JP4544776B2 - チップ供給装置およびチップ実装装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、樹脂基板やガラス基板などの基板上に半導体素子や表面実装部品などのチップを実装する工程に用いられるチップ供給装置およびチップ実装装置に係り、特に、チップトレイに収納されたチップを取り出して姿勢変換する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、チップ実装工程では、半導体素子などのチップはチップトレイと呼ばれる偏平な容器内に縦横に整列配置して収納されている。自動化されたチップ実装装置は、上記チップトレイからチップを取り出して、そのチップを実装ヘッドに受け渡すための所定位置にまで移送するチップ供給装置を備えている。チップを受け取ったヘッドは、チップをフェイスダウン状態(バンプが基板側にある状態)で保持して、基板上にチップを実装する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。上述したように、実装ヘッドがチップをフェイスダウン状態で保持する関係で、従来のチップ供給装置によれば、チップをフェイスダウン状態でチップトレイに収納しておく必要がある。これに対して、一般にチップはフェイスアップ状態(バンプが基板と反対側にある状態)でチップトレイに収納されているか、または、ウエハーをダイシングした状態で、かつフェイスアップで供給される。そのため、チップ実装工程に搬入されたチップトレイをチップ供給装置にセッティングする前に、作業者がチップを別のチップトレイに入れ換えて、チップをフェイスダウン状態にするという、煩雑な作業を余儀なくされている。
【0004】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、チップの供給を効率よく行うことができるチップ供給装置およびチップ実装装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、請求項1に記載の発明は、複数個のチップをフェイスアップ状態で収納したチップトレイまたはフェイスアップ状態のウエハーからチップを1個または複数個同時に順次取り出して姿勢変換し、そのチップを所定位置にフェイスダウン状態で供給するチップ供給装置であって、前記チップトレイ内またはフェイスアップ状態のウエハーのチップを順次取り出し、そのチップをフェイスアップ状態で保持して移送する第1のチップ移送手段と、前記第1のチップ移送手段からチップを受け取り、そのチップを保持して表裏反転することにより、そのチップをフェイスダウン状態に姿勢変換するチップ反転手段と、前記チップ反転手段にフェイスダウン状態で保持されるチップのチップフェイスに向けて、気体噴出孔から気体を吹き付け、吹き付けた気体を排気孔に吸引排気してチップを洗浄するチップ洗浄手段と、前記チップ反転手段からチップを受け取り、そのチップをフェイスダウン状態で保持するチップ保持手段と、前記チップ保持手段からチップを受け取り、そのチップを保持して移送することにより、そのチップを所定位置にフェイスダウン状態で供給する第2のチップ移送手段とを備え、前記チップ反転手段は、チップをフェイスアップ状態でチップを挟むことで位置決めする位置決め手段を備え、前記チップ洗浄手段は、前記チップ保持手段と並んで配置されており、かつ、前記チップ保持手段およびチップ洗浄手段は、チップをフェイスダウン状態に保持している前記チップ反転手段の下方位置に択一的に進入可能に構成されていることを特徴とする。
【0006】
【0007】
【0008】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のチップ供給装置において、前記チップ洗浄手段が、チップフェイスに向けて吹き付ける気体に超音波を付与する超音波付与手段を備えている。
【0009】
【0010】
【0011】
請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2のいずれかに記載のチップ供給装置を備えたチップ実装装置である。
【0012】
【作用】
本発明の作用は次のとおりである。請求項1に記載の発明によれば、第1のチップ移送手段がチップトレイまたはフェイスアップ状態のウエハーからチップを1個または複数個同時に順次取り出し、そのチップをフェイスアップ状態に保持してチップ反転手段に移送する。チップ反転手段は、そのチップを保持して表裏反転することにより、チップをフェイスダウン状態に姿勢変換する。姿勢変換されたチップをチップ保持手段が受け取る。第2のチップ移送手段はチップ保持手段からチップを受け取り、そのチップを所定位置に移送してフェイスダウン状態で供給する。以上のように、チップトレイなどからチップ反転手段へのチップ移送と、チップ保持手段から所定位置へのチップ移送とが、個別のチップ移送手段によって効率よく行われる。
【0013】
また、第1のチップ移送手段からチップを受け取ったチップ反転手段は、位置決め手段でチップを位置決めした後、そのチップをチップ保持手段に受け渡す。
【0014】
また、チップのチップフェイスに向けて、チップ洗浄手段が気体を吹き付けてチップを洗浄する。
また、気体の吹き付けによって飛散した塵埃が気体とともに排気孔から吸引排気される。
また、チップをフェイスダウン状態に保持しているチップ反転手段の下方位置に、まずチップ洗浄手段が進入して、チップに気体を吹き付けることによりチップを洗浄する。チップを洗浄した後、チップ洗浄手段が退避移動する一方、チップ保持手段がチップ反転手段の下方位置に進入し、チップ反転手段からチップを受け取る。
【0015】
請求項2に記載の発明によれば、超音波付与手段が、チップフェイスに向けて吹き付ける気体に超音波を付与するので、洗浄効果が高められる。
【0016】
【0017】
【0018】
請求項3に記載の発明によれば、請求項1または2のいずれかに記載のチップ供給装置によって所定位置にフェイスダウン状態で供給されたチップが基板上に実装される。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。図1は、本発明に係るチップ供給装置を備えたチップ実装装置の一実施例の概略構成を示した斜視図である。
【0020】
本実施例に係るチップ実装装置は、大きく分けて、装置基台10と、この装置基台10の一端側(図1では左端)に配設された基板供給ユニット20と、装置基台10の奥側に配設されたチップ供給ユニット30(本発明に係るチップ供給装置の一実施例)と、基板供給ユニット20の隣に配設された接着剤付着ユニット40と、その隣に配設された仮圧着ユニット50と、さらにその隣に配設された本圧着ユニット60と、装置基台10の他端側(図1では右端)に配設された基板収納ユニット70と、装置基台10の手前側に配設された4つの基板搬送機構80A〜80Dとから構成されている。
【0021】
基板供給ユニット20は、チップ実装前の複数枚の基板1を一定間隔で多段に収納する基板収納マガジン21と、この基板収納マガジン21から基板1を順に取り出す昇降および水平移動可能な昇降テーブル22とを備えている。本発明において基板1の種類は特に限定されず、例えば樹脂基板、ガラス基板、フィルム基板、チップ、ウエハーなど、チップと接合可能な種々の種類および大きさのものを含む。例えば、この実施例では液晶ディスプレイパネル用の基板1にチップを実装する。また、基板供給ユニット20は、基板1を順に供給可能であれば、その構造は特に限定されず、例えば、複数枚の基板1を水平面内に整列配置したトレイ構造であってもよい。
【0022】
チップ供給ユニット30は、図2に示すように、基板1に実装すべき複数個のチップ2をフェイスアップ状態で縦横に整列配置したチップトレイ3と、このチップトレイ3からチップ2を1個ずつ(または、複数個同時であってもよい)順に取り出し、そのチップ2をフェイスアップ状態で移送する第1のチップ移送機構31Aと、この第1のチップ移送機構31Aからチップ2を受け取り、そのチップ2を保持して上下反転することにより、そのチップ2をフェイスダウン状態に姿勢変換するチップ反転テーブル32と、このチップ反転テーブル32からチップ2を受け取り、そのチップ2をフェイスダウン状態で保持するチップ保持テーブル33と、このチップ保持テーブル33からチップ2を受け取り、そのチップ2を保持して移送することにより、そのチップ2を所定位置(具体的には、待機位置にあるスライダー34上の所定位置)にフェイスダウン状態で供給する第2のチップ移送機構31Bとを備えている。
【0023】
具体的には、チップトレイ3の一辺に沿う方向(Y方向)に固定レール35Aが設けられており、この固定レール35A上を、X方向に延びる可動レール35Bが走行するようになっている。この可動レール35B上を走行する可動ベース36に上述した第1のチップ移送機構31Aと第2のチップ移送機構31Bとが間隔をあけて取り付けられている。両チップ移送機構31A、31Bの下端部には、チップを吸着保持するチップ吸着部がそれぞれ設けられている。二つのチップ吸着部の間隔は、チップ反転テーブル32上のチップ載置位置とチップ保持テーブル33上のチップ載置位置との間隔と同じになるように構成されている。
【0024】
チップ反転テーブル32には、このテーブル32上に置かれたチップ2の対角線上の両角部に当接してチップ2を位置決めする開閉可能な一対の位置決め部材37が配設されている。位置決め部材37は、両部材が開閉移動するタイプ、あるいは一方の部材が固定で、他方の部材が移動するタイプのいずれであってもよい。また、位置決め部材37を2個以上設けてもよい。このチップ反転テーブル32は、Y方向の軸心P周りに180度の範囲で回動可能に構成されている。
【0025】
上述したチップ保持テーブル33に並んでチップ洗浄ブロック38が配設されている。チップ洗浄ブロック38は、その上面の中央部に窒素ガスあるいは清浄空気などの気体を噴出する気体噴出孔38Aが設けられている。この気体噴出孔38Aは図示しないガス供給源に接続されている。気体噴出孔38Aの両隣に気体噴出孔38Aから噴出された気体を吸引排気する一対の排気孔38Bが設けられている。この排気孔38Bは図示しない排気ポンプに接続されている。
【0026】
チップ保持テーブル33およびチップ洗浄ブロック38は、スライドテーブル39上に並べて配設されている。このスライドテーブル39は、チップ反転テーブル32の回動軸心Pに沿って往復移動可能に構成されている。このスライドテーブル39の移動によって、チップ2をフェイスダウン状態に保持しているチップ反転テーブル32の下方位置に、チップ保持テーブル33およびチップ洗浄ブロック38を択一的に進入させるようになっている。
【0027】
スライダー34は、Y方向に配設された固定レール35Cに沿って往復移動可能に構成されている。スライダー34は、待機位置(図2の状態)にあるときに、第2のチップ移送機構31Bからチップ2をフェイスダウン状態で載置され、そのチップ2を仮圧着ユニット50に供給する。
【0028】
なお、本発明において、チップ供給ユニット30によって供給されるチップ2の種類は特に限定されず、例えばICチップ、半導体チップ、光素子、表面実装部品、ウエハーなど、基板1と接合可能な種々のものを含む。
【0029】
第1図に戻って、接着剤付着ユニット40は、基板供給ユニット20から搬送されてきた基板1を水平姿勢で保持する可動テーブル41と、基板1のボンディング部位1a に接着剤を付着する2つの接着剤付着ヘッド42とを備えている。可動テーブル41は、基板1を吸着保持する基板保持ステージ43を備え、この基板保持ステージ43が水平2軸(X,Y)方向および上下(Z)方向に移動自在に構成されている。基板1の一端側であるボンディング部位1a は基板保持ステージ43から前方に延び出ている。
【0030】
接着剤付着ヘッド42は、テープ状の基材に塗布された接着剤を基板1のボンディング部位1a に転写する。本実施例において、接着剤は異方性導電膜(ACF:Anisotropic Conductive Film )が用いられている。この異方性導電膜は、接着・導電・絶縁という3つの機能を同時にもつ接続材料で、熱圧着することにより、膜の厚み方向には導通性、面方向には絶縁性という電気的異方性をもつ高分子膜であり、接着性のあるバイダー内に導電粒子が混在している。なお、接着剤は、異方性導電膜に限らず、異方性導電ペースト(ACP:Anisotropic Conductive Paste)、単に接着機能だけを備えた非導電膜(NCF:Non ConductiveFilm )や、非導電ペースト(NCP:Non Conductive Paste)を用いることもできる。接着剤としてペースト状のものを用いる場合には、その接着剤をスクリーン印刷あるいはディスペンサーで基板1に付着するようにしてもよい。接着剤付着ヘッド42の下方には、異方性導電膜を転写するときに、基板1のボンディング部位1a を下側から支持する固定部材であるバックアップ44が配設されている。
【0031】
仮圧着ユニット50は、接着剤付着ユニット40から搬送されてきた基板1を水平姿勢で保持する可動テーブル51と、接着剤が付着された基板1のボンディング部位1a にチップ2を仮圧着する仮圧着ヘッド52と、仮圧着時に基板1とチップ2との位置合わせを行う上下2方向の認識視野をもつ2視野の認識手段(例えば、2視野カメラ)53とを備えている。また、仮圧着ヘッド52の下方にバックアップ55が固定設置されている。可動テーブル51は、基板1を吸着保持する基板保持ステージ54を備え、この基板保持ステージ54が水平2軸(X,Y)方向、上下(Z)方向、およびZ軸周り(θ)方向に、それぞれ移動自在に構成されている。
【0032】
仮圧着ヘッド52は、昇降自在であって、チップ供給ユニット30のスライダー34で移送されてきたフェイスダウン状態のチップ2を下端に吸着保持し、このチップ2を加熱して所定圧力で基板1のボンディング部位に押し付ける。これにより接着剤が半硬化状態になって、チップ2が基板1に仮圧着される。仮圧着ヘッド52のチップ保持構造は吸着式に限らず、可動ツメを使った機械式保持、静電気を使った静電吸着、磁石を使った磁気吸着など、任意の保持構造を用いることができる。
【0033】
2視野の認識手段53は、水平2軸(X,Y)方向および上下(Z)方向に移動可能であって、仮圧着ヘッド52に吸着保持されたチップ2の認識マークと、バックアップ55上に移送された基板1の認識マークとをそれぞれ認識して、両認識マークの位置ズレを検出する。この位置ズレを無くすように仮圧着時に可動テーブル51がX,Y,およびθ方向に駆動制御される。
【0034】
本圧着ユニット60は、仮圧着ユニット50から搬送されてきた基板1を水平姿勢で保持する可動テーブル61と、基板1のボンディング部位1a に仮圧着されたチップ2を加熱・加圧して本圧着する4つの本圧着ヘッド62とを備えている。本圧着ヘッド62の下方にバックアップ63が固定設置されている。また、可動テーブル61は、仮圧着ユニット50の可動テーブル51と同様の基板保持ステージ64を備えている。さらに、本圧着ユニット60は、本圧着ヘッド62でチップ2を加圧するときに、基板1に付着された接着剤が本圧着ヘッド62に付くのを防止するために、フッソ樹脂製の保護テープTを供給する機構を備えている。保護テープTは、本圧着ユニット60の本体フレームに取り付けられた供給ローラ65から繰り出されて、巻き取りローラ66に巻き取られる。
【0035】
基板収納ユニット70は、チップ実装された複数枚の基板1を一定間隔で多段に収納する基板収納マガジン71と、この基板収納マガジン71に基板1を順に収納する昇降および水平移動可能な昇降テーブル72とを備えている。この基板収納マガジン71に代えて、基板供給ユニット20で説明したと同様に、トレイ構造の収納構造を備えてもよい。また、基板供給ユニット20と基板収納ユニット70とは必ずしも個別である必要はなく、これらを単一のユニットにして、チップが実装された基板1を元の基板供給ユニットに戻すようにしてもよい。
【0036】
基板搬送機構80A〜80Dは、装置基台10の長手方向に配設されたレール81と、このレール81に沿って走行する支柱82と、この支柱82に昇降自在に取り付けられて基板1を吸着保持する基板保持具83とを備えている。
【0037】
次に上述した構成を備えたチップ実装装置の動作を説明する。基板搬送機構80Aは、基板供給ユニット20から処理対象の基板1を取り出して、この基板1を接着剤付着ユニット40に搬送する。この基板1は可動テーブル41の基板保持ステージ43上に移載されて吸着保持される。基板保持ステージ43が前方(Y方向)に移動して、基板1のボンディング部位をバックアップ44上に載せる。基板1のボンディング部位1aがバックアップ44によって水平に支持された状態で、2つの接着剤付着ヘッド42がそれぞれ下降して、ボンディング部位上に接着剤が転写される。接着剤の転写が終わる可動と、基板保持ステージ43が基板1の受け渡し位置に水平移動する。受け渡し位置に戻された基板1は基板搬送機構80Bによって、仮圧着ユニット50に搬送される。
【0038】
仮圧着ユニット50に搬送された基板1は可動テーブル51の基板保持ステージ54上に移載されて吸着保持される。基板保持ステージ54が前方(Y方向)に移動して、基板1のボンディング部位1aをバックアップ55上に位置させる。
【0039】
一方、チップ供給ユニット30では、レール35Bと可動ベース36とがX、Y方向にそれぞれ移動することにより、第1のチップ移送機構31Aがチップトレイ3の所定のチップ2上に移動する。続いて第1のチップ移送機構31Aが下降して、チップトレイ3内のチップ2をチップ吸着部で吸着保持する。第1のチップ移送機構31Aが上昇してチップ2をチップトレイ3から取り出した後、レール35Bと可動ベース36とがX、Y方向にそれぞれ移動することにより、第1のチップ移送機構31Aがチップ反転テーブル32上に移動する。このときチップ反転テーブル32は、チップ載置面が上方を向いた待機姿勢(図2に示す状態)にある。次に第1のチップ移送機構31Aが下降し、チップ吸着部で保持していたチップ2をチップ反転テーブル32上に移す。
【0040】
チップ反転テーブル32上にチップ2が載置されると、一対の位置決め部材37が閉じる方向に動いてチップ2の角部に当接することにより、チップ2を位置決めする。位置決め部材37でチップ2を挟んで保持した状態で、チップ反転テーブル32が軸心P周りに反転し、フェイスアップ状態のチップ2をフェイスダウン状態に姿勢変換する。反転したチップ反転テーブル32の下にチップ洗浄ブロック38が進入する。
【0041】
以下、図3を参照して説明する。図3はチップ反転テーブル32の下にチップ洗浄ブロック38が進入した状態を示した断面図である。図3に示すように、フェイスダウン状態に姿勢変換されたチップ2の表面(チップフェイス)に向けて気体噴出孔38Aから清浄空気(以下、単に「エアー」という)が吹き付けられる。気体噴出孔38Aの内部にはエアー振動機構38Cが設けられており、このエアー振動機構38Cがエアーを振動させてエアーに超音波を付与する。超音波が付与されたエアーがチップ2の表面に吹き付けられることにより、チップ2に付着していた塵埃がチップ2から容易に取り除かれる。気体噴出孔38Aからのエアーの噴出と同時に、一対の排気孔38Bからエアーが吸引排気される。その結果、チップ2から取り除かれた塵埃がエアーとともに排気孔38Bから吸引排気されるので、飛散した塵埃がチップ2に再付着するなどの不都合が生じない。また、チップ2がフェイスダウン状態にあるので、チップ2の表面に塵埃が一層付着しにくい。
【0042】
チップ2の洗浄が終わるとエアーの噴出および吸引排気を停止した後、スライドテーブル39が移動することにより、チップ洗浄ブロック38がチップ反転テーブル32の下方位置から退出するとともに、チップ保持テーブル33がチップ反転テーブル32の下方に進入する。続いて位置決め部材37が開くことにより、チップ反転テーブル32からチップ保持テーブル33へチップ2が受け渡される。チップ反転テーブル32はフェイスダウン状態で受け渡されたチップ2を吸着保持する。チップ2を受け渡した後、チップ反転テーブル32は逆方向に反転して待機姿勢に復帰する。
【0043】
チップ2の反転・受け渡しが行われている間、第1のチップ移送機構31Aは次のチップ2をチップトレイ3から取り出している。チップ反転テーブル32が待機姿勢に復帰すると、第2のチップ移送機構31Bがチップ保持テーブル33のチップ2の上方に移動する。第2のチップ移送機構31Bと一体になって第1のチップ移送機構31Aも移動する。上述したように、第1のチップ移送機構31Aと第2のチップ移送機構31Bとの間隔は、チップ反転テーブル32上のチップ載置位置とチップ保持テーブル33上のチップ載置位置との間隔に等しくなるように設定されているので、第2のチップ移送機構31Bがチップ保持テーブル33のチップ2の上方位置に達すると、第1のチップ移送機構31Aもチップ反転テーブル32上のチップ載置位置の上方位置に達する。
【0044】
各位置に達した第1および第2のチップ移送機構31A、31Bは同時に下降して、第1のチップ移送機構31Aはチップ吸着部に保持していた次のチップ2を反転テーブル32上に移載する。一方、第2のチップ移送機構31Bはチップ保持テーブル33上のチップ2をチップ吸着部で吸着保持する。このように第1および第2のチップ移送機構31A、31Bの動作を同時並行して行うことができるので,装置の処理効率を向上させることができる。
【0045】
チップ保持テーブル33上のチップ2をフェイスダウン状態で保持した第2のチップ移送機構31Bは、そのチップ2を移送してスライダー34に受け渡す。チップ2をフェイスダウン状態で受け取ったスライダー34は仮圧着ユニット50に向けて移動し、そのチップ2を仮圧着ヘッド52の下方にまで移送する。
【0046】
スライダー34で移送されたチップ2を仮圧着ヘッド52が吸着保持する。続いて、仮圧着ヘッド52と、バックアップ55で支持された基板1のボンディング部位1aとの間に2視野の認識手段53が進出してきて、仮圧着ヘッド52に吸着保持されたチップ2と基板1との位置ズレを検出する。この位置ズレを無くすように可動テーブル51がX,Yおよびθ方向に制御されて、チップ2と基板1との位置合わせが行われる。位置合わせが終わると、2視野の認識手段53は元の位置にまで後退する。続いて、仮圧着ヘッド52が下降して、接着剤が付着された基板1のボンディング部位1aにチップ2を仮圧着する。チップ2の仮圧着が終わると、基板保持ステージ54が基板1の受け渡し位置に水平移動する。受け渡し位置に移動した基板1は基板搬送機構80Cによって本圧着ユニット60に搬送される。
【0047】
本圧着ユニット60に搬送された基板1は可動テーブル61の基板保持ステージ64上に移載されて吸着保持される。基板保持ステージ64が前方(Y方向)に移動して、基板1のボンディング部位1aをバックアップ63上に位置させる。ボンディング部位1aがバックアップ63で支持されると、本圧着ヘッド62が下降して、仮圧着されたチップ2を保護テープTを介して加熱・加圧する。これによりチップ2のバンプが接着剤(異方性導電膜)を介して基板1の電極に電気的に接続する。
【0048】
チップ2の本圧着が終わると、基板保持ステージ64が基板1の受け渡し位置に水平移動する。受け渡し位置に移動した基板1は基板搬送機構80Dで移送されて基板収納ユニット70の昇降テーブル72に受け渡され、この昇降テーブル72によって基板収納トレイ71に収納される。
【0049】
以上で一枚の基板1のチップ実装が終了する。なお、ある基板1が仮圧着ユニット50でチップ2を仮圧着されている間に、接着剤付着ユニット40では次の基板1へ接着剤が転写されている。このように各ユニットでは基板1への接着剤の転写、チップ2の仮圧着、チップ2の本圧着が並行して行われている。
【0050】
以上のように本実施例に係るチップ実装装置は、チップ供給ユニット部30において、フェイスアップ状態でチップ2を収納したチップトレイ3からチップ2を取り出した後、そのチップ2をフェイスダウン状態に姿勢変換して仮圧着ユニット50に供給しているので、作業者がチップ2を別のチップトレイに入れ換えてチップ2の姿勢を変換するという煩わしい作業が不要であり、チップ実装処理の効率を向上することができる。また、二つのチップ移送機構31A、31Bを用いて、チップ反転テーブル32へのチップ移載と、チップ保持テーブル33上のチップ2の保持とを同時並行して行っているので、処理効率を一層向上させることもできる。
【0051】
本発明は上述した実施例に限らず、次のように変形実施することができる。
(1)上記実施例において、第1および第2のチップ移送機構31A、31Bやチップ保持テーブル33は、チップ2を吸着手段によって保持すると説明したが、吸着手段に代えてチップを挟んで保持する機械的保持手段や、磁力で保持する磁気保持手段や、静電気で保持する静電保持手段など、任意の保持手段を用いることができる。同様に、チップ反転テーブル32では、チップ2を機械的に保持した状態で上下に反転したが、上述した吸着手段、磁気保持手段、静電保持手段などでチップを保持した状態で反転させてもよい。
【0052】
(2)上記実施例では、チップ洗浄ブロック38の中央部に気体噴出孔38Aを、その両隣に排気孔38Bをそれぞれ設けたが、これに代えて排気孔を中央に、その両隣に気体噴出孔をそれぞれ設けるようにしてもよい。また、気体の噴出や吸引排気をノズルを使って行うようにしてもよい。
【0053】
(3)チップの洗浄効果を高めるために、上記実施例のようにエアーに超音波を付与するのが好ましいが、必ずしも超音波を付与しなくてもよい。
【0054】
(4)上記実施例では、第1および第2のチップ移送機構31A、31Bが一体になって移動するように構成したが、各チップ移送機構が個別に移動するように構成してもよい。
【0055】
(5)上記実施例では処理効率を上げるために圧着ユニットを仮圧着ユニット50と本圧着ユニット60との2つのユニットに分割したが、チップの位置合わせと電気的接続とを一つの圧着ユニットで行うようにしてもよい。
【0056】
(6)本発明において各ユニットおよび基板搬送機構の配置や構成は上記実施例のものに限定されず、種々変更実施可能である。例えば、複数個の基板保持具を備えた基板搬送機構をZ軸周りに回転可能に構成し、この基板搬送機構の周りに、基板供給ユニット、チップ供給ユニット、接着剤付着ユニット、仮圧着ユニット、本圧着ユニット、および基板収納ユニットを順に配置するようにしてもよい。
【0057】
(7)本発明に係るチップ実装装置は、チップ搭載のための単なるマウント装置や、加熱加圧プロセスを有したボンディング装置など、種々の形態のものを含む。
【0058】
(8)実施例では、チップをフェイスアップ状態でチップトレイに収納したが、本発明はこれに限らず、ウエハーをダイシングした状態で、かつフェイスアップで供給してもよい。
【0059】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば次の効果を奏する。請求項1に記載の発明によれば、チットレイまたはウエハーからフェイスアップ状態のチップを取り出して所定位置に供給するまでの過程において、チップをフェイスダウン状態に自動的に姿勢変換するので、作業者がチップトレイなどの入れ換え作業によってチップの姿勢変換を行っていた従来に比べて、チップ供給を効率よく行うことができる。また、本発明によれば、チップトレイなどからチップ反転手段へのチップ移送と、チップ保持手段から所定位置へのチップ移送とを、二つのチップ移送手段を使って行っているので、単一の移送手段で行う場合に比べて、チップの供給を一層効率よく行うことができる。
【0060】
また、チップの姿勢変換の過程でチップの位置決めを行っているので、チップを供給位置に精度よく供給することができる。
【0061】
また、チップのチップフェイスに気体を吹き付けているので、チップを効果的に洗浄することができる。
また、チップフェイスに吹き付けた気体を吸引排気しているので、チップフェイスから飛散した塵埃がチップフェイスに再付着することがなく、チップをより一層効果的に洗浄することができる。
また、反転させたチップ反転手段の下方位置にチップ保持手段とチップ洗浄手段とを択一的に進入させて処理しているので、チップの反転・洗浄・保持を効率よく行うことができる。
【0062】
請求項2に記載の発明によれば、チップに吹き付ける気体に超音波を付与しているので、チップを一層効果的に洗浄することができる。
【0063】
【0064】
【0065】
請求項3に記載の発明によれば、所定位置にチップを効率よく供給してチップを実装することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係るチップ供給装置を用いたチップ実装装置の一実施例の概略構成を示した斜視図である。
【図2】 チップ供給ユニットの概略構成を示した斜視図である。
【図3】 チップ洗浄過程の状態を示した断面図である。
【符号の説明】
1 … 基板
2 … チップ
3 … チップトレイ
20 … 基板供給ユニット
30 … チップ供給ユニット(チップ供給装置)
31A… 第1のチップ移送機構
31B… 第2のチップ移送機構
32 … チップ反転テーブル
33 … チップ保持テーブル
34 … スライダー
37 … 位置決め部材
38 … チップ洗浄ブロック
38A… 気体噴出孔
38B… 排気孔
40 … 接着剤付着ユニット
50 … 仮圧着ユニット
60 … 本圧着ユニット
70 … 基板収納ユニット
Claims (3)
- 複数個のチップをフェイスアップ状態で収納したチップトレイまたはフェイスアップ状態のウエハーからチップを1個または複数個同時に順次取り出して姿勢変換し、そのチップを所定位置にフェイスダウン状態で供給するチップ供給装置であって、
前記チップトレイ内またはフェイスアップ状態のウエハーのチップを順次取り出し、そのチップをフェイスアップ状態で保持して移送する第1のチップ移送手段と、
前記第1のチップ移送手段からチップを受け取り、そのチップを保持して表裏反転することにより、そのチップをフェイスダウン状態に姿勢変換するチップ反転手段と、
前記チップ反転手段にフェイスダウン状態で保持されるチップのチップフェイスに向けて、気体噴出孔から気体を吹き付け、吹き付けた気体を排気孔に吸引排気してチップを洗浄するチップ洗浄手段と、
前記チップ反転手段からチップを受け取り、そのチップをフェイスダウン状態で保持するチップ保持手段と、
前記チップ保持手段からチップを受け取り、そのチップを保持して移送することにより、そのチップを所定位置にフェイスダウン状態で供給する第2のチップ移送手段とを備え、
前記チップ反転手段は、チップをフェイスアップ状態でチップを挟むことで位置決めする位置決め手段を備え、
前記チップ洗浄手段は、前記チップ保持手段と並んで配置されており、かつ、前記チップ保持手段およびチップ洗浄手段は、チップをフェイスダウン状態に保持している前記チップ反転手段の下方位置に択一的に進入可能に構成されている
ことを特徴とするチップ供給装置。 - 請求項1に記載のチップ供給装置において、前記チップ洗浄手段は、チップフェイスに向けて吹き付ける気体に超音波を付与する超音波付与手段を備えているチップ供給装置。
- 請求項1または請求項2のいずれかに記載のチップ供給装置を備えたチップ実装装置。
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