TW402529B - Carrying and dust-removal device for substrates - Google Patents

Description

*4 ϋ μ ΐύ d 五、發明說明（1) 發明所屬技術領域 · 本發明係有關於搬運玻璃板、合成樹脂皮或金屬板等 基板並利用單純之潔淨空氣或按照超音波頻率振動之潔淨 空氣（以下只稱為超音波空氣）吸除其表面之塵埃等之基板 用搬運除塵裝置。 習知技術 習知在以 板、PDP(電漿 基板為對象之 報所記載的或 已知。 在這些除 置由向基板表 氣吸除揚起之 構造。 可是，只 玻璃基板可能 面板用之基板 起。 在係基板之一例之T F T (薄膜電晶體）液晶面 顯示面板）或LCD(液晶顯示器）等使用之玻璃 除塵裝置上，例如在如特開平7-6 021 1號公 在實用新案登錄第300 9694號公報所記載的 塵裝置’在基板之上方沿著基板搬運方向配 面喷射超音波空氣之排氣室和利用超音波空 灰塵之吸氣室構成之除塵單元的成為基本之 要採用上述之構造，搬到除塵單元之正下之 被吸氣室之負壓吸向上方。尤其，TFT液晶 係0.3mm〜1.1mm之薄的玻璃基板，常被吸 面之間隔設短 移動，這些舉 為了解決 般’為了提高除塵效率，因將吸氣口和玻璃基板表 ’被負壓吸起之玻璃基板可能接觸吸氣口或 動也成為令玻璃基板損傷之原因。 該問題，需要供給玻璃基板超過負壓所引起

之吸力之抵抗力（以下只稱 > , 4»2529 五、發明說明（2) 产、古接羽λ α 僻马抵饥力）’迴避吸引。 ^ 口支術之例子上有一種搬運裝置，利用吸 =Ζ a下方吸附保持所搬來之玻璃基板，#著和兮吸 附用：作台-起搬至除塵單元之下方，使得破；；Π : 被吸向吸氣口侧。 嗎暴扳不會

圖12係概略表示使用吸附用工作台之搬 的，U係具有2個吸氣室⑴和位於該2個吸氣室^間之之—列 氣室（P )之除塵單元，1 3係具備頂起銷丨4之吸附用工 1 3，1 2、1 5係配置於吸附用工作台丨3之前後之 ^ 係應除塵之玻璃基板。- 在其動作上，自玻璃基板G進入（步驟S1)開始，利用 吸附用工作台13自下方吸附保持基板G(步驟S2、S3),在 保持此狀態下令通過除塵單元丨丨之下方，在該期間除塵 (步驟S4)，然後’重複基板G之排出（步驟S5、S6)、吸附 用工作台1 3之復歸（步驟S7〜S9)之一連串之操作。 如圖1 2所示，在使用吸附用工作台1 3之情況，考慮吸 附用工作台1 3之移動行程，必須沿著其移動方向確保也包 含連開閉器1 2、1 5之充分之空間，這導致搬運裝置整體大 型化。同時，不可缺少在水平方向（前後方向）及上下方向 驅動吸附用工作台1 3或開閉器1 2、1 5之機構，襄置大型 化。 像這樣裝置大型化’但是在T F T液晶面板等使用之破 璃基板薄，為了處理玻璃基板之吸起或玻璃基板之彎西變 形，也不得不使用上述之吸住用工作台1 3。

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^β(3) 可疋，在PDP使用之基板係厚度數賴之破璃基板銳^ 生玻璃基板之吸起或玻璃基板之彎曲變形之機會少。* 又’合成樹脂或金屬之基板係容許發生基二所發生。 起之既定限度内之彎曲量之基板。 °及 在以如上述之基板為對象之除塵裝置上，使用吸住 工作台係過度性能，價格變貴，不合乎經濟。 用 又，無法吸附合成樹脂之電路板等基板本身鑽孔之

板。 I 在對如上述之厚的玻璃板、合成樹脂板或金屬板等歧 板喷潔淨空氣或超音波空氣以洗淨之除塵裝置，要求迴ς 使用吸住用工作台而且確實供給對於向吸氣口之吸附力之 抵抗力。 發明所欲解決之課題 因此’本發明之目的在於提供一種基板用搬運除塵裝 置’不使用吸附用工作台也可確實供給對於吸附力之抵抗 力’而且使得可實現裝置整體之小形化、構造之簡單化、 低費用化。 用以解決課題之手段 為了解決上述課題，如申請專利範圍第1項之發明係 關於具備具有至少各1個之吸氣室及排氣室之除塵單元， 向除塵單元方向搬運基板，使得利用吸氣室吸令自排氣室 向基板表面喷出之潔淨空氣之基板用搬運除塵裝置，其中 使，=塵單元沿著基板搬運方向排列配置第1吸氣室和第1 排乱室’而且為了供給搬運中之基板抵抗該第1吸氣室之

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第7頁 432529_-

五、發明說明（5) t I 如申請專利範圍第5項之發明，係關於具備具有至少 各1個之吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬 運基板，使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面喷出之 潔淨空氣之基板用搬運除塵裝置，其中使得該除塵單元沿I 著基板搬運方向排列配置第1吸氣室和隔著第1吸氣室之第| 1、第2排氣室，並在經過了該第1吸氣室之搬運路徑之對 | 面側配置令負壓作用於基板之背面之第2吸氣室，而且為 了供給搬運中之基板抵抗該第1、第2吸氣室之吸力之抵抗 力而具備和基板從動轉動之轉動體。

如申請專利範圍第6項之發明，係關於具備具有至少 ^ 各1個之吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬 I 運基板，使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面喷出之i 潔淨空氣之基板用搬運除塵裝置，其中使得該除塵單元沿 著基板搬運方向排列配置第1排氣室和隔著第1排氣室之第 1、第2吸氣室，並在經過了該第1、第2吸氣室之搬運路徑 之對面側各自配置令負壓作用於基板之背面之第3、第4吸I

氣室，而且為了供給搬運中之基板抵抗該第1、第2、第 I

I

3、第4吸氣室之吸力之抵抗力而具備和基板從動轉動之轉丨 動體。 I

如申請專利範圍第7項之發明，係關於具備具有至少 | 各1個之吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬 丨 運基板，使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面喷出之I

J 潔淨空氣之基板用搬運除塵裝置，其中使得該除塵單元沿j 著基板搬運方向摒列配置第1吸氣室和隔著第1吸氣室之第j

第8頁 -4¾¾5^9--------： 五 '發明說明（6) ' v

1、第2排氣室，並在經過了該第1吸氣室和該第1、第2排 ! 氣室之搬運路徑之對面側配置第2吸氣室和隔著第2吸氣室I i 之第3、第4排氣室，而且為了供給搬運中之基板抵抗該第| 1及第2吸氣室之吸力之抵抗力而具備和基板從動轉動之轉| 動體。 丨 如申請專利範圍第8項之發明，係關於具備具有至少 丨 各1個之吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向掇 I. 運基板，使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面喷出之 I 潔淨空氣之基板用搬運除塵裝置，其中使得該除塵單元沿| 著基板搬運方向排列配置第1排氣室和隔著第1排氣室之第€ 1、第2吸氣室，並在經過了該第1排氣室和該第1、第2吸 i 氣室之搬運路徑之對面側配置第2排氣室和隔著第2排氣室| 之第3、第4吸氣室，而且為了洪給搬運中之基板抵抗該第I 1'第2、第3、第4吸氣室之吸力之抵抗力而具備和基板從丨 動轉動之轉動體。 · 如申請專利範圍第9項之發明，係關於具備具有至少 各1個之吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬 i 運基板，使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面喷岀之 I 潔淨空氣之基板用搬運除塵裝置，其中使得該除塵單元沿I 著基板搬運方向排列配置第1排氣室和隔著第1排氣室之第丨 1、第2吸氣室，並在經過了該第1排氣室之搬運路徑之對 I 面側配置令負壓作用於基板之背面之第3吸氣室，而且為 I 了供給搬運中之基板抵抗該第i ·.第2、第3吸氣室之吸力 [· 之抵抗力而具備和基板從動轉動之轉動體。 丨

4¾¾¾29___ i 五 '發明說明（7) ! t 气 如申請專利範圍第1 0項之發明係關於如申請專利範圍! '3

第1項〜第9項之其中一項之基板用搬運除塵裝置，使得該j 轉動體只碰觸基板之側部附近轉動。 I

I 發明之實施例 | 以下依照圖面說明本發明之實施例。 !

首先，圖1係表示本發明之實施例ί之概略之側視圖，丨 圖2係其立體圖，圖3係其正視圖，在除塵單元上並設了掛 \ 氣室和吸氣室各一個之例子（方便上稱為P—V構造）。 I 在圖1，1 0 1 V係第1吸氣室，1 0 1 Ρ係沿著基板搬運方向 I 和吸氣室1 0 1 V接鄰之第1排氣室，這些構成除塵單元4 01。 i 在圖2表示第1吸氣室101 V之吸氣管和第1排氣室101P以及 \ 排氣管，設吸氣管和圖上未示之吸氣泉連接，又排氣管和ΐ 圖上未示之排氣泵連接。 | 應除塵之玻璃基板G在該第1吸氣室101V及第1排氣室 i 1 0 1 P之正下朝水平方向搬運。像這樣間隔既定之間隔依次 搬運多片玻璃基板並除塵。

301係支撐玻璃基板G之輥，如供給搬運玻璃基板G之 I 驅動力般構成，或如和利用別的驅動源搬運之基板從動般 ί 自由轉動的構成。 丨 302 —樣係輥、如碰觸所搬來之玻璃基板G而從動般自 丨 由轉動的構成。為避免玻璃基板G往上下方向移動，輥302 I 採用限制上下方向之移動之構造，或採用利用圖上未示之| 彈簧等彈性體自上按壓玻璃基板G之構造。 丨

11 1 ! I ί I I 1 I 1 i I II ϊ 1 1 I I 第丨0 1 -4325¾¾-- 五、發明說明（8)

I 在輥3 0 2按壓玻璃基板G之情況之按壓力設為和利罔第 1吸氣室1 0 1 V產生之吸力相同或者考慮玻璃基板G之自重而 設為稱低 '避免力不必要的作闬於玻璃基板G。 於是，輥3 0 2發揮作為供給搬運中之基板抵抗該第1吸 氣室1 0 1 V之吸力之抵抗力之功能。 此外，沿著第1吸氣室1 0 1 V及第1排氣室1 0 1 P之基板搬運方 向之長度L 1例如係5 5 c m〜8 0 c m。 又，玻璃基板G之大小例如係6 5 Ο X ( 5 5 G〜8 3 0 ) X 2.8mm = 在此，上述數值完全是一個例子，當然不是限定本發 明之技術範圍的。 在上述構造，邊向圖1及圖2之箭號a方向搬運玻璃基 板G邊令第1吸氣室1 0 1 V '第1排氣室1 0 1 P動作，在玻璃基 板G通過第1吸氣室1 0 1 V之正下時，吸力作用於玻璃基板 G，但是利用輥3 0 2供給之抵抗力，不必擔心玻璃基板G浮 起或移動。 因此，玻璃基板G在不會上升下搬運，同時藉著自第ί 排氣室1 01Ρ向基板表面噴射潔淨空氣而被第1吸氣室1 〇 1 V 吸引，進行基板表面之除塵。因而，不必擔心玻璃基板G 損傷，而且因在搬運機構上只兩輥搬運卽可，不需要廣大 之設備空間或複雜、昂貴之裝置構造。 此外，在圖1及圖2之基板用搬運除塵裝置，輥3 0 1 - 30 2如圖3(a)所示，畫成長桿狀。可是，如PDP等之玻璃基 板般有想避免損傷表面或背面之情況。因此，如圖3 ( b )或

:遞槐 ---~--- 圖3 (c )所示，在構造上使闬只碰觸基板之側部呀近般之短 的輥3 0 1或3 0 2，避免損傷基板之表面。 此外，如圖3 ( b )所示，為了只避免損傷基板之單 面，只有輥3 0 2變短，或者圖3 ( c )所示，為了避免損傷基 板之雙面’輥3 0 1和輥3 0 2都變短，按照使用之基板適當1^ 選擇。係任一種構造’輥3 〇 1都供給搬運中之基板抵抗吸 力之抵抗力。此外，在實施例i所說明之輥3 〇 i及3 〇 2之長 度在後述之實施例也一樣可適當的選擇長短，在後述之實 把例’關於幸昆3 0 1及3 0 2之長短之選擇，省略說明。 抑-其次，圖4表示本發明之實施例2 =實施例2係在除塵 ί ΐ d上在2 ’固排氣室之間配置了 1個吸氣室之例子（方便上 稱為P —V —P構造）。 、 係第2排氣室l02p 排氣室，1〇1V係第1吸氣室，10一2Ρ 402沿著基板搬，攻些構成除塵單元402。該除塵單70 301和302係^方向例如具有8〇Cffi之長度L2 = ^ 之功能。 & ’各自具有和在實施例1所說明的相1〜 在本實施例，， 用於玻璃基板G 在通過第i吸氣室丨01V之正下時吸力^ 基板G浮起。因此但是利用輥302之抵抗力，不必擔心玻璃 接著，圖5么 破璃基板G在不會上升下搬運。

P 吸氣室之間配置#^本發明之實施例3 ,在除塵單元上在2個 構造）。利用}個排氣室之例子!（方便上稱為v J J人1也匕播、、 在圖5，ι〇ρ 战除塵單元403。 係第1吸氣室’ 1 0 1 P係第1排氣室，1 0 2'

第12頁 __________； 五、發明說明（10)

I

係第2吸氣室，這些構成除塵單元403。 I 301和302係輥，各自具有和在實施例1所說明的相同 | 之功能。 丨 在本實施例，在通過第1吸氣室1 0 1 V及第2吸氣室1 0 2 V | 之正下時吸力作用於玻璃基板G，但是利闬輥3 02之抵抗 丨

力，不必擔心玻璃基板G净起ϋ 1¾此，玻璃基板G在不Ίτ上 \ 升下搬運。 I 在實施例卜3之基板闬搬運除塵裝置，經由基板搬運 丨 路徑在和第1吸氣室101V或第2吸氣室201V相向之位置配置| 吸氣室而抵消吸力之構造也可。 ( 可是，在基板本身發生撓西或基板本身之厚度不一 丨 定之情況、在第i吸氣室i〇iv之開口和至基板為為正之距 ；

離（以下將這種距離稱為吸氣室ιοιν之間隙）與相向之吸氣i 室之間隙不同及第2吸氣室201V之間隙和相向之吸氣室之 I ί 間隙不同之情況，可能在吸力產生差異而發生向上側或下 側之吸力。

I 在這種情況，也因利用輥3 0 1和輕3 0 2防止向上下方向I 之移動，可穩定的搬運基板並除塵。在此情況，因輥301 ； 和輥302都供給搬運中之基板抵抗吸力之抵抗力，發揮作 丨 為和基板從動轉動之轉動體之功能。以：，說明這種實施；

例。 I 圖6係本發明之實施例4，係在和Ρ — V構造之除塵單元|

I 之吸氣室相向之位置配置了吸氣室之例子。 丨

在圖6，1 0 1 V係第i吸氣室，1 (Π Ρ係沿著基板搬運方向I

第！3頁 ____； 五、發明說明（11) , 和吸氣室1 0 1 V接鄰之第1排氣室，這些構成除塵單元40 4 = 應除塵之玻璃基板G可間隔既之間隔在該弟丨玫亂室 丨 1 0 1 V及第1排氣室1 0 1 P之正下朝水平方向搬運。 ! 又，在經過了玻璃基板G之搬運路徑之第1吸氣室10 IV ! 之對面側（即和玻璃基板G之背面相向之側）配置第2吸氣室i 201V。在此，將第2吸氣室201V之内壓設為和第i吸氣室 | 1 0 1 V —樣，或者考慮玻璃基板G之自重而設為稍高（使得負卜

壓之絕對值變小），不過仍應設成令負壓作用於玻璃基板G I | 之背面。 i 30 1係支撐玻璃基板G之輥，供給搬運基板之驅動力，f 或和利用別的驅動源搬運之基板從動轉動。此外，輥3 01 j 供給搬運中之基板抵抗該第2吸氣室2 0 1 V之吸力之抵抗 | 力。 ！ 5 302 —樣係輥，如碰觸所搬運之玻璃基板G而從動般自j ξ 由轉動的構成。為避免玻璃基板G往上下方向移動，報302 !

採用限制上下方向之移動之構造，或採用利用圖上未示之I

彈簧等彈性體自上按壓玻璃基板G之構造。 I ί 在上述構造，邊向圖之箭號方向搬運玻璃基板g邊令 |

各吸氣室101V、201V、排氣室101Ρ動作，在玻璃基板G通 I 過吸氣室101V、201V之間時，大致相同之負壓作用於玻璃； 基板之表背面，防止玻璃基板G浮起。 j 因此，玻璃基板G在保持其平坦性下搬運，同時藉著 ΐ 自第1排氣室101Ρ向基板表面喷射潔淨空氣而被第1吸氣室I — ιοιν吸引，進行基板表面之除塵。 i

第14頁 41)25 邠 五、發明說明（12)

I 在玻璃基板G本身發生撓曲或玻璃基板G本身之厚度不 一定、在第1吸氣室1 0 1 V之間隙和第2吸氣室2 1 Ο V之間隙不 同之情況，可能在玻璃基板G之吸力發生差異而移動3 可是，因利用輥30 1 、3 02防止向上下方向之移動，不 會令移動而穩定的搬運基板並除塵。 因而，不必擔必玻璃基板G損傷’’而且因在搬運機構 上只用輥搬運即可，不需要廣大之設備空間或複雜、昂貴 之裝置構造。 圖7係本發明之實施例5 5係在和P — V — P構造之涂塵 單元之吸氣室相向之位置配置了吸氣室之例子。 在圖7，1 0 1 P係第ί排氣室，1 0 1 V係第1吸氣室，1 0 2 P 係第2排氣室1 0 2 Ρ，這些構成除塵單元4 0 5。 而且，在經過了基板搬運路徑之第1吸氣室101V之對 面側和實施例4 一樣的配置第2吸氣室2 0 1 V。 此外，第2吸氣室2 0 1 V之内壓和實施例4 一樣的設為和 第1吸氣室1 0 1 V —樣或稍高。 3 01和3 0 2係輥，各自具有和在實施例4所說明的相同 之功能。 在實施例5，也因藉著和第1吸氣室1 0 1 V大致相同之負 壓利用第2吸氣室2 0 1 V自背侧吸玻璃基板G，和上述一樣防 止玻璃基板G浮起。 此外，在第1吸氣室1 0 1 V之間隙和第2吸氣室2 ! 0 V之間 隙不同而在吸力發生差異之情況，也因利用輥3 0 1 ' 30 2防 止向上下方向之移動，可穩定的搬運基板並除塵。

第丨5頁 40¾¾¾9______ 五、發明說明（13) ϊ • u 接著，圖8係本發明之實施例6，係在和V — P — V構造 I 之除塵單元406之2個吸氣室相向之位置配置了 2個吸氣室 | 之例子。

在實施例6，利用第1排氣室i 0 1 P和夾著第1排氣室 I 101P之第1、第2吸氣室101V、102V構成除塵單元406。和 ' > 這些第1、第2吸氣室10iV '102V相向配置第3、第4吸氣室I ' i 201V 、 202V 。 丨· 這些第3、第4吸氣室20iV、202V内壓設為和第i、第2 | ' 吸氣室1 0 1 V、1 0 2 V —樣或稍高。 · 3 0 1和3 0 2係輥，如也在實施例4之說明所示，因輥3 ΰ 1 和輥302都供給搬運中之基板抵抗相向之吸氣室之間隙之 ； 差異所引起之吸力之抵抗力，發揮作為和基板從動轉動之| 轉動體之功能。 ; 在實施例6，也因藉著和第i 、第2吸氣室101V、102V j 大致相同之負壓利用第3、第4吸氣室2 0 1 V、2 0 2 V自背側吸 j - 玻璃基板G ’防止玻璃基板G浮起。 | > 此外，在第1吸氣室101 V之間隙和第3吸氣室201V之間丨 隙或第2吸氣室102V之間隙和第4吸氣室20 2V之間隙不同而| 在吸力發生差異之情況，也因利用輥301、302防止向上下| 方向之移動，可穩定的搬運基板並除塵。 丨 圖9係本發明之實施例7，係利用P — V — P構造之除塵 | 單元407、408自上下夾著玻璃基板G之構造。 | 實施例7係令和具有第1 '第2排氣室101P、102P及第ί |· 吸氣室101V之除塵單元4 07相向配置了將玻璃基板G之背面|

第16頁 40 挪 9__:

五、發明說明（14) I 除塵之別的P—V—P構造之除塵單元408的。 i 該除塵單元408由和第1吸氣室1(MV相向並具有和第] | 吸氣室101V相同之内壓（負壓）之第2吸氣室201 V及在該第2 ! 吸氣室201V之兩側配置之第3、第4排氣室201P、2G2P構 ； 成。 | 301和302係輥，如也在實施例4之說明所示，因輥301 | *

和輥302都供給搬運中之基板抵抗相向之吸氣室之間隙之 \· 差異所引起之吸力之抵抗力，發揮作為和基板從動轉動之 I i 轉動體之功能。 l· 若利用本實施例，因利闬表背之除塵單元4 0 7、4 0 8自^ 表背吸玻璃基板G，和上述各實施例一樣的可防止玻璃基 | 板G浮起，而且具有同時可將基板G之表背面除塵之優點。J 此外，在第1吸氣室101V之間隙和第2吸氣室201V之間； 隙不同而在吸力發生差異之情況，也利用輥301、302防止| 向上下方向之移動。此外，在第1排氣室101P之間隙和第3 l· 排氣室201P之間隙不同及第2排氣室102P之間隙和第4排氣j 室2 0 2 P之間隙不同而在吸力發生差異之情況，也因利闬輥 301、302防止向上下方向之移動>可穩定的搬運基板並除I 塵。 圖1 0係本發明之實施例8，係利甩V — P — V構造之除塵丨 單元409、410自上下夾著玻璃基板G之構造。 j 實施例8係令和具有第1、第2吸氣室1 0 1 V、1 0 2 V及第1丨 排氣室1 0 1 P之除塵單元4 0 9相向配置了將玻璃基板G之背面卜 除塵之別的V — P—V構造之除塵單元410的= !

第17頁 4⑽咖 _ 五 '發明說明（15)

I 該除塵單元410由和第1排氣室101P相向並具有和第1 吸氣室1 0 1 V相同之正壓之第2排氣室2 〇 1 p及在該第2排氣室 201P之兩側配置之第3、第4吸氣室2〇iv、202V構成。 3 0 1和3 0 2係輥，如也在實施例4之說明所示，因輥3 0 1 和親30 2都供給搬運中之基板抵抗相向之吸氣室之間隙之 差異所引起之吸力之抵抗力，發揮作為和基板從動轉動之 轉動體之功能。 若利用本實施例，因利用表背之除塵單元4 〇 9、41 0自 表背吸玻璃基板G，和上述各實施例一樣的可防止玻璃基 板G浮起，而且具有同時可將基板G之表背面除塵之優點。 此外’在第1吸氣室1 01 V之間隙和第3吸氣室2 0 1V之間 隙不同或者第2吸氣室1 0 2 V之間隙和第4吸氣室2 02 V之間 隙不同而在吸力發生差異之情況，也因利用輥3 〇 1、3 0 2防 止向上下方向之移動，可穩定的搬運基板並除塵。 圖1 1係本發明之實施例9，係在和利用V ~ P — V構造之 除塵單元411之排氣室相向之位置配置了特殊之吸氣室之 例子。 在本實施例，利用第1排氣室1 0 1 P和隔著第1排氣室 101P之第1、第2吸氣室101V、10 2V構成除塵單元411。和 該第1排氣室101P相向配置第3吸氣室203V。而且，第3吸 氣室203V之吸氣口如和第1、第2吸氣室101V、l〇2V之吸氣 口方向相向般在左右兩側開口。調整各吸氣口之角度、距 離、負壓，決定玻璃基板G之表背之吸力平衡之狀態。 該第3吸氣室203V之内壓設為和第1、第2吸氣室

第18頁 五她銳(16;~ '- 101V、102V相同或稍高。 ·- 301和30 2係輥，如也在實施例4之說明所示，因輥3〇1 和輥3 0 2都供給搬運中之基板抵抗相向之吸氣室之間隙之 差異所引起之吸力之抵抗力’發揮作為和基板從動轉動之 轉動體之功能。 在本實施例，也因利用和第1、第2吸氣室1 〇 i v、1 〇 2 V 相同之負壓由第3吸氣室203V自背側吸玻璃基板G，防止玻· 璃基板G浮起。 此外，在第1吸氣室1 0 1 V之間隙和第3吸氣室2 〇 3 v之間 隙不同及第2吸氣室102V之間隙和第3吸氣室2〇3 V之間隙（ 不同而在吸力發生差異之情況，也因利用輥3〇1、3〇2防止 向上下方向之移動’可穩定的搬運基板並除塵。 以上說明了實施例1〜9 ,在上述各實施例，各吸氣室 之内壓例如設為約—20〜一1 5〇mmAq，各排氣室之内壓例如 設為約1100〜230 〇mmAq ’但是這些數值無絲毫限定，只要 係可得到所期待之除塵效果的’即使係該範圍外之值也 可。 又’為除塵而喷射之潔淨空氣之頻率可任意值。換言 之’在排氣室有無超音波產生器和本發明之主旨無關，任 何情況都都包含在本發明之技術範圍内。 、 此外’成為除塵對象之基板未只限為玻璃基板，係半 導體晶片等也可。 ^ ’關於輥30 2之位置及個數，在實施例卜9，表示在 ， 除塵單元401〜41 1之兩侧有2個之情況。可是，本發明未限

第19頁 五、發明說明（17) 4085¾9

定這種輥之配置及 輥。適當的設置輥 抗吸氣室之吸力之 個數。例如也可配 ，不管其配置及個 抵抗力之功能即可 置超過2個之多個 數，只要具有供給抵 發明之效果 如上述所示’若利罔本發明，可防止在除塵單元之正 下搬運之基板吸起、移動，防止對除塵單元等之接觸所引 起之基板之損傷，而且可令進行圓滑的除塵處理。’ 藉此可^南產品之良品率或除塵效率。 此外，在基板之搬運不必使用吸附用工作台因可利 用簡易之輥搬運，可實現設備空間之削減、搬運•驅動機 構之簡化、小形輕量化，更可降低襞置整體之費用。 總而言之’提供一種基板用搬運除塵裝置，不使用吸 附用工作台也可確實供給對於吸附力之抵抗力，而且使得 可實現裝置整體之小形化、構造之簡單化、低費用化。牙 圖式簡單說明 圖1係表示本發明之實施例1之概略之侧視圖。 圖2係表示本發明之實施例1之概略之立體圖。 圖3係表示本發明之實施例1之概略之正視圖。 圖4係表示本發明之實施例2之概略之侧視圖。 圖5係表示本發明之實施例3之概略之側視圖。 圖6係表示本發明之實施例4之概略之侧視圖。 圖7係表示本發明之實施例5之概略之側視圖。

第20頁 402529__ 五、發明說明（18) 圖8係表示本發明之實施例6之概略之側視圖。 圖9係表示本發明之實施例7之概略之側視圖。 圖1 0係表示本發明之實施例8之概略之側視圖。 圖1 1係表示本發明之實施例9之概略之側視圖。 圖1 2係表示習知技術之概略之倒視圖。 符號說明 1 0 1 V ' 1 0 2 V、2 0 1 V ' 2 0 2 V、2 0 3 V 〜吸氣室 101P、102P、201P、2 0 2P〜# 氣 3 0 1、3 0 2 〜輥 401 、 402 、 403 、 404〜除塵單元 405、 406、 407、 408〜除塵單元 409、410、41卜除塵單元 G〜玻璃基板

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Claims (1)

1. -4025¾9___________ 六、申請專利範圍 ； ；* 1. 一種基板用搬運除塵裝置，具備具有至少各1個之 i F 吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬運基板 丨 使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面噴出之潔淨空 氣， 其特徵在於： 丨 除塵單元沿著基板搬運方向排列配置第1吸氣室和第1 f 排氣室，而且為了供給搬運中之基板抵抗該第1吸氣室之 卜 吸力之抵抗力而具備和基板從動轉動之轉動體= j 2. —種基板用搬運除塵裝置，具備具有至少各1個之 | 吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬運基板，^ 使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表靣噴出之潔淨空 j 氣， ！ ί 其特徵在於： | i 該除塵單元沿著基板搬運方向排列配置第ί吸氣室和 | 隔著第1吸氣室之第1、第2排氣室，而且為了供給搬運中 |· 备 之基板抵抗該第ί吸氣室之吸力之抵抗力而具備和基板從 I 動轉動之轉動體。 ; 3. —種基板用搬運除塵裝置，具備具有至少各i個之 j 吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬運基板，| 使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面噴出之潔淨空 j 氣， i 其特徵在於： i 該除塵單元沿著基板搬運方向排列配置第1排氣室和 丨' 隔著第1排氣室之第1 '第2吸氣室，而且為了供給搬運中 I

   第22頁 六、申請專利範圍 丨 • s . 之基板抵抗該第1吸氣室之吸力之抵抗力而具備和基板從 ； 動轉動之轉動體。 | 4. 一種基板用搬運除塵裝置，具備具有至少各1個之 I 吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬運基板，i 使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面喷出之潔淨空 | ^ ί 氣， 丨 其特徵在於· 該除塵單元沿著基板搬運方向排列配置第1吸氣室和 ; 第ί排氣室，並在經過了第ί吸氣室之搬運路徑之對面側配i 置令負壓作用於基板之背面之第2吸氣室，而且為了供給 搬運中之基板抵抗該第1、第2吸氣室之吸力之抵抗力而具I 備和基板從動轉動之轉動體。 | 5. —種基板用搬運除塵裝置，具備具有至少各1個之 丨 吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬運基板，i * 使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面喷出之潔淨空 | 氣， i 其特徵在於： | 該除塵單元沿著基板搬運方向排列配置第丨吸氣室和 I 隔著第1吸氣室之第1、第2排氣室，並在經過了該第1吸氣i 室之搬運路徑之對面側配置令負壓作用於基板之背面之第j 2吸氣室，而且為了供給搬運中之基板抵抗該第i、第2吸 | 氣室之吸力之抵抗力而具備和基板從動轉動之轉動體。 | 6. —種基板用搬運除塵裝置，具備具有至少各1個之 丨 i 吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬運基板，丨

   第23頁 --儀539--------—~； 六、申請專利範圍 使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面噴出之潔淨空 氣， i 其特徵在於： i 該除塵單元沿著基板搬運方向排列配置第1排氣室和I 隔著第1排氣室之第1、第2吸氣室，並在經過了該第丨、第i 2吸氣室之搬運路徑之對面倒各自配置令負壓作同於基板 \’ \ 之背面之第3、第4吸氣室，而且為了供給搬運中之基板抵卜 抗該第1、第2、第3、第4吸氣室之吸力之抵抗力而具備和| 基板從動轉動之轉動體。 ；' 7. —種基板用搬運除塵裝置，具備具有至少各1個之 f 吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向擬運基板5丨 使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面喷出之潔淨空 氣， 其特徵在於： ' 該除塵單元沿著基板搬運方向排列配置第丨吸氣室和 | · 隔著第1吸氣室之第1、第2排氣室，並在經過了該第1吸氣j 室和該第1、第2排氣室之搬運路徑之對面側配置第2吸氣 | 室和隔著第2吸氣室之第3、第4排氣室，而且為了供給搬 ί 運中之基板抵抗該第1及第2吸氣室之吸力之抵抗力而具備| 和基板從動轉動之轉動體。 \ 8. —種基板用搬運除塵裝置，具備具有至少各1個之 i 吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬運基板，| 使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面喷出之潔淨空 i- 氣， I

   第24頁 402529______ 六、申請專利範圍 ，i 其特徵在於： i 該除塵單元沿著基板搬運方向棑列配置第1排氣室和i 隔著第1排氣室之第1、第2吸氣室，並在經過了該第1排氣 室和該第1、第2吸氣室之搬運路徑之對面側配置第2排氣 ! 室和隔著第2排氣室之第3、第4吸氣室，而且為了供給搬 ； 運中之基板抵抗該第1、第2、第3、第4吸氣室之吸力之抵丨 抗力而具備和基板從動轉動之轉動體。 I 9. 一種基板用搬運除塵裝置，具備具有至少各1個之 | 吸氣室及排氣室之除塵單元，向除塵單元方向搬運基板，ί ! 使得利用吸氣室吸令自排氣室向基板表面喷出之潔淨空 | 氣， ； 其特徵在於： I !； 該除塵單元沿著基板搬運方向排列配置第ί排氣室和 | 隔著第1排氣室之第1、第2吸氣室，並在經過了該第1排氣| 室之搬運路徑之對面側配置令負壓作用於基板之背面之第i 3吸氣室，而且為了供給搬運中之基板抵抗該第1、第2、 ! 第3吸氣室之吸力之抵抗力而具備和基板從動轉動之轉動 ί 體。 i 10. 如申請專利範圍第1 、2、3 '4、5、6、7、8或9項 i ί 之基板闬搬運除塵裝置，其中該轉動體只碰觸基板之側部丨 附近轉動。 I

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