JP2000210630A

JP2000210630A - 基板用搬送除塵装置

Info

Publication number: JP2000210630A
Application number: JP11016574A
Authority: JP
Inventors: Hajime Takagi; 一高木; Moritoshi Kanno; 盛利管野
Original assignee: Hugle Electronics Inc
Current assignee: Hugle Electronics Inc
Priority date: 1999-01-26
Filing date: 1999-01-26
Publication date: 2000-08-02
Also published as: KR20000052561A; KR100530779B1; TW402529B

Abstract

(57)【要約】【課題】吸着ステージを使用しなくても吸着力に対す
る抵抗力を確実に与えるとともに装置全体の小型化、構
造の簡素化、低コスト化を可能にした基板用搬送除塵装
置を提供する。【解決手段】少なくとも各１個のエア吸引室及びエア排
出室を有する除塵ユニットを備え、基板を除塵ユニット
方向へ搬送してエア排出室から基板表面に向けて噴出さ
せた清浄エアをエア吸引室により吸引するようにした基
板用搬送除塵装置において、除塵ユニットは、第１のエ
ア吸引室１０１Ｖと第１のエア排出室１０１Ｐとが基板
搬送方向に沿って並べて配置され、かつ、第１のエア吸
引室１０１Ｖの吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基板
に与えるため基板に従動して回動するコロ３０２等の回
動体を備えるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス板、合成樹
脂板、または金属板などの基板を搬送し、その表面の塵
や埃等を単なる清浄エアや超音波周波数で振動する清浄
エア（以下、単に超音波エアという）により吸引除去す
る基板用搬送除塵装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、基板の一例であるＴＦＴ（薄膜ト
ランジスタ）液晶パネル、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプ
レイ・パネル）またはＬＣＤ（液晶ディスプレイ）等に
用いられるガラス基板を対象とした除塵装置として、例
えば特開平７−６０２１１号公報に記載されたものや、
実用新案登録第３００９６９４号公報に記載されたもの
が知られている。これらの除塵装置では、超音波エアー
を基板表面に噴射するエア排出室と、超音波エアによっ
て舞い上がった塵を吸引除去するエア吸引室とからなる
除塵ユニットを、ガラス基板の上方において基板搬送方
向に沿って配置するのが基本的な構造となっている。

【０００３】しかしながら、上述した構造を採る限り、
除塵ユニットの直下に搬送されてきたガラス基板はエア
吸引室の負圧によって上方へ吸い上げられることがあ
る。特に、ＴＦＴ液晶パネル用の基板は０．３ｍｍ〜
１．１ｍｍという薄いガラス基板であって、吸い上げら
れることが多い。一般的に、除塵効率を上げるために、
エア吸引口とガラス基板表面との間隔は短く設定されて
おり、負圧によって吸い上げられたガラス基板がエア吸
引口に接触したり、移動したりする恐れがあり、これら
の挙動がガラス基板を損傷させる原因ともなる。

【０００４】上記の問題を解消するため、負圧による吸
引力を越える抵抗力（以下、単に抵抗力という。）をガ
ラス基板に与え、吸引を回避する必要がある。そのよう
な従来技術の例として、搬送されてきたガラス基板を吸
着ステージにより下方から吸着保持し、この吸着ステー
ジごと除塵ユニットの下方に搬送することによってガラ
ス基板がエア吸引口側へ吸い上げられないようにする搬
送装置がある。

【０００５】図１２は、吸着ステージを使用する搬送装
置の一例を概略的に示したものであり、１１は２個のエ
ア吸引室（Ｖ）とその間の１個のエア排出室（Ｐ）とを
有する除塵ユニット、１３は突き上げピン１４を備えた
吸着ステージ、１２，１５は吸着ステージ１３の前後に
配置されたシャッター、Ｇは除塵するべきガラス基板で
ある。

【０００６】その動作としては、ガラス基板Ｇの進入
（ステップＳ１）から始まり、基板Ｇを吸着ステージ１
３により下方から吸着保持し（ステップＳ２，Ｓ３）、
そのままの状態で除塵ユニット１１の下方を通過させて
その間に除塵を行い（ステップＳ４）、その後、基板Ｇ
の排出（ステップＳ５，Ｓ６）、吸着ステージ１３の復
帰（ステップＳ７〜Ｓ９）という一連の操作を繰り返し
ている。

【０００７】図１２のように吸着ステージ１３を使用す
る場合には、吸着ステージ１３の移動ストロークを考慮
し、その移動方向に沿ってシャッター１２，１５の寸法
も含めた十分な空間を確保しなくてはならず、これが搬
送装置全体の大型化を招いていた。同時に、吸着ステー
ジ１３やシャッター１２，１５を水平方向（前後方向）
及び上下方向に駆動する機構が不可欠であり、装置が大
掛かりなものであった。このように装置は大掛かりであ
るが、ＴＦＴ液晶パネル等に用いられるガラス基板が薄
く、ガラス基板の吸い上げやガラス基板のたわみ変形に
対処するためにも、上述の吸着ステージ１３を使用せざ
るをえなかった。

【０００８】しかしながら、ＰＤＰに用いられる基板
は、厚さ数ｍｍのガラス基板であって、ガラス基板の吸
い上げやガラス基板のたわみ変形が発生する虞が少ない
ものであった。また、合成樹脂や金属の基板は、基板の
吸い上げが発生するものの所定限度内のたわみの発生が
許容される基板であった。上述のような基板を対象とす
る除塵装置として、吸着ステージを用いることは過剰性
能であってコストが高くなり、経済上好ましくなかっ
た。また、合成樹脂の回路用基板など基板自体に孔が開
いている基板を吸着できなかった。上述のような厚いガ
ラス板、合成樹脂板、または金属板などの基板に清浄エ
アや超音波エアを吹き付けて洗浄する除塵装置におい
て、吸着ステージの使用を回避し、かつ、エア吸引口へ
の吸着力に対する抵抗力を確実に与えたいという要請が
あった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、吸着
ステージを使用しなくても吸着力に対する抵抗力を確実
に与えるとともに装置全体の小型化、構造の簡素化、低
コスト化を可能にした基板用搬送除塵装置を提供しよう
とするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１記載の発明は、少なくとも各１個のエア吸
引室及びエア排出室を有する除塵ユニットを備え、基板
を前記除塵ユニット方向へ搬送してエア排出室から基板
表面に向けて噴出させた清浄エアをエア吸引室により吸
引するようにした基板用搬送除塵装置において、前記除
塵ユニットは、第１のエア吸引室と第１のエア排出室と
が基板搬送方向に沿って並べて配置され、かつ、前記第
１のエア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基
板に与えるため基板に従動して回動する回動体を備える
ようにしたものである。

【００１１】請求項２記載の発明は、少なくとも各１個
のエア吸引室及びエア排出室を有する除塵ユニットを備
え、基板を前記除塵ユニット方向へ搬送してエア排出室
から基板表面に向けて噴出させた清浄エアをエア吸引室
により吸引するようにした基板用搬送除塵装置におい
て、前記除塵ユニットは、第１のエア吸引室とこれを挟
む第１、第２のエア排出室とが基板搬送方向に沿って並
べて配置され、かつ、前記第１のエア吸引室の吸引力に
抵抗する抵抗力を搬送中の基板に与えるため基板に従動
して回動する回動体を備えるようにしたものである。

【００１２】請求項３記載の発明は、少なくとも各１個
のエア吸引室及びエア排出室を有する除塵ユニットを備
え、基板を前記除塵ユニット方向へ搬送してエア排出室
から基板表面に向けて噴出させた清浄エアをエア吸引室
により吸引するようにした基板用搬送除塵装置におい
て、前記除塵ユニットは、第１のエア排出室とこれを挟
む第１、第２のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並
べて配置され、かつ、前記第１、第２のエア吸引室の吸
引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基板に与えるため基板
に従動して回動する回動体を備えるようにしたものであ
る。

【００１３】請求項４記載の発明は、少なくとも各１個
のエア吸引室及びエア排出室を有する除塵ユニットを備
え、基板を前記除塵ユニット方向へ搬送してエア排出室
から基板表面に向けて噴出させた清浄エアをエア吸引室
により吸引するようにした基板用搬送除塵装置におい
て、前記除塵ユニットは、第１のエア吸引室と第１のエ
ア排出室とが基板搬送方向に沿って並べて配置されると
ともに第１のエア吸引室の基板搬送経路を介した対向側
に基板の裏面に負圧を作用させる第２のエア吸引室が配
置され、かつ、前記第１、第２のエア吸引室の吸引力に
抵抗する抵抗力を搬送中の基板に与えるため基板に従動
して回動する回動体を備えるようにしたものである。

【００１４】請求項５記載の発明は、少なくとも各１個
のエア吸引室及びエア排出室を有する除塵ユニットを備
え、基板を前記除塵ユニット方向へ搬送してエア排出室
から基板表面に向けて噴出させた清浄エアをエア吸引室
により吸引するようにした基板用搬送除塵装置におい
て、前記除塵ユニットは、第１のエア吸引室とこれを挟
む第１、第２のエア排出室とが基板搬送方向に沿って並
べて配置されるとともに前記第１のエア吸引室の基板搬
送経路を介した対向側に基板の裏面に負圧を作用させる
第２のエア吸引室が配置され、かつ、前記第１、第２の
エア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基板に
与えるため基板に従動して回動する回動体を備えるよう
にしたものである。

【００１５】請求項６記載の発明は、少なくとも各１個
のエア吸引室及びエア排出室を有する除塵ユニットを備
え、基板を前記除塵ユニット方向へ搬送してエア排出室
から基板表面に向けて噴出させた清浄エアをエア吸引室
により吸引するようにした基板用搬送除塵装置におい
て、前記除塵ユニットは、第１のエア排出室とこれを挟
む第１、第２のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並
べて配置されるとともに前記第１、第２のエア吸引室の
基板搬送経路を介した対向側に基板の裏面に負圧を作用
させる第３、第４のエア吸引室がそれぞれ設けられ、か
つ、前記第１、第２、第３および第４のエア吸引室の吸
引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基板に与えるため基板
に従動して回動する回動体を備えるようにしたものであ
る。

【００１６】請求項７記載の発明は、少なくとも各１個
のエア吸引室及びエア排出室を有する除塵ユニットを備
え、基板を前記除塵ユニット方向へ搬送してエア排出室
から基板表面に向けて噴出させた清浄エアをエア吸引室
により吸引するようにした基板用搬送除塵装置におい
て、前記除塵ユニットは、第１のエア吸引室とこれを挟
む第１、第２のエア排出室とが基板搬送方向に沿って並
べて配置されるとともに前記第１のエア吸引室と前記第
１、第２のエア排出室との基板搬送経路を介した対向側
に第２のエア吸引室とこれを挟む第３、第４のエア排出
室とが基板搬送方向に沿って並べて配置され、前記第１
および第２のエア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を搬
送中の基板に与えるため基板に従動して回動する回動体
を備えるようにしたものである。

【００１７】請求項８記載の発明は、少なくとも各１個
のエア吸引室及びエア排出室を有する除塵ユニットを備
え、基板を前記除塵ユニット方向へ搬送してエア排出室
から基板表面に向けて噴出させた清浄エアをエア吸引室
により吸引するようにした基板用搬送除塵装置におい
て、前記除塵ユニットは、第１のエア排出室とこれを挟
む第１、第２のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並
べて配置されるとともに前記第１のエア排出室と前記第
１、第２のエア吸引室との基板搬送経路を介した対向側
に第２のエア排出室とこれを挟む第３、第４のエア吸引
室とが基板搬送方向に沿って並べて配置され、前記第
１、第２、第３および第４のエア吸引室の吸引力に抵抗
する抵抗力を搬送中の基板に与えるため基板に従動して
回動する回動体を備えるようにしたものである。

【００１８】請求項９記載の発明は、少なくとも各１個
のエア吸引室及びエア排出室を有する除塵ユニットを備
え、基板を前記除塵ユニット方向へ搬送してエア排出室
から基板表面に向けて噴出させた清浄エアをエア吸引室
により吸引するようにした基板用搬送除塵装置におい
て、前記除塵ユニットは、第１のエア排出室とこれを挟
む第１、第２のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並
べて配置されるとともに前記第１のエア排出室の基板搬
送経路を介した対向側に基板の裏面に負圧を作用させる
第３のエア吸引室が配置され、かつ、前記第１、第２お
よび第３のエア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を搬送
中の基板に与えるため基板に従動して回動する回動体を
備えるようにしたものである。

【００１９】請求項１０記載の発明は、請求項１〜請求
項９の何れか１項に記載の基板用搬送除塵装置におい
て、前記回動体は、基板の側部近傍にのみ当接して回動
するようにしたものである。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、図に沿って本発明の実施形
態を説明する。先ず、図１は本発明の第１実施形態を示
す概略的な側面図、図２は、同じく斜視図、図３は同じ
く正面図であり、除塵ユニットとして各１個のエア排出
室とエア吸引室とを並設した例（便宜上、Ｐ−Ｖ構造と
いう）である。

【００２１】図１において、１０１Ｖは第１のエア吸引
室、１０１Ｐは基板搬送方向に沿って第１のエア吸引室
１０１Ｖに隣接する第１のエア排出室であり、これらは
除塵ユニット４０１を構成している。図２では、第１の
エア吸引室１０１Ｖの吸気パイプおよび第１のエア排出
室１０１Ｐおよび排気パイプが図示され、吸気パイプは
図示しない吸気ポンプへ、また、排気パイプは図示しな
い排気ポンプへ接続されるものとする。除塵するべきガ
ラス基板Ｇは、上記第１のエア吸引室１０１Ｖ及び第１
のエア排出室１０１Ｐの直下を、水平方向に搬送され
る。このように複数のガラス基板Ｇが、所定の間隔を隔
てて順次搬送され、除塵が行われる。

【００２２】３０１はガラス基板Ｇを支持するコロであ
り、ガラス基板Ｇを搬送する駆動力を与えるように構成
されるか、または、他の駆動源により搬送される基板に
従動するように回動自在に構成される。３０２は、同じ
くコロであり、搬送されるガラス基板Ｇに当接し、従動
するように回動自在に構成されている。上下方向へガラ
ス基板Ｇが移動しないようにコロ３０２は上下方向の移
動を拘束するような構成とするか、または、図示しない
ばね等の弾性体によりガラス基板Ｇを上から押圧するよ
うな構成とする。

【００２３】コロ３０２が基板Ｇを押圧する場合の押圧
力は、第１のエア吸引室１０１Ｖにより発生する吸引力
と同程度か、あるいはガラス基板Ｇの自重を考慮して若
干低めに設定され、ガラス基板Ｇに不必要に力を掛ける
ことを回避する。このように、コロ３０２は、前記第１
のエア吸引室１０１Ｖの吸引力に抵抗する抵抗力を搬送
中の基板に与える回動体としての機能を果たす。

【００２４】なお、第１のエア吸引室１０１Ｖ及び第１
のエア排出室１０１Ｐの基板搬送方向に沿った長さＬ１
は、例えば５５ｃｍ〜８０ｃｍである。また、ガラス基
板Ｇの大きさは、例えば、６５０×（５５０〜８３０）
×２．８ｍｍである。ここで、上記数値はあくまで一例
であり、本発明の技術的範囲を限定するものでないこと
は言うまでもない。

【００２５】上記構成において、ガラス基板Ｇを図１お
よび図２の矢印ａの方向に搬送しながら第１のエア吸引
室１０１Ｖ、第１のエア排出室１０１Ｐを動作させる
と、ガラス基板Ｇが第１のエア吸引室１０１Ｖの直下を
通過する際にガラス基板Ｇに吸引力が作用するが、コロ
３０２が与える抵抗力によりガラス基板Ｇが浮き上がっ
たり移動したりする心配がない。

【００２６】従って、ガラス基板Ｇが上昇することなく
搬送され、同時に、第１のエア排出室１０１Ｐから清浄
エアが基板表面に噴射されて第１のエア吸引室１０１Ｖ
にて吸引されることにより、基板表面の除塵が行われる
ことになる。このため、ガラス基板Ｇを損傷する恐れが
ないと共に、搬送機構としては単にコロ搬送のみで済む
ので、広大な設備スペースや複雑、高価な装置構成が不
要になる。

【００２７】なお、図１および図２における基板用搬送
除塵装置では、コロ３０１，３０２が、図３（ａ）に示
すように、長いロッド状であるとして図示している。し
かしながら、ＰＤＰなどのガラス基板のように表面また
は裏面に傷をつけることを回避したい場合がある。そこ
で、図３（ｂ）や図３（ｃ）で示すように、基板の側部
近傍のみ当接するような短いコロ３０１または３０２と
し、基板の表面に傷つけないように構成してもよい。

【００２８】なお、図３（ｂ）で示すように基板の片面
のみ傷つけないようにコロ３０２のみ短くするか、図３
（ｃ）で示すように基板の両面を傷つけないようにコロ
３０１とコロ３０２とを共に短くするかは使用する基板
に応じて適宜選択される。いずれの構成であっても、コ
ロ３０１は、吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基板に
与える。なお、第１実施形態で説明したコロ３０１およ
び３０２の長さは、後述する実施形態においても同様に
長短の選択が適宜可能であり、後述する実施形態ではコ
ロ３０１およびコロ３０２の長短の選択について説明を
省略する。

【００２９】次に、図４は本発明の第２実施形態を示し
ている。この実施形態は、除塵ユニットとして２個のエ
ア排出室の間に１個のエア吸引室を配置した例（便宜
上、Ｐ−Ｖ−Ｐ構造という）である。図４において、１
０１Ｐは第１のエア排出室、１０１Ｖは第１のエア吸引
室、１０２Ｐは第２のエア排出室であり、これらによっ
て除塵ユニット４０２が構成されている。この除塵ユニ
ット４０２は、基板搬送方向に沿って例えば８０ｃｍの
長さＬ２を有している。

【００３０】３０１と３０２はコロであり、第１実施形
態で説明した機能と同じ機能をそれぞれ有している。こ
の実施形態においても、第１のエア吸引室１０１Ｖの直
下を通過する際にガラス基板Ｇに吸引力が作用するが、
コロ３０２の抵抗力によりガラス基板Ｇが浮き上がる心
配がない。従って、ガラス基板Ｇが上昇することなく搬
送される。

【００３１】次いで、図５は本発明の第３実施形態であ
り、除塵ユニットとして２個のエア吸引室の間に１個の
エア排出室を配置した例（便宜上、Ｖ−Ｐ−Ｖ構造とい
う）であり、これらによって除塵ユニット４０３が構成
されている。図５において、１０１Ｖは第１のエア吸引
室、１０１Ｐは第１のエア排出室、１０２Ｖは第２のエ
ア吸引室であり、これらによって除塵ユニット４０３が
構成されている。３０１と３０２はコロであり、第１実
施形態で説明した機能と同じ機能をそれぞれ有してい
る。この実施形態においても、第１のエア吸引室１０１
Ｖおよび第２のエア吸引室１０２Ｖの直下を通過する際
にガラス基板Ｇに吸引力が作用するが、コロ３０２の抵
抗力によりガラス基板Ｇが浮き上がる心配がない。従っ
て、ガラス基板Ｇが上昇することなく搬送される。

【００３２】第１〜第３実施形態の基板用搬送除塵装置
において、さらに、基板搬送経路を介して第１のエア吸
引室１０１Ｖまたは第２エア吸引室１０２Ｖの対向する
位置に、エア吸引室を配置して、吸引力を相殺する構成
も考えられる。しかしながら、基板自体にそりが生じて
いたり、基板自体の厚みが一定でない場合、第１のエア
吸引室１０１Ｖの開口と基板までの距離（以下、このよ
うな距離をエア吸引室１０１Ｖのギャップという。）と
対向するエア吸引室のギャップとが、また、第２のエア
吸引室１０１Ｖのギャップと対向するエア吸引室のギャ
ップとが異なるような場合、吸引力に差が生じ、上側ま
たは下側へ吸引力が生じることがある。

【００３３】このような場合であっても、コロ３０１と
コロ３０２により上下方向への移動が防止されるので安
定して基板を搬送し、除塵することが可能となる。この
場合、コロ３０１とコロ３０２とは共に吸引力に抵抗す
る抵抗力を搬送中の基板に与えるため基板に従動して回
動する回動体としての機能を果たす。以下、このような
実施形態について説明する。

【００３４】図６は本発明の第４実施形態であり、Ｐ−
Ｖ構造の除塵ユニットのエア吸引室に対向する位置にエ
ア吸引室を配置した例である。図６において、１０１Ｖ
は第１のエア吸引室、１０１Ｐは基板搬送方向に沿って
第１のエア吸引室１０１Ｖに隣接する第１のエア排出室
であり、これらは除塵ユニット４０４を構成している。
除塵するべきガラス基板Ｇは、上記第１のエア吸引室１
０１Ｖ及び第１のエア排出室１０１Ｐの直下を、所定の
間隔を隔てて水平方向に搬送可能である。

【００３５】また、ガラス基板Ｇの搬送経路を介した第
１のエア吸引室１０１Ｖの対向側（すなわちガラス基板
Ｇの裏面に対向する側）には、第２のエア吸引室２０１
Ｖが配置されている。ここで、第２のエア吸引室２０１
Ｖの内圧は第１のエア吸引室１０１Ｖと同程度か、ある
いはガラス基板Ｇの自重を考慮して若干高め（負圧の絶
対値が小さくなるように）に設定されており、何れにし
ても、ガラス基板Ｇの裏面に負圧を作用させるべく設け
られている。

【００３６】３０１はガラス基板Ｇを支持しているコロ
であり、基板を搬送する駆動力を与えたり、または図示
しない駆動源により搬送される基板に従動して回転す
る。さらに、コロ３０１は、第２のエア吸引室２０１Ｖ
の吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基板に与える。３
０２は、同じくコロであり、搬送されるガラス基板Ｇに
当接し、従動するように回動自在に構成されている。上
下方向へガラス基板Ｇが移動しないように、コロ３０２
は、上下方向の移動を拘束するような構成とするか、ま
たは、図示しないばね等の弾性体によりガラス基板Ｇを
上から押圧するような構成とする。

【００３７】上記構成において、ガラス基板Ｇを図の矢
印方向に搬送しながら各エア吸引室１０１Ｖ，２０１
Ｖ、エア排出室１０１Ｐを動作させると、ガラス基板Ｇ
がエア吸引室１０１Ｖ，２０１Ｖの間を通過する際に、
その表裏面にはほぼ同程度の負圧が働くことになり、ガ
ラス基板Ｇの浮き上がりを防止している。従って、ガラ
ス基板Ｇはその平坦性を保ちながら搬送され、同時に、
第１のエア排出室１０１Ｐから清浄エアが基板表面に噴
射されて第１のエア吸引室１０１Ｖにて吸引されること
により、基板表面の除塵が行われることになる。

【００３８】さて、ガラス基板Ｇ自体にそりが生じてい
たり、ガラス基板Ｇ自体の厚みが一定でなかったりし
て、第１のエア吸引室１０１Ｖのギャップと第２のエア
吸引室１０２Ｖのギャップとが異なる場合、ガラス基板
Ｇの吸引力に差が生じ、移動する虞がある。しかし、コ
ロ３０１，３０２により上下方向への移動が防止される
ので、移動させることなく安定して基板を搬送し、除塵
することが可能となる。このため、ガラス基板Ｇが損傷
する虞がないと共に、搬送機構としては単にコロ搬送の
みで済むので、広大な設備スペースや複雑、高価な装置
構成が不要になる。

【００３９】図７は本発明の第５実施形態であり、Ｐ−
Ｖ−Ｐ構造の除塵ユニットのエア吸引室に対向する位置
にエア吸引室を配置した例である。図７において、１０
１Ｐは第１のエア排出室、１０１Ｖは第１のエア吸引
室、１０２Ｐは第２のエア排出室であり、これらによっ
て除塵ユニット４０５が構成されている。そして、基板
搬送経路を介した第１のエア吸引室１０１Ｖの対向側に
は、前記同様に第２のエア吸引室２０１Ｖが配置されて
いる。

【００４０】なお、第２のエア吸引室２０１Ｖの内圧
は、前記同様に第１のエア吸引室１０１Ｖと同程度か、
若干高めに設定されている。３０１と３０２はコロであ
り、第４実施形態で説明した機能と同じ機能をそれぞれ
有している。

【００４１】この実施形態においても、第１のエア吸引
室１０１Ｖと同程度の負圧によってガラス基板Ｇが第２
のエア吸引室２０１Ｖにより裏側から吸引されるため、
前記同様にガラス基板Ｇの浮き上がりを防止している。
さらに第１のエア吸引室１０１Ｖのギャップと第２のエ
ア吸引室１０２Ｖのギャップとが異なって吸引力に差が
生じた場合であっても、コロ３０１，３０２により上下
方向への移動が防止されるので安定して基板を搬送し、
除塵することが可能となる。

【００４２】次いで、図８は本発明の第６実施形態であ
り、Ｖ−Ｐ−Ｖ構造の除塵ユニット４０６の２個のエア
吸引室に対向する位置に２個のエア吸引室を配置した例
である。この実施形態では、第１のエア排出室１０１Ｐ
とこれをを挟む第１、第２のエア吸引室１０１Ｖ，１０
２Ｖによって除塵ユニット４０６が構成されている。こ
れら第１、第２のエア吸引室１０１Ｖ，１０２Ｖに対向
して、第３、第４のエア吸引室２０１Ｖ，２０２Ｖが配
置されている。

【００４３】これらの第３、第４のエア吸引室２０１
Ｖ，２０２Ｖの内圧は、第１、第２のエア吸引室１０１
Ｖ，１０２Ｖと同程度か、若干高めに設定されている。
３０１と３０２はコロであり、第４実施形態でも説明し
たように、コロ３０１とコロ３０２とは共に、対向する
エア吸引室のギャップの相違による吸引力に抵抗する抵
抗力を搬送中の基板に与えるため基板に従動して回動す
る回動体としての機能を果たす。

【００４４】本実施形態でも、第１、第２のエア吸引室
１０１Ｖ，１０２Ｖと同程度の負圧によってガラス基板
Ｇが第３、第４のエア吸引室２０１Ｖ，２０２Ｖにより
裏側から吸引されるので、ガラス基板Ｇの吸い上げを防
止している。さらに第１エア吸引室１０１Ｖのギャップ
と第３のエア吸引室２０１Ｖのギャップとが、また、第
２エア吸引室１０２Ｖのギャップと第４のエア吸引室２
０１Ｖのギャップとが異なって吸引力に差が生じる場合
であっても、コロ３０１，３０２により上下方向への移
動が防止されるので安定して基板を搬送し、除塵するこ
とが可能となる。

【００４５】図９は本発明の第７実施形態であり、Ｐ−
Ｖ−Ｐ構造の除塵ユニット４０７，４０８によってガラ
ス基板Ｇを上下から挟む構造である。この実施形態は、
第１、第２のエア排出室１０１Ｐ，１０２Ｐ及び第１の
エア吸引室１０１Ｖを有する除塵ユニット４０７に対向
させて、ガラス基板Ｇの裏面を除塵する別のＰ−Ｖ−Ｐ
構造の除塵ユニット４０８を配置したものである。

【００４６】この除塵ユニット４０８は、第１のエア吸
引室１０１Ｖに対向してこれと同程度の内圧（負圧）を
有する第２のエア吸引室２０１Ｖと、この第２のエア吸
引室２０１Ｖの両側に配置された第３、第４のエア排出
室２０１Ｐ，２０２Ｐとから構成されている。３０１と
３０２はコロであり、第４実施形態でも説明したよう
に、コロ３０１とコロ３０２とは共に、対向するエア吸
引室のギャップの相違による吸引力に抵抗する抵抗力を
搬送中の基板に与えるため基板に従動して回動する回動
体としての機能を果たす。

【００４７】この実施形態によれば、表裏の除塵ユニッ
ト４０７，４０８によりガラス基板Ｇを表裏から吸引す
るので、上述の各実施形態と同様にガラス基板Ｇの吸い
上げを防止できると共に、基板Ｇの表裏面を同時に除塵
できる利点がある。さらに第１エア吸引室１０１Ｖのギ
ャップと第２のエア吸引室２０１Ｖのギャップとが異な
って吸引力に差が生じる場合であっても、コロ３０１，
３０２により上下方向への移動が防止される。さらに、
第１のエア排出室１０１Ｐのギャップと第３のエア排出
室２０１Ｐのギャップとが異なり、また、第２のエア排
出室１０２Ｐのギャップと第４のエア排出室２０２Ｐの
ギャップとが異なり、排出力に差が生じる場合であって
も、コロ３０１，３０２により上下方向への移動が防止
されるので安定して基板を搬送し、除塵することが可能
となる。

【００４８】図１０は本発明の第８実施形態であり、Ｖ
−Ｐ−Ｖ構造の除塵ユニット４０９，４１０によってガ
ラス基板Ｇを上下から挟む構造である。この実施形態
は、第１、第２のエア吸引室１０１Ｖ，１０２Ｖ及び第
１のエア排出室１０１Ｐを有する除塵ユニット４０９に
対向させて、ガラス基板Ｇの裏面を除塵する別のＶ−Ｐ
−Ｖ構造の除塵ユニット４１０を配置したものである。

【００４９】この除塵ユニット４１０は、第１のエア排
出室１０１Ｐに対向してこれと同程度の正圧を有する第
２のエア排出室２０１Ｐと、この第２のエア排出室２０
１Ｐの両側に配置された第３、第４のエア吸引室２０１
Ｖ，２０２Ｖとから構成されている。３０１と３０２は
コロであり、第４実施形態でも説明したように、コロ３
０１とコロ３０２とは共に、対向するエア吸引室のギャ
ップの相違による吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基
板に与えるため基板に従動して回動する回動体としての
機能を果たす。

【００５０】この実施形態によれば、表裏の除塵ユニッ
ト４０９，４１０によりガラス基板Ｇを表裏から吸引す
るので、上述の各実施形態と同様にガラス基板Ｇの吸い
上げを防止できると共に、基板Ｇの表裏面を同時に除塵
できる利点がある。さらに第１のエア吸引室１０１Ｖの
ギャップと第３のエア吸引室２０１Ｖのギャップ、また
は、第２エア吸引室１０２Ｖのギャップと第４のエア吸
引室２０２Ｖのギャップとが異なって吸引力に差が生じ
る場合であっても、コロ３０１，３０２により上下方向
への移動が防止されるので安定して基板を搬送し、除塵
することが可能となる。

【００５１】図１１は本発明の第９実施形態であり、Ｖ
−Ｐ−Ｖ構造の除塵ユニット４１１のエア排出室に対向
する位置に特殊なエア吸引室を配置した例である。この
実施形態では、第１のエア排出室１０１Ｐとこれを挟む
第１、第２のエア吸引室１０１Ｖ，１０２Ｖによって除
塵ユニット４１１が構成されている。この第１のエア排
出室１０１Ｐに対向して、第３のエア吸引室２０３Ｖが
配置されている。そして、第３のエア吸引室２０３Ｖの
吸引口は、第１、第２のエア吸引室１０１Ｖ，１０２Ｖ
の吸引口方向へ対向するよう左右両側が開口している。
各エア吸引口の角度、距離、負圧を調整してガラス基板
Ｇの表裏の吸引力がつり合う状態を決定する。

【００５２】この第３エア吸引室２０３Ｖの内圧は、第
１、第２のエア吸引室１０１Ｖ，１０２Ｖと同程度か、
若干高めに設定されている。３０１と３０２はコロであ
り、第４実施形態でも説明したように、コロ３０１とコ
ロ３０２とは共に、対向するエア吸引室のギャップの相
違による吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基板に与え
るため基板に従動して回動する回動体としての機能を果
たす。

【００５３】本実施形態でも、第１、第２のエア吸引室
１０１Ｖ，１０２Ｖと同程度の負圧によって、第３のエ
ア吸引室２０３Ｖがガラス基板Ｇを裏側から吸引するの
で、ガラス基板Ｇの吸い上げを防止している。また、第
１エア吸引室１０１Ｖのギャップと第３のエア吸引室２
０３Ｖのギャップとが、また、第２エア吸引室１０２Ｖ
のギャップと第３のエア吸引室２０３Ｖのギャップとが
異なって吸引力に差が生じる場合であっても、コロ３０
１，３０２により上下方向への移動が防止されるので安
定して基板を搬送し、除塵することが可能となる。

【００５４】以上第１〜第９の実施形態について説明し
たが、上記各実施形態において、各エア吸引室の内圧は
例えば−２０〜−１５０ｍｍＡｑ程度、各エア排出室の
内圧は例えば１１００〜２３００ｍｍＡｑ程度に設定さ
れるが、これらの数値は何ら限定的なものではなく、所
期の除塵効果が得られるのであれば、上記範囲外の値で
も良い。

【００５５】また、除塵用に噴射される清浄エアの周波
数は任意でよい。言い替えれば、エア排出室における超
音波発生器の有無は本発明の要旨に関係なく、何れの場
合も本発明の技術的範囲に包含されるものである。更
に、除塵対象物となる基板は、ガラス基板Ｇのみに限定
されず、合成樹脂や金属の基板、半導体ウェハ等であっ
ても良い。

【００５６】また、コロ３０２の位置および個数は、第
１〜第９実施形態において、除塵ユニット４０１〜４１
１の両側に２個ある場合について図示している。しかし
ながら、本発明はこのようなコロの配置および個数に限
定されるものではなない。例えば、２個を越える複数個
のコロを配置することも可能である。コロは、配置およ
び個数によらずエア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を
与える機能を有していればよく適宜設計される。

【００５７】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、除塵ユニ
ットの直下に搬送される基板の吸い上げ、移動を防止す
ることができ、除塵ユニット等への接触による基板の損
傷を防ぐと共に、円滑な除塵処理を行わせることができ
る。これにより、製品歩留まりや除塵効率の向上が可能
になる。更に、基板の搬送に吸着ステージを使用する必
要がなく、簡易なコロ搬送を利用できるので、設備スペ
ースの削減、搬送・駆動機構の簡素化、小形軽量化、更
には装置全体のコスト低減を図ることができる。総じ
て、吸着ステージを使用しなくても吸着力に対する抵抗
力を確実に与えるとともに装置全体の小型化、構造の簡
素化、低コスト化を可能にした基板用搬送除塵装置を提
供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態を示す概略的な側面図で
ある。

【図２】本発明の第１実施形態を示す概略的な斜視図で
ある。

【図３】本発明の第１実施形態を示す概略的な正面図で
ある。

【図４】本発明の第２実施形態を示す概略的な側面図で
ある。

【図５】本発明の第３実施形態を示す概略的な側面図で
ある。

【図６】本発明の第４実施形態を示す概略的な側面図で
ある。

【図７】本発明の第５実施形態を示す概略的な側面図で
ある。

【図８】本発明の第６実施形態を示す概略的な側面図で
ある。

【図９】本発明の第７実施形態を示す概略的な側面図で
ある。

【図１０】本発明の第８実施形態を示す概略的な側面図
である。

【図１１】本発明の第９実施形態を示す概略的な側面図
である。

【図１２】従来技術を示す概略的な側面図である。

【符号の説明】

１０１Ｖ，１０２Ｖ，２０１Ｖ，２０２Ｖ，２０３Ｖ
エア吸引室１０１Ｐ，１０２Ｐ，２０１Ｐ，２０２Ｐ
エア排出室３０１，３０２
コロ４０１，４０２，４０３，４０４，
除塵ユニット４０５，４０６，４０７，４０８
除塵ユニット４０９，４１０，４１１
除塵ユニットＧ
ガラス基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも各１個のエア吸引室及びエア排
出室を有する除塵ユニットを備え、基板を前記除塵ユニ
ット方向へ搬送してエア排出室から基板表面に向けて噴
出させた清浄エアをエア吸引室により吸引するようにし
た基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニットは、第１のエア吸引室と第１のエア排
出室とが基板搬送方向に沿って並べて配置され、かつ、
前記第１のエア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を搬送
中の基板に与えるため基板に従動して回動する回動体を
備えることを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項２】少なくとも各１個のエア吸引室及びエア排
出室を有する除塵ユニットを備え、基板を前記除塵ユニ
ット方向へ搬送してエア排出室から基板表面に向けて噴
出させた清浄エアをエア吸引室により吸引するようにし
た基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニットは、第１のエア吸引室とこれを挟む第
１、第２のエア排出室とが基板搬送方向に沿って並べて
配置され、かつ、前記第１のエア吸引室の吸引力に抵抗
する抵抗力を搬送中の基板に与えるため基板に従動して
回動する回動体を備えることを特徴とする基板用搬送除
塵装置。
【請求項３】少なくとも各１個のエア吸引室及びエア排
出室を有する除塵ユニットを備え、基板を前記除塵ユニ
ット方向へ搬送してエア排出室から基板表面に向けて噴
出させた清浄エアをエア吸引室により吸引するようにし
た基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニットは、第１のエア排出室とこれを挟む第
１、第２のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて
配置され、かつ、前記第１、第２のエア吸引室の吸引力
に抵抗する抵抗力を搬送中の基板に与えるため基板に従
動して回動する回動体を備えることを特徴とする基板用
搬送除塵装置。
【請求項４】少なくとも各１個のエア吸引室及びエア排
出室を有する除塵ユニットを備え、基板を前記除塵ユニ
ット方向へ搬送してエア排出室から基板表面に向けて噴
出させた清浄エアをエア吸引室により吸引するようにし
た基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニットは、第１のエア吸引室と第１のエア排
出室とが基板搬送方向に沿って並べて配置されるととも
に第１のエア吸引室の基板搬送経路を介した対向側に基
板の裏面に負圧を作用させる第２のエア吸引室が配置さ
れ、かつ、前記第１、第２のエア吸引室の吸引力に抵抗
する抵抗力を搬送中の基板に与えるため基板に従動して
回動する回動体を備えることを特徴とする基板用搬送除
塵装置。
【請求項５】少なくとも各１個のエア吸引室及びエア排
出室を有する除塵ユニットを備え、基板を前記除塵ユニ
ット方向へ搬送してエア排出室から基板表面に向けて噴
出させた清浄エアをエア吸引室により吸引するようにし
た基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニットは、第１のエア吸引室とこれを挟む第
１、第２のエア排出室とが基板搬送方向に沿って並べて
配置されるとともに前記第１のエア吸引室の基板搬送経
路を介した対向側に基板の裏面に負圧を作用させる第２
のエア吸引室が配置され、かつ、前記第１、第２のエア
吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基板に与え
るため基板に従動して回動する回動体を備えることを特
徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項６】少なくとも各１個のエア吸引室及びエア排
出室を有する除塵ユニットを備え、基板を前記除塵ユニ
ット方向へ搬送してエア排出室から基板表面に向けて噴
出させた清浄エアをエア吸引室により吸引するようにし
た基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニットは、第１のエア排出室とこれを挟む第
１、第２のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて
配置されるとともに前記第１、第２のエア吸引室の基板
搬送経路を介した対向側に基板の裏面に負圧を作用させ
る第３、第４のエア吸引室がそれぞれ設けられ、かつ、
前記第１、第２、第３および第４のエア吸引室の吸引力
に抵抗する抵抗力を搬送中の基板に与えるため基板に従
動して回動する回動体を備えることを特徴とする基板用
搬送除塵装置。
【請求項７】少なくとも各１個のエア吸引室及びエア排
出室を有する除塵ユニットを備え、基板を前記除塵ユニ
ット方向へ搬送してエア排出室から基板表面に向けて噴
出させた清浄エアをエア吸引室により吸引するようにし
た基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニットは、第１のエア吸引室とこれを挟む第
１、第２のエア排出室とが基板搬送方向に沿って並べて
配置されるとともに前記第１のエア吸引室と前記第１、
第２のエア排出室との基板搬送経路を介した対向側に第
２のエア吸引室とこれを挟む第３、第４のエア排出室と
が基板搬送方向に沿って並べて配置され、前記第１およ
び第２のエア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中
の基板に与えるため基板に従動して回動する回動体を備
えることを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項８】少なくとも各１個のエア吸引室及びエア排
出室を有する除塵ユニットを備え、基板を前記除塵ユニ
ット方向へ搬送してエア排出室から基板表面に向けて噴
出させた清浄エアをエア吸引室により吸引するようにし
た基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニットは、第１のエア排出室とこれを挟む第
１、第２のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて
配置されるとともに前記第１のエア排出室と前記第１、
第２のエア吸引室との基板搬送経路を介した対向側に第
２のエア排出室とこれを挟む第３、第４のエア吸引室と
が基板搬送方向に沿って並べて配置され、前記第１、第
２、第３および第４のエア吸引室の吸引力に抵抗する抵
抗力を搬送中の基板に与えるため基板に従動して回動す
る回動体を備えることを特徴とする基板用搬送除塵装
置。
【請求項９】少なくとも各１個のエア吸引室及びエア排
出室を有する除塵ユニットを備え、基板を前記除塵ユニ
ット方向へ搬送してエア排出室から基板表面に向けて噴
出させた清浄エアをエア吸引室により吸引するようにし
た基板用搬送除塵装置において、前記除塵ユニットは、第１のエア排出室とこれを挟む第
１、第２のエア吸引室とが基板搬送方向に沿って並べて
配置されるとともに前記第１のエア排出室の基板搬送経
路を介した対向側に基板の裏面に負圧を作用させる第３
のエア吸引室が配置され、かつ、前記第１、第２および
第３のエア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中の
基板に与えるため基板に従動して回動する回動体を備え
ることを特徴とする基板用搬送除塵装置。
【請求項１０】請求項１〜請求項９の何れか１項に記載
の基板用搬送除塵装置において、前記回動体は、基板の側部近傍にのみ当接して回動する
ことを特徴とする基板用搬送除塵装置。