JPH1012581A - 微小異物除去装置 - Google Patents
微小異物除去装置Info
- Publication number
- JPH1012581A JPH1012581A JP8165546A JP16554696A JPH1012581A JP H1012581 A JPH1012581 A JP H1012581A JP 8165546 A JP8165546 A JP 8165546A JP 16554696 A JP16554696 A JP 16554696A JP H1012581 A JPH1012581 A JP H1012581A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- nozzles
- nozzle
- chamber
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 73
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 25
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 24
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005188 flotation Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/04—Cleaning by suction, with or without auxiliary action
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 薬液や、超純水を使用する洗浄工程を不要と
してコストダウンを図ると共に効率のよい微小異物除去
を提供する。 【解決手段】 板状部材の表面に外径が気密状態で、か
つ移動可能に支持された複数のノズルと、この複数のノ
ズルの先端から前記板状部材に向かって所定の圧力の気
体を吹付ける気体供給手段と、前記複数のノズルの夫々
に対応して設けられた吸引孔と、この吸引孔を介して前
記気体を吸引する気体吸引手段と、を備えている。
してコストダウンを図ると共に効率のよい微小異物除去
を提供する。 【解決手段】 板状部材の表面に外径が気密状態で、か
つ移動可能に支持された複数のノズルと、この複数のノ
ズルの先端から前記板状部材に向かって所定の圧力の気
体を吹付ける気体供給手段と、前記複数のノズルの夫々
に対応して設けられた吸引孔と、この吸引孔を介して前
記気体を吸引する気体吸引手段と、を備えている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体や液晶の製造プ
ロセス中でウエハやガラス基板上に付着した微粒子を除
去する装置に関し、洗浄液を用いない除去装置に関す
る。
ロセス中でウエハやガラス基板上に付着した微粒子を除
去する装置に関し、洗浄液を用いない除去装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体や液晶の製造プロセスでは、歩留
まりを向上させるために各工程の前段でウエハ表面の微
粒子を除去する工程がある。この微粒子の除去は一般的
には薬液や超純水によるウエット洗浄が用いられてい
る。
まりを向上させるために各工程の前段でウエハ表面の微
粒子を除去する工程がある。この微粒子の除去は一般的
には薬液や超純水によるウエット洗浄が用いられてい
る。
【０００３】図５は例えば液晶（ＴＦＴ）製造プロセス
の一例を示す工程とその工程に用いる装置を示す図であ
る。図に示すように洗浄工程から始まり、成膜→洗浄→
レジスト塗布〜検査工程までが７〜８回繰り返される。
この洗浄工程は一般に薬液や、超純水を使用したウエッ
ト洗浄が行われる。
の一例を示す工程とその工程に用いる装置を示す図であ
る。図に示すように洗浄工程から始まり、成膜→洗浄→
レジスト塗布〜検査工程までが７〜８回繰り返される。
この洗浄工程は一般に薬液や、超純水を使用したウエッ
ト洗浄が行われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウエッ
ト洗浄においては、薬液や超純水を使用するため、それ
らの管理や洗浄装置が大掛りとなり設置のためにコスト
アップになるという問題があった。本発明は上記従来技
術の問題点を解決するためになされたもので、薬液や、
超純水を使用する洗浄工程を不要としてコストダウンを
図ることを目的としている。
ト洗浄においては、薬液や超純水を使用するため、それ
らの管理や洗浄装置が大掛りとなり設置のためにコスト
アップになるという問題があった。本発明は上記従来技
術の問題点を解決するためになされたもので、薬液や、
超純水を使用する洗浄工程を不要としてコストダウンを
図ることを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
本発明の構成は、請求項１においては、板状部材の表面
に配置された複数のノズルと、この複数のノズルの先端
から前記板状部材に向かって所定の圧力の気体を吹付け
る気体供給手段と、前記複数のノズルの夫々に対応して
設けられた吸引孔と、この吸引孔を介して前記気体を吸
引する気体吸引手段と、を備えたことを特徴とするもの
であり、請求項２においては、前記ノズルの先端から前
記板状部材に向かって所定の圧力の気体を吹付けた際
に、このノズルの先端が前記板状部材から所定の距離浮
上するように前記気体供給手段の圧力を制御する気体圧
力制御手段と、前記複数のノズルの先端が並列状態で板
状部材の表面を掃引するように駆動する駆動手段と、を
備えたことを特徴とするものである。
本発明の構成は、請求項１においては、板状部材の表面
に配置された複数のノズルと、この複数のノズルの先端
から前記板状部材に向かって所定の圧力の気体を吹付け
る気体供給手段と、前記複数のノズルの夫々に対応して
設けられた吸引孔と、この吸引孔を介して前記気体を吸
引する気体吸引手段と、を備えたことを特徴とするもの
であり、請求項２においては、前記ノズルの先端から前
記板状部材に向かって所定の圧力の気体を吹付けた際
に、このノズルの先端が前記板状部材から所定の距離浮
上するように前記気体供給手段の圧力を制御する気体圧
力制御手段と、前記複数のノズルの先端が並列状態で板
状部材の表面を掃引するように駆動する駆動手段と、を
備えたことを特徴とするものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】図１（ａ），（ｂ）は本発明によ
る微小異物除去装置２０の実施の形態の１例を示す構成
図であり、（ａ）図は要部断面図、（ｂ）図は（ａ）図
の底面図である。これらの図において、１は所定の長さ
を有し一端に鍔１１が形成されたノズルであり、２はこ
のノズルが挿入され鍔１１に係合するように形成された
支持手段である。ノズル１の外径と支持手段２の内径は
気密に、かつスライド可能に形成されている。３は容器
であり、隔壁４により仕切られた気体供給室５及び気体
吸引室６を有している。
る微小異物除去装置２０の実施の形態の１例を示す構成
図であり、（ａ）図は要部断面図、（ｂ）図は（ａ）図
の底面図である。これらの図において、１は所定の長さ
を有し一端に鍔１１が形成されたノズルであり、２はこ
のノズルが挿入され鍔１１に係合するように形成された
支持手段である。ノズル１の外径と支持手段２の内径は
気密に、かつスライド可能に形成されている。３は容器
であり、隔壁４により仕切られた気体供給室５及び気体
吸引室６を有している。
【０００７】隔壁４には複数の支持手段２が気密に、か
つ直線状に配列されて固定されており、気体供給室５に
は気体供給手段７から気体圧力制御手段８及び配管９を
介して清浄に加工された気体（空気，窒素）等が供給さ
れる。気体吸引室６には吸引孔１０が夫々のノズルに対
して配置されており、支持手段２に支持されたノズル１
の先端が気体吸引室６の下方の表面からわずかに突出す
る程度にノズル１の長さが形成されている。１２は気体
吸引室６内の気体を吸引するように配管９で接続された
気体吸引手段であり、一方は気体吸引室６に接続され、
他方は解放されている。１５は除去すべき微小異物が付
着した板状部材（ガラス基板，ウエハ等）である。
つ直線状に配列されて固定されており、気体供給室５に
は気体供給手段７から気体圧力制御手段８及び配管９を
介して清浄に加工された気体（空気，窒素）等が供給さ
れる。気体吸引室６には吸引孔１０が夫々のノズルに対
して配置されており、支持手段２に支持されたノズル１
の先端が気体吸引室６の下方の表面からわずかに突出す
る程度にノズル１の長さが形成されている。１２は気体
吸引室６内の気体を吸引するように配管９で接続された
気体吸引手段であり、一方は気体吸引室６に接続され、
他方は解放されている。１５は除去すべき微小異物が付
着した板状部材（ガラス基板，ウエハ等）である。
【０００８】図２は、上記気体供給室５に気体供給手段
７から矢印イで示すように気体を吹き込んでこの室５の
圧力を上昇させ、同時に気体吸引室６の内部の気体を気
体吸引手段１１により吸引して負圧にした状態を示すも
ので、気体供給室５に供給された気体がノズル１の先端
から矢印ロで示すように板状部材１５に吹き出すことに
よりノズル１自身が板状部材１５の表面からわずか
（ｔ；数十〜数百μｍ）に浮上する。
７から矢印イで示すように気体を吹き込んでこの室５の
圧力を上昇させ、同時に気体吸引室６の内部の気体を気
体吸引手段１１により吸引して負圧にした状態を示すも
ので、気体供給室５に供給された気体がノズル１の先端
から矢印ロで示すように板状部材１５に吹き出すことに
よりノズル１自身が板状部材１５の表面からわずか
（ｔ；数十〜数百μｍ）に浮上する。
【０００９】なお、ここでいうノズル１の外径と支持手
段２との気密とはノズル１の先端から板状部材の表面に
対して気体を吹き出したときにノズル１が自身の重さに
抗して表面からわずかに浮上する程度に加工されている
状態とする。
段２との気密とはノズル１の先端から板状部材の表面に
対して気体を吹き出したときにノズル１が自身の重さに
抗して表面からわずかに浮上する程度に加工されている
状態とする。
【００１０】吹き出された気体は板状部材１５の表面に
付着した微小異物を剥離して空間に浮上させる。浮上し
た異物は夫々のノズルに対応して配置された吸引孔１０
から吸引され外部に排出される。気体圧力制御手段８は
ノズル１の先端と板状部材１５表面の間が常に一定の距
離になるように気体の圧力を制御する。
付着した微小異物を剥離して空間に浮上させる。浮上し
た異物は夫々のノズルに対応して配置された吸引孔１０
から吸引され外部に排出される。気体圧力制御手段８は
ノズル１の先端と板状部材１５表面の間が常に一定の距
離になるように気体の圧力を制御する。
【００１１】図３は上記異物除去装置２０を例えば液晶
製造プロセスの途中に組み込んだ状態を示すもので、こ
こではガラス基板２１がガラス基板駆動手段２２により
矢印イ方向に搬送される。２３ａ，２３ｂはステージで
あり、図示しない駆動手段により異物除去装置２０を矢
印ロ方向に駆動する。また、このステージ２３ａ，２３
ｂは矢印ハ（上下）方向にも駆動される。また、この実
施の態様ではステージ２３ａ，２３ｂがガラス基板２１
の両面に配置された例を示している。なお、図では省略
するが、異物除去装置２０の容器３には先に説明した気
体を供給・吸入するためのフレキシブル配管が取付られ
ている。
製造プロセスの途中に組み込んだ状態を示すもので、こ
こではガラス基板２１がガラス基板駆動手段２２により
矢印イ方向に搬送される。２３ａ，２３ｂはステージで
あり、図示しない駆動手段により異物除去装置２０を矢
印ロ方向に駆動する。また、このステージ２３ａ，２３
ｂは矢印ハ（上下）方向にも駆動される。また、この実
施の態様ではステージ２３ａ，２３ｂがガラス基板２１
の両面に配置された例を示している。なお、図では省略
するが、異物除去装置２０の容器３には先に説明した気
体を供給・吸入するためのフレキシブル配管が取付られ
ている。
【００１２】図３において、ステージ２３ａ，２３ｂの
動きに連動するノズルの先端は予めガラス基板２１の表
面より十分離した状態に位置している。そしてガラス基
板２１が所定の位置（ガラス基板２１の端部Ａが最端の
ノズルＢ，Ｂ’に対向する状態）に搬送されると基板２
１は一旦停止する。次にステージ２３ａ，２３ｂ上の異
物除去装置２０がガラス基板２１の端部Ｃに移動する。
次にステージ２３ａ，２３ｂを矢印ハ方向に移動させて
ノズル１の先端を基板２１に接触する程度まで近づけ
る。この状態で気体供給室５に気体を供給し、ノズル１
をガラス基板２１の表面から浮上させる（なお、下部に
位置する装置には図２に示すようにノズル押圧手段（ば
ね１２）を用いてノズルの落下を防止する。
動きに連動するノズルの先端は予めガラス基板２１の表
面より十分離した状態に位置している。そしてガラス基
板２１が所定の位置（ガラス基板２１の端部Ａが最端の
ノズルＢ，Ｂ’に対向する状態）に搬送されると基板２
１は一旦停止する。次にステージ２３ａ，２３ｂ上の異
物除去装置２０がガラス基板２１の端部Ｃに移動する。
次にステージ２３ａ，２３ｂを矢印ハ方向に移動させて
ノズル１の先端を基板２１に接触する程度まで近づけ
る。この状態で気体供給室５に気体を供給し、ノズル１
をガラス基板２１の表面から浮上させる（なお、下部に
位置する装置には図２に示すようにノズル押圧手段（ば
ね１２）を用いてノズルの落下を防止する。
【００１３】ステージ２３ａ，２３ｂはノズル１がガラ
ス基板２１の表面から浮上した状態（この浮上は予め気
体圧力制御手段を用いて確かめておくものとする）でガ
ラス基板２１上を端部から端部に移動させ、次にガラス
駆動手段２２で並列に配置された複数のノズル１に対応
する幅を搬送し、このようにしてガラス基板２１上を掃
引する。ガラス基板２１の移動速度と異物除去装置２０
の搬送速度は異物の付着程度に応じて任意に調整する。
ス基板２１の表面から浮上した状態（この浮上は予め気
体圧力制御手段を用いて確かめておくものとする）でガ
ラス基板２１上を端部から端部に移動させ、次にガラス
駆動手段２２で並列に配置された複数のノズル１に対応
する幅を搬送し、このようにしてガラス基板２１上を掃
引する。ガラス基板２１の移動速度と異物除去装置２０
の搬送速度は異物の付着程度に応じて任意に調整する。
【００１４】この場合、ガラス基板２１の幅と長さは既
知なので異物除去装置２０を駆動するガラス基板駆動手
段２２の制御手段（図示せず）にその値に応じた動きを
するように予め記憶させておくものとする。なお、容器
３に気体を供給する気体供給手段７、気体圧力制御手段
８、気体吸引手段１２等は異物除去装置が配置された室
外に配置するのが望ましく、容器３とこれらの間はフレ
キシブルな配管で接続されている。
知なので異物除去装置２０を駆動するガラス基板駆動手
段２２の制御手段（図示せず）にその値に応じた動きを
するように予め記憶させておくものとする。なお、容器
３に気体を供給する気体供給手段７、気体圧力制御手段
８、気体吸引手段１２等は異物除去装置が配置された室
外に配置するのが望ましく、容器３とこれらの間はフレ
キシブルな配管で接続されている。
【００１５】図４は本発明の実施態様の他の例を示す断
面構成図であり、気体供給手段と吸入手段を個別に構成
したものである。図において図３と同一要素には同一符
号にａを付している。この例ではノズル１ａの夫々に気
体圧力制御手段８ａにより圧力を制御された気体がフレ
キシブルチューブ３０ａを介して供給され、支持手段２
ａの夫々には一端が気体吸引手段１１ａに接続されたフ
レキシブルチューブ３０ｂが接続されている。なお、図
では省略するがチューブ３０ａ，３０ｂの両端は公知の
手段により気密に接続されている。
面構成図であり、気体供給手段と吸入手段を個別に構成
したものである。図において図３と同一要素には同一符
号にａを付している。この例ではノズル１ａの夫々に気
体圧力制御手段８ａにより圧力を制御された気体がフレ
キシブルチューブ３０ａを介して供給され、支持手段２
ａの夫々には一端が気体吸引手段１１ａに接続されたフ
レキシブルチューブ３０ｂが接続されている。なお、図
では省略するがチューブ３０ａ，３０ｂの両端は公知の
手段により気密に接続されている。
【００１６】２ａはノズル１ａを気密にかつ、摺動可能
に支持する支持手段であり、この支持手段の下方の内径
ｄはノズルの外径に対して例えば２倍程度に大きく形成
されており図３に示す吸引孔１０ａとして機能する。２
３ａは図示しない固定手段に固定されたステージであ
り、このステージに矢印ロ方向に移動可能な横移動部材
２６が取り付けられている。また、この横移動部材には
支柱２４が固定されており、この支柱にはノズル１ａが
取り付けられた隔壁４ａを上下方向に駆動するための上
下移動部材２５を介して取り付けられている。
に支持する支持手段であり、この支持手段の下方の内径
ｄはノズルの外径に対して例えば２倍程度に大きく形成
されており図３に示す吸引孔１０ａとして機能する。２
３ａは図示しない固定手段に固定されたステージであ
り、このステージに矢印ロ方向に移動可能な横移動部材
２６が取り付けられている。また、この横移動部材には
支柱２４が固定されており、この支柱にはノズル１ａが
取り付けられた隔壁４ａを上下方向に駆動するための上
下移動部材２５を介して取り付けられている。
【００１７】上記の構成において、ノズル１ａをガラス
基板２１の端面の所定の位置に移動させ、気体圧力制御
手段８ａにより制御された気体をフレキシブルチューブ
３０ａを介して送り込み、その気体圧によりノズルをわ
ずかに浮上させる。吹き出した気体はガラス基板２１の
表面に付着した微小異物を剥離して空間に浮上させ、浮
上した異物は夫々のノズルに対応して配置された吸引孔
１０ａから吸引され外部に排出される。
基板２１の端面の所定の位置に移動させ、気体圧力制御
手段８ａにより制御された気体をフレキシブルチューブ
３０ａを介して送り込み、その気体圧によりノズルをわ
ずかに浮上させる。吹き出した気体はガラス基板２１の
表面に付着した微小異物を剥離して空間に浮上させ、浮
上した異物は夫々のノズルに対応して配置された吸引孔
１０ａから吸引され外部に排出される。
【００１８】ノズル１ａは例えば２０〜３０ｍｍ間隔で
配置されており、左右に配置された横移動部材２６と上
下移動部材２５は同期して同方向に駆動される。また、
ガラス基板２１は例えば奥から手前側に向かって駆動さ
れるものとする。そしてガラス基板２１の動きに合わせ
てノズル１ａのピッチに応じて横方向に移動させればノ
ズル１ａの先端はガラス基板上をくまなく掃引すること
ができる。なお、図３，図４の実施の態様では異物除去
対象としてガラス基板を示したが、シリコンウエハや金
属若しくはプラスチック製板等であってもよい。
配置されており、左右に配置された横移動部材２６と上
下移動部材２５は同期して同方向に駆動される。また、
ガラス基板２１は例えば奥から手前側に向かって駆動さ
れるものとする。そしてガラス基板２１の動きに合わせ
てノズル１ａのピッチに応じて横方向に移動させればノ
ズル１ａの先端はガラス基板上をくまなく掃引すること
ができる。なお、図３，図４の実施の態様では異物除去
対象としてガラス基板を示したが、シリコンウエハや金
属若しくはプラスチック製板等であってもよい。
【００１９】
【発明の効果】以上実施例とともに具体的に説明した様
に本発明の微小異物除去装置は、請求項１においては、
板状部材の表面に外径が気密状態で、かつ移動可能に支
持された複数のノズルと、この複数のノズルの先端から
前記板状部材に向かって所定の圧力の気体を吹付ける気
体供給手段と、前記複数のノズルの夫々に対応して設け
られた吸引孔と、この吸引孔を介して前記気体を吸引す
る気体吸引手段と、を備えているので広い範囲に渡って
微小異物異物を取り除くことができる。また、ノズルの
先端が気体の圧力により浮上するので板状部材のうねり
に影響されることなく除去可能である。また、請求項２
においては、ノズルの先端から前記板状部材に向かって
所定の圧力の気体を吹付けた際に、このノズルの先端が
前記板状部材から所定の距離浮上するように前記気体供
給手段の圧力を制御する気体圧力制御手段と、前記複数
のノズルの先端が並列状態で板状部材の表面を掃引する
ように駆動する駆動手段と、を備えているので洗浄装置
に比較して大掛りな装置を必要とせず、効率のよい微小
異物除去を実現することができる。
に本発明の微小異物除去装置は、請求項１においては、
板状部材の表面に外径が気密状態で、かつ移動可能に支
持された複数のノズルと、この複数のノズルの先端から
前記板状部材に向かって所定の圧力の気体を吹付ける気
体供給手段と、前記複数のノズルの夫々に対応して設け
られた吸引孔と、この吸引孔を介して前記気体を吸引す
る気体吸引手段と、を備えているので広い範囲に渡って
微小異物異物を取り除くことができる。また、ノズルの
先端が気体の圧力により浮上するので板状部材のうねり
に影響されることなく除去可能である。また、請求項２
においては、ノズルの先端から前記板状部材に向かって
所定の圧力の気体を吹付けた際に、このノズルの先端が
前記板状部材から所定の距離浮上するように前記気体供
給手段の圧力を制御する気体圧力制御手段と、前記複数
のノズルの先端が並列状態で板状部材の表面を掃引する
ように駆動する駆動手段と、を備えているので洗浄装置
に比較して大掛りな装置を必要とせず、効率のよい微小
異物除去を実現することができる。
【図１】本発明の実施態様の一例を示す微小異物除去装
置の構成図である。
置の構成図である。
【図２】微小異物除去装置の気体供給室に気体を供給し
ノズルが浮上した状態を示す断面図である。
ノズルが浮上した状態を示す断面図である。
【図３】異物除去装置をプロセスの途中に組み込んだ状
態を示す斜視図である。
態を示す斜視図である。
【図４】本発明の実施態様の他の１例を示す異物除去装
置の一部断面構成図である。
置の一部断面構成図である。
【図５】液晶（ＴＦＴ）製造プロセスの一例を示す工程
とその工程に用いる装置を示す図である。
とその工程に用いる装置を示す図である。
１ ノズル ２ 支持手段 ３ 容器 ４ 隔壁 ５ 気体供給室 ６ 気体吸引室 ７ 気体供給手段 ８ 気体圧力制御手段 １０ 吸引孔 １１ 鍔 １２ 気体供給手段 １２ ばね １５ 板状部材 ２０ 微小異物除去装置 ２１ ガラス基板 ２２ ガラス基板駆動手段 ２３ ステージ ２４ 支柱 ２５ 上下移動部材 ２６ 横移動部材 ３０ フレキシブルチューブ
Claims (2)
- 【請求項１】板状部材の表面に外径が気密状態で、かつ
移動可能に支持された複数のノズルと、この複数のノズ
ルの先端から前記板状部材に向かって所定の流量の気体
を吹付ける気体供給手段と、前記複数のノズルの夫々に
対応して設けられた吸引孔と、この吸引孔を介して前記
気体を吸引する気体吸引手段と、を備えたことを特徴と
する微小異物除去装置。 - 【請求項２】前記ノズルの先端から前記板状部材に向か
って所定の流量の気体を吹付けた際に、このノズルの先
端が前記板状部材から所定の距離浮上するように前記気
体供給手段の圧力を制御する気体圧力制御手段と、前記
複数のノズルの先端が並列状態で板状部材の表面を掃引
するように駆動する駆動手段と、を備えたことを特徴と
する請求項１記載の微小異物除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16554696A JP3169169B2 (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | 微小異物除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16554696A JP3169169B2 (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | 微小異物除去装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1012581A true JPH1012581A (ja) | 1998-01-16 |
| JP3169169B2 JP3169169B2 (ja) | 2001-05-21 |
Family
ID=15814440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16554696A Expired - Fee Related JP3169169B2 (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | 微小異物除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3169169B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006013848A1 (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-09 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | 付着物除去装置 |
| KR100727418B1 (ko) * | 2001-01-16 | 2007-06-13 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 드라이 세정방법 |
| JP2008279328A (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-20 | Shikoku Chem Corp | 壁面浄化装置 |
| KR100885590B1 (ko) * | 2004-08-05 | 2009-02-24 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 부착물 제거 장치 |
| JP2012159421A (ja) * | 2011-02-01 | 2012-08-23 | Ulvac Japan Ltd | パーティクル測定装置 |
| JP2013193061A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Sharp Corp | 除塵装置および除塵方法 |
| JP2015054256A (ja) * | 2013-09-10 | 2015-03-23 | 東レエンジニアリング株式会社 | 清掃装置 |
| CN107116914A (zh) * | 2017-05-10 | 2017-09-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 工作基台及其控制方法、喷墨打印系统 |
| WO2018173532A1 (ja) * | 2017-03-21 | 2018-09-27 | 東京エレクトロン株式会社 | ステージクリーニング方法およびステージクリーニング部材、ステージクリーニング部材の製造方法、ならびに検査システム |
| JP2021526958A (ja) * | 2018-06-05 | 2021-10-11 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 空気洗浄装置及び容器を洗浄するシステム |
-
1996
- 1996-06-26 JP JP16554696A patent/JP3169169B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100727418B1 (ko) * | 2001-01-16 | 2007-06-13 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 드라이 세정방법 |
| WO2006013848A1 (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-09 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | 付着物除去装置 |
| EP1775034A1 (en) * | 2004-08-05 | 2007-04-18 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Deposit removing device |
| EP1775034A4 (en) * | 2004-08-05 | 2008-08-06 | Kobe Steel Ltd | DEVICE FOR REMOVING THE DEPOSIT |
| KR100885590B1 (ko) * | 2004-08-05 | 2009-02-24 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 부착물 제거 장치 |
| US8499410B2 (en) | 2004-08-05 | 2013-08-06 | Kobe Steel, Ltd. | Deposit removing device |
| JP2008279328A (ja) * | 2007-05-08 | 2008-11-20 | Shikoku Chem Corp | 壁面浄化装置 |
| JP2012159421A (ja) * | 2011-02-01 | 2012-08-23 | Ulvac Japan Ltd | パーティクル測定装置 |
| JP2013193061A (ja) * | 2012-03-22 | 2013-09-30 | Sharp Corp | 除塵装置および除塵方法 |
| JP2015054256A (ja) * | 2013-09-10 | 2015-03-23 | 東レエンジニアリング株式会社 | 清掃装置 |
| WO2018173532A1 (ja) * | 2017-03-21 | 2018-09-27 | 東京エレクトロン株式会社 | ステージクリーニング方法およびステージクリーニング部材、ステージクリーニング部材の製造方法、ならびに検査システム |
| JP2018157131A (ja) * | 2017-03-21 | 2018-10-04 | 東京エレクトロン株式会社 | ステージクリーニング方法およびステージクリーニング部材、ステージクリーニング部材の製造方法、ならびに検査システム |
| TWI756387B (zh) * | 2017-03-21 | 2022-03-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 載置台清潔方法及載置台清潔構件、載置台清潔構件之製造方法、以及檢查系統 |
| CN107116914A (zh) * | 2017-05-10 | 2017-09-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 工作基台及其控制方法、喷墨打印系统 |
| CN107116914B (zh) * | 2017-05-10 | 2019-10-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 工作基台及其控制方法、喷墨打印系统 |
| JP2021526958A (ja) * | 2018-06-05 | 2021-10-11 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 空気洗浄装置及び容器を洗浄するシステム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3169169B2 (ja) | 2001-05-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7931755B2 (en) | Method for removing deposit from substrate and method for drying substrate, as well as apparatus for removing deposit from substrate and apparatus for drying substrate using these methods | |
| CN1135605C (zh) | 基片清洗方法及装置 | |
| US20060008591A1 (en) | Coating apparatus and method using the same | |
| JP3323310B2 (ja) | 種々の対象物をクリーニングする方法及び装置 | |
| JPH1012581A (ja) | 微小異物除去装置 | |
| JP5430430B2 (ja) | ステージクリーナ、描画装置及び基板処理装置 | |
| JP2009073646A (ja) | 浮上方法及び浮上ユニット | |
| JPH08298245A (ja) | 常圧ｃｖｄ装置 | |
| JP2001042341A (ja) | 液晶基板の組立方法 | |
| JP5733636B2 (ja) | ノズルユニット、基板処理装置、及び基板処理方法 | |
| KR102190687B1 (ko) | 슬릿코터 시스템 | |
| US20020096195A1 (en) | Method and apparatus for critical flow particle removal | |
| US4444531A (en) | Air track apparatus | |
| JP3333149B2 (ja) | ガス溶解水製造装置およびガス溶解水製造方法ならびに洗浄装置 | |
| JP2005286114A (ja) | 平板型基板ホルダー | |
| JPH0964000A (ja) | ドライ洗浄装置 | |
| JPH11165868A (ja) | 板状部材保持装置 | |
| JPH08141529A (ja) | パーティクル除去方法及びその装置 | |
| JP2006026634A (ja) | 吸入ユニットアセンブリー | |
| JP2009149389A (ja) | 浮上ユニット及びそれを有する装置 | |
| JP2005268270A (ja) | 液晶ガラス基板用載置台およびこれを用いた液晶ガラス基板のクリーニング装置 | |
| JP2000107706A (ja) | 洗浄装置 | |
| KR102292660B1 (ko) | 세정 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 | |
| KR20090129420A (ko) | 노즐, 드라이 클리너 및 드라이 클리너 시스템 | |
| JP2006093591A (ja) | 基板の処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090316 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |