JPH0760211A - 除塵装置 - Google Patents
除塵装置Info
- Publication number
- JPH0760211A JPH0760211A JP5240672A JP24067293A JPH0760211A JP H0760211 A JPH0760211 A JP H0760211A JP 5240672 A JP5240672 A JP 5240672A JP 24067293 A JP24067293 A JP 24067293A JP H0760211 A JPH0760211 A JP H0760211A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- nozzle
- dust
- work
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
- B08B5/023—Cleaning travelling work
- B08B5/026—Cleaning moving webs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/04—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by a combination of operations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/04—Cleaning by suction, with or without auxiliary action
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
れ、かつ、騒音を低減できる除塵装置を提供する。 【構成】 エア排出室2とエア吸入室3とを有するケー
シング4の下面側に、相互に接近する方向に超音波エア
を噴出する第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12を、設
ける。かつ、第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12の間
に、吸引ノズル9を配設する。第1噴出ノズル11と第2
噴出ノズル12とワークW表面との間に、合流乱流空室16
を形成する。吸引ノズル9の開口部を有する壁面17, 17
を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲する凹面24に形成す
る。凹面24の上流側端縁に第1噴出ノズル11を配設し、
かつ、凹面24の下流側端縁に第2噴出ノズル12を配設す
る。
Description
うに、矢印a方向に走行するワークbの上方に、走行方
向に直交する方向に配設される除塵ヘッドmを備えてい
た。その除塵ヘッドmは、ケーシングc内を仕切壁dに
て下流側のエア排出室eと上流側のエア吸入室fとに分
けて、エア排出室eの底部に超音波発生器gを設けると
共にその超音波発生器gの下方に超音波エアを発生する
噴出ノズルhを開設し、かつ、エア吸入室fの底壁部に
吸引ノズルiを開設したものであった。
j…を除去するには、塵j…が付着したワークbの表面
に噴出ノズルhから超音波エアを斜め下方へ噴出し、そ
の超音波kといわゆるエアナイフとの相乗効果により、
塵j…をワークbから剥離させ、そのエアと塵j…を吸
引ノズルiからエア吸入室f内に吸入していた。
従来の除塵装置では、噴出ノズルhから出た超音波エア
がワークbの上流側へ一方向に進むため、ワークbの表
面に強力なエア境界層lが生じ易く、その境界槽lを完
全に破ることができなかった。
い場合があり、塵jがワークbに付着したまま下流側へ
流れてしまうことがあった。
て、境界層を完全に破ることができると共に、ワークに
付着した塵を効率よく除去することができ、かつ、優れ
たワークの洗浄効果を有する除塵装置を提供することを
目的とする。
めに、本発明に係る除塵装置は、相互に接近する方向に
超音波エアを噴出する第1噴出ノズルと第2噴出ノズル
を、設けると共に、該第1噴出ノズルと第2噴出ノズル
の間に、吸引ノズルを配設したものである。
ワーク表面との間に、合流乱流空室を形成するも好まし
い。
を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲する凹面に形成する
のも望ましい。
ルを配設し、かつ、凹面の下流側端縁に第2噴出ノズル
を配設するのも好ましい。
吸引ノズルとを、エア排出室とエア吸入室とを有するケ
ーシングの下面側に、配設するも好ましい。
ークを走行させれば、第1噴出ノズルと第2噴出ノズル
から噴出する超音波エアは、ワーク表面上を相互に接近
する方向に流れ、その後合流する。この超音波エアの合
流する部位にて、ワークに付着した塵に、180 °反対の
2方向から超音波エアが当たる。これにより、塵に浮力
が生じ、ワークから塵が剥離する。
る。これにより、ワーク表面に生じる境界層が破壊され
る。あるいは、ワークに付着した塵の付着状態によって
は、除去され易い方向があることも考えられるが、本発
明では、異なる方向から噴出して、いずれかの方向の噴
出によって、塵が除去されることとなる。
される。このため、第1噴出ノズルの上流側と第2噴出
ノズルの下流側にエアと音が漏れなくなる。
合流乱流空室を形成すれば、合流乱流空室内に強い乱流
が発生する。
視に於て上方へ弧状に弯曲する凹面に形成すれば、合流
したエアを吸引ノズル内に送り易くる。
し、かつ、凹面の下流側端縁に第2噴出ノズルを配設す
れば、強い乱流が生じると共に、合流したエアを吸引ノ
ズル内に送り易くなる。
ズルとを、エア排出室とエア吸入室とを有するケーシン
グの下面側に、配設すれば、取扱が容易となる。
詳説する。
の断面側面図を示し、この装置は、除塵ヘッド1と、図
外のブロワーユニットと、プラスチックフィルム等の長
尺薄肉連続体やガラス板等の板状体(枚葉)からなるワ
ークWを矢印Aで示す如く上流側から下流側へ走行させ
る図示省略の搬送手段と、を備えている。
行方向に直交する方向に配設されるケーシング4と、そ
のケーシング4内に設けられる超音波発生器6,6と、
からなる。
て、その仕切壁5の外側のエア排出室2と、内側のエア
吸入室3とに分けられる。エア排出室2には、仮想線で
示すようにエア供給路7が連通連結され、かつ、エア吸
入室3には、図示省略のエア吸入路が連通連結される。
7を介してエア排出室2にエアが供給され、エア吸入室
3内のエアがエア吸入路を介してブロワーユニットに戻
るように構成されている。
と下流側寄りに、相互に接近する方向に超音波エアを噴
出する第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12を、設ける
と共に、第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12の間に、
吸引ノズル9を配設する。
壁5との間に、ケーシング4と平行であって相互に平行
に並ぶ帯板状鉛直壁部10, 10を連続状に形成し、かつ、
その帯板状鉛直壁部10, 10の間の空間部をエア吸入室3
内とケーシング4の外部に連通させて、ケーシング4に
平行なスリット状の吸引ノズル9を形成する。
面17, 17を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲する凹面24
に形成する。
と帯板状鉛直壁部10, 10により、上流側排出室2aと下
流側排出室2bとに分けられる。そして、上流側排出室
2aの底部と、下流側排出室2bの底部に、超音波発生
器6,6を固定する。
1噴出ノズル11又は第2噴出ノズル12に平行な連続溝13
を有するブロック体からなり、連続溝13は、鉛直部14と
該鉛直部14に連通連結される上下一対の水平部15, 15と
からなる。
は、夫々、上流側排出室2aの底壁部8aと、下流側排
出室2bの底壁部8bに、開設される。つまり、第1噴
出ノズル11と第2噴出ノズル12と吸引ノズル9とを、ケ
ーシング4の下面側に、配設する。さらに、第1噴出ノ
ズル11と第2噴出ノズル12は、超音波発生器6の連続溝
13に連通連結される。
1噴出ノズル11を開口させ、かつ、凹面24の下流側端縁
をなす角部に第2噴出ノズル12を開口させる。つまり、
凹面24の上流側端縁に第1噴出ノズル11を配設し、か
つ、凹面24の下流側端縁に第2噴出ノズル12を配設す
る。
下方へ行くにつれて相互に接近する方向に傾斜する。な
お、図6に示すように、ワークWがローラー25に沿って
曲がりつつ送られるシート体(ウエブ)の場合、第1噴
出ノズル11と第2噴出ノズル12の傾斜角度θ1 ,θ2 は
実質的に各々θ1 ′,θ2 ′となる。つまり、θ1 ′=
(θ1 +θ/2),θ2 ′=(θ2 +θ/2)となる。
そして、第1噴出ノズル11の傾斜角度θ1 と、第2噴出
ノズル12の傾斜角度θ2 は、夫々、10°〜30°程度の範
囲とし、特に好ましくは約20°とする。
面との間の間隔寸法Sは、1〜2mm程度とするのが好ま
しい。さらに、第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12の
下方開口部の相互間隔寸法Xは、30〜40mm程度とするの
が好ましい(図1参照)。
12とワークW表面との間に、合流乱流空室16を形成す
る。即ち、ケーシング4の凹面24とその下方のワークW
の上面との間の空間が、合流乱流空室16となる。
が連通連結されてエアが他端側へ吸入される場合、吸引
ノズル9の吸引力が全長において略同一になるように、
吸引ノズル9の開口幅寸法Vをエア吸入室3の一端側か
ら他端側へ、段階的に又は無段階で、次第に縮幅させる
のも好ましい。
用して、ワークWに付着した塵Rを除去する方法を説明
する。
m/sec 程度の速度で走行させる。この際、ブロワーユ
ニットから除塵ヘッド1のエア排出室2に1200〜1800mm
Aq程度の圧力のエアを供給する。
40〜 200m/sec 程度)で、上流側と下流側の超音波発
生器6,6の連続溝13,13を通過し、この連続溝13,13
を通過したエアは、超音波エアE1 ,E2 (30〜 120K
Hz 程度の周波数の超音波が乗ったエア流)となって、
第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12から、傾斜角度θ
1 ,θ2 に平行に吹き出される。
接近する方向に流れて合流乱流空室16の中間部で合流す
る。これにより、合流乱流空室16内にエアの乱流が生じ
る。
高速で流れるとワークW表面に境界層20が生じる。この
ため、ワークWに付着している微小な塵R(例えば直径
1〜10μm)は、境界層20内に閉じ込められる。
により、境界層20が生じ難く、かつ、生じた境界層20も
破壊される。
20は超音波21, 21によっても破壊される。これにより、
ワークW表面にエアが直接当たり、いわゆるエアナイフ
の効果により塵RをワークW表面から剥離させることが
できる。
波エアE1 ,E2 の合流点では、塵Rに 180°反対の2
方向(ワークWの上流側と下流側)から超音波エア
E1 ,E2 が当たり、塵Rに矢印B方向の浮力が生じ
る。これにより、塵RをワークW表面から確実に剥離さ
せることができる。
た塵Rは、吸引ノズル9を通り、エア吸入室3内に吸入
される。こうして、塵Rが除去される。
示し、この場合、2個の除塵ヘッド1,1を上流側と下
流側に平行に隣接させて設けている。
を除去する効率をより高くすることができ、かつ、より
確実に塵Rを除去し得る。
状に形成するも自由である。そして、その場合、上流側
の除塵ヘッド1の下流側エア排出室2bと、下流側の除
塵ヘッド1の上流側エア排出室2aとの間の壁部を省略
して相互に連通状とするのも好ましい。
2mm平方のポイントP1 〜P8 を1列に等間隔にマーキ
ングした。そして、液晶表示板に使用される直径5μm
のスペーサビーズを、各ポイントP1 〜P8 に300 〜40
0 個ずつ散布した。
ラス板23を6枚作成し、これをワークWとして、図7に
示した従来の除塵装置と、図1に示した本発明の除塵装
置にて、夫々、3枚ずつ除塵を行った。なお、噴出する
エアの圧力を1600mmAqに設定し、除塵ヘッドとワーク表
面との間の間隔寸法を4〜5mmに設定した。
トP1 〜P8 に残留したスペーサビーズの個数を数えた
結果を次の表1に示す。
のよりも優れた除塵能力を有することが分かった。
で、次に記載する効果を奏する。
着位置26にて付着した塵RはワークWから除去され易い
方向と除去され難い方向とを有する(方向性を有する)
ことがある。つまり、図7の左の塵は図の左方向からの
超音波エアE2 にて吹き飛ばされ易く、また、同図の右
の塵は逆に右方向からの超音波エアE1 にて吹き飛ばさ
れ易い。このような塵Rの付着状態にあって、本発明で
は異なる方向から超音波エアE1 ,E2 が吹き付けられ
るので、確実に除去が行なわれる。従って、ワークWに
付着した塵Rを効率良く除去することができ、優れたワ
ークWの洗浄効果を有するものとし得る。
出ノズル12の下流側にエアが漏れないようにすることが
でき、ワークWから剥離した塵Rを、確実に吸引ノズル
9内に送ることができる。さらに、外部への音漏れを防
止でき、騒音を低減させ得る。
引ノズル9とを、エア排出室2とエア吸入室3とを有す
るケーシング4の下面側に、配設すれば、除塵装置の組
立てが容易となり、かつ、第1噴出ノズル11,第2噴出
ノズル12,吸引ノズル9の位置決めを容易に行い得る。
る。
うに、矢印a方向に走行するワークbの上方に、走行方
向に直交する方向に配設される除塵ヘッドmを備えてい
た。その除塵ヘッドmは、ケーシングc内を仕切壁dに
て下流側のエア排出室eと上流側のエア吸入室fとに分
けて、エア排出室eの底部に超音波発生器gを設けると
共にその超音波発生器gの下方に超音波エアを発生する
噴出ノズルhを開設し、かつ、エア吸入室fの底壁部に
吸引ノズルiを開設したものであった。
に2mm平方のポイントP1〜P8を1列に等間隔にマ
ーキングした。そして、液晶表示板に使用される直径5
μmのスペーサビーズを、各ポイントP1〜P8に30
0〜400個ずつ散布した。
ラス板23を6枚作成し、これをワークWとして、図9
に示した従来の除塵装置と、図1に示した本発明の除塵
装置にて、夫々、3枚ずつ除塵を行った。なお、噴出す
るエアの圧力を1600mmAqに設定し、除塵ヘッド
とワーク表面との間の間隔寸法を4〜5mmに設定し
た。
Claims (5)
- 【請求項1】 相互に接近する方向に超音波エアE1 ,
E2 を噴出する第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12
を、設けると共に、該第1噴出ノズル11と第2噴出ノズ
ル12の間に、吸引ノズル9を配設したことを特徴とする
除塵装置。 - 【請求項2】 第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12と
ワークW表面との間に、合流乱流空室16を形成した請求
項1記載の除塵装置。 - 【請求項3】 吸引ノズル9の開口部を有する壁面17,
17を、側面視に於て上方へ弧状に弯曲する凹面24に形成
した請求項1記載の除塵装置。 - 【請求項4】 凹面24の上流側端縁に第1噴出ノズル11
を配設し、かつ、凹面24の下流側端縁に第2噴出ノズル
12を配設した請求項3記載の除塵装置。 - 【請求項5】 第1噴出ノズル11と第2噴出ノズル12と
吸引ノズル9とを、エア排出室2とエア吸入室3とを有
するケーシング4の下面側に、配設した請求項1記載の
除塵装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5240672A JP2820599B2 (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 除塵装置 |
TW082109119A TW231974B (en) | 1993-08-31 | 1993-11-02 | Dust sweeping device |
US08/169,206 US5457847A (en) | 1993-08-31 | 1993-12-20 | Dust removing system |
KR1019930030761A KR970009001B1 (ko) | 1993-08-31 | 1993-12-29 | 제진장치 |
DE69409314T DE69409314T2 (de) | 1993-08-31 | 1994-01-14 | System zum Entfernen von Staub |
EP94100511A EP0640411B1 (en) | 1993-08-31 | 1994-01-14 | Dust removing system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5240672A JP2820599B2 (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 除塵装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23408394A Division JPH0768226A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 除塵装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0760211A true JPH0760211A (ja) | 1995-03-07 |
JP2820599B2 JP2820599B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=17062992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5240672A Expired - Fee Related JP2820599B2 (ja) | 1993-08-31 | 1993-08-31 | 除塵装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5457847A (ja) |
EP (1) | EP0640411B1 (ja) |
JP (1) | JP2820599B2 (ja) |
KR (1) | KR970009001B1 (ja) |
DE (1) | DE69409314T2 (ja) |
TW (1) | TW231974B (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6522480B2 (en) | 2001-06-15 | 2003-02-18 | Fuji Photo Optical Co., Ltd. | Taking lens apparatus |
US6924842B2 (en) | 2001-03-30 | 2005-08-02 | Fujinon Corporation | Focusing state determining adapter for taking lens |
US7030927B2 (en) | 2001-03-28 | 2006-04-18 | Fujinon Corporation | Apparatus for detecting focusing status of taking lens |
US7262805B2 (en) | 2002-03-13 | 2007-08-28 | Fujinon Corporation | Focus detecting system |
CN100372620C (zh) * | 2004-10-12 | 2008-03-05 | 友达光电股份有限公司 | 除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法 |
US8399795B2 (en) | 2007-05-11 | 2013-03-19 | Force Technology | Enhancing plasma surface modification using high intensity and high power ultrasonic acoustic waves |
KR101341452B1 (ko) * | 2011-12-27 | 2013-12-13 | 씨티에스(주) | 플라즈마 애싱 건식 초음파세정기 및 그 플라즈마 헤드 |
JP2014083538A (ja) * | 2012-10-18 | 2014-05-12 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | プリント回路基板の異物除去装置及びプリント回路基板の異物除去方法 |
US9089829B2 (en) | 2004-08-13 | 2015-07-28 | Force Technology | Method and device for enhancing a process involving a solid object and a gas |
JP2017164676A (ja) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | 大日本印刷株式会社 | 異物除去装置 |
KR20170139470A (ko) * | 2017-11-29 | 2017-12-19 | 동우 화인켐 주식회사 | 필름 클리닝 장치 |
KR101875715B1 (ko) * | 2017-06-27 | 2018-07-06 | 윤중식 | 필름 이물질 건식 제거 장치 |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI95611C (fi) * | 1994-05-16 | 1996-02-26 | Valmet Paper Machinery Inc | Menetelmä ja laite paperikoneella tai sen jälkikäsittelylaitteella rainasta irtoavan pölyn keräämiseksi ja poistamiseksi |
JP3122370B2 (ja) * | 1996-05-29 | 2001-01-09 | 株式会社伸興 | 除塵装置 |
US6148831A (en) * | 1996-10-25 | 2000-11-21 | Valmet Corporation | Method for cleaning a web |
FI104099B (fi) * | 1996-10-25 | 1999-11-15 | Valmet Corp | Menetelmä ja laite paperikoneella tai vastaavalla tai sen jälkikäsittelylaitteella pölyn poistamiseksi |
AT408462B (de) * | 1999-11-18 | 2001-12-27 | Andritz Ag Maschf | Verfahren und vorrichtung zur staubabtrennung von einer laufenden papierbahn |
US6490746B1 (en) * | 2000-07-24 | 2002-12-10 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method for cleaning objects having generally irregular, undulating surface features |
US6543078B1 (en) * | 2000-07-24 | 2003-04-08 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method for cleaning object having generally irregular surface features |
WO2002053300A1 (en) * | 2001-01-04 | 2002-07-11 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for critical flow particle removal |
US6868785B2 (en) * | 2002-03-13 | 2005-03-22 | Goss International Corporation | De-Duster for a moving printing material web and cutting device, folder and printing press having the de-duster |
DE10211309A1 (de) * | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Heidelberger Druckmasch Ag | Schneidvorrichtung mit Entstaubungsvorrichtung im Falzapparat einer bahnverarbeitenden Druckmaschine |
JP2005034782A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Sony Corp | 洗浄装置及び洗浄方法 |
US20050126605A1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-06-16 | Coreflow Scientific Solutions Ltd. | Apparatus and method for cleaning surfaces |
US7111797B2 (en) * | 2004-03-22 | 2006-09-26 | International Business Machines Corporation | Non-contact fluid particle cleaner and method |
US8118942B2 (en) * | 2004-09-17 | 2012-02-21 | David Featherson | Dust removal apparatus and method |
GB2419276B (en) * | 2004-10-22 | 2007-08-15 | Polar Light Ltd | Cleaning head for a surface cleaning apparatus |
JP4710368B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2011-06-29 | 富士フイルム株式会社 | 塗膜硬化方法及び装置 |
IES20050297A2 (en) * | 2005-05-10 | 2006-10-04 | Lifestyle Foods Ltd | Material recovery system |
ES2273587B1 (es) * | 2005-07-29 | 2008-04-16 | Forgestal, S.L. | Dispositivo para la limpieza bajo bloques de sobresolera para vagonetas de hornos tunel. |
KR200437869Y1 (ko) * | 2006-12-04 | 2008-01-04 | 씨티에스(주) | 제진노즐 내의 공기토출구 구조 |
AU2008275133A1 (en) * | 2007-07-09 | 2009-01-15 | S.C. Johnson & Son, Inc. | Handheld portable devices for touchless particulate matter removal |
JP5268097B2 (ja) * | 2008-09-04 | 2013-08-21 | ヒューグルエレクトロニクス株式会社 | 除塵装置 |
KR101341013B1 (ko) * | 2008-09-04 | 2013-12-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 세정 장치 |
MX2011005951A (es) | 2008-12-03 | 2011-08-17 | Johnson & Son Inc S C | Aparatos portatiles para la remocion de materia particulada sin hacer contacto. |
EP2311580B1 (en) | 2009-10-16 | 2012-08-08 | Shinko Co., Ltd. | Dust-removing apparatus |
CN102039613B (zh) * | 2009-10-22 | 2014-04-30 | 株式会社伸兴 | 除尘装置 |
US8695156B2 (en) * | 2010-02-10 | 2014-04-15 | Jeffrey S. Marshall | Aeroacoustic duster |
JP5162612B2 (ja) * | 2010-03-26 | 2013-03-13 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | エア集塵装置 |
TW201250014A (en) * | 2011-06-15 | 2012-12-16 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Coating umbrella stand |
CN102886370A (zh) * | 2012-03-09 | 2013-01-23 | 李小川 | 一种粉尘捕收方法与装置 |
US20140007372A1 (en) * | 2012-07-09 | 2014-01-09 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. | Cleaning device |
CN202725553U (zh) * | 2012-07-09 | 2013-02-13 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 清洁装置 |
CN103341405B (zh) * | 2013-07-24 | 2015-09-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置 |
US10112223B2 (en) * | 2013-07-26 | 2018-10-30 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Method for cleansing glass substrate and device for performing the method |
JP6700150B2 (ja) * | 2016-10-03 | 2020-05-27 | 東京エレクトロン株式会社 | パーティクル捕集装置、パーティクル捕集方法、およびパーティクル捕集システム |
EP3418450B1 (de) * | 2017-06-21 | 2020-05-06 | Brügger HTB GmbH | Tunnelreinigungsvorrichtung |
CN111299245A (zh) * | 2018-12-11 | 2020-06-19 | 韶阳科技股份有限公司 | 气体循环装置 |
US11541434B2 (en) * | 2019-01-09 | 2023-01-03 | Raytheon Technologies Corporation | Vortex assisted powder removal end effector |
TWI711495B (zh) * | 2019-08-27 | 2020-12-01 | 勵威電子股份有限公司 | 一種乾式超聲波清洗頭及清洗機 |
IT202000012211A1 (it) * | 2020-05-25 | 2021-11-25 | F M Srl | Sistema di captazione e processo di produzione di tale sistema di captazione |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3420710A (en) * | 1964-09-03 | 1969-01-07 | Du Pont | Process and apparatus for cleaning webs utilizing a sonic air blast |
US3678534A (en) * | 1970-07-06 | 1972-07-25 | Rohr Corp | Vacuum cleaner head with supersonic gas jets |
US3915739A (en) * | 1974-07-12 | 1975-10-28 | Montreal | Method of cleaning foreign matter from a cavity in a semiconductor |
DE2938863A1 (de) * | 1979-09-26 | 1981-04-09 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Einrichtung zum kontaktlosen entfernen von staub |
SE8107374L (sv) * | 1981-12-09 | 1983-06-10 | Kelva Ab | Banrenare |
EP0127618A1 (en) * | 1982-11-29 | 1984-12-12 | HOWARD, Paul Clifford | Paperboard edge buffer and cleaner |
US4677704A (en) * | 1986-04-22 | 1987-07-07 | Huggins Richard A | Cleaning system for static charged semiconductor wafer surface |
DE3711777A1 (de) * | 1987-04-08 | 1988-10-27 | Claus G Dipl Ing Wandres | Verfahren und vorrichtung zum entstauben von folien o. dgl. |
DE4120973A1 (de) * | 1991-06-25 | 1993-01-07 | Eltex Elektrostatik Gmbh | Vorrichtung zum abfuehren von staub |
JP2567191Y2 (ja) * | 1992-04-13 | 1998-03-30 | 株式会社伸興 | パネル体の除塵装置 |
-
1993
- 1993-08-31 JP JP5240672A patent/JP2820599B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-11-02 TW TW082109119A patent/TW231974B/zh not_active IP Right Cessation
- 1993-12-20 US US08/169,206 patent/US5457847A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-29 KR KR1019930030761A patent/KR970009001B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-01-14 DE DE69409314T patent/DE69409314T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-01-14 EP EP94100511A patent/EP0640411B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7030927B2 (en) | 2001-03-28 | 2006-04-18 | Fujinon Corporation | Apparatus for detecting focusing status of taking lens |
US6924842B2 (en) | 2001-03-30 | 2005-08-02 | Fujinon Corporation | Focusing state determining adapter for taking lens |
US6522480B2 (en) | 2001-06-15 | 2003-02-18 | Fuji Photo Optical Co., Ltd. | Taking lens apparatus |
US7262805B2 (en) | 2002-03-13 | 2007-08-28 | Fujinon Corporation | Focus detecting system |
US9089829B2 (en) | 2004-08-13 | 2015-07-28 | Force Technology | Method and device for enhancing a process involving a solid object and a gas |
CN100372620C (zh) * | 2004-10-12 | 2008-03-05 | 友达光电股份有限公司 | 除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法 |
US8399795B2 (en) | 2007-05-11 | 2013-03-19 | Force Technology | Enhancing plasma surface modification using high intensity and high power ultrasonic acoustic waves |
KR101341452B1 (ko) * | 2011-12-27 | 2013-12-13 | 씨티에스(주) | 플라즈마 애싱 건식 초음파세정기 및 그 플라즈마 헤드 |
JP2014083538A (ja) * | 2012-10-18 | 2014-05-12 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | プリント回路基板の異物除去装置及びプリント回路基板の異物除去方法 |
JP2017164676A (ja) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | 大日本印刷株式会社 | 異物除去装置 |
KR101875715B1 (ko) * | 2017-06-27 | 2018-07-06 | 윤중식 | 필름 이물질 건식 제거 장치 |
KR20170139470A (ko) * | 2017-11-29 | 2017-12-19 | 동우 화인켐 주식회사 | 필름 클리닝 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR970009001B1 (ko) | 1997-06-03 |
KR950005390A (ko) | 1995-03-20 |
EP0640411B1 (en) | 1998-04-01 |
DE69409314T2 (de) | 1998-09-03 |
DE69409314D1 (de) | 1998-05-07 |
JP2820599B2 (ja) | 1998-11-05 |
US5457847A (en) | 1995-10-17 |
TW231974B (en) | 1994-10-11 |
EP0640411A1 (en) | 1995-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0760211A (ja) | 除塵装置 | |
US4594748A (en) | Apparatus for cleaning particles from a web | |
JP5268097B2 (ja) | 除塵装置 | |
KR970052718A (ko) | 기판세정장치 및 기판세정방법 | |
TW201420219A (zh) | 除塵裝置 | |
JP2567191Y2 (ja) | パネル体の除塵装置 | |
JP7014933B2 (ja) | 印刷機械 | |
JPH10309553A (ja) | 除塵装置 | |
JP2003243811A (ja) | プリント回路板のスプレー処理装置 | |
JP3559256B2 (ja) | 枚葉ワークの異物除去装置 | |
JPH0768226A (ja) | 除塵装置 | |
JP6994654B1 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
JP3009694U (ja) | 除塵装置 | |
JP2004167494A (ja) | 枚葉ワークの異物除去装置 | |
JP7120688B1 (ja) | クリーニングヘッド | |
JP4256510B2 (ja) | サンドブラスト加工における被加工物のクリーニングユニット | |
JPH0938608A (ja) | 除塵装置 | |
JP7044618B2 (ja) | エッチング装置 | |
JP6841633B2 (ja) | 気液除塵装置 | |
JP3809229B2 (ja) | 水滴・塵等付着物除去装置 | |
JP3766535B2 (ja) | 超音波発生用ノズル | |
JPH08257520A (ja) | 基板の超音波洗浄機およびそれを用いた超音波洗浄装置 | |
JP3152197U (ja) | シート状ワーク洗浄装置 | |
JP6110111B6 (ja) | 除塵装置 | |
KR960001964Y1 (ko) | 패널체의 제진장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070828 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080828 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080828 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090828 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100828 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110828 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110828 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120828 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120828 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130828 Year of fee payment: 15 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |