TWI382883B - Dust removal device - Google Patents

Description

除塵裝置

本發明係有關於一種除塵裝置，其對除塵對象噴射空氣或稀有氣體等之單純的清潔氣體、含有以超音波頻率振動之超音波的氣體、含有正、負離子的氣體、或超音波和離子都含有的氣體(以下將這些氣體總稱為清潔氣體)，並進行除塵。

利用除塵裝置，對在TFT(薄膜電晶體)液晶面板、PDP(電漿顯示面板)以及LCD(液晶顯示器)等所使用之玻璃基板、太陽能電池面板、或長的紙、薄膜等的薄片等除塵對象(以下僅稱為除塵對象)進行除塵。

作為關於這種除塵裝置的習知技術，已知例如專利文獻1(特開2004-41851號公報，發明名稱「除塵頭」)所記載的發明。

在專利文獻1所記載之習知技術，係有關於一種除塵頭，其具有中央的噴射室、及該噴射室之兩側的吸入室。

[專利文獻1]特開2004-41851號公報(段落編號[0003]，第5圖)

在一般的除塵裝置，大多上下地配置除塵頭。在這種除塵裝置，在對在輸送帶上所搬運的複數片玻璃基板連續地進行除塵的情況，即使以清潔氣體噴射相鄰的玻璃基板等除塵對象之間的間隙，亦向上下的除塵頭噴射清潔氣體，而清潔氣體吹到除塵頭以外的位置，可能捲起灰塵的可能性極少。

可是，如專利文獻1的第5(b)圖所示，亦有下側無除塵頭的情況。這種除塵裝置，在向相鄰的玻璃基板等除塵對象之間的間隙噴射清潔氣體時，清潔氣體到達下方(在極端的情況到達裝置放置地板)。雖然除塵裝置設置於無塵室，但是捲起一些灰塵，而可能使除塵環境變差。

又，雖然亦想到在相鄰之玻璃基板等除塵對象的間隙和噴射孔相對向之間停止噴射清潔氣體，但是在此情況，需要將切換閥設置於清潔氣體的流路。在切換閥切換時，從密封用的墊圈所脫離之微小的異物等可能混入清潔氣體，而可能使除塵性能降低。

因此，本發明係為了解決上述之課題而開發者，其目的在於提供一種除塵裝置，在僅除塵對象之單側進行除塵的除塵裝置，追加和除塵頭相對向之簡易的構造之承受部，在改變通過相鄰之除塵對象間的間隙之來自噴射室的清潔氣體之流動方向後以吸入室吸入，而降低不要之灰塵的飛散。

本發明之申請專利範圍第1項的除塵裝置，其特徵在於包括：

除塵頭，係具有各自至少各一個之具有吸入口的吸入室及具有噴射口的噴射室；

搬運部，係向除塵頭內依序搬運複數個除塵對象；以及

承受部，係配置成和除塵頭相對向，並承受從噴射室的噴射口所噴射之清潔氣體，使方向轉換；

從噴射室的噴射口向除塵對象噴射清潔氣體時的吸入室，係從其吸入口吸入從除塵對象反彈的清潔氣體，

又，從噴射室的噴射口向相鄰之2個除塵對象間的間隙噴射清潔氣體時的吸入室，係從其吸入口吸入在承受部使方向轉換的清潔氣體。

又，本發明之申請專利範圍第2項的除塵裝置，係在申請專利範圍第1項所記載的除塵裝置，

該承受部包含有：清潔氣體通過的通過孔；及承受空間，係由平面和曲面所隔開並和通過孔連通的截面弓形空間，而曲面和吸入口或噴射口相對向，而且平面位於和除塵對象的搬運方向大致平行；

以承受空間的曲面承受從噴射室之噴射口噴射並通過通過孔的清潔氣體後，以承受空間的平面使方向轉換，而從吸入室的吸入口吸入。

又，本發明之申請專利範圍第3項的除塵裝置，係在申請專利範圍第1項所記載的除塵裝置，包括：

相對向板，係具有和除塵對象之搬運方向大致平行的表面；

通過孔，係形成於相對向板，並面向噴射口和吸入口；

固定於相對向板的半圓筒體；以及

承受空間，係由相對向板的平面和半圓筒體的曲面隔開，而半圓筒體之曲面和吸入口或噴射口相對向，而且相對向板的平面位於和除塵對象之搬運方向大致平行的截面弓形空間，並和通過孔連通；

以承受空間的曲面承受從噴射室之噴射口噴射並通過通過孔的清潔氣體後，以承受空間的平面使方向轉換，而從吸入室的吸入口吸入。

又，本發明之申請專利範圍第4項的除塵裝置，係在申請專利範圍第1項所記載的除塵裝置，

該承受部包括圓弧體，其具有噴射口和吸入口所面向之曲面形的承受面，從吸入室的吸入口吸入以圓弧體之承受面使方向轉換的清潔氣體。

又，本發明之申請專利範圍第5項的除塵裝置，係在申請專利範圍第1項所記載的除塵裝置，

該承受部包括箱體，其具有噴射口和吸入口所面向之平面形的承受面，從吸入室的吸入口吸入以箱體之承受面使方向轉換的清潔氣體。

又，本發明之申請專利範圍第6項的除塵裝置，係在申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置，

該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置噴射室和隔著噴射室之上游、下游的吸入室。

又，本發明之申請專利範圍第7項的除塵裝置，其特徵在於：

該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置吸入室和隔著吸入室之上游、下游的噴射室。

又，本發明之申請專利範圍第8項的除塵裝置，係在申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置，

該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置上游噴射室和下游吸入室。

又，本發明之申請專利範圍第9項的除塵裝置，係在申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置，

該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置上游吸入室和下游噴射室。

又，本發明之申請專利範圍第10項的除塵裝置，係在申請專利範圍第1至9項中任一項的除塵裝置，

包括離子化器，其配置於噴射室內，並在被施加高電壓的發射體附近產生離子，且從噴射室的噴射口噴射含有離子的清潔氣體。

又，本發明之申請專利範圍第11項的除塵裝置，係在申請專利範圍第1至10項中任一項的除塵裝置，

包括移動部，其使該承受部接近或遠離除塵頭。

又，本發明之申請專利範圍第12項的除塵裝置，係在申請專利範圍第11項所記載的除塵裝置，

將該承受部及該移動部作為一組，並設置複數個噴射部及組數相同之該承受部與該移動部。

若依據如以上所示之本發明，可提供一種除塵裝置，在僅除塵對象之單側進行除塵的除塵裝置，追加和除塵頭相對向之簡易的構造之承受部，在改變通過相鄰之除塵對象間的間隙之來自噴射室的清潔氣體之流動方向後以吸入室吸入，而降低不要之灰塵的飛散。

接著，根據圖說明用以實施本發明之最佳形態。第1圖係本形態之除塵裝置的側視圖，第2圖係本形態之除塵裝置的剖面圖，第3圖係本形態之除塵裝置的立體外觀圖。此外，在第3圖拿掉側壁部後圖示。除塵裝置1包括除塵頭100、承受部200、搬運部300以及移動部400。除塵裝置1對除塵對象10進行除塵。

除塵頭100之細節係將離子化器120配置於如第2圖、第3圖所示之除塵頭本體110的內部，還將如第1圖所示之側壁部130固定於除塵頭本體110的兩側面。

一面參照圖一面說明除塵頭100。第4圖係表示除塵頭之內外構造圖，第4(a)圖係A箭視圖，第4(b)圖係B-B線剖面圖，第4(c)圖係C-C線剖面圖。第5圖係C-C線剖面的立體圖。第6圖係表示除塵頭之內部構造圖，第6(a)圖係D-D線剖面圖，第6(b)圖係E-E線剖面圖。第7圖係承受部之構造圖。

除塵頭本體110如第4(a)圖所示，包括噴射室111、上游側吸入室112、下游側吸入室113、頂板114、側壁115a、115b、內壁116a、116b、噴射室底部111c以及吸入室底部112c、113c。

噴射室111如第2圖~第6圖所示，係利用頂板114、內壁116a、116b以及噴射室底部111c所隔開的空間，間隔壁116c跨在內壁116a、116b，而以機械式補強。此噴射室111如第4(c)圖所示，利用流入口111b、通過孔116e以及噴射口111a使空間在內外連通。此外，於離子化器120的突出部121和槽部116d之間形成如第6(a)圖所示的通過孔124，在組裝離子化器120時，經由該通過孔124亦將空間連通。

噴射口111a由第5圖亦得知，係長的開縫。因為除塵對象10從對第5圖所示之噴射口111a的長度方向大致垂直方向進入，所以可對除塵對象10的全區域噴射清潔氣體。

間隔壁116c如第4(c)圖所示，設置於噴射口111a和流入口111b之間，配置成接近噴射口111a較佳。這係由於隨著間隔壁116c的配置接近噴射口111a側，而難發生清潔氣體通過噴射口111a所伴隨之噴射口111a的擴開。

通過孔116e如第4(c)圖、第6(b)圖所示，於間隔壁116c設置複數個，使從流入口111b所流入的清潔氣體導通至噴射口111a。

槽部116d如第4(a)圖的a部放大圖所示，設置於噴射室111，使離子化器120的突出部121一面滑動一面插入該槽部116d，而安裝於噴射室111內。

和離子化器120的配置同時形成通過孔124。如第6(a)圖所示，缺口部123設置於離子化器120的突出部121，如第4(a)圖的a部放大圖所示，一面使突出部121向槽部116d滑動一面插入離子化器120，而安裝於噴射室111內的情況，如第6(a)圖所示，缺口部123被槽部116d覆蓋而成為通過孔124。

流入口111b如第3圖、第4(c)圖以及第5圖所示，設置於除塵頭100之上面的頂板114。

離子化器120如第4(b)、(c)圖所示，配置於係噴射室111內並比間隔壁116c更上游側，具有向清潔氣體釋出正離子、負離子之功能。

發射體122安裝於此離子化器120，發射體122被施加直流電流或交流電流，而利用電暈放電釋出正離子、負離子。

上游側吸入室112如第3圖~第6圖所示，係由頂板114、側壁115a、內壁116a以及吸入室底部112c所隔開的空間。此上游側吸入室112如第4(c)圖所示，利用排氣口112b、吸入口112a而將空間連通。

吸入口112a如第5圖、第6圖所示，係長的開縫，和周邊空氣一起吸入因從噴射口111a所噴射之清潔氣體而發散的灰塵。

排氣口112b如第3圖、第4(c)圖以及第5圖所示，是為了排出被吸入口112a所吸入氣體的開口。

下游側吸入室113，如第3圖~第6圖所示，係由頂板114、側壁115b、內壁116b以及吸入室底部113c所隔開的空間。此下游側吸入室113如第4(c)圖所示，利用排氣口113b、吸入口113a而將空間連通。

吸入口113a如第5圖、第6圖所示，係長的開縫，和周邊空氣一起吸入因從噴射口111a所噴射之清潔氣體而發散的灰塵。

排氣口113b如第3圖、第4(c)圖以及第5圖所示，係用以排出從吸入口113a所吸入之氣體的開口。

除塵頭100之構造係這種構造。

在此，說明除塵頭本體110的製造方法。

本除塵頭本體110係利用擠壓成形而製造。例如將鋁等金屬材料壓入模具，而形成噴射室111、上游側吸入室112、下游側吸入室113、側壁115a、115b、內壁116a、116b、間隔壁116c、噴射室底部111c、吸入室底部112c、113c以及頂板114成為一體的除塵頭本體110，再進行端部等的末端處理而完成。此外，在擠壓成形剛結束後，尚未形成流入口111b、排氣口112b、113b(參照第3圖、第4(c)圖以及第5圖)、間隔壁116c的通過孔116e(參照第4(c)圖、第6(a)圖)、噴射口111a以及吸入口112a、113a。

使鑽頭對如此擠壓成形的除塵頭100從箭號F(參照第3圖)方向進入，並同時進行流入口111b、通過孔116e的鑽孔。流入口111b、通過孔116e成為相同的直徑。在其他的位置進行這種鑽孔多次，而如第3圖、第6(b)圖所示，形成多個流入口111b、通過孔116e。

一樣地，使鑽頭對除塵頭100從箭號F方向進入，並進行排氣口112b、113b的鑽孔。在其他的位置進行這種鑽孔多次，而如第3圖所示，形成多個排氣口112b、113b。

然後，將係長的開縫之噴射口111a、吸入口112a、113a以銑床等進行切削加工，而完成第3圖~第6圖所示的除塵頭本體110，再從噴射室111的側部開口插入離子化器120，並以側壁部130塞住兩側，而完成除塵頭100。在此除塵頭100，以一體構造形成噴射室111、上游側吸入室112以及下游側吸入室113。

這種除塵頭100如第8圖所示，朝向除塵對象之搬運方向(在本形態舉例表示從圖面右往左的箭號方向)，排列成上游側吸入室112(V1)、噴射室111(P)、下游側吸入室113(V2)而構成，並配置於搬運部300的上側。噴射室111(P)和未圖示的送風泵連接，又，上游側吸入室112(V1)、下游側吸入室113(V2)和未圖示的吸氣泵連接。從噴射室111的噴射口111a所噴射之清潔氣體或被吹起的灰塵和周圍之空氣一起經由吸入口112a、113a而被吸往上游側吸入室112、下游側吸入室113。此含有灰塵的空氣經由除塵頭100的排氣口112b、113b(參照第3圖)、排氣流路以及排氣配管而向外部被排出。除塵頭100係這種構造。

接著，承受部200如第2圖、第7圖所示，包括半圓筒體210、相對向板220、承受空間230、通過孔240、支持部250以及側壁260。承受部200配置成如第1圖~第3圖所示。

半圓筒體210如第7圖所示，係將兩側被側壁260塞住的圓筒體朝向軸向切割成一半之形狀。內側具有半圓形的曲面。

相對向板220係一般的板體，於其中央形成通過孔240。此相對向板220具有和除塵對象10的搬運方向大致平行之平面形的表面、背面。

承受空間230由相對向板220之背面和半圓筒體210的曲面隔開，半圓筒體210的曲面經由通過孔240和噴射口111a及吸入口112a、113a相對向，而且相對向板220之背面、表面都是位於和除塵對象10之搬運方向大致平行的位置之截面弓形空間。此承受空間230和通過孔240連通。

通過孔240設置於相對向板220的中央，縱橫之長度至少比除塵頭100的噴射口111a及吸入口112a、113a更長。因而，從噴射口111a所噴射之全部的清潔氣體不會被吹到相對向板220而通過通過孔240。

支持部250固定於半圓筒體210的下側。

側壁260固定於半圓筒體210的兩側面。

承受部200係這種構造。

搬運部300例如係支持、搬運除塵對象10之長的輥。搬運部300以賦予搬運除塵對象10之驅動力的方式構成，或以自由轉動成和利用其他的驅動源所搬運之除塵對象10從動的方式構成。

移動部400如第1圖所示，支持部250係朝向箭號a方向(上下方向)，係使承受部200接近或遠離除塵頭100之方式移動的裝置，例如如昇降工作台的裝置。預先利用移動部400調整上下位置，使承受部200移動，而設定並固定於將清潔氣體確實地緩衝的位置。

這種除塵裝置1的除塵對象10例如係用於TFT(薄膜電晶體)液晶面板、PDP(電漿顯示面板)以及LCD(液晶顯示器)等之玻璃基板、太陽能電池面板、或長的紙、薄膜等的薄片等。除塵裝置1係這種構造。

接著，一面參照圖一面說明除塵裝置1的除塵動作。第8圖係本形態之除塵裝置除塵時的動作說明圖，第9圖係本形態之除塵裝置的除塵對象間之噴射時的動作說明圖。

使清潔氣體從流入口111b流入時，通過離子化器120的通過孔124。從離子化器120所釋出之正離子、負離子混入此清潔氣體。又，這種清潔氣體通過間隔壁116c的通過孔116e，而到達噴射口111a，再從噴射口111a噴射清潔氣體。在此情況，雖然噴射室111內變成高壓，但是如第4(c)圖所示，因為間隔壁116c在噴射室111內一體地橫跨而補強，所以抑制噴射口111a之擴開的發生。又，因為將間隔壁116c配置於接近噴射口111a側的位置，所以更加抑制噴射口111a之擴開的發生。

複數個除塵對象10隔著既定的間隔在搬運部300上依序被搬運，而逐次進行除塵。在此情況，除塵頭100總是進行藉噴射室111(P)之清潔氣體的噴射、及藉上游側吸入室112、下游側吸入室113之灰塵的吸入。

首先，如第8圖所示，被除塵的除塵對象10在除塵頭100之正下朝向搬運方向被搬運。在此情況，除塵對象10的上面成為除塵對象面。在除塵頭100，從噴射室111(P)向除塵對象10的除塵對象面噴射清潔氣體，藉由飛散的灰塵在上游側吸入室112(V1)、下游側吸入室113(V2)被吸入，而進行除塵對象10之除塵對象面的除塵。

然後，依然繼續搬入，如第9圖所示，相鄰之2個除塵對象10之間的間隙到達除塵頭100的正下時，來自除塵頭100之噴射室111(P)的清潔氣體通過通過孔240，而由承受部200之承受空間230的曲面(半圓筒體210的內側之半圓形的曲面)承受。這種清潔氣體沿著曲面移動，或到達相對向板220之背面，使方向轉換，而向通過孔240移動。因為沿著此相對向板220之背面移動的清潔氣體係和搬運方向平行，所以係在承受空間230內移動，難越過通過孔240而到達上側。於是，在上游側吸入室112(V1)、下游側吸入室113(V2)由上側吸入清潔氣體。藉由使吸入量比噴射量更多，而可降低向除塵對象方向漏吹的可能性。因而，通過相鄰之2個除塵對象10之間的間隙之清潔氣體不會使不要的灰塵飛散，而良好地保持除塵環境。又，使可在噴出清潔氣體之狀態進行連續除塵，亦實現簡化設備或降低不要之異物混入的可能性。本形態的除塵裝置1係這種構造。

接著，根據圖說明本發明之其他的形態。第10圖係其他的形態之除塵裝置的側視圖，第11圖係其他的形態之除塵裝置的剖面圖，第12圖係說明圓弧體之製造的說明圖，第13圖係其他的形態之除塵裝置的動作說明圖。此外，在第10圖係拿掉側壁部後圖示。除塵裝置2包括除塵頭100、承受部500、搬運部300以及移動部400。除塵裝置2對除塵對象10進行除塵。和前面使用第1圖~第9圖所說明的除塵裝置1相比，本形態的除塵裝置2僅承受部500之構造相異以外，其他的構造係相同，對相同的構造物附加相同的符號，而且省略重複的說明，僅說明承受部500。

承受部500如第10圖、第11圖所示，包括圓弧體510、支持部520。

圓弧體510係圓弧形的構件，具有曲面形的承受面。此外，雖未圖示，亦可作成將側壁部安裝於兩側面(在第10圖位於正面的面和背側的面)，而在兩側部清潔氣體不會流動。圓弧體510在圖面之垂直方向形成長，特別考慮使比噴射口111a、吸入口112a、113a更長，以確實地承受清潔氣體。圓弧體510如第12圖所示，將圓筒體進行3分割而形成。

支持部520如第10圖所示，固定於圓弧體510的下側，利用移動部400使圓弧體510朝向箭號a方向(接近或遠離除塵頭本體110的方向)移動。承受部500係這種構造。

接著，說明除塵裝置2的除塵動作。

從除塵頭本體110向除塵對象10噴射含有從離子化器120所釋出之正離子、負離子的清潔氣體。除塵對象10的除塵係和使用第8圖所說明的一樣之處理，省略重複說明。

然後，如第13圖所示，相鄰之2個除塵對象10之間的間隙到達除塵頭100的正下時，以承受部500之圓弧體510的承受面(圓弧體510之內側的弧形曲面)承受來自除塵頭100之噴射室111(P)的清潔氣體。這種清潔氣體沿著曲面形的承受面而移動，在上游側吸入室112(V1)、下游側吸入室113(V2)由上側吸入清潔氣體。藉由使吸入量比噴射量更多，而可降低向除塵對象方向漏吹的可能性。因而，通過相鄰之2個除塵對象10之間的間隙之清潔氣體不會使不要的灰塵飛散，而良好地保持除塵環境。又，使可在噴出清潔氣體之狀態進行連續除塵，亦實現簡化設備或降低不要之異物混入的可能性。本形態的除塵裝置2係這種構造。

接著，根據圖說明本發明之其他的形態。第14圖係其他的形態之除塵裝置的側視圖，第15圖係其他的形態之除塵裝置的動作說明圖。除塵裝置3包括除塵頭100、承受部600、搬運部300以及移動部400。除塵裝置3對除塵對象10進行除塵。和前面使用第1圖~第9圖所說明的除塵裝置1相比，本形態的除塵裝置3僅承受部600之構造相異以外，其他的構造係相同，對相同的構造物附加相同的符號，而且省略重複的說明，僅說明承受部600。

承受部600如第14圖、第15圖所示，包括箱體610、支持部620。

箱體610係箱形的構件，具有平面形的承受面。箱體610設置側壁部，並作成清潔氣體不會從橫側流動。箱體610在圖面之垂直方向形成長，特別考慮使比噴射口111a、吸入口112a、113a更長，以確實地承受清潔氣體。

支持部620固定於箱體610的下側，利用移動部400使箱體610朝向箭號a方向(接近或遠離除塵頭本體110的方向)移動。承受部600係這種構造。

接著，說明除塵裝置3的除塵動作。

從除塵頭本體110向除塵對象10噴射含有從離子化器120所釋出之正離子、負離子的清潔氣體。除塵對象10的除塵係和使用第8圖所說明的一樣之處理，省略重複說明。

然後，如第15圖所示，相鄰之2個除塵對象10之間的間隙到達除塵頭100的正下時，以承受部600之箱體610的承受面承受來自除塵頭100之噴射室111(P)的清潔氣體。這種清潔氣體沿著承受面而移動，最後沿著側壁向上側移動，在上游側吸入室112(V1)、下游側吸入室113(V2)由上側吸入清潔氣體。藉由使吸入量比噴射量更多，而可降低向除塵對象方向漏吹的可能性。因而，通過相鄰之2個除塵對象10之間的間隙之清潔氣體不會使不要的灰塵飛散，而良好地保持除塵環境。又，使可在噴出清潔氣體之狀態進行連續除塵，亦實現簡化設備或降低不要之異物混入的可能性。本形態的除塵裝置3係這種構造。

接著，根據圖說明本發明之其他的形態。第16圖係其他形態的除塵裝置之除塵時的動作說明圖，第17圖係其他的形態之除塵裝置的除塵對象間之噴射時的動作說明圖。此外，在第16圖、第17圖以剖面圖圖示，並省略側壁部的圖示。除塵裝置4包括除塵頭140、承受部200、搬運部300以及移動部400。除塵裝置4對除塵對象10進行除塵。和前面使用第1圖~第9圖所說明的除塵裝置1相比，本形態的除塵裝置4僅除塵頭140之構造相異以外，其他的構造係相同，對相同的構造物附加相同的符號，而且省略重複的說明，僅說明除塵頭140。

這種除塵頭140如第16圖所示，朝向除塵對象之搬運方向(在本形態舉例表示從圖面右往左的箭號方向)，排列成上游側噴射室142(P1)、吸入室141(V)、下游側噴射室143(P2)而構成，並配置於搬運部300的上側。吸入室141(V)和未圖示的吸氣泵連接，又，上游側噴射室142(P1)、下游側噴射室143(P2)和未圖示的送風泵連接。從上游側噴射室142及下游側噴射室143的噴射口142a、143a所噴射之清潔氣體或被吹起的灰塵和周圍之空氣一起經由吸入口141a而往吸入室141被吸入。此含有灰塵的空氣經由除塵頭140的排氣口、排氣流路以及排氣配管而向外部被排出。除塵頭140係這種構造。

接著，說明除塵裝置4的除塵動作。

在上游側噴射室142使清潔氣體從流入口流入，並將從離子化器120所釋出之正離子、負離子加入清潔氣體，再從噴射口142a噴射。一樣地，在下游側噴射室143使清潔氣體從流入口流入，並將從離子化器120所釋出之正離子、負離子加入清潔氣體，再從噴射口143a噴射。

複數個除塵對象10隔著既定的間隔在搬運部300上依序被搬運，而逐次進行除塵。在此情況，除塵頭140總是進行藉上游側噴射室142(P1)及下游側噴射室143(P2)之清潔氣體的噴射、及藉吸入室141(V)之灰塵的吸入。

首先，如第16圖所示，被除塵的除塵對象10在除塵頭140之正下朝向搬運方向被搬運。在此情況，除塵對象10的上面成為除塵對象面。在除塵頭140，從上游側噴射室142(P1)及下游側噴射室143(P2)向除塵對象10的除塵對象面噴射清潔氣體，藉由飛散的灰塵在吸入室141(V)被吸入，而進行除塵對象10之除塵對象面的除塵。

然後，依然繼續搬入，如第17圖所示，相鄰之2個除塵對象10之間的間隙到達除塵頭140的正下時，來自除塵頭140之上游側噴射室142(P1)及下游側噴射室143(P2)的清潔氣體通過通過孔240，而由承受部200之承受空間230的曲面(半圓筒體210的內側之半圓形的曲面)承受。這種清潔氣體沿著曲面移動，或到達相對向板220之背面，使方向轉換，而向通過孔240移動。可是，由於來自上游側噴射室142(P1)及下游側噴射室143(P2)的噴射流，流路在一度下降後取從中央上昇的路徑，在吸入室141(V)由上側吸入清潔氣體。藉由使吸入量比噴射量更多，而可降低向除塵對象方向漏吹的可能性。因而，通過相鄰之2個除塵對象10之間的間隙之清潔氣體不會使不要的灰塵飛散，而良好地保持除塵環境。又，使可在噴出清潔氣體之狀態進行連續除塵，亦實現簡化設備或降低不要之異物混入的可能性。本形態的除塵裝置4係這種構造。

接著，根據圖說明本發明之其他的形態。第18圖係其他形態的除塵裝置之除塵時的動作說明圖，第19圖係其他的形態之除塵裝置的除塵對象間之噴射時的動作說明圖。此外，在第18圖、第19圖以剖面圖圖示，並省略側壁部的圖示。除塵裝置5包括除塵頭150、承受部200、搬運部300以及移動部400。除塵裝置5對除塵對象10進行除塵。和前面使用第1圖~第9圖所說明的除塵裝置1相比，本形態的除塵裝置5僅除塵頭150之構造相異以外，其他的構造係相同，對相同的構造物附加相同的符號，而且省略重複的說明，僅說明除塵頭150。

這種除塵頭150如第18圖所示，朝向除塵對象之搬運方向(在本形態舉例表示從圖面右往左的箭號方向)，排列成上游側噴射室151(P)、下游側吸入室152(V)而構成，並配置於搬運部300的上側。上游側噴射室151(P)和未圖示的送風泵連接，又，下游側吸入室152(V)和未圖示的吸氣泵連接。從噴射口151a所噴射之清潔氣體或被吹起的灰塵和周圍之空氣一起經由吸入口152a而往下游側吸入室152被吸入。此含有灰塵的空氣經由除塵頭150的排氣口、排氣流路以及排氣配管而向外部被排出。除塵頭150係這種構造。

接著，說明除塵裝置5的除塵動作。

在上游側噴射室151使清潔氣體從流入口流入，並將從離子化器120所釋出之正離子、負離子加入清潔氣體，再從噴射口151a噴射。

複數個除塵對象10隔著既定的間隔在搬運部300上依序被搬運，而逐次進行除塵。在此情況，除塵頭150總是進行藉上游側噴射室151(P)之清潔氣體的噴射、及藉下游側吸入室152(V)之灰塵的吸入。

首先，如第18圖所示，被除塵的除塵對象10在除塵頭150之正下朝向搬運方向被搬運。在此情況，除塵對象10的上面成為除塵對象面。在除塵頭150，從上游側噴射室151(P)向除塵對象10的除塵對象面噴射清潔氣體，藉由飛散的灰塵在下游側吸入室152(V)被吸入，而進行除塵對象10之除塵對象面的除塵。

然後，依然繼續搬入，如第19圖所示，相鄰之2個除塵對象10之間的間隙到達除塵頭150的正下時，來自除塵頭150之上游側噴射室151(P)的清潔氣體通過通過孔240，而由承受部200之承受空間230的曲面(半圓筒體210的內側之半圓形的曲面)承受。這種清潔氣體沿著曲面移動，或到達相對向板220之背面，使方向轉換，而向通過孔240移動，在下游側吸入室152(V)由上側吸入清潔氣體。藉由使吸入量比噴射量更多，而可降低向除塵對象方向漏吹的可能性。通過相鄰之2個除塵對象10之間的間隙之清潔氣體不會使不要的灰塵飛散，而良好地保持除塵環境。又，使可在噴出清潔氣體之狀態進行連續除塵，亦實現簡化設備或降低不要之異物混入的可能性。本形態的除塵裝置5係這種構造。

接著，根據圖說明本發明之其他的形態。第20圖係其他形態的除塵裝置之除塵時的動作說明圖，第21圖係其他的形態之除塵裝置的除塵對象間之噴射時的動作說明圖。此外，在第20圖、第21圖以剖面圖圖示，並省略側壁部的圖示。除塵裝置6包括除塵頭160、承受部200、搬運部300以及移動部400。除塵裝置6對除塵對象10進行除塵。和前面使用第1圖~第9圖所說明的除塵裝置1相比，本形態的除塵裝置6僅除塵頭160之構造相異以外，其他的構造係相同，對相同的構造物附加相同的符號，而且省略重複的說明，僅說明除塵頭160。

這種除塵頭160如第20圖所示，朝向除塵對象之搬運方向(在本形態舉例表示從圖面右往左的箭號方向)，排列成上游側吸入室161(V)、下游側噴射室162(P)而構成，並配置於搬運部300的上側。上游側吸入室161(V)和未圖示的吸氣泵連接，又，下游側噴射室162(P)和未圖示的送風泵連接。從噴射口162a所噴射之清潔氣體或被吹起的灰塵和周圍之空氣一起經由吸入口161a而往上游側吸入室161被吸入。此含有灰塵的空氣經由除塵頭160的排氣口、排氣流路以及排氣配管而向外部被排出。除塵頭160係這種構造。

接著，說明除塵裝置6的除塵動作。

在下游側噴射室162使清潔氣體從流入口流入，並將從離子化器120所釋出之正離子、負離子加入清潔氣體，再從噴射口162a噴射。

複數個除塵對象10隔著既定的間隔在搬運部300上依序被搬運，而逐次進行除塵。在此情況，除塵頭160總是進行藉下游側噴射室162(P)之清潔氣體的噴射、及藉上游側吸入室161(V)之灰塵的吸入。

首先，如第20圖所示，被除塵的除塵對象10在除塵頭160之正下朝向搬運方向被搬運。在此情況，除塵對象10的上面成為除塵對象面。在除塵頭160，從下游側噴射室162(P)向除塵對象10的除塵對象面噴射清潔氣體，藉由飛散的灰塵在上游側吸入室161(V)被吸入，而進行除塵對象10之除塵對象面的除塵。

然後，依然繼續搬入，如第21圖所示，相鄰之2個除塵對象10之間的間隙到達除塵頭160的正下時，來自除塵頭160之下游側噴射室162(P)的清潔氣體通過通過孔240，而由承受部200之承受空間230的曲面(半圓筒體210的內側之半圓形的曲面)承受。這種清潔氣體沿著曲面移動，或到達相對向板220之背面，使方向轉換，而向通過孔240移動，在上游側吸入室161(V)由上側吸入清潔氣體。藉由使吸入量比噴射量更多，而可降低向除塵對象方向漏吹的可能性。因而，通過相鄰之2個除塵對象10之間的間隙之清潔氣體不會使不要的灰塵飛散，而良好地保持除塵環境。又，使可在噴出清潔氣體之狀態進行連續除塵，亦實現簡化設備或降低不要之異物混入的可能性。本形態的除塵裝置6係這種構造。

又，另外之變形形態係可能，例如亦可採用一種除塵裝置，其使使用第10圖、第11圖所說明的承受部500和在第16圖、第17圖所說明的除塵頭140、在第18圖、第19圖所說明的除塵頭150以及在第20圖、第21圖所說明的除塵頭160相對向。例如，一面參照圖一面說明使使用第10圖、第11圖所說明的承受部500和在第16圖、第17圖所說明之除塵頭140相對向的除塵裝置。第22圖係其他的形態之除塵裝置的說明圖。從噴射口142a、143a向這種圓弧體510噴射清潔氣體，亦可承受清潔氣體，並從吸入口141a吸入，而作為本發明的除塵裝置7發揮功能。

又，即使在使使用第10圖、第11圖所說明的承受部500和在第18圖、第19圖所說明之除塵頭150相對向的除塵裝置，或使使用第10圖、第11圖所說明的承受部500和在第20圖、第21圖所說明之除塵頭160相對向的除塵裝置，亦一樣地發揮功能。亦可採用這種除塵裝置。

又，另外之變形形態係可能，例如亦可採用一種除塵裝置，其使藉2個圓弧體的承受部和在第16圖、第17圖所說明之具有2個噴射口142a、143a的除塵頭140相對向。第23圖係其他的形態之除塵裝置的說明圖。由第1支持部530、第1圓弧部540所構成之承受部利用第1移動部410可朝向箭號b方向移動而構成，第1圓弧部540配置於噴射口142a的下側。一樣地，由第2支持部550、第2圓弧部560所構成之承受部利用第2移動部420可朝向箭號c方向移動而構成，第2圓弧部560配置於噴射口143a的下側。從噴射口142a、143a向這種第1圓弧部540、第2圓弧部560噴射清潔氣體，亦可承受清潔氣體，並從吸入口141a吸入，而作為本發明的除塵裝置8發揮功能。亦可採用這種除塵裝置8。

以上所說明之本形態的除塵裝置1~8，可能有另外的變形形態，例如亦可作成使吸入軟管和承受部200、500、600的下側連通，經由吸入軟管以排氣泵將流入承受空間的清潔氣體而向其他的位置排氣，或將吸入軟管的另一端配置於對除塵無影響的位置，一直釋出排氣。

此外，拿掉除塵頭100、140、150、160之離子化器120的形態，替代除塵頭100、140、150、160之離子化器而裝載超音波振盪器的形態，對除塵頭100、140、150、160之離子化器120又加上超音波振盪器的形態亦可。作為這種形態，亦可實施本發明。

1、2、3、4、5、6、7、8．．．除塵裝置

10．．．除塵對象

100．．．除塵頭

110．．．除塵頭本體

111．．．噴射室

111a．．．噴射口

111b．．．流入口

111c．．．噴射室底部

112．．．上游側吸入室

112a．．．吸入口

112b．．．排氣口

112c．．．吸入室底部

113．．．下游側吸入室

113a．．．吸入口

113b．．．排氣口

113c．．．吸入室底部

114．．．頂板

115a、115b．．．側壁

116a、116b．．．內壁

116c．．．間隔壁

116d．．．槽部

116e．．．通過孔

120．．．離子化器

121．．．突出部

122．．．發射體

123．．．缺口部

124．．．通過孔

130．．．側壁部

140．．．除塵頭

141．．．吸入室

141a．．．吸入口

142．．．上游側噴射室

142a．．．噴射口

143．．．下游側噴射室

143a．．．噴射口

150．．．除塵頭

151．．．上游側噴射室

151a．．．噴射口

152．．．下游側吸入室

152a．．．吸入口

160．．．除塵頭

161．．．上游側吸入室

161a．．．吸入口

162．．．下游側噴射室

162a．．．噴射口

200．．．承受部

210．．．半圓筒體

220．．．相對向板

230．．．承受空間

240．．．通過孔

250．．．支持部

260．．．側壁部

300．．．搬運部

400．．．移動部

410．．．第1移動部

420．．．第2移動部

500．．．承受部

510．．．圓弧體

520．．．支持部

530．．．第1支持部

540．．．第1圓弧部

550．．．第2支持部

560．．．第2圓弧部

600．．．承受部

610．．．箱體

620．．．支持部

第1圖係用以實施本發明之最佳形態的除塵裝置之側視圖。

第2圖係用以實施本發明之最佳形態的除塵裝置之剖面圖。

第3圖係用以實施本發明之最佳形態的除塵裝置之立體外觀圖。

第4圖係表示除塵頭之內外構造圖，第4(a)圖係A箭視圖，第4(b)圖係B-B線剖面圖，第4(c)圖係C-C線剖面圖。

第5圖係C-C線剖面的立體圖。

第6圖係表示除塵頭之內部構造圖，第6(a)圖係D-D線剖面圖，第6(b)圖係E-E線剖面圖。

第7(a)~(d)圖係承受部之構造圖。

第8圖係用以實施本發明的最佳形態之除塵時的動作說明圖。

第9圖係用以實施本發明的最佳形態之除塵裝置的除塵對象間之噴射時的動作說明圖。

第10圖係其他的形態之除塵裝置的側視圖。

第11圖係其他的形態之除塵裝置的剖面圖。

第12圖係說明圓弧體之製造的說明圖。

第13圖係其他的形態之除塵裝置的動作說明圖。

第14圖係其他的形態之除塵裝置的側視圖。

第15圖係其他形態的除塵裝置之動作說明圖。

第16圖係其他形態的除塵裝置之除塵時的動作說明圖。

第17圖係其他的形態之除塵裝置的除塵對象間之噴射時的動作說明圖。

第18圖係其他形態的除塵裝置之除塵時的動作說明圖。

第19圖係其他的形態之除塵裝置的除塵對象間之噴射時的動作說明圖。

第20圖係其他形態的除塵裝置之除塵時的動作說明圖。

第21圖係其他的形態之除塵裝置的除塵對象間之噴射時的動作說明圖。

第22圖係其他的形態之除塵裝置的說明圖。

第23圖係其他的形態之除塵裝置的說明圖。

10．．．除塵對象

100．．．除塵頭

111．．．噴射室

111a．．．噴射口

112．．．上游側吸入室

112a、113a．．．吸入口

113．．．下游側吸入室

200．．．承受部

210．．．半圓筒體

220．．．相對向板

230．．．承受空間

240．．．通過孔

Claims (12)

1. 一種除塵裝置，其特徵在於包括：除塵頭，係具有各自至少各一個之具有吸入口的吸入室及具有噴射口的噴射室；搬運部，係向除塵頭內依序搬運複數個除塵對象；以及承受部，係配置成和除塵頭相對向，並朝鄰接的二個除塵對象之間的間隙而承受從噴射室的噴射口所噴射之清潔氣體，使方向轉換；從噴射室的噴射口向除塵對象噴射清潔氣體時的吸入室，係從其吸入口吸入從除塵對象反彈的清潔氣體，又，從噴射室的噴射口向相鄰之2個除塵對象間的間隙噴射清潔氣體時的吸入室，係從其吸入口吸入在承受部使方向轉換的清潔氣體。
2. 如申請專利範圍第1項之除塵裝置，其中該承受部包含有：清潔氣體通過的通過孔；及承受空間，係由平面和曲面所隔開並和通過孔連通的截面弓形空間，而曲面和吸入口或噴射口相對向，而且平面位於和除塵對象的搬運方向大致平行；以承受空間的曲面承受從噴射室之噴射口噴射並通過通過孔的清潔氣體後，以承受空間的平面使方向轉換，而從吸入室的吸入口吸入。
3. 如申請專利範圍第1項之除塵裝置，其中包括：相對向板，係具有和除塵對象之搬運方向大致平行的 表面；通過孔，係形成於相對向板，並面向噴射口和吸入口；固定於相對向板的半圓筒體；以及承受空間，係由相對向板的平面和半圓筒體的曲面隔開，而半圓筒體之曲面和吸入口或噴射口相對向，而且相對向板的平面位於和除塵對象之搬運方向大致平行的截面弓形空間，並和通過孔連通；以承受空間的曲面承受從噴射室之噴射口噴射並通過通過孔的清潔氣體後，以承受空間的平面使方向轉換，而從吸入室的吸入口吸入。
4. 如申請專利範圍第1項之除塵裝置，其中該承受部包括圓弧體，其具有噴射口和吸入口所面向之曲面形的承受面，從吸入室的吸入口吸入以圓弧體之承受面使方向轉換的清潔氣體。
5. 如申請專利範圍第1項之除塵裝置，其中該承受部包括箱體，其具有噴射口和吸入口所面向之平面形的承受面，從吸入室的吸入口吸入以箱體之承受面使方向轉換的清潔氣體。
6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置，其中該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置噴射室和隔著噴射室之上游、下游的吸入室。
7. 如申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置，其中該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置吸入室和隔著吸入室之上游、下游的噴射室。
8. 如申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置，其中該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置上游噴射室和下游吸入室。
9. 如申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置，其中該除塵頭係沿著除塵對象的搬運方向排列並配置上游吸入室和下游噴射室。
10. 如申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置，其中包括離子化器，其配置於噴射室內，並在被施加高電壓的發射體附近產生離子，且從噴射室的噴射口噴射含有離子的清潔氣體。
11. 如申請專利範圍第1至5項中任一項的除塵裝置，其中包括移動部，其使該承受部接近或遠離除塵頭。
12. 如申請專利範圍第11項之除塵裝置，其中將該承受部及該移動部作為一組，並設置複數個噴射部及組數相同之該承受部與該移動部。