JPH0199676A - クリーニング装置 - Google Patents

クリーニング装置

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Publication number
JPH0199676A
JPH0199676A JP25539387A JP25539387A JPH0199676A JP H0199676 A JPH0199676 A JP H0199676A JP 25539387 A JP25539387 A JP 25539387A JP 25539387 A JP25539387 A JP 25539387A JP H0199676 A JPH0199676 A JP H0199676A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dust
substrate
suction
blow nozzle
nozzle
Prior art date
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Pending
Application number
JP25539387A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunihiko Ikuno
生野 邦彦
Akiyoshi Kawazu
河津 明美
Yoshiro Maki
牧 芳郎
Narihiro Minamide
南出 整宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP25539387A priority Critical patent/JPH0199676A/ja
Publication of JPH0199676A publication Critical patent/JPH0199676A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、液晶表示装置の組立工程で基板の表面をク
リーニングする装置に関する。
従来の技術 従来、液晶表示装置の組立工程で基板の表面に付着した
ダストを除去するために、排気設備を備えたペンチの中
でエアーガン等で吹き飛ばす方法がとられていた。
発明が解決しようとする問題点 しかし、このような方法で基板の表面に付着したダスト
の除去を行っても、除去したダストが空中を浮遊したの
ち再び基板の表面に付着するなどのため安定したクリー
ニング効果が得られなかったO そこで、本発明は、除去したダストが空中に浮遊しない
ことと、除去したダストが基板に再付着するのを防ぐよ
うにしたりlJ=ング装置を提供するものである。
問題点を解決するための手段 そして上記問題点を解決する本発明の技術的な手段は、
上記クリーニング装置において、基板を吸着する吸着テ
ーブルを蓋としたクリーニングボックスに、ダストを吹
き飛ばすブローノズルと、ダストを吸引して排出する吸
引ノズルを備えるものである。
作  用 この技術的手段による作用は次のようになる。
基板を吸着した吸着テーブルで蓋をすることによシ、密
閉状態にしたクリーニングボックスの内側で、ダストを
吸引して排出する吸引ノズルを作動してから、ダストを
吹き飛ばすブローノズルを作動させ、前記ブローノズル
が停止してから前記吸引ノズルを停止するタイミングで
基板表面に付着したダストを除去する◎又、この時前記
ブローノズルから吹き出す気体の供給量より、ダストを
吸引して排出する吸引ノズルの吸引量の方を高い値に設
定しである。このため前記クリーニングボックスの内側
の気体の流れは、第1図に示すととくダストを吹き飛ば
すブローノズル1から吹き出した気体が、吸着テーブル
2に吸着しである基板3に当り表面に付着したダストを
吹き飛ばしたのち、クリーニングボックス8の中で浮遊
することなく瞬時に吸引ノズル4と5に流れて排出され
るのである。
実施例 以下本発明の一実施例を図面にもとづいて説明する。
第2図において、吸着テーブル2は基板3を吸着するも
ので、クリーニングボックス8の上側に設けてあり、シ
ール材7を介して密着してクリーニングボックス8が密
閉できるようになっている。
プローノズ/l/1は、ガイトレー)V6にガイドされ
て基板3に平行に往復移動しながらホース9から供給さ
れる圧縮空気を吹き付ける。又、ブローノズル1は基板
3に対して斜めに設けである。又、吸引ノズ/l/4と
5はブローノズ/L’1が移動する方向の前後に設けで
ある。
次にこの一実施例の構成における作用を説明するO マス、吸着テープ/V2をクリーニングボックス8の上
側に設けであるのは、吸着した基板3の表面を下向きに
してダストを吹き飛ばすためで基板3の表面を下向きに
することにより、−旦除去したダストが再び基板の上に
乗って付着するのを防いでいる。
又、ブローノズルし1をガイトレー/L/6によす往復
移動しながらホース9から供給される圧縮空気を吹き付
けて、基板3の表面に付着しているダストを吹き飛ばす
とともに瞬時に吸引ノズ/l/4と5よシダストを排出
する。この時の吸引ノズル4と6と、ブローノズ/L/
1の作動のタイミングは、第3図に示すように吸引ノズ
/I/4と6が作動してから、プローノズ/L’1が作
動する◇又プローノズル1が停止してから吸引ノズル4
,5を停止するように設定しである。更に、ブローノズ
zLz1から吹き出す圧縮空気の供給量に比べて、ダス
トを吸引して排出する吸引ノズ)V4と5の吸引量の方
を高い値にしである。このことによシ、クリーニングボ
ックス8の内側の空気の流れは、クリーニングボックス
の内側で澱むことなく吸引ノズル4トロより瞬時に排出
される。したがってブローノズル1で吹き飛ばしたダス
トも、クリーニングボックス8の中で浮遊することなく
瞬時に吸引ノズ/V4と5の方向に流れて排出されるこ
とになる。
更にブローノズ/v1を基板3に対して斜めに設けたこ
とにより、基板3の表面に付着したダストが効果的に除
去できる。又ブローノズ1lz1が移動する方向に吸引
ノズ/L/4と6を備えたことによシ、プローノズ/L
/1によシ吹き飛ばしたダストを効果的にとらまえるこ
とができる。
発明の効果 本発明は、基板を吸着テーブルを蓋としたクリーニング
ボックスに、ダストを吹き飛ばすブローノズルと、ダス
トを吸引して排出する吸引ノズルを備えたクリーニング
装置で、前記クリーニングボックスを密閉した状態で前
記ブローノズルと前記吸引ノズルの作動するタイミング
と前記ブローノズル1から吹き出す気体の供給量と前記
吸引ノズルから排出する吸引量のバランス等、技術的な
手段を講じることにより、基板の表面よシ除去したダス
トがクリーニングボックスの中で浮遊するのを防ぐとと
もに、除去したダストが基板に再付着するのを防ぐよう
にしたことによシ、安定したクリーニング効果が得られ
るのである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のクリーニング装置の作用を
説明した要部拡大断面図、第2図はクリーニング装置の
構成及び動作を示した要部拡大断面図、第3図は吸引ノ
ズルとブローノズルのタイミングを示したタイミング図
である。 1・・・・・・ブローノズル、2・・・・・・吸着テー
ブル、3・・・・・・基板、4,6・・・・・・吸引ノ
ズル、8・・・・・・クリーニングボックス。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名菓 
1 図 2吠看テーブル 第 2 図

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板を吸着する吸着テーブルを蓋としたクリーニ
    ングボックスに、ダストを吹き飛ばすブローノズルと、
    ダストを吸引して排出する吸引ノズルを備えたクリーニ
    ング装置。
  2. (2)クリーニングボックスの上側に吸着テーブルを設
    けた特許請求の範囲第1項記載のクリーニング装置。
  3. (3)ブローノズルを基板に対して斜めに設けた特許請
    求の範囲第1項記載のクリーニング装置。
  4. (4)吸引ノズルが作動してからブローノズルが作動し
    、前記ブローノズルが停止してから、前記吸引ノズルが
    停止するタイミングを有した特許請求の範囲第1項記載
    のクリーニング装置。
  5. (5)ブローノズルから吹き出す気体の供給量に比べて
    ダストを吸引して排出する吸引ノズルの吸引量の方を高
    い値に設定した特許請求の範囲第1項記載のクリーニン
    グ装置。
  6. (6)ブローノズルが移動する方向に吸引ノズルを備え
    た特許請求の範囲第1項記載のクリーニング装置。
JP25539387A 1987-10-09 1987-10-09 クリーニング装置 Pending JPH0199676A (ja)

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JPH0199676A true JPH0199676A (ja) 1989-04-18

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04326545A (ja) * 1991-04-09 1992-11-16 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 汚染除去装置及び方法
WO1996013067A1 (fr) * 1994-10-21 1996-05-02 Tadahiro Ohmi Procede et appareil de production d'un transistor a couche mince
KR100968531B1 (ko) * 2010-03-25 2010-07-08 주식회사 포스텔 고압증기를 이용한 반도체장치세척장치 및 그를 이용한 반도체장치세척 방법
JP2013071083A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Tokyo Electron Ltd パーティクル捕集装置及びパーティクルの捕集方法
JP2015041646A (ja) * 2013-08-20 2015-03-02 東京エレクトロン株式会社 基板洗浄装置

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US10049899B2 (en) 2013-08-20 2018-08-14 Tokyo Electron Limited Substrate cleaning apparatus

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