JPH0467358B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はプリント基板に部品（電子部品等）を
組み込み、半田付を実施したあと、基板に付着し
ているフラツクス等のよごれを落とすための基板
洗浄装置に関するものである。

従来例の構成とその問題点 従来の洗浄方法は第１図にその具体構成を示す
ように、被洗浄物１をバスケツト２に入れ、洗浄
槽３にバスケツト２ごと浸し洗浄する方法であ
る。第２図は被洗浄物の入つたバスケツト４を各
洗浄槽５へチエーンにより搬送する方法、第３図
はベルト（ネツト）コンベア６に被洗浄物をの
せ、洗浄液７の中を搬送し洗浄する方法、第４図
はトロリーコンベア８に保持された被洗浄物９を
順次洗浄液１０中に搬送し洗浄する方法である。
以上のような方法は、機械部品（歯車、鋼球、工
具類等）においては被洗浄物全体を浸し洗浄して
も機能上支障ないが電子部品を取りつけているプ
リント基板を前記機械部品と同様の洗浄を行なつ
た場合、電子部品のリード線と部品本体のパツキ
ン間より洗浄液が部品本体内部に入り部品不良と
なり、プリント基板回路の機能不良が発生する。
又、基板等の洗浄に使用する洗浄液は通常沸点が
低く、蒸発しやすいため、従来の洗浄装置は洗浄
液の消費が多く、洗浄コストが高いという問題点
を有していた。

発明の目的 本発明は上記欠点を解消するため、プリント基
板の片面のみを洗浄し、電子部品本体には洗浄液
がつかない洗浄を行ない、かつ洗浄液の消費の少
ない洗浄装置を提供し、プリント基板の洗浄効果
及び生産性、洗浄品質をより向上することを目的
とするものである。

発明の構成 本発明は、洗浄用基板を搬送するコンベアと、
前記コンベアの移動範囲内に位置して、洗浄用基
板の洗浄を行う基板洗浄手段と、前記コンベアに
より搬送される洗浄用基板の裏面と前記基板洗浄
手段の洗浄面との当接の有無を、前記コンベアと
前記基板洗浄手段との相対位置を前記基板洗浄手
段の位置で変化させる相対位置移動手段とから構
成されており、洗浄用基板の裏面部のみに基板洗
浄手段が当接する為、例えば電子部品等を実装し
た基板を洗浄する際、基板洗浄手段に使用する洗
浄液等が実装されている電子部品本体に対して直
接触れることがなくなり、洗浄による部品不良等
をなくすことができるという、特有の効果を有す
る。

実施例の説明 以下に本発明の一実施例を第５図〜第１０図に
もとづいて説明する。第５図および第６図におい
て１１は電子部品が装着された洗浄用基板である
プリント基板、１２はプリント基板を洗浄装置に
供給する移動装置、１３は基板を受け基板を保持
するアタツチメント、１４はアタツチメント１３
が取り付けられ洗浄用基板を搬送するコンベアの
チエーンである。１６および１７は基板洗浄部で
あり、１６はブラシ１５を持つ洗浄液の入つたブ
ラシ洗浄槽、１７は超音波洗浄槽、１８は超音波
発振子、１９は超音波槽の液温を高くするヒータ
である。２０，２２は洗浄液の蒸発を防ぐ冷却パ
イプである。

そして、移載装置で供給されたプリント基板１
１はアタツチメント１３でうける。搬送用のチエ
ーン１４は、コンベア上下移動用モータの駆動に
より移動軸（図示せず）が移動し、支点Ａを中心
として搬送部の他端が上昇し搬送面が傾斜する。
この状態でチエーン１４が回転し、アタツチメン
ト１３、プリント基板１１がブラシ槽１６へと移
送され、搬送チエーン１４は水平に戻り、プリン
ト基板１１の下面とブラシ１５が洗浄面２４ａで
当接し、ブラシ１５の回転及び前後運動により基
板の下面全体を均一に洗浄する。ブラシ洗浄槽に
より洗浄されたプリント基板を、次の液洗浄槽で
ある超音波洗浄槽に移送する為チエーン搬送部は
他端が上昇し、搬送面を傾斜させることにより洗
浄面２４ａ，２４ｂよりプリント基板１１を離し
チエーン１４が回転する。これによりアタツチメ
ント１３に保持されたプリント基板１１が超音波
洗浄槽１７へと移送され、チエーン１４は水平に
戻り基板の下面と超音波槽の洗浄面である液面が
当接し、超音波発振子１８により基板下面全体を
洗浄する。この動作を順次繰り返すことにより、
搬送時において洗浄面２４ａ，２４ｂとプリント
基板１１とを離隔でき、スムーズに搬送できる。
２１はオーバーフローした洗浄液を下部タンクへ
回収するパイプである。２２はブラシ槽及び超音
波槽から蒸発した洗浄液を冷却しぎよう縮させ、
各槽へ回収する冷却パイプである。

上記構成の装置においてプリント基板１１は傾
斜して搬送中は洗浄を行なわず、水平時のみ一定
時間洗浄する。また傾斜搬送によりプリント基板
についた洗浄液を傾斜時に落す効果もある。

なお、本実施では洗浄用基板であるプリント基
板１１の裏面と洗浄部の洗浄面２４ａ，２４ｂと
の当接および離隔を、搬送部を移動させることに
より行う機構としたが、基板洗浄部である、ブラ
シ洗浄槽１６および超音波洗浄槽１７を移動させ
行う機構としても良いことは言うまでもなく、洗
浄部が搬送部に比較し小規模に構成される場合等
有利といえる。

発明の効果 このように本発明は洗浄する基板の裏面と、洗
浄面位置との相対位置を変化させ基板を搬送する
ことにより、基板の下面を安定して確実に洗浄す
るとともに連続して基板を洗浄することができ、
生産性が良く、洗浄による基板の品質を安定させ
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の単槽式の洗浄槽の断面図、第２
図〜第４図は従来の多槽洗浄の説明用概略図、第
５図は本発明の一実施例の基板洗浄装置の平面
図、第６図は第５図のＡ−Ａ断面図、第７図は同
実施例の基板保持部を示す要部斜視図、第８図は
第７図の正面図である。 １１……プリント基板、１３……アタツチメン
ト、１４……チエーン、１６……ブラシ洗浄槽、
１７……超音波洗浄槽、２３……コンベア上下移
動用モータ、２４ａ，２４ｂ……洗浄面、２５…
…チエーン駆動用モータ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 洗浄用基板を所定間隔で搬送するコンベア
   と、前記コンベアの移動範囲内に位置して、洗浄
   用基板の洗浄を行う基板洗浄部と、前記コンベア
   により搬送される洗浄用基板の裏面と前記基板洗
   浄部の洗浄面との当接の有無を切換える為、前記
   コンベアと前記基板洗浄手段との相対位置を前記
   基板洗浄部の洗浄面の位置で、自動的に移動する
   相対位置移動手段とを備え、前記コンベアは、前
   記洗浄用基板をコンベア部と所定間隔おいて保持
   し、かつコンベアの搬送により移動する基板保持
   部と、前記コンベアの搬送を駆動するコンベア駆
   動部とを備えた基板洗浄装置。 ２ 相対位置移動手段がコンベアを移動し、基板
   洗浄手段の洗浄面との相対位置を移動させること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の基板洗
   浄装置。 ３ 相対位置移動手段が基板洗浄手段を移動し、
   コンベアにより搬送される洗浄用基板の裏面との
   相対位置を移動させることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載の基板洗浄装置。 ４ 相対位置移動手段が、コンベアと基板洗浄手
   段を移動し、コンベアにより搬送される洗浄用基
   板の裏面と基板洗浄部の洗浄面との相対位置を移
   動させることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の基板洗浄装置。 ５ コンベアの搬送が、洗浄用基板と基板洗浄部
   とが接している間停止していることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の基板洗浄装置。 ６ 基板洗浄部がブラシの回転及援動運動により
   基板の洗浄を行うブラシ洗浄槽と、ほぼ一定の洗
   浄液面を有する液洗浄槽とからなることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の基板洗浄装置。 ７ 基板洗浄部がブラシ洗浄槽であることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の基板洗浄装
   置。 ８ 基板洗浄部が液洗浄槽であることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の基板洗浄装置。 ９ コンベアの搬送が水平面に対し、所定の角度
   を持つて行われることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の基板洗浄装置。