JP2820599B2 - 除塵装置 - Google Patents
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- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
- B08B5/023—Cleaning travelling work
- B08B5/026—Cleaning moving webs
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/04—Cleaning by suction, with or without auxiliary action
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、除塵装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の除塵装置としては、図９に示すよ
うに、矢印ａ方向に走行するワークｂの上方に、走行方
向に直交する方向に配設される除塵ヘッドｍを備えてい
た。その除塵ヘッドｍは、ケーシングｃ内を仕切壁ｄに
て下流側のエア排出室ｅと上流側のエア吸入室ｆとに分
けて、エア排出室ｅの底部に超音波発生器ｇを設けると
共にその超音波発生器ｇの下方に超音波エアを発生する
噴出ノズルｈを開設し、かつ、エア吸入室ｆの底壁部に
吸引ノズルｉを開設したものであった。
うに、矢印ａ方向に走行するワークｂの上方に、走行方
向に直交する方向に配設される除塵ヘッドｍを備えてい
た。その除塵ヘッドｍは、ケーシングｃ内を仕切壁ｄに
て下流側のエア排出室ｅと上流側のエア吸入室ｆとに分
けて、エア排出室ｅの底部に超音波発生器ｇを設けると
共にその超音波発生器ｇの下方に超音波エアを発生する
噴出ノズルｈを開設し、かつ、エア吸入室ｆの底壁部に
吸引ノズルｉを開設したものであった。
【０００３】この装置を使用してワークｂに付着した塵
ｊ…を除去するには、塵ｊ…が付着したワークｂの表面
に噴出ノズルｈから超音波エアを斜め下方へ噴出し、そ
の超音波ｋといわゆるエアナイフとの相乗効果により、
塵ｊ…をワークｂから剥離させ、そのエアと塵ｊ…を吸
引ノズルｉからエア吸入室ｆ内に吸入していた。
ｊ…を除去するには、塵ｊ…が付着したワークｂの表面
に噴出ノズルｈから超音波エアを斜め下方へ噴出し、そ
の超音波ｋといわゆるエアナイフとの相乗効果により、
塵ｊ…をワークｂから剥離させ、そのエアと塵ｊ…を吸
引ノズルｉからエア吸入室ｆ内に吸入していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のような
従来の除塵装置では、噴出ノズルｈから出た超音波エア
がワークｂの上流側へ一方向に進むため、ワークｂの表
面に強力なエア境界層１が生じ易く、その境界槽１を完
全に破ることができなかった。
従来の除塵装置では、噴出ノズルｈから出た超音波エア
がワークｂの上流側へ一方向に進むため、ワークｂの表
面に強力なエア境界層１が生じ易く、その境界槽１を完
全に破ることができなかった。
【０００５】このため、塵ｊ…がワークｂから剥離しな
い場合があり、塵ｊがワークｂに付着したまま下流側へ
流れてしまうことがあった。
い場合があり、塵ｊがワークｂに付着したまま下流側へ
流れてしまうことがあった。
【０００６】そこで、本発明は、上述の問題を解決し
て、境界層を完全に破ることができると共に、ワークに
付着した塵を効率よく除去することができ、かつ、優れ
たワークの洗浄効果を有する除塵装置を提供することを
目的とする。
て、境界層を完全に破ることができると共に、ワークに
付着した塵を効率よく除去することができ、かつ、優れ
たワークの洗浄効果を有する除塵装置を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明に係る除塵装置は、相互に接近する方向に
超音波エアを噴出する第１噴出ノズルと第２噴出ノズル
を、設けると共に、該第１噴出ノズルと第２噴出ノズル
の間に、吸引ノズルを配設し、該吸引ノズルの開口部を
有する壁面を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲させて、
ワーク表面との間隔寸法が上流側端縁・下流側端縁から
中間部へと次第に増加する凹面に形成して、上記間隔寸
法が中間部にて最大となると共に該間隔寸法が中間部か
ら上流側端縁・下流側端縁へ次第に減少する形状の合流
乱流空室を、上記第１噴出ノズルと第２噴出ノズルとの
間に、形成し、該合流乱流空室の中間部に上記吸引ノズ
ルを配設し、さらに、上記凹面の上流側端縁に第１噴出
ノズルを配設し、かつ、該凹面の下流側端縁に第２噴出
ノズルを配設したものである。
めに、本発明に係る除塵装置は、相互に接近する方向に
超音波エアを噴出する第１噴出ノズルと第２噴出ノズル
を、設けると共に、該第１噴出ノズルと第２噴出ノズル
の間に、吸引ノズルを配設し、該吸引ノズルの開口部を
有する壁面を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲させて、
ワーク表面との間隔寸法が上流側端縁・下流側端縁から
中間部へと次第に増加する凹面に形成して、上記間隔寸
法が中間部にて最大となると共に該間隔寸法が中間部か
ら上流側端縁・下流側端縁へ次第に減少する形状の合流
乱流空室を、上記第１噴出ノズルと第２噴出ノズルとの
間に、形成し、該合流乱流空室の中間部に上記吸引ノズ
ルを配設し、さらに、上記凹面の上流側端縁に第１噴出
ノズルを配設し、かつ、該凹面の下流側端縁に第２噴出
ノズルを配設したものである。
【０００８】
【作用】第１噴出ノズルと第２噴出ノズルの下方にてワ
ークを走行させれば、第１噴出ノズルと第２噴出ノズル
から噴出する超音波エアは、ワーク表面上を相互に接近
する方向に流れ、その後合流する。この超音波エアの合
流する部位にて、ワークに付着した塵に、１８０゜反対
の２方向から超音波エアが当たる。これにより、塵に浮
力が生じ、ワークから塵が剥離する。
ークを走行させれば、第１噴出ノズルと第２噴出ノズル
から噴出する超音波エアは、ワーク表面上を相互に接近
する方向に流れ、その後合流する。この超音波エアの合
流する部位にて、ワークに付着した塵に、１８０゜反対
の２方向から超音波エアが当たる。これにより、塵に浮
力が生じ、ワークから塵が剥離する。
【０００９】また、超音波エアの合流により合流乱流空
室内に乱流が生じる。これにより、ワーク表面に生じる
境界層が破壊される。あるいは、ワークに付着した塵の
付着状態によっては、除去され易い方向があることも考
えられるが、本発明では、異なる方向から噴出して、い
ずれかの方向の噴出によって、塵が除去されることとな
る。
室内に乱流が生じる。これにより、ワーク表面に生じる
境界層が破壊される。あるいは、ワークに付着した塵の
付着状態によっては、除去され易い方向があることも考
えられるが、本発明では、異なる方向から噴出して、い
ずれかの方向の噴出によって、塵が除去されることとな
る。
【００１０】合流した超音波エアは吸引ノズル内に吸入
される。このため、第１噴出ノズルの上流側と第２噴出
ノズルの下流側にエアと音が漏れなくなる。
される。このため、第１噴出ノズルの上流側と第２噴出
ノズルの下流側にエアと音が漏れなくなる。
【００１１】吸引ノズルの開口部を有する壁面を、側面
視に於て上方へ弧状に弯曲させて、ワーク表面との間隔
寸法が上流側端縁・下流側端縁から中間部へと次第に増
加する凹面に形成して、第１噴出ノズルと第２噴出ノズ
ルの間に、間隔寸法が中間部にて最大となると共に間隔
寸法か中間部から上流側端縁・下流側端縁へ次第に減少
する形状の合流乱流空室を形成するので、合流乱流空室
内に強い乱流が発生する。かつ、合流したエアを吸引ノ
ズル内に送り易くなる。
視に於て上方へ弧状に弯曲させて、ワーク表面との間隔
寸法が上流側端縁・下流側端縁から中間部へと次第に増
加する凹面に形成して、第１噴出ノズルと第２噴出ノズ
ルの間に、間隔寸法が中間部にて最大となると共に間隔
寸法か中間部から上流側端縁・下流側端縁へ次第に減少
する形状の合流乱流空室を形成するので、合流乱流空室
内に強い乱流が発生する。かつ、合流したエアを吸引ノ
ズル内に送り易くなる。
【００１２】合流乱流空室の中間部に上記吸引ノズルを
配設し、さらに、凹面の上流側端縁に第１噴出ノズルを
配設し、かつ、凹面の下流側端縁に第２噴出ノズルを配
設するので、強い乱流が生じると共に、合流したエアを
吸引ノズル内に送り易くなる。
配設し、さらに、凹面の上流側端縁に第１噴出ノズルを
配設し、かつ、凹面の下流側端縁に第２噴出ノズルを配
設するので、強い乱流が生じると共に、合流したエアを
吸引ノズル内に送り易くなる。
【００１３】
【実施例】以下、実施例を示す図面に基づいて本発明を
詳説する。
詳説する。
【００１４】図１は、本発明に係る除塵装置の一実施例
の断面側面図を示し、この装置は、除塵ヘッド１と、図
外のブロワーユニットと、プラスチックフィルム等の長
尺薄肉連続体やガラス板等の板状体（枚葉）からなるワ
ークＷを矢印Ａで示す如く上流側から下流側へ走行させ
る図示省略の搬送手段と、を備えている。
の断面側面図を示し、この装置は、除塵ヘッド１と、図
外のブロワーユニットと、プラスチックフィルム等の長
尺薄肉連続体やガラス板等の板状体（枚葉）からなるワ
ークＷを矢印Ａで示す如く上流側から下流側へ走行させ
る図示省略の搬送手段と、を備えている。
【００１５】しかして、除塵ヘッド１は、ワークＷの走
行方向に直交する方向に配設されるケーシング４と、そ
のケーシング４内に設けられる超音波発生器６，６と、
からなる。
行方向に直交する方向に配設されるケーシング４と、そ
のケーシング４内に設けられる超音波発生器６，６と、
からなる。
【００１６】ケーシング４内は、円筒状の仕切壁５に
て、その仕切壁５の外側のエア排出室２と、内側のエア
吸入室３とに分けられる。エア排出室２には、仮想線で
示すようにエア供給路７が連通連結され、かつ、エア吸
入室３には、図示省略のエア吸入路が連通連結される。
て、その仕切壁５の外側のエア排出室２と、内側のエア
吸入室３とに分けられる。エア排出室２には、仮想線で
示すようにエア供給路７が連通連結され、かつ、エア吸
入室３には、図示省略のエア吸入路が連通連結される。
【００１７】そして、ブロワーユニットからエア供給路
７を介してエア排出室２にエアが供給され、エア吸入室
３内のエアがエア吸入路を介してブロワーユニットに戻
るように構成されている。
７を介してエア排出室２にエアが供給され、エア吸入室
３内のエアがエア吸入路を介してブロワーユニットに戻
るように構成されている。
【００１８】また、ケーシング４の底壁８の上流側寄り
と下流側寄りに、相互に接近する方向に超音波エアを噴
出する第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２を、設
けると共に、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２
の間に、吸引ノズル９を配設する。
と下流側寄りに、相互に接近する方向に超音波エアを噴
出する第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２を、設
けると共に、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２
の間に、吸引ノズル９を配設する。
【００１９】具体的には、ケーシング４の底壁８と仕切
壁５との間に、ケーシング４と平行であって相互に平行
に並ぶ帯板状鉛直壁部１０，１０を連続状に形成し、か
つ、その帯板状鉛直壁部１０，１０の間の空間部をエア
吸入室３内とケーシング４の外部に連通させて、ケーシ
ング４に平行なスリット状の吸引ノズル９を形成する。
壁５との間に、ケーシング４と平行であって相互に平行
に並ぶ帯板状鉛直壁部１０，１０を連続状に形成し、か
つ、その帯板状鉛直壁部１０，１０の間の空間部をエア
吸入室３内とケーシング４の外部に連通させて、ケーシ
ング４に平行なスリット状の吸引ノズル９を形成する。
【００２０】さらに、吸引ノズル９の開口部を有する壁
面１７，１７を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲させ
て、ワーク表面との間隔寸法が上流側端縁・下流側端縁
から中間部へと次第に増加する凹面２４に形成する。
面１７，１７を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲させ
て、ワーク表面との間隔寸法が上流側端縁・下流側端縁
から中間部へと次第に増加する凹面２４に形成する。
【００２１】また、エア排出室２の下半部は、仕切壁５
と帯板状鉛直壁部１０，１０により、上流側排出室２ａ
と下流側排出室２ｂとに分けられる。そして、上流側排
出室２ａの底部と、下流側排出室２ｂの底部に、超音波
発生器６，６を固定する。
と帯板状鉛直壁部１０，１０により、上流側排出室２ａ
と下流側排出室２ｂとに分けられる。そして、上流側排
出室２ａの底部と、下流側排出室２ｂの底部に、超音波
発生器６，６を固定する。
【００２２】超音波発生器６は、図２に示すように、第
１噴出ノズル１１又は第２噴出ノズル１２に平行な連続
溝１３を有するブロック体からなり、連続溝１３は、鉛
直部１４と該鉛直部１４に連通連結される上下一対の水
平部１５，１５とからなる。
１噴出ノズル１１又は第２噴出ノズル１２に平行な連続
溝１３を有するブロック体からなり、連続溝１３は、鉛
直部１４と該鉛直部１４に連通連結される上下一対の水
平部１５，１５とからなる。
【００２３】前記第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル
１２は、夫々、上流側排出室２ａの底壁部８ａと、下流
側排出室２ｂの底壁部８ｂに、開設される。つまり、第
１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２と吸引ノズル９
とを、ケーシング４の下面側に、配設する。さらに、第
１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２は、超音波発生
器６の連続溝１３に連通連結される。
１２は、夫々、上流側排出室２ａの底壁部８ａと、下流
側排出室２ｂの底壁部８ｂに、開設される。つまり、第
１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２と吸引ノズル９
とを、ケーシング４の下面側に、配設する。さらに、第
１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２は、超音波発生
器６の連続溝１３に連通連結される。
【００２４】また、凹面２４の上流側端縁をなす角部に
第１噴出ノズル１１を開口させ、かつ、凹面２４の下流
側端縁をなす角部に第２噴出ノズル１２を開口させる。
つまり、凹面２４の上流側端縁に第１噴出ノズル１１を
配設し、かつ、凹面２４の下流側端縁に第２噴出ノズル
１２を配設する。
第１噴出ノズル１１を開口させ、かつ、凹面２４の下流
側端縁をなす角部に第２噴出ノズル１２を開口させる。
つまり、凹面２４の上流側端縁に第１噴出ノズル１１を
配設し、かつ、凹面２４の下流側端縁に第２噴出ノズル
１２を配設する。
【００２５】第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２
は、下方へ行くにつれて相互に接近する方向に傾斜す
る。なお、図６に示すように、ワークＷがローラー２５
に沿って曲がりつつ送られるシート体（ウエブ）の場
合、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２の傾斜角
度θ１，θ２は実質的に各々θ１′，θ２′となる。つ
まり、θ１′＝（θ１＋θ／２），θ２′＝（θ２＋θ
／２）となる。そして、第１噴出ノズル１１の傾斜角度
θ１と、第２噴出ノズル１２の傾斜角度θ２は、夫々、
１０゜〜３０°程度の範囲とし、特に好ましくは約２０
゜とする。
は、下方へ行くにつれて相互に接近する方向に傾斜す
る。なお、図６に示すように、ワークＷがローラー２５
に沿って曲がりつつ送られるシート体（ウエブ）の場
合、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２の傾斜角
度θ１，θ２は実質的に各々θ１′，θ２′となる。つ
まり、θ１′＝（θ１＋θ／２），θ２′＝（θ２＋θ
／２）となる。そして、第１噴出ノズル１１の傾斜角度
θ１と、第２噴出ノズル１２の傾斜角度θ２は、夫々、
１０゜〜３０°程度の範囲とし、特に好ましくは約２０
゜とする。
【００２６】また、ケーシング４の下端面とワークＷ表
面との間の間隔寸法Ｓは、１〜２ｍｍ程度とするのが好
ましい。さらに、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル
１２の下方開口部の相互間隔寸法Ｘは、３０〜４０ｍｍ
程度とするのが好ましい（図１参照）。
面との間の間隔寸法Ｓは、１〜２ｍｍ程度とするのが好
ましい。さらに、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル
１２の下方開口部の相互間隔寸法Ｘは、３０〜４０ｍｍ
程度とするのが好ましい（図１参照）。
【００２７】また、凹面２４とワークＷとの間隔寸法が
中間部にて最大となると共にその間隔寸法が中間部から
上流側端縁・下流側端縁へ次第に減少する形状の合流乱
流空室１６を、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１
２との間に、形成する。即ち、ケーシング４の凹面２４
とその下方のワークＷの上面との間の空間が、合流乱流
空室１６となる。そして、合流乱流空室１６の中間部に
吸引ノズル９を配設する。
中間部にて最大となると共にその間隔寸法が中間部から
上流側端縁・下流側端縁へ次第に減少する形状の合流乱
流空室１６を、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１
２との間に、形成する。即ち、ケーシング４の凹面２４
とその下方のワークＷの上面との間の空間が、合流乱流
空室１６となる。そして、合流乱流空室１６の中間部に
吸引ノズル９を配設する。
【００２８】なお、エア吸入室３の他端側にエア吸入路
が連通連結されてエアが他端側へ吸入される場合、吸引
ノズル９の吸引力が全長において略同一になるように、
吸引ノズル９の開口幅寸法Ｖをエア吸入室３の一端側か
ら他端側へ、段階的に又は無段階で、次第に縮幅させる
のも好ましい。
が連通連結されてエアが他端側へ吸入される場合、吸引
ノズル９の吸引力が全長において略同一になるように、
吸引ノズル９の開口幅寸法Ｖをエア吸入室３の一端側か
ら他端側へ、段階的に又は無段階で、次第に縮幅させる
のも好ましい。
【００２９】次に、上述の如く構成された除塵装置を使
用して、ワークＷに付着した塵Ｒを除去する方法を説明
する。
用して、ワークＷに付着した塵Ｒを除去する方法を説明
する。
【００３０】ワークＷを、図２の矢印Ａ方向に０．０１
〜１０ｍ／ｓｅｃ程度の速度で走行させる。この際、ブ
ロワーユニットから除塵ヘッド１のエア排出室２に１２
００〜１８００ｍｍＡｑ程度の圧力のエアを供給する。
〜１０ｍ／ｓｅｃ程度の速度で走行させる。この際、ブ
ロワーユニットから除塵ヘッド１のエア排出室２に１２
００〜１８００ｍｍＡｑ程度の圧力のエアを供給する。
【００３１】エア排出室２に供給されたエアは高速（１
４０〜２００ｍ／ｓｅｃ程度）で、上流側と下流側の超
音波発生器６，６の連続溝１３，１３を通過し、この連
続溝１３，１３を通過したエアは、超音波エアＥ１，Ｅ
２（３０〜１２０ＫＨｚ程度の周波数の超音波が乗った
エア流）となって、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズ
ル１２から、傾斜角度θ１，θ２に平行に吹き出され
る。
４０〜２００ｍ／ｓｅｃ程度）で、上流側と下流側の超
音波発生器６，６の連続溝１３，１３を通過し、この連
続溝１３，１３を通過したエアは、超音波エアＥ１，Ｅ
２（３０〜１２０ＫＨｚ程度の周波数の超音波が乗った
エア流）となって、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズ
ル１２から、傾斜角度θ１，θ２に平行に吹き出され
る。
【００３２】そして、超音波エアＥ１，Ｅ２は、相互に
接近する方向に流れて合流乱流空室１６の中間部で合流
する。これにより、合流乱流空室１６内にエアの乱流が
生じる。
接近する方向に流れて合流乱流空室１６の中間部で合流
する。これにより、合流乱流空室１６内にエアの乱流が
生じる。
【００３３】ところで、ワークＷ表面をエアが一方向に
高速で流れるとワークＷ表面に境界層２０が生じる。こ
のため、ワークＷに付着している微小な塵Ｒ（例えば直
径１〜１０μｍ）は、境界層２０内に閉じ込められる。
高速で流れるとワークＷ表面に境界層２０が生じる。こ
のため、ワークＷに付着している微小な塵Ｒ（例えば直
径１〜１０μｍ）は、境界層２０内に閉じ込められる。
【００３４】しかし、合流乱流空室１６内ではエアの乱
流により、境界層２０が生じ難く、かつ、生じた境界層
２０も破壊される。
流により、境界層２０が生じ難く、かつ、生じた境界層
２０も破壊される。
【００３５】しかも、図３の略図で示すように、境界層
２０は超音波２１，２１によっても破壊される。これに
より、ワークＷ表面にエアが直接当たり、いわゆるエア
ナイフの効果により塵ＲをワークＷ表面から剥離させる
ことができる。
２０は超音波２１，２１によっても破壊される。これに
より、ワークＷ表面にエアが直接当たり、いわゆるエア
ナイフの効果により塵ＲをワークＷ表面から剥離させる
ことができる。
【００３６】さらに、図４に拡大して示すように、超音
波エアＥ１，Ｅ２の合流点では、塵Ｒに１８０゜反対の
２方向（ワークＷの上流側と下流側）から超音波エアＥ
１，Ｅ２が当たり、塵Ｒに矢印Ｂ方向の浮力が生じる。
これにより、塵ＲをワークＷ表面から確実に剥離させる
ことができる。
波エアＥ１，Ｅ２の合流点では、塵Ｒに１８０゜反対の
２方向（ワークＷの上流側と下流側）から超音波エアＥ
１，Ｅ２が当たり、塵Ｒに矢印Ｂ方向の浮力が生じる。
これにより、塵ＲをワークＷ表面から確実に剥離させる
ことができる。
【００３７】即ち、（図７に示すように）ワークＷに対
して付着位置２６にて付着した塵ＲはワークＷから除去
され易い方向と除去され難い方向とを有する（方向性を
有する）ことがある。つまり、図７の左の塵は図の左方
向からの超音波エアＥ２にて吹き飛ばされ易く、また、
同図の右の塵は逆に右方向からの超音波エアＥ１にて吹
き飛ばされ易い。このような塵Ｒの付着状態にあって、
本発明では異なる方向から超音波エアＥ１，Ｅ２が吹き
付けられるので、確実に除去が行なわれる。従って、ワ
ークＷに付着した塵Ｒを効率良く除去することができ、
優れたワークＷの洗浄効果を有するものとし得る。
して付着位置２６にて付着した塵ＲはワークＷから除去
され易い方向と除去され難い方向とを有する（方向性を
有する）ことがある。つまり、図７の左の塵は図の左方
向からの超音波エアＥ２にて吹き飛ばされ易く、また、
同図の右の塵は逆に右方向からの超音波エアＥ１にて吹
き飛ばされ易い。このような塵Ｒの付着状態にあって、
本発明では異なる方向から超音波エアＥ１，Ｅ２が吹き
付けられるので、確実に除去が行なわれる。従って、ワ
ークＷに付着した塵Ｒを効率良く除去することができ、
優れたワークＷの洗浄効果を有するものとし得る。
【００３８】また、第１噴出ノズル１１の上流側と第２
噴出ノズル１２の下流側にエアが漏れないようにするこ
とができ、ワークＷから剥離した塵Ｒを、確実に吸引ノ
ズル９内に送ることができる。さらに、外部への音漏れ
を防止でき、騒音を低減させ得る。
噴出ノズル１２の下流側にエアが漏れないようにするこ
とができ、ワークＷから剥離した塵Ｒを、確実に吸引ノ
ズル９内に送ることができる。さらに、外部への音漏れ
を防止でき、騒音を低減させ得る。
【００３９】図２にもどって、ワークＷ表面から剥離し
た塵Ｒは、吸引ノズル９を通り、エア吸入室３内に吸入
される。こうして、塵Ｒが除去される。
た塵Ｒは、吸引ノズル９を通り、エア吸入室３内に吸入
される。こうして、塵Ｒが除去される。
【００４０】また、第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズ
ル１２と吸引ノズル９とを、エア排出室２とエア吸入室
３とを有するケーシング４の下面側に配設したので、除
塵装置の組立てが容易となり、かつ、第１噴出ノズル１
１，第２噴出ノズル１２，吸引ノズル９の位置決めを容
易に行い得る。
ル１２と吸引ノズル９とを、エア排出室２とエア吸入室
３とを有するケーシング４の下面側に配設したので、除
塵装置の組立てが容易となり、かつ、第１噴出ノズル１
１，第２噴出ノズル１２，吸引ノズル９の位置決めを容
易に行い得る。
【００４１】図５は、本発明の除塵装置の他の実施例を
示し、この場合、２個の除塵ヘッド１，１を上流側と下
流側に平行に隣接させて設けている。
示し、この場合、２個の除塵ヘッド１，１を上流側と下
流側に平行に隣接させて設けている。
【００４２】このようにすれば、ワークＷ表面から塵Ｒ
を除去する効率をより高くすることができ、かつ、より
確実に塵Ｒを除去し得る。
を除去する効率をより高くすることができ、かつ、より
確実に塵Ｒを除去し得る。
【００４３】なお、上記２個の除塵ヘッド１，１を一体
状に形成するも自由である。そして、その場合、上流側
の除塵ヘッド１の下流側エア排出室２ｂと、下流側の除
塵ヘッド１の上流側エア排出室２ａとの間の壁部を省略
して相互に連通状とするのも好ましい。
状に形成するも自由である。そして、その場合、上流側
の除塵ヘッド１の下流側エア排出室２ｂと、下流側の除
塵ヘッド１の上流側エア排出室２ａとの間の壁部を省略
して相互に連通状とするのも好ましい。
【００４４】次に実験例を示す。
【００４５】図８に示すように、長方形のガラス板２３
に２ｍｍ平方のポイントＰ１〜Ｐ８を１列に等間隔にマ
ーキングした。そして、液晶表示板に使用される直径５
μｍのスペーサビーズを、各ポイントＰ１〜Ｐ８に３０
０〜４００個ずつ散布した。
に２ｍｍ平方のポイントＰ１〜Ｐ８を１列に等間隔にマ
ーキングした。そして、液晶表示板に使用される直径５
μｍのスペーサビーズを、各ポイントＰ１〜Ｐ８に３０
０〜４００個ずつ散布した。
【００４６】上記のようにスペーサビーズを散布したガ
ラス板２３を６枚作成し、これをワークＷとして、図９
に示した従来の除塵装置と、図１に示した本発明の除塵
装置にて、夫々、３枚ずつ除塵を行った。なお、噴出す
るエアの圧力を１６００ｍｍＡｑに設定し、除塵ヘッド
とワーク表面との間の間隔寸法を４〜５ｍｍに設定し
た。
ラス板２３を６枚作成し、これをワークＷとして、図９
に示した従来の除塵装置と、図１に示した本発明の除塵
装置にて、夫々、３枚ずつ除塵を行った。なお、噴出す
るエアの圧力を１６００ｍｍＡｑに設定し、除塵ヘッド
とワーク表面との間の間隔寸法を４〜５ｍｍに設定し
た。
【００４７】上述の除塵終了後、ガラス板２３の各ポイ
ントＰ１〜Ｐ８に残留したスペーサビーズの個数を数え
た結果を次の表１に示す。
ントＰ１〜Ｐ８に残留したスペーサビーズの個数を数え
た結果を次の表１に示す。
【００４８】
【表１】
【００４９】表１から、本発明の除塵装置は、従来のも
のよりも優れた除塵能力を有することが分かった。
のよりも優れた除塵能力を有することが分かった。
【００５０】
【発明の効果】本発明は上述の如く構成されているの
で、次に記載する効果を奏する。
で、次に記載する効果を奏する。
【００５１】ワークＷが平坦状である場合のみならず弧
状に弯曲していても、合流乱流空室１６内に確実に乱流
を発生させることができる。従って、その乱流により、
境界層が生じ難くなる。しかも、境界層が生じても超音
波エアＥ １ ，Ｅ ２ の超音波によって破壊できる。さら
に、合流乱流空室１６内にて超音波エアＥ １ ，Ｅ ２ を合
流させることができ、塵Ｒに上流側と下流側の反対方向
から超音波エアＥ １ ，Ｅ ２ のエア流が直接当り、塵Ｒに
上昇方向の浮力が生じる。従って、塵ＲをワークＷ表面
から確実に剥離させることができる。
状に弯曲していても、合流乱流空室１６内に確実に乱流
を発生させることができる。従って、その乱流により、
境界層が生じ難くなる。しかも、境界層が生じても超音
波エアＥ １ ，Ｅ ２ の超音波によって破壊できる。さら
に、合流乱流空室１６内にて超音波エアＥ １ ，Ｅ ２ を合
流させることができ、塵Ｒに上流側と下流側の反対方向
から超音波エアＥ １ ，Ｅ ２ のエア流が直接当り、塵Ｒに
上昇方向の浮力が生じる。従って、塵ＲをワークＷ表面
から確実に剥離させることができる。
【図１】本発明の一実施例の断面側面図である。
【図２】要部拡大断面側面図である。
【図３】使用状態を説明する簡略図である。
【図４】使用状態を説明する要部拡大断面図である。
【図５】他の実施例の要部断面側面図である。
【図６】別の使用状態を説明する要部拡大断面図であ
る。
る。
【図７】作用を説明する簡略図である。
【図８】実験例のワークを示す平面図である。
【図９】従来例を示す断面側面図である。
９ 吸引ノズル 11 第１噴出ノズル 12 第２噴出ノズル 16 合流乱流空室 17 壁面 24 凹面 Ｅ1 超音波エア Ｅ2 超音波エア Ｗ ワーク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実公 昭58−43979（ＪＰ，Ｙ２) 武藤知雄、解説 微粒子／静電気除去 の新技術、建築設備と配管工事、日本工 業出版、昭和55年３月１日、220．Ｖｏ ｌ．18 Ｎｏ．３，81頁左欄20行〜83頁 左欄２行 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B08B 5/00 - 5/04
Claims (1)
- 【請求項１】 相互に接近する方向に超音波エアＥ１，
Ｅ２を噴出する第１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１
２を、設けると共に、該第１噴出ノズル１１と第２噴出
ノズル１２の間に、吸引ノズル９を配設し、該吸引ノズ
ル９の開口部を有する壁面１７，１７を、側面視に於て
上方へ弧状に弯曲させて、ワーク表面との間隔寸法が上
流側端縁・下流側端縁から中間部へと次第に増加する凹
面２４に形成して、上記間隔寸法が中間部にて最大とな
ると共に該間隔寸法が中間部から上流側端縁・下流側端
縁へ次第に減少する形状の合流乱流空室１６を、上記第
１噴出ノズル１１と第２噴出ノズル１２との間に、形成
し、該合流乱流空室１６の中間部に上記吸引ノズル９を
配設し、さらに、上記凹面２４の上流側端縁に第１噴出
ノズル１１を配設し、かつ、該凹面２４の下流側端縁に
第２噴出ノズル１２を配設したことを特徴とする除塵装
置。
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|---|---|---|---|
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| TW082109119A TW231974B (en) | 1993-08-31 | 1993-11-02 | Dust sweeping device |
| US08/169,206 US5457847A (en) | 1993-08-31 | 1993-12-20 | Dust removing system |
| KR1019930030761A KR970009001B1 (ko) | 1993-08-31 | 1993-12-29 | 제진장치 |
| EP94100511A EP0640411B1 (en) | 1993-08-31 | 1994-01-14 | Dust removing system |
| DE69409314T DE69409314T2 (de) | 1993-08-31 | 1994-01-14 | System zum Entfernen von Staub |
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|---|---|---|---|
| JP5240672A JP2820599B2 (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 除塵装置 |
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| JP23408394A Division JPH0768226A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 除塵装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0760211A JPH0760211A (ja) | 1995-03-07 |
| JP2820599B2 true JP2820599B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=17062992
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5240672A Expired - Fee Related JP2820599B2 (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 除塵装置 |
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| EP (1) | EP0640411B1 (ja) |
| JP (1) | JP2820599B2 (ja) |
| KR (1) | KR970009001B1 (ja) |
| DE (1) | DE69409314T2 (ja) |
| TW (1) | TW231974B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102039613A (zh) * | 2009-10-22 | 2011-05-04 | 株式会社伸兴 | 除尘装置 |
| EP2425902A1 (en) | 2009-10-16 | 2012-03-07 | Shinko Co., Ltd. | Dust-removing apparatus |
Families Citing this family (49)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FI95611C (fi) * | 1994-05-16 | 1996-02-26 | Valmet Paper Machinery Inc | Menetelmä ja laite paperikoneella tai sen jälkikäsittelylaitteella rainasta irtoavan pölyn keräämiseksi ja poistamiseksi |
| JP3122370B2 (ja) * | 1996-05-29 | 2001-01-09 | 株式会社伸興 | 除塵装置 |
| US6148831A (en) * | 1996-10-25 | 2000-11-21 | Valmet Corporation | Method for cleaning a web |
| FI104099B (fi) * | 1996-10-25 | 1999-11-15 | Valmet Corp | Menetelmä ja laite paperikoneella tai vastaavalla tai sen jälkikäsittelylaitteella pölyn poistamiseksi |
| AT408462B (de) * | 1999-11-18 | 2001-12-27 | Andritz Ag Maschf | Verfahren und vorrichtung zur staubabtrennung von einer laufenden papierbahn |
| US6543078B1 (en) * | 2000-07-24 | 2003-04-08 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method for cleaning object having generally irregular surface features |
| US6490746B1 (en) * | 2000-07-24 | 2002-12-10 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method for cleaning objects having generally irregular, undulating surface features |
| TW526527B (en) * | 2001-01-04 | 2003-04-01 | Applied Materials Inc | Method and apparatus for critical flow particle removal |
| JP2002287017A (ja) | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 撮影レンズのピント状態検出装置 |
| JP2002296492A (ja) | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 撮影レンズのピント状態検出用アダプタ |
| JP2002372661A (ja) | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 撮影レンズ |
| JP4045483B2 (ja) | 2002-03-13 | 2008-02-13 | フジノン株式会社 | ピント状態検出装置 |
| US6868785B2 (en) * | 2002-03-13 | 2005-03-22 | Goss International Corporation | De-Duster for a moving printing material web and cutting device, folder and printing press having the de-duster |
| DE10211309A1 (de) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Heidelberger Druckmasch Ag | Schneidvorrichtung mit Entstaubungsvorrichtung im Falzapparat einer bahnverarbeitenden Druckmaschine |
| JP2005034782A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Sony Corp | 洗浄装置及び洗浄方法 |
| US20050126605A1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-06-16 | Coreflow Scientific Solutions Ltd. | Apparatus and method for cleaning surfaces |
| US7111797B2 (en) * | 2004-03-22 | 2006-09-26 | International Business Machines Corporation | Non-contact fluid particle cleaner and method |
| KR101234411B1 (ko) | 2004-08-13 | 2013-02-18 | 포스 테크놀로지 | 고체 물질 및 가스를 포함하며 프로세스를 강화하는 방법및 장치 |
| DE602005015988D1 (de) * | 2004-09-17 | 2009-09-24 | Synergetics Proprietary Ltd | Vorrichtung und verfahren zum entfernen von staub |
| CN100372620C (zh) * | 2004-10-12 | 2008-03-05 | 友达光电股份有限公司 | 除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法 |
| GB2419276B (en) * | 2004-10-22 | 2007-08-15 | Polar Light Ltd | Cleaning head for a surface cleaning apparatus |
| JP4710368B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2011-06-29 | 富士フイルム株式会社 | 塗膜硬化方法及び装置 |
| IES20050297A2 (en) * | 2005-05-10 | 2006-10-04 | Lifestyle Foods Ltd | Material recovery system |
| ES2273587B1 (es) * | 2005-07-29 | 2008-04-16 | Forgestal, S.L. | Dispositivo para la limpieza bajo bloques de sobresolera para vagonetas de hornos tunel. |
| KR200437869Y1 (ko) * | 2006-12-04 | 2008-01-04 | 씨티에스(주) | 제진노즐 내의 공기토출구 구조 |
| ES2662029T3 (es) | 2007-05-11 | 2018-04-05 | Force Technology | Mejora de la modificación de una superficie con plasma mediante el uso de ondas acústicas ultrasónicas de alta intensidad y alta potencia |
| WO2009009596A1 (en) * | 2007-07-09 | 2009-01-15 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Handheld portable devices for touchless particulate matter removal |
| JP5268097B2 (ja) * | 2008-09-04 | 2013-08-21 | ヒューグルエレクトロニクス株式会社 | 除塵装置 |
| KR101341013B1 (ko) * | 2008-09-04 | 2013-12-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 세정 장치 |
| US8661609B2 (en) | 2008-12-03 | 2014-03-04 | S.C. Johnson & Son, Inc. | Portable devices for touchless particulate matter removal |
| US8695156B2 (en) * | 2010-02-10 | 2014-04-15 | Jeffrey S. Marshall | Aeroacoustic duster |
| JP5162612B2 (ja) * | 2010-03-26 | 2013-03-13 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | エア集塵装置 |
| TW201250014A (en) * | 2011-06-15 | 2012-12-16 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Coating umbrella stand |
| KR101341452B1 (ko) * | 2011-12-27 | 2013-12-13 | 씨티에스(주) | 플라즈마 애싱 건식 초음파세정기 및 그 플라즈마 헤드 |
| CN102886370A (zh) * | 2012-03-09 | 2013-01-23 | 李小川 | 一种粉尘捕收方法与装置 |
| CN202725553U (zh) * | 2012-07-09 | 2013-02-13 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 清洁装置 |
| US20140007372A1 (en) * | 2012-07-09 | 2014-01-09 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. | Cleaning device |
| KR20140049735A (ko) * | 2012-10-18 | 2014-04-28 | 삼성전기주식회사 | 기판의 이물 제거장치 및 기판의 이물 제거방법 |
| CN103341405B (zh) * | 2013-07-24 | 2015-09-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置 |
| US10112223B2 (en) * | 2013-07-26 | 2018-10-30 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Method for cleansing glass substrate and device for performing the method |
| JP6781944B2 (ja) * | 2016-03-15 | 2020-11-11 | 大日本印刷株式会社 | 異物除去装置 |
| JP6700150B2 (ja) * | 2016-10-03 | 2020-05-27 | 東京エレクトロン株式会社 | パーティクル捕集装置、パーティクル捕集方法、およびパーティクル捕集システム |
| EP3418450B1 (de) * | 2017-06-21 | 2020-05-06 | Brügger HTB GmbH | Tunnelreinigungsvorrichtung |
| KR101875715B1 (ko) * | 2017-06-27 | 2018-07-06 | 윤중식 | 필름 이물질 건식 제거 장치 |
| KR102109357B1 (ko) * | 2017-11-29 | 2020-05-12 | 동우 화인켐 주식회사 | 필름 클리닝 장치 |
| CN111299245A (zh) * | 2018-12-11 | 2020-06-19 | 韶阳科技股份有限公司 | 气体循环装置 |
| US11541434B2 (en) * | 2019-01-09 | 2023-01-03 | Raytheon Technologies Corporation | Vortex assisted powder removal end effector |
| TWI711495B (zh) * | 2019-08-27 | 2020-12-01 | 勵威電子股份有限公司 | 一種乾式超聲波清洗頭及清洗機 |
| IT202000012211A1 (it) * | 2020-05-25 | 2021-11-25 | F M Srl | Sistema di captazione e processo di produzione di tale sistema di captazione |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3420710A (en) * | 1964-09-03 | 1969-01-07 | Du Pont | Process and apparatus for cleaning webs utilizing a sonic air blast |
| US3678534A (en) * | 1970-07-06 | 1972-07-25 | Rohr Corp | Vacuum cleaner head with supersonic gas jets |
| US3915739A (en) * | 1974-07-12 | 1975-10-28 | Montreal | Method of cleaning foreign matter from a cavity in a semiconductor |
| DE2938863A1 (de) * | 1979-09-26 | 1981-04-09 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Einrichtung zum kontaktlosen entfernen von staub |
| SE8107374L (sv) * | 1981-12-09 | 1983-06-10 | Kelva Ab | Banrenare |
| EP0127618A1 (en) * | 1982-11-29 | 1984-12-12 | HOWARD, Paul Clifford | Paperboard edge buffer and cleaner |
| US4677704A (en) * | 1986-04-22 | 1987-07-07 | Huggins Richard A | Cleaning system for static charged semiconductor wafer surface |
| DE3711777A1 (de) * | 1987-04-08 | 1988-10-27 | Claus G Dipl Ing Wandres | Verfahren und vorrichtung zum entstauben von folien o. dgl. |
| DE4120973A1 (de) * | 1991-06-25 | 1993-01-07 | Eltex Elektrostatik Gmbh | Vorrichtung zum abfuehren von staub |
| JP2567191Y2 (ja) * | 1992-04-13 | 1998-03-30 | 株式会社伸興 | パネル体の除塵装置 |
-
1993
- 1993-08-31 JP JP5240672A patent/JP2820599B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-11-02 TW TW082109119A patent/TW231974B/zh not_active IP Right Cessation
- 1993-12-20 US US08/169,206 patent/US5457847A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-29 KR KR1019930030761A patent/KR970009001B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-01-14 EP EP94100511A patent/EP0640411B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-01-14 DE DE69409314T patent/DE69409314T2/de not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 武藤知雄、解説 微粒子／静電気除去の新技術、建築設備と配管工事、日本工業出版、昭和５５年３月１日、２２０．Ｖｏｌ．１８ Ｎｏ．３，８１頁左欄２０行〜８３頁左欄２行 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2425902A1 (en) | 2009-10-16 | 2012-03-07 | Shinko Co., Ltd. | Dust-removing apparatus |
| CN102039613A (zh) * | 2009-10-22 | 2011-05-04 | 株式会社伸兴 | 除尘装置 |
| CN102039613B (zh) * | 2009-10-22 | 2014-04-30 | 株式会社伸兴 | 除尘装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5457847A (en) | 1995-10-17 |
| DE69409314T2 (de) | 1998-09-03 |
| EP0640411A1 (en) | 1995-03-01 |
| TW231974B (en) | 1994-10-11 |
| JPH0760211A (ja) | 1995-03-07 |
| KR950005390A (ko) | 1995-03-20 |
| KR970009001B1 (ko) | 1997-06-03 |
| EP0640411B1 (en) | 1998-04-01 |
| DE69409314D1 (de) | 1998-05-07 |
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