向させて配置し、搬送ローラ側の除塵ユニット
のベンチュリ効果による吸引力を、他方の除塵ユニット
のベンチュリ効果による吸引力以上の力とし、基板を搬
送ローラに当接させることを特徴とする。
【００１２】また、請求項３に係る発明の基板用搬送除
塵装置によれば、請求項２記載の基板用搬送除塵装置に
おいて、搬送ローラ側の除塵ユニットからの噴出圧力を
他方の除塵ユニットからの噴出圧力以上の値とすること
で、搬送ローラ側の除塵ユニットのベンチュリ効果によ
る吸引力を、他方の除塵ユニットのベンチュリ効果によ
る吸引力以上の力とし、基板を搬送ローラに当接させる
ことを特徴とする。
塵装置によれば、請求項２記載の基板用搬送除塵装置に
おいて、搬送ローラ側の除塵ユニットからの噴出圧力を
他方の除塵ユニットからの噴出圧力以上の値とすること
で、搬送ローラ側の除塵ユニットのベンチュリ効果によ
る吸引力を、他方の除塵ユニットのベンチュリ効果によ
る吸引力以上の力とし、基板を搬送ローラに当接させる
ことを特徴とする。
【００１３】また、請求項４に係る発明の基板用搬送除
塵装置によれば、請求項２記載の基板用搬送除塵装置に
おいて、搬送ローラ側の除塵ユニットから基板面までの
間隔を、他の除塵ユニットから基板面までの間隔以下の
長さとするように調整することで、 搬送ローラ側の除
塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、他方の除
塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力以上の力と
し、基板を搬送ローラに当接させることを特徴とする。
塵装置によれば、請求項２記載の基板用搬送除塵装置に
おいて、搬送ローラ側の除塵ユニットから基板面までの
間隔を、他の除塵ユニットから基板面までの間隔以下の
長さとするように調整することで、 搬送ローラ側の除
塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力を、他方の除
塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力以上の力と
し、基板を搬送ローラに当接させることを特徴とする。
【００１４】また、請求項５に係る発明の基板用搬送除
塵装置によれば、請求項３に記載の基板用搬送除塵装置
において、二個の除塵ユニットからの噴出圧力を計測し
て、搬送ローラ配置側の除塵ユニットからの噴出圧力が
他方の除塵ユニットからの噴出圧力以上である場合に基
板を除塵ユニットへ搬送するように制御することを特徴
とする。
塵装置によれば、請求項３に記載の基板用搬送除塵装置
において、二個の除塵ユニットからの噴出圧力を計測し
て、搬送ローラ配置側の除塵ユニットからの噴出圧力が
他方の除塵ユニットからの噴出圧力以上である場合に基
板を除塵ユニットへ搬送するように制御することを特徴
とする。
【００１５】また、請求項６に係る発明の基板用搬送除
塵装置によれば、請求項１〜請求項５の何れか一項に記
載の基板用搬送除塵装置において、搬送ローラ側の除塵
ユニットは、搬送される基板に当接して回動する補助ロ
ーラを備えることを特徴とする。
塵装置によれば、請求項１〜請求項５の何れか一項に記
載の基板用搬送除塵装置において、搬送ローラ側の除塵
ユニットは、搬送される基板に当接して回動する補助ロ
ーラを備えることを特徴とする。
【００１６】また、請求項７に係る発明の基板用搬送除
塵装置によれば、請求項６に記載の基板用搬送除塵装置
において、前記補助ローラは除塵ユニットの搬入側の外
側部に配置されることを特徴とする。
塵装置によれば、請求項６に記載の基板用搬送除塵装置
において、前記補助ローラは除塵ユニットの搬入側の外
側部に配置されることを特徴とする。
【００１７】また、請求項８に係る発明の基板用搬送除
塵装置によれば、請求項６または請求項７に記載の基板
用搬送除塵装置において、前記補助ローラは除塵ユニッ
トのエア吸引室の上側に配置されることを特徴とする。
塵装置によれば、請求項６または請求項７に記載の基板
用搬送除塵装置において、前記補助ローラは除塵ユニッ
トのエア吸引室の上側に配置されることを特徴とする。
【００１８】また、請求項９に係る発明の基板用搬送除
塵装置によれば、請求項１〜請求項８の何れか一項に記
載の基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニット
は、第１のエア噴出室とこれを挟む第１、第２のエア吸
引室とが基板搬送方向に沿って並べて配置されることを
特徴とする。
塵装置によれば、請求項１〜請求項８の何れか一項に記
載の基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニット
は、第１のエア噴出室とこれを挟む第１、第２のエア吸
引室とが基板搬送方向に沿って並べて配置されることを
特徴とする。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の基板用搬送除塵装
置の第１実施形態について図を参照しつつ説明する。な
お、従来技術と同じ構成については、同じ符号を付して
説明する。図１は本実施形態の基板用搬送除塵装置の構
成図、図２は搬送ローラの構造図である。本実施形態の
基板用搬送除塵装置は、図１で示すように、搬送ローラ
１００、除塵ユニット３００を備えている。この基板用
搬送除塵装置では基板Ｇが矢印ａ方向に搬送される。
置の第１実施形態について図を参照しつつ説明する。な
お、従来技術と同じ構成については、同じ符号を付して
説明する。図１は本実施形態の基板用搬送除塵装置の構
成図、図２は搬送ローラの構造図である。本実施形態の
基板用搬送除塵装置は、図１で示すように、搬送ローラ
１００、除塵ユニット３００を備えている。この基板用
搬送除塵装置では基板Ｇが矢印ａ方向に搬送される。
【００２０】搬送ローラ１００は、基板Ｇを支持・搬送
するローラである。搬送ローラ１００は、基板Ｇを搬送
する駆動力を与えるように構成されるか、または、他の
駆動源により搬送される基板Ｇに従動するように回動自
在に構成されている。搬送ローラ１００は、図２（ａ）
で示すように、基板Ｇの両側を渡される長いロッド状の
搬送ローラ１００とする場合と、基板Ｇの裏面に傷をつ
けることを回避するため、図２（ｂ）で示すように基板
Ｇの側部のみ当接する二個の短い搬送ローラ１００とす
る場合と、二通りの態様がある。このような態様は、使
用する基板Ｇの除塵対象面に応じて適宜選択される。本
実施形態では、基板Ｇの裏面が除塵対象面となるため、
搬送ローラ１００は、図２（ｂ）で示すような形態であ
るものとして以下、説明する。
するローラである。搬送ローラ１００は、基板Ｇを搬送
する駆動力を与えるように構成されるか、または、他の
駆動源により搬送される基板Ｇに従動するように回動自
在に構成されている。搬送ローラ１００は、図２（ａ）
で示すように、基板Ｇの両側を渡される長いロッド状の
搬送ローラ１００とする場合と、基板Ｇの裏面に傷をつ
けることを回避するため、図２（ｂ）で示すように基板
Ｇの側部のみ当接する二個の短い搬送ローラ１００とす
る場合と、二通りの態様がある。このような態様は、使
用する基板Ｇの除塵対象面に応じて適宜選択される。本
実施形態では、基板Ｇの裏面が除塵対象面となるため、
搬送ローラ１００は、図２（ｂ）で示すような形態であ
るものとして以下、説明する。
【００２１】なお、この搬送ローラ１００は、後述する
実施形態においても同様に図２（ａ），（ｂ）で示すよ
うな搬送ローラ１００の選択が適宜可能である。基板の
表面のみ除塵対象ならば図２（ａ）の構造が採用され、
基板の裏面のみ、または、両面が除塵対象なら図２
（ｂ）の構造が採用されるというものであり、後述する
実施形態では搬送ローラ１００の構造について説明を省
略する。
実施形態においても同様に図２（ａ），（ｂ）で示すよ
うな搬送ローラ１００の選択が適宜可能である。基板の
表面のみ除塵対象ならば図２（ａ）の構造が採用され、
基板の裏面のみ、または、両面が除塵対象なら図２
（ｂ）の構造が採用されるというものであり、後述する
実施形態では搬送ローラ１００の構造について説明を省
略する。
【００２２】構成の説明に戻るが、除塵ユニット３００
は、図１で示すように、基板搬送方向（矢印ａ方向）に
向かって、エア吸引室３０１Ｖ、エア噴出室３０１Ｐ、
エア吸引室３０２Ｖとなるように並べられて構成されて
おり、搬送ローラ１００側に配置されている。エア吸引
室３０１Ｖ，３０２Ｖは図示しない吸気ポンプへ、ま
た、エア噴出室３０１Ｐは図示しない送風ポンプへ接続
されるものとする。
は、図１で示すように、基板搬送方向（矢印ａ方向）に
向かって、エア吸引室３０１Ｖ、エア噴出室３０１Ｐ、
エア吸引室３０２Ｖとなるように並べられて構成されて
おり、搬送ローラ１００側に配置されている。エア吸引
室３０１Ｖ，３０２Ｖは図示しない吸気ポンプへ、ま
た、エア噴出室３０１Ｐは図示しない送風ポンプへ接続
されるものとする。
【００２３】基板Ｇは、例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジ
スタ）液晶パネル、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・
パネル）またはＬＣＤ（液晶ディスプレイ）等に用いら
れるガラス基板である。図１で示す基板Ｇは長尺な基板
Ｇの一部のみが図示されている。本明細書において、基
板Ｇの上面を表面と、下面を裏面として定義する。特
に、本実施形態では吸引現象が起きやすい０．３ｍｍ〜
１．１ｍｍと薄い、ＴＦＴ液晶パネル用のガラス基板を
対象としている。
スタ）液晶パネル、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・
パネル）またはＬＣＤ（液晶ディスプレイ）等に用いら
れるガラス基板である。図１で示す基板Ｇは長尺な基板
Ｇの一部のみが図示されている。本明細書において、基
板Ｇの上面を表面と、下面を裏面として定義する。特
に、本実施形態では吸引現象が起きやすい０．３ｍｍ〜
１．１ｍｍと薄い、ＴＦＴ液晶パネル用のガラス基板を
対象としている。
【００２４】続いて、本実施形態による除塵について説
明する。複数の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて搬送ロー
ラ１００上を順次搬送され、逐次除塵が行われるものと
する。この場合除塵ユニット３００は、エア噴出室３０
１Ｐによる洗浄エアの噴出、および、エア吸引室３０１
Ｖ，３０２Ｖによる塵埃の吸引を常時行っているものと
する。
明する。複数の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて搬送ロー
ラ１００上を順次搬送され、逐次除塵が行われるものと
する。この場合除塵ユニット３００は、エア噴出室３０
１Ｐによる洗浄エアの噴出、および、エア吸引室３０１
Ｖ，３０２Ｖによる塵埃の吸引を常時行っているものと
する。
【００２５】まず、除塵される基板Ｇが、除塵ユニット
３００の直上を、矢印ａ方向に搬送される。この場合、
基板Ｇにおいて、搬送ローラ１００に接触する面（図１
では裏面）が基板Ｇの除塵対象面となる。基板Ｇの先端
は、ベンチュリ効果により除塵ユニット３００がある下
側へ吸引される。しかしながら、搬送ローラ１００から
基板Ｇが突出する量（以下オーバハング量という）は基
板Ｇの全長よりも充分小さいため、吸引されることなく
そのまま搬入が続いて、除塵ユニット３００の両側の搬
送ローラ１００により支持される。その後は、基板Ｇ
は、吸引力と自重とが相俟って搬送ローラ１００へ強固
に当接するため、基板Ｇが搬送ローラ１００から離脱す
るという事態は発生しない。
３００の直上を、矢印ａ方向に搬送される。この場合、
基板Ｇにおいて、搬送ローラ１００に接触する面（図１
では裏面）が基板Ｇの除塵対象面となる。基板Ｇの先端
は、ベンチュリ効果により除塵ユニット３００がある下
側へ吸引される。しかしながら、搬送ローラ１００から
基板Ｇが突出する量（以下オーバハング量という）は基
板Ｇの全長よりも充分小さいため、吸引されることなく
そのまま搬入が続いて、除塵ユニット３００の両側の搬
送ローラ１００により支持される。その後は、基板Ｇ
は、吸引力と自重とが相俟って搬送ローラ１００へ強固
に当接するため、基板Ｇが搬送ローラ１００から離脱す
るという事態は発生しない。
【００２６】したがって、基板Ｇが搬送ローラ１００上
を浮き上がることなく搬送され、同時に、エア噴出室３
０１Ｐから洗浄エアが基板Ｇの除塵対象面に噴出され、
飛散した塵埃がエア吸引室３０１Ｖ，３０２Ｖにて吸引
されることにより、基板Ｇの除塵対象面の除塵が行われ
ることになる。これにより、従来技術のような吸引現象
により基板Ｇが損傷するというおそれを除くと共に、搬
送機構としては最小限の搬送ローラ１００のみで済むの
で、広大な設備スペースや複雑、高価な装置構成が不要
になる。
を浮き上がることなく搬送され、同時に、エア噴出室３
０１Ｐから洗浄エアが基板Ｇの除塵対象面に噴出され、
飛散した塵埃がエア吸引室３０１Ｖ，３０２Ｖにて吸引
されることにより、基板Ｇの除塵対象面の除塵が行われ
ることになる。これにより、従来技術のような吸引現象
により基板Ｇが損傷するというおそれを除くと共に、搬
送機構としては最小限の搬送ローラ１００のみで済むの
で、広大な設備スペースや複雑、高価な装置構成が不要
になる。
【００２７】続いて、本発明の基板用搬送除塵装置の第
２実施形態について図を参照しつつ説明する。なお、従
来技術、第１実施形態と同じ構成については、同じ符号
を付して説明する。図３は本実施形態の基板用搬送除塵
装置の構成図である。本実施形態の基板用搬送除塵装置
は、図３で示すように、搬送ローラ１００、除塵ユニッ
ト２００、除塵ユニット３００を備えている。この基板
用搬送除塵装置では基板Ｇが矢印ａ方向へ搬送される。
２実施形態について図を参照しつつ説明する。なお、従
来技術、第１実施形態と同じ構成については、同じ符号
を付して説明する。図３は本実施形態の基板用搬送除塵
装置の構成図である。本実施形態の基板用搬送除塵装置
は、図３で示すように、搬送ローラ１００、除塵ユニッ
ト２００、除塵ユニット３００を備えている。この基板
用搬送除塵装置では基板Ｇが矢印ａ方向へ搬送される。
【００２８】搬送ローラ１００、除塵ユニット３００
は、第１実施形態と同じであり、その重複する説明を省
略する。除塵ユニット２００は、図３で示すように、基
板搬送方向（矢印ａ方向）に沿って、エア吸引室２０１
Ｖ、エア噴出室２０１Ｐ、エア吸引室２０２Ｖが並べら
れて構成されている。エア吸引室２０１Ｖ，２０２Ｖは
図示しない吸気ポンプへ、また、エア噴出室２０１Ｐは
図示しない送風ポンプへ接続されるものとする。
は、第１実施形態と同じであり、その重複する説明を省
略する。除塵ユニット２００は、図３で示すように、基
板搬送方向（矢印ａ方向）に沿って、エア吸引室２０１
Ｖ、エア噴出室２０１Ｐ、エア吸引室２０２Ｖが並べら
れて構成されている。エア吸引室２０１Ｖ，２０２Ｖは
図示しない吸気ポンプへ、また、エア噴出室２０１Ｐは
図示しない送風ポンプへ接続されるものとする。
【００２９】除塵ユニット２００，３００は、上下で対
向して配置されており、これら除塵ユニット２００，３
００の間を基板Ｇが搬送される。なお、基板Ｇが除塵ユ
ニット２００，３００の間で挟まれるとき、基板Ｇの表
面から除塵ユニット２００までの間隔と、基板Ｇの裏面
から除塵ユニット３００までの間隔と、は略等しくなる
ように配置される。
向して配置されており、これら除塵ユニット２００，３
００の間を基板Ｇが搬送される。なお、基板Ｇが除塵ユ
ニット２００，３００の間で挟まれるとき、基板Ｇの表
面から除塵ユニット２００までの間隔と、基板Ｇの裏面
から除塵ユニット３００までの間隔と、は略等しくなる
ように配置される。
【００３０】続いて、本実施形態による除塵について説
明する。複数の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて順次搬送
され、除塵が行われるものとする。この場合除塵ユニッ
ト２００，３００は、エア噴出室２０１Ｐ，３０１Ｐに
よる洗浄エアの噴出、および、エア吸引室２０１Ｖ，２
０２Ｖ，３０１Ｖ，３０２Ｖによる塵埃の吸引を常時行
っているものとする。
明する。複数の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて順次搬送
され、除塵が行われるものとする。この場合除塵ユニッ
ト２００，３００は、エア噴出室２０１Ｐ，３０１Ｐに
よる洗浄エアの噴出、および、エア吸引室２０１Ｖ，２
０２Ｖ，３０１Ｖ，３０２Ｖによる塵埃の吸引を常時行
っているものとする。
【００３１】まず、除塵される基板Ｇが、除塵ユニット
２００，３００の間を、矢印ａ方向に搬送される。この
基板Ｇは表裏両面が除塵対象面となる。この場合、搬送
ローラ１００側の除塵ユニット３００のエア噴出室３０
１Ｐ（以下単に下側という）から噴出される洗浄エアの
噴出圧力は、対向する他方の除塵ユニット２００のエア
噴出室２０１Ｐ（以下単に上側という）から噴出される
洗浄エアの噴出圧力と同じ値か、または、より大きい値
となるように調整されている。
２００，３００の間を、矢印ａ方向に搬送される。この
基板Ｇは表裏両面が除塵対象面となる。この場合、搬送
ローラ１００側の除塵ユニット３００のエア噴出室３０
１Ｐ（以下単に下側という）から噴出される洗浄エアの
噴出圧力は、対向する他方の除塵ユニット２００のエア
噴出室２０１Ｐ（以下単に上側という）から噴出される
洗浄エアの噴出圧力と同じ値か、または、より大きい値
となるように調整されている。
【００３２】上側・下側からの噴出圧力が同じ場合、上
側・下側のそれぞれの除塵ユニット２００，３００にお
けるベンチュリ効果による吸引力は同じとなって、この
吸引力は相殺される。したがって、基板Ｇの自重によ
り、基板Ｇは搬送ローラ１００に当接するが、基板Ｇは
充分に重いため、搬送ローラ１００から離脱するという
事態は発生しない。
側・下側のそれぞれの除塵ユニット２００，３００にお
けるベンチュリ効果による吸引力は同じとなって、この
吸引力は相殺される。したがって、基板Ｇの自重によ
り、基板Ｇは搬送ローラ１００に当接するが、基板Ｇは
充分に重いため、搬送ローラ１００から離脱するという
事態は発生しない。
【００３３】また、上側の噴出圧力よりも下側の噴出圧
力が大きい場合、基板Ｇが上昇するように思われるがそ
れは事実と反し、実際は下側ではベンチュリ効果による
吸引力が、上側の吸引力よりも大きくなっており、基板
Ｇは下側へ吸引される。しかしながら、搬送ローラ１０
０が基板Ｇを支持しているため、吸引力により搬送ロー
ラに強固に当接するため、基板Ｇが搬送ローラ１００か
ら離脱するという事態は発生しない。
力が大きい場合、基板Ｇが上昇するように思われるがそ
れは事実と反し、実際は下側ではベンチュリ効果による
吸引力が、上側の吸引力よりも大きくなっており、基板
Ｇは下側へ吸引される。しかしながら、搬送ローラ１０
０が基板Ｇを支持しているため、吸引力により搬送ロー
ラに強固に当接するため、基板Ｇが搬送ローラ１００か
ら離脱するという事態は発生しない。
【００３４】したがって、基板Ｇが搬送ローラ１００上
を離脱することなく搬送され、同時に、エア噴出室２０
１Ｐ，３０１Ｐから洗浄エアが基板Ｇの両面に噴出さ
れ、飛散した塵埃がエア吸引室２０１Ｖ，２０２Ｖ，３
０１Ｖ，３０２Ｖにて吸引されることにより、基板Ｇの
除塵対象面の除塵が行われることになる。
を離脱することなく搬送され、同時に、エア噴出室２０
１Ｐ，３０１Ｐから洗浄エアが基板Ｇの両面に噴出さ
れ、飛散した塵埃がエア吸引室２０１Ｖ，２０２Ｖ，３
０１Ｖ，３０２Ｖにて吸引されることにより、基板Ｇの
除塵対象面の除塵が行われることになる。
【００３５】このような本実施形態では、基板Ｇが損傷
するというおそれをなくすとともに、搬送機構としては
最小限の搬送ローラ１００のみで済むので、広大な設備
スペースや複雑、高価な装置構成が不要になる。特に、
基板Ｇの両面の除塵が必要な場合に好適である。また、
上側・下側の噴出圧力を調節することで、吸引力を制御
することができる。
するというおそれをなくすとともに、搬送機構としては
最小限の搬送ローラ１００のみで済むので、広大な設備
スペースや複雑、高価な装置構成が不要になる。特に、
基板Ｇの両面の除塵が必要な場合に好適である。また、
上側・下側の噴出圧力を調節することで、吸引力を制御
することができる。
【００３６】なお、本実施形態では、基板Ｇから除塵ユ
ニット２００までの間隔と、基板Ｇから除塵ユニット３
００までの間隔と、は略等しくなるように配置して、噴
出圧力を調節するものとして説明した。しかしながら、
除塵ユニット３００への吸引力を，除塵ユニット２００
への吸引力よりも大きくする別の手法を採用することも
できる。例えば、上側・下側の噴出圧力は同じ値とし
て、基板Ｇの表面から除塵ユニット２００までの間隔よ
りも、基板Ｇの裏面から除塵ユニット３００までの間隔
を小さくするように調整することで吸引力を調整するこ
ともできる。このように間隔を調整して上側・下側の吸
引力を調節するようにしてもよい。また、間隔と噴出圧
力とを共に調節することで、上側・下側の吸引力を調節
しても良い。
ニット２００までの間隔と、基板Ｇから除塵ユニット３
００までの間隔と、は略等しくなるように配置して、噴
出圧力を調節するものとして説明した。しかしながら、
除塵ユニット３００への吸引力を，除塵ユニット２００
への吸引力よりも大きくする別の手法を採用することも
できる。例えば、上側・下側の噴出圧力は同じ値とし
て、基板Ｇの表面から除塵ユニット２００までの間隔よ
りも、基板Ｇの裏面から除塵ユニット３００までの間隔
を小さくするように調整することで吸引力を調整するこ
ともできる。このように間隔を調整して上側・下側の吸
引力を調節するようにしてもよい。また、間隔と噴出圧
力とを共に調節することで、上側・下側の吸引力を調節
しても良い。
【００３７】続いて、本発明の基板用搬送除塵装置の第
３実施形態について図を参照しつつ説明する。なお、従
来技術、第１，２実施形態と同じ構成については、同じ
符号を付して説明する。図４は本実施形態の基板用搬送
除塵装置の構成図である。本実施形態の基板用搬送除塵
装置は、図４で示すように、搬送ローラ１００、除塵ユ
ニット２００、除塵ユニット３００、搬送制御部４００
を備えている。この基板用搬送除塵装置では矢印ａ方向
に基板Ｇが搬送される。
３実施形態について図を参照しつつ説明する。なお、従
来技術、第１，２実施形態と同じ構成については、同じ
符号を付して説明する。図４は本実施形態の基板用搬送
除塵装置の構成図である。本実施形態の基板用搬送除塵
装置は、図４で示すように、搬送ローラ１００、除塵ユ
ニット２００、除塵ユニット３００、搬送制御部４００
を備えている。この基板用搬送除塵装置では矢印ａ方向
に基板Ｇが搬送される。
【００３８】搬送ローラ１００、除塵ユニット２００、
除塵ユニット３００は、従来技術、第１，２実施形態と
同じであり、その重複する説明を省略する。搬送制御部
４００は、図４で示す二個の圧力導入部４０１、差圧セ
ンサ４０２、駆動制御部４０３からなるものである。
除塵ユニット３００は、従来技術、第１，２実施形態と
同じであり、その重複する説明を省略する。搬送制御部
４００は、図４で示す二個の圧力導入部４０１、差圧セ
ンサ４０２、駆動制御部４０３からなるものである。
【００３９】圧力導入部４０１は、エア噴出室２０１
Ｐ，３０１Ｐの室内に設置され、エア噴出室２０１Ｐ，
３０１Ｐにおけるエアを導入するようになされている。
差圧センサ４０２は、二個の圧力導入部４０１からのエ
アを入力し、これらエアの差圧を計測して差圧信号を出
力する。駆動制御部４０３は、差圧センサ４０２から出
力される差圧信号に応じて、搬送ローラ１００の駆動制
御を行う。
Ｐ，３０１Ｐの室内に設置され、エア噴出室２０１Ｐ，
３０１Ｐにおけるエアを導入するようになされている。
差圧センサ４０２は、二個の圧力導入部４０１からのエ
アを入力し、これらエアの差圧を計測して差圧信号を出
力する。駆動制御部４０３は、差圧センサ４０２から出
力される差圧信号に応じて、搬送ローラ１００の駆動制
御を行う。
【００４０】なお、搬送制御部４００は、上記した構成
に限定されるというものではなく、例えば、図示しない
が、エア噴出室２０１Ｐ，３０１Ｐの室内にそれぞれ圧
力検出センサ（トランスデューサ）が設置され、エア噴
出室２０１Ｐ，３０１Ｐにおける噴出圧力を計測してそ
れぞれが圧力信号を出力し、これら二箇所から送信され
る圧力信号に基づいて差圧信号を演算し、この差圧信号
に応じて、駆動制御部４０３が搬送ローラ１００の駆動
制御を行うようにしても良い。これら構成は適宜選択さ
れるが、例えば、小規模な装置では、図４で示すような
差圧センサ４０２を用いる形態がコスト等の観点から好
ましい。
に限定されるというものではなく、例えば、図示しない
が、エア噴出室２０１Ｐ，３０１Ｐの室内にそれぞれ圧
力検出センサ（トランスデューサ）が設置され、エア噴
出室２０１Ｐ，３０１Ｐにおける噴出圧力を計測してそ
れぞれが圧力信号を出力し、これら二箇所から送信され
る圧力信号に基づいて差圧信号を演算し、この差圧信号
に応じて、駆動制御部４０３が搬送ローラ１００の駆動
制御を行うようにしても良い。これら構成は適宜選択さ
れるが、例えば、小規模な装置では、図４で示すような
差圧センサ４０２を用いる形態がコスト等の観点から好
ましい。
【００４１】続いて、本実施形態による除塵について説
明する。複数の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて順次搬送
され、除塵が行われるものとする。この場合除塵ユニッ
ト２００，３００は、エア噴出室２０１Ｐ，３０１Ｐに
よる洗浄エアの噴出、および、エア吸引室２０１Ｖ，２
０２Ｖ，３０１Ｖ，３０２Ｖによる塵埃の吸引が常時行
われているものとする。
明する。複数の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて順次搬送
され、除塵が行われるものとする。この場合除塵ユニッ
ト２００，３００は、エア噴出室２０１Ｐ，３０１Ｐに
よる洗浄エアの噴出、および、エア吸引室２０１Ｖ，２
０２Ｖ，３０１Ｖ，３０２Ｖによる塵埃の吸引が常時行
われているものとする。
【００４２】まず、除塵される基板Ｇが、除塵ユニット
２００，３００の間を、矢印ａ方向に搬送される。この
基板Ｇは表裏両面が除塵対象面となる。この場合、搬送
ローラ１００側の除塵ユニット３００のエア噴出室３０
１Ｐ（下側）から噴出される洗浄エアの噴出圧力は、他
方の除塵ユニット２００のエア噴出室２０１Ｐ（上側）
から噴出される洗浄エアの噴出圧力と同じ値か、また
は、より大きい値としており、先に説明したように吸引
力の相殺、または、下側へ吸引されるように調整されて
いる。また、基板Ｇが除塵ユニット２００，３００の間
で挟まれている場合、基板Ｇの表面から除塵ユニット２
００までの間隔と、基板Ｇの裏面から除塵ユニット３０
０までの間隔と、は略等しくなるように配置される。
２００，３００の間を、矢印ａ方向に搬送される。この
基板Ｇは表裏両面が除塵対象面となる。この場合、搬送
ローラ１００側の除塵ユニット３００のエア噴出室３０
１Ｐ（下側）から噴出される洗浄エアの噴出圧力は、他
方の除塵ユニット２００のエア噴出室２０１Ｐ（上側）
から噴出される洗浄エアの噴出圧力と同じ値か、また
は、より大きい値としており、先に説明したように吸引
力の相殺、または、下側へ吸引されるように調整されて
いる。また、基板Ｇが除塵ユニット２００，３００の間
で挟まれている場合、基板Ｇの表面から除塵ユニット２
００までの間隔と、基板Ｇの裏面から除塵ユニット３０
０までの間隔と、は略等しくなるように配置される。
【００４３】そして、洗浄エアの噴出中では、二個の圧
力導入部４０１を介してエアが差圧センサ４０２へ導入
され、差圧センサ４０２から差圧信号を駆動制御部４０
３へ出力している。駆動制御部４０３は、下側から噴出
される洗浄エアの噴出圧力が、上側から噴出される洗浄
エアの噴出圧力と同じ値か、または、より大きい値であ
るならば正常状態と判定する。一方、下側から噴出され
る洗浄エアの噴出圧力が、上側から噴出される洗浄エア
の噴出圧力より小さいならば、異常状態と判定する。
力導入部４０１を介してエアが差圧センサ４０２へ導入
され、差圧センサ４０２から差圧信号を駆動制御部４０
３へ出力している。駆動制御部４０３は、下側から噴出
される洗浄エアの噴出圧力が、上側から噴出される洗浄
エアの噴出圧力と同じ値か、または、より大きい値であ
るならば正常状態と判定する。一方、下側から噴出され
る洗浄エアの噴出圧力が、上側から噴出される洗浄エア
の噴出圧力より小さいならば、異常状態と判定する。
【００４４】駆動制御部４０３は、噴出圧力が正常状態
であると判断したならば、搬送ローラ１００を回転する
ように制御して、基板Ｇを除塵ユニット２００，３００
の間に進入させる。一方、駆動制御部４０３は、噴出圧
力が異常状態であると判断したならば、搬送ローラ１０
０を停止するように制御する。
であると判断したならば、搬送ローラ１００を回転する
ように制御して、基板Ｇを除塵ユニット２００，３００
の間に進入させる。一方、駆動制御部４０３は、噴出圧
力が異常状態であると判断したならば、搬送ローラ１０
０を停止するように制御する。
【００４５】これにより、噴出圧力が変動して除塵ユニ
ット２００の吸引力が除塵ユニット３００の吸引力より
も大きいという噴出圧力の異常状態では基板Ｇを停止さ
せ、その一方で、噴出圧力の正常状態では基板Ｇは搬送
ローラ１００に搬送されるように構成したため、基板Ｇ
が搬送ローラ１００から浮き上がって離脱するおそれを
著しく小さくし、基板Ｇは搬送ローラに確実に当接した
状態で除塵される。
ット２００の吸引力が除塵ユニット３００の吸引力より
も大きいという噴出圧力の異常状態では基板Ｇを停止さ
せ、その一方で、噴出圧力の正常状態では基板Ｇは搬送
ローラ１００に搬送されるように構成したため、基板Ｇ
が搬送ローラ１００から浮き上がって離脱するおそれを
著しく小さくし、基板Ｇは搬送ローラに確実に当接した
状態で除塵される。
【００４６】このため、基板Ｇが損傷するおそれを低減
させるとともに、搬送機構としては最小限の搬送ローラ
１００のみで済むため、広大な設備スペースや複雑、高
価な装置構成が不要になる。特に、基板両面の洗浄が必
要な場合には好適である。
させるとともに、搬送機構としては最小限の搬送ローラ
１００のみで済むため、広大な設備スペースや複雑、高
価な装置構成が不要になる。特に、基板両面の洗浄が必
要な場合には好適である。
【００４７】なお、この場合、基板Ｇから除塵ユニット
２００までの間隔と、基板Ｇから除塵ユニット３００ま
での間隔と、は略等しくなるように配置して上側と下側
とで噴出圧力を調節するようにしたが、上側と下側とで
噴出圧力を同じ圧力として間隔を調整して吸引力を調整
するようにしてもよい。また、間隔と噴出圧力を組み合
わせて吸引力を調節しても良い。
２００までの間隔と、基板Ｇから除塵ユニット３００ま
での間隔と、は略等しくなるように配置して上側と下側
とで噴出圧力を調節するようにしたが、上側と下側とで
噴出圧力を同じ圧力として間隔を調整して吸引力を調整
するようにしてもよい。また、間隔と噴出圧力を組み合
わせて吸引力を調節しても良い。
【００４８】続いて、本発明の基板用搬送除塵装置の第
４実施形態について図を参照しつつ説明する。なお、従
来技術、第１，２，３実施形態と同じ構成については、
同じ符号を付して説明する。図５は本実施形態の基板用
搬送除塵装置の構成図、図６は補助ローラの構成図であ
る。本実施形態の基板用搬送除塵装置は、第１実施形態
に対し、さらに補助ローラを設けた形態である。
４実施形態について図を参照しつつ説明する。なお、従
来技術、第１，２，３実施形態と同じ構成については、
同じ符号を付して説明する。図５は本実施形態の基板用
搬送除塵装置の構成図、図６は補助ローラの構成図であ
る。本実施形態の基板用搬送除塵装置は、第１実施形態
に対し、さらに補助ローラを設けた形態である。
【００４９】搬送ローラ１００、除塵装置３００は第１
実施形態と同じであるため、その重複する説明を省略
し、相違点のみ説明する。図５で示すように、除塵ユニ
ット３００の搬入側と搬出側との両外側部に補助ローラ
３０３が配置される。補助ローラ３０３は、例えば、図
６（ａ）で示すように側面から見て一輪の構成とした
り，図６（ｂ）で示すように二輪の構成としてもよい。
本実施形態では図６（ｂ）であるものとして説明する。
実施形態と同じであるため、その重複する説明を省略
し、相違点のみ説明する。図５で示すように、除塵ユニ
ット３００の搬入側と搬出側との両外側部に補助ローラ
３０３が配置される。補助ローラ３０３は、例えば、図
６（ａ）で示すように側面から見て一輪の構成とした
り，図６（ｂ）で示すように二輪の構成としてもよい。
本実施形態では図６（ｂ）であるものとして説明する。
【００５０】続いて、補助ローラ３０３を設ける理由に
ついて説明する。例えば、図１で示した第１実施形態で
は、基板Ｇが搬送され、基板Ｇの先端のオーバハング量
が少なくない状態で除塵ユニット３００の直上に位置す
るため、ベンチュリ効果による吸引力のため、基板Ｇの
先端が吸引されて除塵ユニット３００に基板Ｇの先端が
接触することが起こりうる。これは将来的に基板Ｇが軽
量になるにつれて発生するおそれが顕著になってくる。
このため、補助ローラ３０３により、除塵ユニット２０
０，３００の近傍ででガラス基板Ｇを支持してオーバハ
ング量を少なくし、基板Ｇの先端が除塵ユニット３００
に接触するという事態を防止する。
ついて説明する。例えば、図１で示した第１実施形態で
は、基板Ｇが搬送され、基板Ｇの先端のオーバハング量
が少なくない状態で除塵ユニット３００の直上に位置す
るため、ベンチュリ効果による吸引力のため、基板Ｇの
先端が吸引されて除塵ユニット３００に基板Ｇの先端が
接触することが起こりうる。これは将来的に基板Ｇが軽
量になるにつれて発生するおそれが顕著になってくる。
このため、補助ローラ３０３により、除塵ユニット２０
０，３００の近傍ででガラス基板Ｇを支持してオーバハ
ング量を少なくし、基板Ｇの先端が除塵ユニット３００
に接触するという事態を防止する。
【００５１】続いて、本実施形態による除塵について、
第１実施形態との相違点に重点をおいて説明する。複数
の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて順次搬送され、除塵が
行われるものとする。この場合除塵ユニット３００は、
エア噴出室３０１Ｐによる洗浄エアの噴出、および、エ
ア吸引室３０１Ｖ，３０２Ｖによる塵埃の吸引が常時行
われているものとする。
第１実施形態との相違点に重点をおいて説明する。複数
の基板Ｇが、所定の間隔を隔てて順次搬送され、除塵が
行われるものとする。この場合除塵ユニット３００は、
エア噴出室３０１Ｐによる洗浄エアの噴出、および、エ
ア吸引室３０１Ｖ，３０２Ｖによる塵埃の吸引が常時行
われているものとする。
【００５２】まず、除塵される基板Ｇが、除塵ユニット
３００に向けて、矢印ａ方向に搬送される。この基板Ｇ
は搬送ローラ１００・補助ローラ３０３側が除塵対象面
となる。基板Ｇは、ベンチュリ効果により除塵ユニット
３００がある下側へ吸引される。しかしながら、搬送ロ
ーラ１００に加え補助ローラ３０３が基板Ｇを支持して
いるため、従来よりオーバハング量を減少させており、
基板Ｇは補助ローラ３０３・搬送ローラ１００に当接し
たまま搬入され、除塵ユニット３００の両側にある補助
ローラ３０３・搬送ローラ１００に支持される。その後
は、吸引力と相俟って基板Ｇが補助ローラ３０３・搬送
ローラ１００に確実に当接するため、基板Ｇが搬送ロー
ラ１００から離脱するという事態は発生しない。
３００に向けて、矢印ａ方向に搬送される。この基板Ｇ
は搬送ローラ１００・補助ローラ３０３側が除塵対象面
となる。基板Ｇは、ベンチュリ効果により除塵ユニット
３００がある下側へ吸引される。しかしながら、搬送ロ
ーラ１００に加え補助ローラ３０３が基板Ｇを支持して
いるため、従来よりオーバハング量を減少させており、
基板Ｇは補助ローラ３０３・搬送ローラ１００に当接し
たまま搬入され、除塵ユニット３００の両側にある補助
ローラ３０３・搬送ローラ１００に支持される。その後
は、吸引力と相俟って基板Ｇが補助ローラ３０３・搬送
ローラ１００に確実に当接するため、基板Ｇが搬送ロー
ラ１００から離脱するという事態は発生しない。
【００５３】なお、図７で示すように第２実施形態に補
助ローラ３０３を加えた形態、もしくは、図８で示すよ
うに第３実施形態に補助ローラ３０３を加えた形態を採
用しても、この第４実施形態と同様の効果を奏する。
助ローラ３０３を加えた形態、もしくは、図８で示すよ
うに第３実施形態に補助ローラ３０３を加えた形態を採
用しても、この第４実施形態と同様の効果を奏する。
【００５４】以上説明したように、本実施形態では、基
板Ｇが搬送ローラ１００上を離れることなく搬送される
という効果に加え、除塵ユニット２００，３００への進
入時に補助ローラ３０３によりオーバハング量を減少さ
せることで基板Ｇの先端が吸引されるというおそれも小
さくしている。このため、基板Ｇが損傷するおそれを除
くと共に、搬送機構としては最小限の搬送ローラ１００
・補助ローラ３０３のみで済むので、広大な設備スペー
スや複雑、高価な装置構成が不要になる。
板Ｇが搬送ローラ１００上を離れることなく搬送される
という効果に加え、除塵ユニット２００，３００への進
入時に補助ローラ３０３によりオーバハング量を減少さ
せることで基板Ｇの先端が吸引されるというおそれも小
さくしている。このため、基板Ｇが損傷するおそれを除
くと共に、搬送機構としては最小限の搬送ローラ１００
・補助ローラ３０３のみで済むので、広大な設備スペー
スや複雑、高価な装置構成が不要になる。
【００５５】続いて、本発明の基板用搬送除塵装置の第
５実施形態について図を参照しつつ説明する。なお、従
来技術、第１，２，３，４実施形態と同じ構成について
は、同じ符号を付して説明する。図９は本実施形態の基
板用搬送除塵装置の構成図、図１０は補助ローラ構造の
説明図である。本実施形態の基板用搬送除塵装置は、第
１〜第３実施形態に対し、さらに補助ローラを設けた形
態であるが、第４実施形態とは異なる位置に補助ローラ
を配置した点が相違している。
５実施形態について図を参照しつつ説明する。なお、従
来技術、第１，２，３，４実施形態と同じ構成について
は、同じ符号を付して説明する。図９は本実施形態の基
板用搬送除塵装置の構成図、図１０は補助ローラ構造の
説明図である。本実施形態の基板用搬送除塵装置は、第
１〜第３実施形態に対し、さらに補助ローラを設けた形
態であるが、第４実施形態とは異なる位置に補助ローラ
を配置した点が相違している。
【００５６】本実施形態では、図９で示すように、除塵
ユニット３００のエア吸引室３０１Ｖ，３０２Ｖの上側
に補助ローラ３０３が配置される。補助ローラ３０３
は、例えば、図１０で示すように、エア吸引室３０１
Ｖ，３０２Ｖの吸引口の口内に配置されている。なお、
この補助ローラ３０３は、図６（ａ）で示すような側面
から見て一輪の構成である。このような補助ローラ３０
３の存在に拘わらず、塵埃の吸引には影響がないような
充分大きい吸引口を確保すれば、除塵能力に問題は生じ
ない。
ユニット３００のエア吸引室３０１Ｖ，３０２Ｖの上側
に補助ローラ３０３が配置される。補助ローラ３０３
は、例えば、図１０で示すように、エア吸引室３０１
Ｖ，３０２Ｖの吸引口の口内に配置されている。なお、
この補助ローラ３０３は、図６（ａ）で示すような側面
から見て一輪の構成である。このような補助ローラ３０
３の存在に拘わらず、塵埃の吸引には影響がないような
充分大きい吸引口を確保すれば、除塵能力に問題は生じ
ない。
【００５７】このように、本実施形態では、除塵ユニッ
ト２００，３００のエア噴出室２０１Ｐ，３０１Ｐへの
進入直前で補助ローラ３０３が基板Ｇで支持する構造を
採用した。このため、基板Ｇが搬送ローラ１００上を離
れることなく搬送されるという効果に加え、除塵ユニッ
ト２００，３００への進入時に補助ローラ３０３により
オーバハング量をさらに減少させることで基板Ｇの先端
が吸引されるというおそれも少なくしている。このた
め、基板Ｇが損傷するというおそれを除くと共に、搬送
機構としては最小限の搬送ローラ１００・補助ローラ３
０３のみで済むので、広大な設備スペースや複雑、高価
な装置構成が不要になる。
ト２００，３００のエア噴出室２０１Ｐ，３０１Ｐへの
進入直前で補助ローラ３０３が基板Ｇで支持する構造を
採用した。このため、基板Ｇが搬送ローラ１００上を離
れることなく搬送されるという効果に加え、除塵ユニッ
ト２００，３００への進入時に補助ローラ３０３により
オーバハング量をさらに減少させることで基板Ｇの先端
が吸引されるというおそれも少なくしている。このた
め、基板Ｇが損傷するというおそれを除くと共に、搬送
機構としては最小限の搬送ローラ１００・補助ローラ３
０３のみで済むので、広大な設備スペースや複雑、高価
な装置構成が不要になる。
【００５８】また、図１１で示すように、第２実施形態
に補助ローラ３０３を加えた形態、もしくは、図１２で
示すように第３実施形態に補助ローラ３０３を加えた形
態としても、先の説明の通り、基板Ｇの先端が除塵ユニ
ット３００に接触するという事態を防止する能力をさら
に高めている。
に補助ローラ３０３を加えた形態、もしくは、図１２で
示すように第３実施形態に補助ローラ３０３を加えた形
態としても、先の説明の通り、基板Ｇの先端が除塵ユニ
ット３００に接触するという事態を防止する能力をさら
に高めている。
【００５９】以上説明したように、本実施形態では、基
板Ｇが搬送ローラ１００上を離れることなく搬送される
という効果に加え、除塵ユニット２００，３００への進
入時に基板Ｇの先端が吸引されるというおそれをなくし
ている。このため、基板Ｇが損傷するというおそれを除
くと共に、搬送機構としては最小限の搬送ローラ１００
・補助ローラ３０３のみで済むので、広大な設備スペー
スや複雑、高価な装置構成が不要になる。
板Ｇが搬送ローラ１００上を離れることなく搬送される
という効果に加え、除塵ユニット２００，３００への進
入時に基板Ｇの先端が吸引されるというおそれをなくし
ている。このため、基板Ｇが損傷するというおそれを除
くと共に、搬送機構としては最小限の搬送ローラ１００
・補助ローラ３０３のみで済むので、広大な設備スペー
スや複雑、高価な装置構成が不要になる。
【００６０】なお、上記の第１〜第５の実施形態では、
除塵ユニット２００，３００は２個のエア吸引室の間に
１個のエア噴出室を配置した例（Ｖ−Ｐ−Ｖ構造）であ
るものとして説明したが、これ以外に２個のエア噴出室
の間に１個のエア吸引室を配置した例（Ｐ−Ｖ−Ｐ構
造）としてもよい。これら構成が適宜選択される。
除塵ユニット２００，３００は２個のエア吸引室の間に
１個のエア噴出室を配置した例（Ｖ−Ｐ−Ｖ構造）であ
るものとして説明したが、これ以外に２個のエア噴出室
の間に１個のエア吸引室を配置した例（Ｐ−Ｖ−Ｐ構
造）としてもよい。これら構成が適宜選択される。
【００６１】
【発明の効果】本発明によれば、従来では問題となって
いたベンチュリ効果を逆に活用できる構造を採用し、ベ
ンチュリ効果により発生する吸引力を基板に作用させて
この基板を確実に搬送ローラへ当接させて衝突等の発生
を防止するとともに装置全体の構造の簡素化、低コスト
化を可能にした基板用搬送除塵装置を提供することがで
きるようになる。
いたベンチュリ効果を逆に活用できる構造を採用し、ベ
ンチュリ効果により発生する吸引力を基板に作用させて
この基板を確実に搬送ローラへ当接させて衝突等の発生
を防止するとともに装置全体の構造の簡素化、低コスト
化を可能にした基板用搬送除塵装置を提供することがで
きるようになる。
【図１】本発明の第１実施形態の基板用搬送除塵装置の
構成図である。
構成図である。
【図２】搬送ローラの構造図である。
【図３】本発明の第２実施形態の基板用搬送除塵装置の
構成図である。
構成図である。
【図４】本発明の第３実施形態の基板用搬送除塵装置の
構成図である。
構成図である。
【図５】本発明の第４実施形態の基板用搬送除塵装置の
構成図である。
構成図である。
【図６】補助ローラの構造図である。
【図７】本発明の第４実施形態の基板用搬送除塵装置の
構成図である。
構成図である。
【図８】本発明の第４実施形態の基板用搬送除塵装置の
構成図である。
構成図である。
【図９】本発明の第５実施形態の基板用搬送除塵装置の
構成図である。
構成図である。
【図１０】補助ローラの構造図である。
【図１１】本発明の第５実施形態の基板用搬送除塵装置
の構成図である。
の構成図である。
【図１２】本発明の第５実施形態の基板用搬送除塵装置
の構成図である。
の構成図である。
【図１３】従来技術の基板用搬送除塵装置の説明図であ
る。
る。
【図１４】ベンチュリ効果を説明する説明図である。
１００ 搬送ローラ
２００ 除塵ユニット
２０１Ｖ，２０２Ｖ エア吸引室
２０１Ｐ エア噴出室
３００ 除塵ユニット
３０１Ｖ，３０２Ｖ エア吸引室
３０１Ｐ エア噴出室
３０３ 補助ローラ
４００ 搬送制御部
４０１ 圧力導入部
４０２ 差圧センサ
４０３ 駆動制御部
Ｇ 基板
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H090 JC19 JD15
3B116 AA02 AB14 AB48 BB24 BB34
BB72 CD42 CD43
5F031 CA05 FA02 FA07 GA53 JA10
JA21 JA47 NA14 PA20
Claims (9)
- 【請求項１】少なくとも各１個のエア吸引室およびエア
噴出室を有する除塵ユニットを備え、除塵ユニット方向
へ搬送ローラにより搬送される基板に対し、エア噴出室
から基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃
をエア吸引室で吸引するようにした基板用搬送除塵装置
において、 搬送ローラ側にのみ除塵ユニットを配置し、ベンチュリ
効果により基板を搬送ローラに当接させることを特徴と
する基板用搬送除塵装置。 - 【請求項２】少なくとも各１個のエア吸引室およびエア
噴出室を有する除塵ユニットを備え、除塵ユニット方向
へ搬送ローラにより搬送される基板に対し、エア噴出室
から基板表面に向けて洗浄エアを噴出し、飛散する塵埃
をエア吸引室で吸引するようにした基板用搬送除塵装置
において、 基板の表裏面両側に二個一組の除塵ユニットを対向させ
て配置し、 搬送ローラ側の除塵ユニットのベンチュリ効果による吸
引力を、他方の除塵ユニットのベンチュリ効果による吸
引力以上の力とし、基板を搬送ローラに当接させること
を特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 【請求項３】請求項２記載の基板用搬送除塵装置におい
て、 搬送ローラ側の除塵ユニットからの噴出圧力を他方の除
塵ユニットからの噴出圧力以上の値とすることで、搬送
ローラ側の除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力
を、他方の除塵ユニットのベンチュリ効果による吸引力
以上の力とし、基板を搬送ローラに当接させることを特
徴とする基板用搬送除塵装置。 - 【請求項４】請求項２記載の基板用搬送除塵装置におい
て、 搬送ローラ側の除塵ユニットから基板面までの間隔を、
他の除塵ユニットから基板面までの間隔以下の長さとす
るように調整することで、 搬送ローラ側の除塵ユニッ
トのベンチュリ効果による吸引力を、他方の除塵ユニッ
トのベンチュリ効果による吸引力以上の力とし、基板を
搬送ローラに当接させることを特徴とする基板用搬送除
塵装置。 - 【請求項５】請求項３に記載の基板用搬送除塵装置にお
いて、 二個の除塵ユニットからの噴出圧力を計測して、搬送ロ
ーラ配置側の除塵ユニットからの噴出圧力が他方の除塵
ユニットからの噴出圧力以上である場合に基板を除塵ユ
ニットへ搬送するように制御することを特徴とする基板
用搬送除塵装置。 - 【請求項６】請求項１〜請求項５の何れか一項に記載の
基板用搬送除塵装置において、 搬送ローラ側の除塵ユニットは、搬送される基板に当接
して回動する補助ローラを備えることを特徴とする基板
用搬送除塵装置。 - 【請求項７】請求項６に記載の基板用搬送除塵装置にお
いて、 前記補助ローラは除塵ユニットの搬入側の外側部に配置
されることを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 【請求項８】請求項６または請求項７に記載の基板用搬
送除塵装置において、 前記補助ローラは除塵ユニットのエア吸引室の上側に配
置されることを特徴とする基板用搬送除塵装置。 - 【請求項９】請求項１〜請求項８の何れか一項に記載の
基板用搬送除塵装置において、 前記除塵ユニットは、第１のエア噴出室とこれを挟む第
１、第２のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて
配置されることを特徴とする基板用搬送除塵装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002133458A JP2003332401A (ja) | 2002-05-09 | 2002-05-09 | 基板用搬送除塵装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002133458A JP2003332401A (ja) | 2002-05-09 | 2002-05-09 | 基板用搬送除塵装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003332401A true JP2003332401A (ja) | 2003-11-21 |
Family
ID=29696435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002133458A Withdrawn JP2003332401A (ja) | 2002-05-09 | 2002-05-09 | 基板用搬送除塵装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003332401A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007004308A1 (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-11 | Hugle Electronics Inc. | 基板用搬送除塵装置の使用方法および基板用搬送除塵装置 |
| CN100455367C (zh) * | 2004-03-23 | 2009-01-28 | 显示器生产服务株式会社 | 用于清洁平面显示板的装置 |
| JP2009035359A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Nippon Sekkei Kogyo:Kk | 薄板状材料搬送装置 |
| CN101664744A (zh) * | 2008-09-04 | 2010-03-10 | 修谷鲁电子机器股份有限公司 | 除尘装置 |
| JP2010058032A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Takushoo:Kk | 枚葉ワークの除塵装置 |
| JP2010126295A (ja) * | 2008-11-27 | 2010-06-10 | Nippon Sekkei Kogyo:Kk | 薄板状材料の搬送方法及び装置 |
| WO2011099222A1 (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-18 | シャープ株式会社 | 基板処理装置 |
| JP2011200830A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | エア集塵装置 |
| JP2012201437A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-10-22 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置及び基板搬送方法 |
-
2002
- 2002-05-09 JP JP2002133458A patent/JP2003332401A/ja not_active Withdrawn
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2007004308A1 (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-11 | Hugle Electronics Inc. | 基板用搬送除塵装置の使用方法および基板用搬送除塵装置 |
| JP2007014846A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Hugle Electronics Inc | 基板用搬送除塵装置の使用方法および基板用搬送除塵装置 |
| JP4579071B2 (ja) * | 2005-07-06 | 2010-11-10 | ヒューグルエレクトロニクス株式会社 | 基板用搬送除塵装置 |
| KR101248534B1 (ko) * | 2005-07-06 | 2013-04-02 | 휴글엘렉트로닉스가부시키가이샤 | 기판용 반송 제진 장치의 사용 방법 및 기판용 반송 제진장치 |
| JP2009035359A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Nippon Sekkei Kogyo:Kk | 薄板状材料搬送装置 |
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| CN101664744A (zh) * | 2008-09-04 | 2010-03-10 | 修谷鲁电子机器股份有限公司 | 除尘装置 |
| JP2010126295A (ja) * | 2008-11-27 | 2010-06-10 | Nippon Sekkei Kogyo:Kk | 薄板状材料の搬送方法及び装置 |
| WO2011099222A1 (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-18 | シャープ株式会社 | 基板処理装置 |
| JP2011200830A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | エア集塵装置 |
| JP2012201437A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-10-22 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置及び基板搬送方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050802 |