JPH07181467A - 基板のクリーニング方法およびその装置 - Google Patents
基板のクリーニング方法およびその装置Info
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- JPH07181467A JPH07181467A JP32538793A JP32538793A JPH07181467A JP H07181467 A JPH07181467 A JP H07181467A JP 32538793 A JP32538793 A JP 32538793A JP 32538793 A JP32538793 A JP 32538793A JP H07181467 A JPH07181467 A JP H07181467A
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- air
- glass substrate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 クリーン度を低下させることなく基板をクリ
ーニングする基板のクリーニング装置を提供する。 【構成】 ステージ14上のダミープレート18，19間にガ
ラス基板Ｇを真空吸着より保持する。ステージ14ごとガ
ラス基板Ｇが移動し、クリーニングヘッド11のプレッシ
ャー側ノズル12から吹き出した高速度の空気を、ガラス
基板Ｇの表面に衝突させ、ガラス基板Ｇの表面上の塵埃
を除去すると同時にバキューム側ノズル13から吸い込ま
せ、付着物を除去する。ガラス基板Ｇのクリーニングの
前後では、クリーニングヘッド11のプレッシャー側ノズ
ル12とバキューム側ノズル13とを、ガラス基板Ｇの厚さ
と同じ間隙でシャッタ16，17が閉塞しているため、プレ
ッシャー側ノズル13から吹き出される高速度の空気を、
シャッタ16，17で反射してバキューム側ノズル13から吸
い込み、クリーン度の低下を防止する。
ーニングする基板のクリーニング装置を提供する。 【構成】 ステージ14上のダミープレート18，19間にガ
ラス基板Ｇを真空吸着より保持する。ステージ14ごとガ
ラス基板Ｇが移動し、クリーニングヘッド11のプレッシ
ャー側ノズル12から吹き出した高速度の空気を、ガラス
基板Ｇの表面に衝突させ、ガラス基板Ｇの表面上の塵埃
を除去すると同時にバキューム側ノズル13から吸い込ま
せ、付着物を除去する。ガラス基板Ｇのクリーニングの
前後では、クリーニングヘッド11のプレッシャー側ノズ
ル12とバキューム側ノズル13とを、ガラス基板Ｇの厚さ
と同じ間隙でシャッタ16，17が閉塞しているため、プレ
ッシャー側ノズル13から吹き出される高速度の空気を、
シャッタ16，17で反射してバキューム側ノズル13から吸
い込み、クリーン度の低下を防止する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板の周辺のクリーン
度の低下を防止する基板のクリーニング方法およびその
装置に関する。
度の低下を防止する基板のクリーニング方法およびその
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶表示パネルは、高精細化、高
速度化、大画面化、低価格化が急速に進み、製造工程で
のガラス基板の表面への付着物の粒径も１〜数μｍ程度
でも問題になってくると同時に、材料効率の向上など
で、ガラス基板の周辺ぎりぎりの端部まで、製品の表示
パターンとして使用するような製品設計が進んでいる。
速度化、大画面化、低価格化が急速に進み、製造工程で
のガラス基板の表面への付着物の粒径も１〜数μｍ程度
でも問題になってくると同時に、材料効率の向上など
で、ガラス基板の周辺ぎりぎりの端部まで、製品の表示
パターンとして使用するような製品設計が進んでいる。
【０００３】また、一般に液晶表示パネル製造工程での
ガラス基板のクリーニング方法に関しては、水または薬
品などを使用して行なうウエット方式と、水または薬品
などを使用しないドライ方式とに大別される。そして、
このドライクリーニング方式においては、一般に高速度
の空気を基板に吹き付けてガラス基板上の付着物を除去
するか、あるいは、高速度の空気に超音波を加えてガラ
ス基板に吹き付け、ガラス基板上の付着物を除去するか
の方式が採られている。
ガラス基板のクリーニング方法に関しては、水または薬
品などを使用して行なうウエット方式と、水または薬品
などを使用しないドライ方式とに大別される。そして、
このドライクリーニング方式においては、一般に高速度
の空気を基板に吹き付けてガラス基板上の付着物を除去
するか、あるいは、高速度の空気に超音波を加えてガラ
ス基板に吹き付け、ガラス基板上の付着物を除去するか
の方式が採られている。
【０００４】以下、従来のドライクリーニング方式につ
いて、図３および図４を参照して説明する。
いて、図３および図４を参照して説明する。
【０００５】図３に示すように、クリーニングヘッド11
には、プレッシャー側ノズル12とバキューム側ノズル13
が配置されている。そして、プレッシャー側ノズル12か
らは高速度の空気に超音波が加えられて吹き出され、バ
キューム側ノズル13からはプレッシャー側ノズル12側か
ら吹き出される空気に対応する量の空気を吸い込んでい
る。
には、プレッシャー側ノズル12とバキューム側ノズル13
が配置されている。そして、プレッシャー側ノズル12か
らは高速度の空気に超音波が加えられて吹き出され、バ
キューム側ノズル13からはプレッシャー側ノズル12側か
ら吹き出される空気に対応する量の空気を吸い込んでい
る。
【０００６】また、クリーニングヘッド11に対向して移
動可能なステージ14が設けられ、ステージ14上に真空吸
着によりガラス基板Ｇが保持される。なお、ガラス基板
Ｇの周囲には、欠けなどを防止するために、図４に示す
ように、テーパ状のテーパ面Ｇa が形成されている。
動可能なステージ14が設けられ、ステージ14上に真空吸
着によりガラス基板Ｇが保持される。なお、ガラス基板
Ｇの周囲には、欠けなどを防止するために、図４に示す
ように、テーパ状のテーパ面Ｇa が形成されている。
【０００７】そして、ステージ14ごとガラス基板Ｇが移
動し、クリーニングヘッド11の直下を一定間隔を保って
一定速度で通過する。このときに、クリーニングヘッド
11のプレッシャー側ノズル12から吹き出された高速度の
空気は、ガラス基板Ｇの表面に衝突し、ガラス基板Ｇの
表面上の塵埃などの付着物を除去すると同時に、クリー
ニングヘッド11のバキューム側ノズル13から吸い込ま
れ、ガラス基板Ｇ上の付着物が除去される。
動し、クリーニングヘッド11の直下を一定間隔を保って
一定速度で通過する。このときに、クリーニングヘッド
11のプレッシャー側ノズル12から吹き出された高速度の
空気は、ガラス基板Ｇの表面に衝突し、ガラス基板Ｇの
表面上の塵埃などの付着物を除去すると同時に、クリー
ニングヘッド11のバキューム側ノズル13から吸い込ま
れ、ガラス基板Ｇ上の付着物が除去される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図４に
示すように、ガラス基板Ｇの端面ではプレッシャー側ノ
ズル12から吹き出された高速度の空気が、ガラス基板Ｇ
の端面Ｇe およびテーパ面Ｇa に衝突し、ガラス基板Ｇ
の端面Ｇe から約１０〜２０ｍｍ内側の極表面Ｇp 上で
は乱気流が発生し、基板Ｇの端面Ｇe 、側面Ｇs および
ステージ14の塵埃などの付着物が剥離して、再付着した
り基板Ｇの表面Ｇp の付着物除去率低下につながってい
る。また、一般に、高速度の空気を基板Ｇに吹き付けた
場合、基板Ｇの極表面Ｇp では、空気の流れが発生しな
い層が発生する。さらに、ガラス基板Ｇの端面Ｇe に衝
突する高速度の空気の乱流の影響により、ガラス基板Ｇ
の周辺では特に付着物の除去率低下が著しい。
示すように、ガラス基板Ｇの端面ではプレッシャー側ノ
ズル12から吹き出された高速度の空気が、ガラス基板Ｇ
の端面Ｇe およびテーパ面Ｇa に衝突し、ガラス基板Ｇ
の端面Ｇe から約１０〜２０ｍｍ内側の極表面Ｇp 上で
は乱気流が発生し、基板Ｇの端面Ｇe 、側面Ｇs および
ステージ14の塵埃などの付着物が剥離して、再付着した
り基板Ｇの表面Ｇp の付着物除去率低下につながってい
る。また、一般に、高速度の空気を基板Ｇに吹き付けた
場合、基板Ｇの極表面Ｇp では、空気の流れが発生しな
い層が発生する。さらに、ガラス基板Ｇの端面Ｇe に衝
突する高速度の空気の乱流の影響により、ガラス基板Ｇ
の周辺では特に付着物の除去率低下が著しい。
【０００９】そこで、基板Ｇの極表面Ｇp 上の空気の流
れない層およびガラス基板Ｇの端部での乱流部でも、高
速度の空気が極力ガラス基板Ｇの表面まで到達するよう
高速度の空気に超音波を加えるなどしているが、液晶表
示パネルでは除去しようとするガラス基板Ｇ上の付着物
が１〜数μｍと非常に小さいため、乱気流などの発生に
より、除去した付着物の再付着など、最終付着物の除去
率低下は免れない。
れない層およびガラス基板Ｇの端部での乱流部でも、高
速度の空気が極力ガラス基板Ｇの表面まで到達するよう
高速度の空気に超音波を加えるなどしているが、液晶表
示パネルでは除去しようとするガラス基板Ｇ上の付着物
が１〜数μｍと非常に小さいため、乱気流などの発生に
より、除去した付着物の再付着など、最終付着物の除去
率低下は免れない。
【００１０】また、装置化した場合には、クリーニング
ヘッド11に、プレッシャー側ノズル12およびバキューム
側ノズル13のホースが取り付けられるため、上述のよう
に、ステージ14を移動させるのが一般的である。この場
合、ステージ14が移動してステージ14またはガラス基板
Ｇがクリーニングヘッド11の直下を塞いでいるクリーニ
ング中の状態以外は、クリーニングヘッド11のプレッシ
ャー側ノズル12には何も対向しないため、プレッシャー
側ノズル12から吹き出される高速度の空気はそのまま吹
き出された状態となり、クリーニングヘッド11のバキュ
ーム側ノズル13へ吸い込まれることなく、装置内部に吹
き出されることとなり、装置内部の気流状態を乱し、装
置内部のダストレベルを悪化させ、ガラス基板Ｇへのダ
ストの汚染などの要因となる問題を有している。
ヘッド11に、プレッシャー側ノズル12およびバキューム
側ノズル13のホースが取り付けられるため、上述のよう
に、ステージ14を移動させるのが一般的である。この場
合、ステージ14が移動してステージ14またはガラス基板
Ｇがクリーニングヘッド11の直下を塞いでいるクリーニ
ング中の状態以外は、クリーニングヘッド11のプレッシ
ャー側ノズル12には何も対向しないため、プレッシャー
側ノズル12から吹き出される高速度の空気はそのまま吹
き出された状態となり、クリーニングヘッド11のバキュ
ーム側ノズル13へ吸い込まれることなく、装置内部に吹
き出されることとなり、装置内部の気流状態を乱し、装
置内部のダストレベルを悪化させ、ガラス基板Ｇへのダ
ストの汚染などの要因となる問題を有している。
【００１１】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、環境のクリーン度を低下させることなく基板をクリ
ーニングする基板のクリーニング方法およびその装置を
提供すること目的とする。
で、環境のクリーン度を低下させることなく基板をクリ
ーニングする基板のクリーニング方法およびその装置を
提供すること目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の基板のク
リーニング方法は、基板の表面に高速度の空気を吹き付
け、この吹き付けられた空気を前記基板の表面で反射し
て吹き付けられた空気に対応して空気を塵埃とともに吸
い込む基板のクリーニング方法において、前記基板に高
速度の空気を吹き付ける前後では、空気の吹き付けを反
射させて吸い込ませるものである。
リーニング方法は、基板の表面に高速度の空気を吹き付
け、この吹き付けられた空気を前記基板の表面で反射し
て吹き付けられた空気に対応して空気を塵埃とともに吸
い込む基板のクリーニング方法において、前記基板に高
速度の空気を吹き付ける前後では、空気の吹き付けを反
射させて吸い込ませるものである。
【００１３】請求項２記載の基板のクリーニング装置
は、基板の表面に高速度の空気を吹き付ける空気吹付手
段と、前記基板の表面で反射された空気を吸い込む空気
吸込手段と、前記基板を前記空気吹付手段および前記空
気吸込手段に対して相対的に搬送する搬送手段と、前記
基板の相対的な搬送方向の前後に設けられ前記空気吹付
手段からの空気を前記空気吸込手段に反射する空気反射
手段とを具備したものである。
は、基板の表面に高速度の空気を吹き付ける空気吹付手
段と、前記基板の表面で反射された空気を吸い込む空気
吸込手段と、前記基板を前記空気吹付手段および前記空
気吸込手段に対して相対的に搬送する搬送手段と、前記
基板の相対的な搬送方向の前後に設けられ前記空気吹付
手段からの空気を前記空気吸込手段に反射する空気反射
手段とを具備したものである。
【００１４】請求項３記載の基板のクリーニング装置
は、請求項２記載の基板のクリーニング装置において、
基板を載置する載置手段を備え、空気反射手段は、前記
載置手段に前記基板を載置した際の前記基板の表面の高
さと表面の高さがほぼ同じ高さであるものである。
は、請求項２記載の基板のクリーニング装置において、
基板を載置する載置手段を備え、空気反射手段は、前記
載置手段に前記基板を載置した際の前記基板の表面の高
さと表面の高さがほぼ同じ高さであるものである。
【００１５】
【作用】請求項１記載の基板のクリーニング方法は、基
板の表面に高速度の空気を吹き付け、基板の表面で反射
して吹き付けられた高速度の空気に対応して空気を塵埃
とともに吸い込み、基板に高速度の空気を吹き付ける前
後では、空気の吹き付けを反射して吸い込ませるため、
吸い込まれることがない状態で単に空気が吹き出された
ままの状態をなくすことにより、塵埃などが飛散してク
リーン度が低下することを防止できる。
板の表面に高速度の空気を吹き付け、基板の表面で反射
して吹き付けられた高速度の空気に対応して空気を塵埃
とともに吸い込み、基板に高速度の空気を吹き付ける前
後では、空気の吹き付けを反射して吸い込ませるため、
吸い込まれることがない状態で単に空気が吹き出された
ままの状態をなくすことにより、塵埃などが飛散してク
リーン度が低下することを防止できる。
【００１６】請求項２記載の基板のクリーニング装置
は、基板を搬送手段で相対的に搬送し、空気吹付手段で
基板の表面に高速度の空気を吹き付け、空気吸込手段で
基板の表面で反射された空気を吸い込み、基板の相対的
な搬送方向の前後に空気反射手段を設け、空気吹付手段
からの空気を空気吸込手段に反射するため、吸い込まれ
ることがない状態で単に空気が吹き出されることを防止
し、塵埃などが飛散してクリーン度が低下することを防
止できる。
は、基板を搬送手段で相対的に搬送し、空気吹付手段で
基板の表面に高速度の空気を吹き付け、空気吸込手段で
基板の表面で反射された空気を吸い込み、基板の相対的
な搬送方向の前後に空気反射手段を設け、空気吹付手段
からの空気を空気吸込手段に反射するため、吸い込まれ
ることがない状態で単に空気が吹き出されることを防止
し、塵埃などが飛散してクリーン度が低下することを防
止できる。
【００１７】請求項３記載の基板のクリーニング装置
は、請求項２記載の基板のクリーニング装置において、
載置手段で基板を載置し、空気反射手段は載置手段に基
板を載置した際の基板の表面の高さと表面の高さがほぼ
同じ高さであるため、載置手段に基板を載置するのみ
で、基板厚さによる影響が無視でき、基板の端部まで充
分にクリーニングできる。
は、請求項２記載の基板のクリーニング装置において、
載置手段で基板を載置し、空気反射手段は載置手段に基
板を載置した際の基板の表面の高さと表面の高さがほぼ
同じ高さであるため、載置手段に基板を載置するのみ
で、基板厚さによる影響が無視でき、基板の端部まで充
分にクリーニングできる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の基板のクリーニング装置の一
実施例を図面に示す液晶表示パネル製造工程でのガラス
基板およびプリント配線基板などのドライクリーニング
装置を参照して説明する。なお、図３および図４に示す
従来例に対応する部分には、同一符号を付して説明す
る。
実施例を図面に示す液晶表示パネル製造工程でのガラス
基板およびプリント配線基板などのドライクリーニング
装置を参照して説明する。なお、図３および図４に示す
従来例に対応する部分には、同一符号を付して説明す
る。
【００１９】図１に示すように、クリーニングヘッド11
には、空気吹付手段としてのプレッシャー側ノズル12
と、空気吸込手段としてのバキューム側ノズル13とが配
置されている。そして、プレッシャー側ノズル12からは
高速度の空気に超音波が加えられて吹き出され、バキュ
ーム側ノズル13からはプレッシャー側ノズル12側から吹
き出される空気に対応する量の空気を吸い込んでいる。
には、空気吹付手段としてのプレッシャー側ノズル12
と、空気吸込手段としてのバキューム側ノズル13とが配
置されている。そして、プレッシャー側ノズル12からは
高速度の空気に超音波が加えられて吹き出され、バキュ
ーム側ノズル13からはプレッシャー側ノズル12側から吹
き出される空気に対応する量の空気を吸い込んでいる。
【００２０】また、クリーニングヘッド11に対向して移
動可能な搬送手段および載置手段としての機能を有する
ステージ14が設けられ、ステージ14上に真空吸着により
ガラス基板Ｇが保持される。なお、ガラス基板Ｇの周囲
には、欠けなどを防止するために、テーパ状のテーパ面
Ｇa が形成されている。
動可能な搬送手段および載置手段としての機能を有する
ステージ14が設けられ、ステージ14上に真空吸着により
ガラス基板Ｇが保持される。なお、ガラス基板Ｇの周囲
には、欠けなどを防止するために、テーパ状のテーパ面
Ｇa が形成されている。
【００２１】さらに、ステージ14の搬送方向の前後に
は、空気反射手段としてのシャッタ16，17が設けられ、
初期状態でクリーニングヘッド11のプレッシャー側ノズ
ル12およびバキューム側ノズル13を閉塞する状態に設定
され、また、シャッタ16の下面にはステージ14の進行を
妨げないためのテーパが形成されている。さらに、シャ
ッタ16，17の上面はステージ14上に載置されるガラス基
板Ｇの厚さ分だけステージ14より高く位置している。ま
た、ステージ14のガラス基板Ｇが載置される搬送方向の
前後には、ガラス基板Ｇの搬送方向の長さ分の間隙を有
してガラス基板Ｇの厚さのダミープレート18，19が配置
されている。
は、空気反射手段としてのシャッタ16，17が設けられ、
初期状態でクリーニングヘッド11のプレッシャー側ノズ
ル12およびバキューム側ノズル13を閉塞する状態に設定
され、また、シャッタ16の下面にはステージ14の進行を
妨げないためのテーパが形成されている。さらに、シャ
ッタ16，17の上面はステージ14上に載置されるガラス基
板Ｇの厚さ分だけステージ14より高く位置している。ま
た、ステージ14のガラス基板Ｇが載置される搬送方向の
前後には、ガラス基板Ｇの搬送方向の長さ分の間隙を有
してガラス基板Ｇの厚さのダミープレート18，19が配置
されている。
【００２２】次に、上記実施例の動作について説明す
る。
る。
【００２３】まず、ステージ14上のダミープレート18，
19間にガラス基板Ｇを真空吸着より保持する。
19間にガラス基板Ｇを真空吸着より保持する。
【００２４】ステージ14ごとガラス基板Ｇが移動し、ク
リーニングヘッド11の直下を一定間隔を保って一定速度
で通過する。このときに、クリーニングヘッド11のプレ
ッシャー側ノズル12から吹き出された高速度の空気は、
ガラス基板Ｇの表面に衝突し、ガラス基板Ｇの表面上の
塵埃などの付着物を除去すると同時に、クリーニングヘ
ッド11のバキューム側ノズル13から吸い込まれ、ガラス
基板Ｇ上の付着物が除去される。
リーニングヘッド11の直下を一定間隔を保って一定速度
で通過する。このときに、クリーニングヘッド11のプレ
ッシャー側ノズル12から吹き出された高速度の空気は、
ガラス基板Ｇの表面に衝突し、ガラス基板Ｇの表面上の
塵埃などの付着物を除去すると同時に、クリーニングヘ
ッド11のバキューム側ノズル13から吸い込まれ、ガラス
基板Ｇ上の付着物が除去される。
【００２５】また、ガラス基板Ｇのクリーニングの前後
では、クリーニングヘッド11のプレッシャー側ノズル12
とバキューム側ノズル13とに、ガラス基板Ｇの厚さと同
じ間隙でシャッタ16，17が対向しているため、プレッシ
ャー側ノズル13から吹き出される高速度の空気はシャッ
タ16，17で反射され、確実にバキューム側ノズル13によ
り吸い込まれ、クリーン度が低下することを防止でき、
塵埃などの再付着を防止できる。
では、クリーニングヘッド11のプレッシャー側ノズル12
とバキューム側ノズル13とに、ガラス基板Ｇの厚さと同
じ間隙でシャッタ16，17が対向しているため、プレッシ
ャー側ノズル13から吹き出される高速度の空気はシャッ
タ16，17で反射され、確実にバキューム側ノズル13によ
り吸い込まれ、クリーン度が低下することを防止でき、
塵埃などの再付着を防止できる。
【００２６】さらに、図２に示すように、ガラス基板Ｇ
のクリーニングを行なう際に、ステージ14上にガラス基
板Ｇの厚さと同じ厚さのダミープレート18，19が配置さ
れているため、プレッシャー側ノズル12から吹き出され
る高速度の空気がガラス基板Ｇの端面Ｇe に衝突するこ
とがなくなる。したがって、ガラス基板Ｇの端面Ｇeで
の乱流の発生が最小限となるため、ガラス基板Ｇの端部
の周辺まで充分にクリーニングを行なうことが可能とな
る。
のクリーニングを行なう際に、ステージ14上にガラス基
板Ｇの厚さと同じ厚さのダミープレート18，19が配置さ
れているため、プレッシャー側ノズル12から吹き出され
る高速度の空気がガラス基板Ｇの端面Ｇe に衝突するこ
とがなくなる。したがって、ガラス基板Ｇの端面Ｇeで
の乱流の発生が最小限となるため、ガラス基板Ｇの端部
の周辺まで充分にクリーニングを行なうことが可能とな
る。
【００２７】
【発明の効果】請求項１記載の基板のクリーニング方法
によれば、基板に高速度の空気を吹き付ける前後では、
空気の吹き付けを反射して吸い込ませるため、吸い込ま
れることがない状態で単に空気が出されることを防止し
て、塵埃などが飛散してクリーン度が低下することを防
止できる。
によれば、基板に高速度の空気を吹き付ける前後では、
空気の吹き付けを反射して吸い込ませるため、吸い込ま
れることがない状態で単に空気が出されることを防止し
て、塵埃などが飛散してクリーン度が低下することを防
止できる。
【００２８】請求項２記載の基板のクリーニング装置に
よれば、基板の相対的な搬送方向の前後に空気反射手段
を設け、空気吹付手段からの空気を空気吸込手段に反射
するため、吸い込まれることがない状態で単に空気が吹
き出されることを防止して、塵埃などが飛散してクリー
ン度が低下することを防止できる。
よれば、基板の相対的な搬送方向の前後に空気反射手段
を設け、空気吹付手段からの空気を空気吸込手段に反射
するため、吸い込まれることがない状態で単に空気が吹
き出されることを防止して、塵埃などが飛散してクリー
ン度が低下することを防止できる。
【００２９】請求項３記載の基板のクリーニング装置に
よれば、請求項２記載の基板のクリーニング装置に加
え、空気反射手段は載置手段に基板を載置した際の基板
の表面の高さと表面の高さがほぼ同じ高さであるため、
載置手段に基板を載置するのみで、基板厚さによる影響
が無視でき、基板の端部まで充分にクリーニングでき
る。
よれば、請求項２記載の基板のクリーニング装置に加
え、空気反射手段は載置手段に基板を載置した際の基板
の表面の高さと表面の高さがほぼ同じ高さであるため、
載置手段に基板を載置するのみで、基板厚さによる影響
が無視でき、基板の端部まで充分にクリーニングでき
る。
【図１】本発明の一実施例を示すガラス基板のクリーニ
ング装置を示す側面図である。
ング装置を示す側面図である。
【図２】同上ガラス基板の端部周辺のクリーニング時の
気流状態を示した説明図である。
気流状態を示した説明図である。
【図３】従来例のガラス基板のクリーニング装置を示す
側面図である。
側面図である。
【図４】同上ガラス基板の端部周辺のクリーニング時の
気流状態を示した説明図である。
気流状態を示した説明図である。
12 空気吹付手段としてのプレッシャー側ノズル 13 空気吸込手段としてのバキューム側ノズル 14 搬送手段および載置手段としてのステージ 16，17 空気反射手段としてのシャッタ Ｇ ガラス基板
Claims (3)
- 【請求項１】 基板の表面に高速度の空気を吹き付け、
この吹き付けられた空気を前記基板の表面で反射して吹
き付けられた空気に対応して空気を塵埃とともに吸い込
む基板のクリーニング方法において、 前記基板に高速度の空気を吹き付ける前後では、空気の
吹き付けを反射させて吸い込ませることを特徴とする基
板のクリーニング方法。 - 【請求項２】 基板の表面に高速度の空気を吹き付ける
空気吹付手段と、 前記基板の表面で反射された空気を吸い込む空気吸込手
段と、 前記基板を前記空気吹付手段および前記空気吸込手段に
対して相対的に搬送する搬送手段と、 前記基板の相対的な搬送方向の前後に設けられ前記空気
吹付手段からの空気を前記空気吸込手段に反射する空気
反射手段とを具備したことを特徴とする基板のクリーニ
ング装置。 - 【請求項３】 基板を載置する載置手段を備え、 空気反射手段は、前記載置手段に前記基板を載置した際
の前記基板の表面の高さと表面の高さがほぼ同じ高さで
あることを特徴とする請求項２記載の基板のクリーニン
グ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32538793A JPH07181467A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 基板のクリーニング方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32538793A JPH07181467A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 基板のクリーニング方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07181467A true JPH07181467A (ja) | 1995-07-21 |
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ID=18176268
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| JP (1) | JPH07181467A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002313844A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-25 | Toray Eng Co Ltd | チップ供給装置およびチップ実装装置 |
| WO2004069438A1 (fr) * | 2003-02-08 | 2004-08-19 | Quanta Display Inc. | Appareil de nettoyage a bain d'air automatique et procede d'assemblage d'un dispositif d'affichage a cristaux liquides |
| CN101664744A (zh) * | 2008-09-04 | 2010-03-10 | 修谷鲁电子机器股份有限公司 | 除尘装置 |
| GB2480873A (en) * | 2010-06-04 | 2011-12-07 | Plastic Logic Ltd | Reducing defects in electronic apparatus |
| CN102989732A (zh) * | 2012-11-12 | 2013-03-27 | 彩虹（张家港）平板显示有限公司 | 一种离子风幕除尘方法 |
-
1993
- 1993-12-22 JP JP32538793A patent/JPH07181467A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002313844A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-25 | Toray Eng Co Ltd | チップ供給装置およびチップ実装装置 |
| JP4544776B2 (ja) * | 2001-04-19 | 2010-09-15 | 東レエンジニアリング株式会社 | チップ供給装置およびチップ実装装置 |
| WO2004069438A1 (fr) * | 2003-02-08 | 2004-08-19 | Quanta Display Inc. | Appareil de nettoyage a bain d'air automatique et procede d'assemblage d'un dispositif d'affichage a cristaux liquides |
| CN101664744A (zh) * | 2008-09-04 | 2010-03-10 | 修谷鲁电子机器股份有限公司 | 除尘装置 |
| JP2010058057A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Hugle Electronics Inc | 除塵装置 |
| KR101477069B1 (ko) * | 2008-09-04 | 2014-12-29 | 휴글엘렉트로닉스가부시키가이샤 | 제진 장치 |
| GB2480873A (en) * | 2010-06-04 | 2011-12-07 | Plastic Logic Ltd | Reducing defects in electronic apparatus |
| GB2480873B (en) * | 2010-06-04 | 2014-06-11 | Plastic Logic Ltd | Reducing defects in electronic apparatus |
| CN102989732A (zh) * | 2012-11-12 | 2013-03-27 | 彩虹（张家港）平板显示有限公司 | 一种离子风幕除尘方法 |
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