JPS60107890A

JPS60107890A - 基板洗浄装置

Info

Publication number: JPS60107890A
Application number: JP21653683A
Authority: JP
Inventors: 耕司黒田; 幸二藤原
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1983-11-17
Filing date: 1983-11-17
Publication date: 1985-06-13
Also published as: JPH0467358B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明はプリント基板に部品（電子部品等）−を組み込
み、半田付を実施したあと、基板に付着しているフラッ
クス等のよごれを落とすだめの基板洗浄装置に関するも
のである。

従来例の構成とその問題点従来の洗浄方法は第１図にその具体構成を示すように、
被洗浄物１をバスケット２に入れ、洗浄槽３にバスケッ
ト２ごと浸し洗浄する方法である。

第２図は被挽浄物の入った・（スケット４を各洗浄槽５
ヘチエーンにより搬送する方法、第３図はベルト（ネッ
ト）コンベア６に被洗浄物をのせ、洗浄液７の中を搬送
し洗浄する方法、第４図はトロリーコンベア８に保持さ
れた被洗浄物９を順次洗浄液１０中に搬送し洗浄する方
法である。以上のような方法は、機械部品（歯車、鋼球
、工具類等）においては被洗浄物全体を浸し洗浄しても
機能上支障ないが電子部品を取りつけているプリント基
板を前記機械部品と同様の洗浄を行なった場合、電子部
品のリード線と部品本体のパツキン間よシ洗浄液が部品
本体内部に入り部品不良となり、プリント基板回路の機
能不良が発生する。又、基板等の洗浄に使用する洗浄液
は通常沸点が低く、蒸発しやすいため、従来の洗浄装置
は洗浄液の消費が多く、洗浄コストが高いという問題点
を有していた。

発明の目的本発明は上記欠点を解消するため、プリント基板の片面
のみを洗浄し、電子部品本体には洗浄液がつかない洗浄
を行ない、かつ洗浄液の消費の少ない洗浄装置を提供し
、プリント基板の洗浄効果及び生産性、洗浄品質をより
向上することを目的とするものである。

発明の構成本発明は、洗浄用基板を搬送するコンベアと、前記コン
ベアの移動範囲内に位置して、洗浄用基板の洗浄を行う
基板洗浄手段と、前記コンベアにより搬送される洗浄用
基板の裏面と前記基板洗浄手段の洗浄面との当接の有無
を、前記コンベアと成されておシ、洗浄用基板の裏面部
のみに基板洗浄手段が当接する為、例えば電子部品等を
実装した基板を洗浄する際、基板洗浄手段に使用する洗
浄液等が実装されている電子部品本体に対して直接触れ
ることがなくなり、洗浄による部品不良等をなくすこと
ができるという、特有の効果を有する０実施例の説明以下に本発明の一実施例を第６図〜第１０図にもとづい
て説明する。第６図および第６図において１１は電子部
品が装着された洗浄用基板であるプリント基板、１２は
プリント基板を洗浄装置に供給する移載装置、１３は基
板を受け基板を保持するアタッチメント、１４はアタッ
チメント１３が取り付けられ洗浄用基板を搬送するコン
ベアのチェーンである。１６および１７は基板洗浄部で
あシ、１６はブラシ１６を持つ洗浄液の入ったブラシ洗
浄槽、１７は超音波洗浄槽、１８は超音波発振子、１９
は超音波槽の液温を高くするヒータである。２０．２２
は洗浄液の蒸発を防ぐ冷却パイプである。

そして、移載装置で供給されたプリント基板１１はアタ
ッチメント１３でうける。搬送用のチェーン１４は、コ
ンベア上下移動用モータの駆動によシ移動軸（図示せず
）が移動し、支点Ａを中心として搬送部の他端が上昇し
搬送面が傾斜する。この状態でチェーン１４が回転し、
アタッチメント１３、プリント基板１１がブラシ槽１６
へと移送され、搬送チェーン１４は水平に戻り、プリン
ト基板１１の下面とブラシ１６が洗浄面２４ａで当接し
、ブラシ１６の回転及び前後運動により基板の下面全体
を均一に洗浄する。ブラシ洗浄槽によシ洗浄されたプリ
ント基板を、次の液洗浄槽である超音波洗浄槽に移送す
る為チェーン搬送部は他端が上昇し、搬送面を傾斜させ
ることにより洗浄面２４ａ（２４ｂ）よりプリント基板
１１を離しチェーン１４が回転する。これによシアタッ
チメント１３に保持されたプリント基板１１が超音波洗
浄槽１７へと移送され、チェーン１４は水平に戻り基板
の下面と超音波槽の洗浄面である液面が当接し、超音波
発振子１８により基板下面全体を洗浄する。この動作を
順次繰り返すことにより、搬送時において洗浄面２４ａ
、２４ｂとプリント基板１１とを離隔でき、スムーズに
搬送できる。

２１はオーバーフローした洗浄液を下部タンクへ回収す
るパイプである。２２はブラシ槽及び超音波槽から蒸発
した洗浄液を冷却しぎょう縮させ、多槽へ回収する冷却
パイプである。

上記構成の装置においてプリント基板１１は傾斜して搬
送中は洗浄を行なわず、水平時のみ一定時間洗浄する。

また傾斜電送によりプリント基板についた洗浄液を傾斜
時に落す効果もある。

なお、本実施では洗浄用基板であるプリント基板１１の
裏面と洗浄部の洗浄面２４ａ、２４ｂとの当接および離
隔を、搬送部を移動させることＫよシ行う機構としたが
、基板洗浄部である、ブラシ洗浄槽１ｅおよび超音波洗
浄槽１７を移動させ行う機構としても良いことは言うま
でもなく、洗浄部が搬送部に比較し小規模に構成される
場合等有利といえる。

発明の効果このように本発明は洗浄する基板の裏面と、洗浄面位置
との相対位置を変化させ基板を搬送することにより、基
板の下面を安定して確実に洗浄するとともに連続して基
板を洗浄することができ、生産性が良く、洗浄による基
板の品質を安定させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の単槽式の洗浄槽の断面図、第２図〜第４
図は従来の多槽洗浄の説明用概略図、第６図は本発明の
一実施例の基板洗浄装置の平面図、第６図は第６図のＡ
−Ａ断面図、第７図は同実施例の基板保持部を示す要部
斜視図、第８図は第７図の正面図である。１１・・・・・・プリント基板、１３・・・由アタッチ
メント、１４・・・・・・チェーン、１６・・・・・・
ブラシ洗浄槽、１７・・・・・・超音波洗浄槽、２３・
・・・・・コンベア上下移動用モータ、２４ａ、２４ｂ
・・・・・・洗浄面、２６・・・・・・チェーン駆動用
モータ。代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　鐙か１名第２
図５第３図

Claims

【特許請求の範囲】（１）洗浄用基板を所定間隔で搬送するコンベアと、前
記コンベアの移動範囲内に位置して、洗浄用基板の洗浄
を行う基板洗浄部と、前記コンベアによ基板洗浄手段と
の相対位置を前記基板洗浄部の洗浄面の位置で、自動的
に移動する相対位置移動手段とを備え、前記コンベアは
、前記洗浄用基板をコンベア部と所定間隔おいて保持し
、かつコンベアの搬送により移動する基板保持部と、前
記コンベアの搬送を駆動するコンベア駆動部とを備えた
基板洗浄装置。（２）相対位置移動手段がコンベアを移動し、基板洗浄
手段の洗浄面との相対位置を移動させることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の基板洗浄装置３（３）相対位置移動手段が基板洗浄手段を移動し、コン
ベアにより搬送される洗浄用基板の裏面との相対位置を
移動させることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の基板洗浄装置。（４）相対位置移動手段が、コンベアと基板洗浄手段を
移動し、コンベアにより搬送される洗浄用基板の裏面と
基板洗浄部の洗浄面との相対位置を移動させることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の基板洗浄装置。（６）コンベアの搬送が、洗浄用基板と基板洗浄部とが
接している開停止していることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の基板洗浄装置。（６）基板洗浄部がブラシの回転及緩動運動により基板
の洗浄を行うブラシ洗浄槽と、はぼ一定の洗浄液面を有
する液洗浄槽とからなることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の基板洗浄装置。（７）基板洗浄部がブラシ洗浄槽であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の基板洗浄装置。（８）基板洗浄部が液洗浄槽であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の基板洗浄装置。（９）　コンベアの搬送が水平面に対し、所定の角度を
持って行われることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の基板洗浄装置。