JP2009125745A - 処理流体供給装置及びこれを含む基板処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】処理流体ナイフの垂れを防止しうる処理流体供給装置を提供する。
【解決手段】処理流体ナイフは、前記基板の表面に対して平行する方向に延長し、前記処理流体を供給するためのスリットノズルを有する。ロッドは、前記ナイフの垂れを防止するために前記ナイフを通じて延長して前記ナイフの延長方向に張力が印加される。よって、前記ナイフの垂れによって発生しうる基板の損傷を防止することができ、前記基板上に前記処理流体を均一に供給することができる。
【選択図】 図2

Description

本発明は、処理流体供給装置とこれを含む基板処理装置に係り、より詳細にはガラス基板のような平板型基板上に処理流体を供給する装置とこれを含む基板処理装置に関する。
一般的に、液晶表示装置のような平板型表示装置の製造には、ガラス基板のような平板型基板が用いられ、前記ガラス基板上に回路パターンを形成するための多様な単位工程を行うことができる。例えば、前記ガラス基板上に膜を形成する蒸着工程、前記膜を目的とするパターンに形成するためのエッチング工程、前記ガラス基板上の不純物を除去するための洗浄工程、前記ガラス基板を乾燥させるための乾燥工程などを行うことができる。
基板処理装置は、基板のローディングのための基板ローダーと、前記ローダーによって搬入された基板に対するエッチング、洗浄、ストリップまたは現像などの処理工程を行うための基板処理部と、前記処理された基板をリンス液を用いてリンス処理するためのリンス処理部と、リンス処理された基板を乾燥させるための乾燥処理部と、前記基板を搬出するためのアンローダーなどを含むことができる。
また、前記基板処理装置は、処理流体を前記基板に提供するための処理流体ナイフ(knife)を含むことができる。前記処理流体ナイフは、エッチング液、リンス液などの処理液を供給するためのシャワーナイフまたはエアーまたは乾燥ガスを供給するためのエアーナイフであってもよい。
前記処理流体ナイフは、基板の表面と平行する方向に延長することができ、基板が移送される期間、前記基板上に処理流体を提供することができる。最近、基板の面積が増加することに応じて、前記処理流体ナイフの長さも増加しつつある。しかし、前記処理流体ナイフの長さが増加する場合、前記処理流体ナイフの垂れが発生するおそれがある。
本発明の第1目的は、処理流体ナイフの垂れを防止しうる処理流体供給装置を提供することにある。
本発明の第2目的は、処理流体ナイフの垂れを防止しうる基板処理装置を提供することにある。
前記第1目的を達成するための本発明の一側面によると、処理流体供給装置は、基板上に処理流体を供給するためのスリットノズルを有し、前記基板の表面に対して平行する方向に延長するナイフと、前記ナイフの垂れを防止するために、前記ナイフを通じて延長し、前記ナイフの延長方向に張力の印加されたロッド(rod)と、を含むことができる。
本発明の一実施例によると、前記処理流体供給装置は、前記ナイフの両側端部と連結され、前記ナイフを支持する側壁を更に含むこちができる。
本発明の一実施例によると、前記ロッドは、前記側壁に連結される。
本発明の一実施例によると、前記ロッドは、前記側壁を通じて延長するねじ加工された端部を含み、前記ロッドには前記ねじ加工された端部に結合されるナットによって前記ロッドに前記張力が印加されることが可能である。
本発明の一実施例によると、前記ロッドは、前記側壁を通じて延長し、ねじ加工された端部と前記ねじ加工された端部に対向するヘッド部を含むことができ、前記ロッドには前記ねじ加工された端部に結合されるナットによって前記ロッドに前記張力が印加されることが可能である。
本発明の一実施例によると、前記処理流体装置は、前記側壁の間に配置されるベース及び前記ベースに装着され、前記ナイフの垂れを防止するためのサポートを更に含むことができる。
本発明の一実施例によると、それぞれの側壁は、前記ナイフを支持するサポートブラケットを含むことができる。
本発明の一実施例によると、前記ナイフは、前記ロッドが貫通するチューブまたはフックを含むことができる。
本発明の一実施例によると、前記ナイフは、前記ロッドが貫通する複数のチューブまたは複数のフックを含むことができる。
本発明の一実施例によると、前記処理流体供給装置は、前記ナイフと平行に延長する第2ナイフを更に含み、前記基板は、前記ナイフと前記第2ナイフとの間に配置されることが可能である。
前記第1目的を達成するための本発明の他の側面によると、処理流体供給装置は、基板上に処理流体を供給するためのスリットノズルを有し、前記基板の表面に対して平行する方向に延長するナイフと、前記ナイフの両側端部のうち、少なくとも一つと連結され、前記ナイフの垂れを防止するために前記ナイフの延長方向に前記ナイフに張力を印加する張力印加部と、を含むことができる。
本発明の一実施例によると、前記処理流体供給装置は、前記ナイフの両側端部に隣接するように配置され、前記ナイフの両側端部を支持する側壁を更に含むことができる。
本発明の一実施例によると、前記張力印加部は、前記ナイフの端部と連結され、前記側壁のうち、一つを通じて延長され、ねじ加工された端部を含むロッドと、前記張力を印加するために前記ロッドのねじ加工された端部に締結されるナットと、を含むことができる。
本発明の一実施例によると、前記ロッドは、前記ナイフの端部に締結される第2ねじ加工された端部を更に含むことができる。
本発明の一実施例によると、前記ロッドは、前記ねじ加工された端部に対向するヘッドを更に含み、前記ヘッドは前記ナイフの端部内に配置されることが可能である。
本発明の一実施例によると、それぞれ側壁は、前記ナイフを支持するためのサポートブラケットを含むことができる。
本発明の一実施例によると、前記サポートブラケットには、前記ナイフの延長方向と平行に延長する長孔が形成され、前記ナイフは前記長孔を通じて前記ナイフの端部に締結されるボルトによって前記側壁に装着されることが可能である。
本発明の一実施例によると、前記処理流体供給装置は、前記ナイフと平行に延長する第2ナイフを更に含み、前記基板は前記ナイフと前記第2ナイフとの間に配置されることが可能である。
前記第2目的を達成するための本発明の更に他の側面によると、基板処理装置は、基板を支持する複数のローラーと、前記基板を移送するために前記ローラーに回転力を提供する駆動部と、前記基板上に処理流体を供給するための処理流体供給部を含むことができる。前記処理流体供給部は、前記基板上に前記処理流体を供給するためのスリットノズルを有し、前記基板の表面に対して平行する方向に延長するナイフと、前記ナイフの垂れを防止するために前記ナイフを通じて延長して前記ナイフの延長方向に張力の印加されたロッドと、を含むことができる。
前記第2目的を達成するための本発明の更に他の側面によると、基板処理装置は、基板を支持する複数のローラーと、前記基板を移送するために前記ローラーに回転力を提供する駆動部と、前記基板上に処理流体を供給するための処理流体供給部を含むことができる。前記処理流体供給部は、前記基板上に前記処理流体を供給するためのスリットノズルを有し、前記基板の表面に対して平行する方向に延長するナイフと、前記ナイフの両側端部のうち、少なくとも一つと連結され、前記ナイフの垂れを防止するために前記ナイフの延長方向に前記ナイフに張力を印加する張力印加部と、を含むことができる。
前述したのような本発明によると、基板上に処理流体を供給するためのナイフの垂れは、前記ナイフを通じて延長されるロッドに張力を印加することでまたは前記ナイフに直接張力を印加することで防止することができる。よって、前記ナイフの垂れによって発生する基板の損傷を防止することができ、前記基板上に前記処理流体を均一に供給することができる。
以下、本発明による実施例を添付する図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施例による基板処理装置を説明するための概略的な構成図である。
図1を参照すると、本発明の一実施例による基板処理装置10は、ガラス基板のような平板型基板20に対する処理を行うために用いることができる。例えば、エッチング、洗浄、ストリップ、現像、リンスなどのような工程を行うために望ましく用いることができる。
前記基板処理装置10は、前記基板20を移送するために具備された基板移送部30と前記基板20が移送される期間、前記基板20上に処理流体を供給するための処理流体供給部100を含むことができる。
前記基板移送部30は、前記基板20の移送方向に配列され、前記移送方向に対して垂直する方向に延長する複数の回転軸と、それぞれの回転軸に結合され、前記回転軸によって回転され、前記基板20を支持する複数のルーラー32、及び前記回転軸と連結され、前記回転軸を回転させるために回転力を提供する駆動部、を含むことができる。
図示していないが、前記駆動部は、回転力を発生させるためにモーターを含むことができ、前記過移転軸はベルトと複数のプーリーまたは複数のギアーを含む動力伝達部によって前記駆動部と連結することができる。
前記処理流体供給部100は、前記基板20が移送される期間、前記基板20の上部面及び/または下部面上に処理流体を供給するために用いることができる。
例えば、前記処理流体供給部100は、エッチング液、洗浄液、リンス液などのような
処理液を供給するシャワーナイフを含むことができる。これとは違って、前記処理流体供給部100は、エアーまたは乾燥ガスを供給するためのエアーナイフを含んでもよい。
図2は、図1に示した処理流体供給部を説明するための概略的な正面図であり、図3は、図2に示した処理流体供給部を説明するための概略的な平面図であり、図4は、図2に示した処理流体供給部を説明するための概略的な断面図である。
図2乃至図4を参照すると、示した処理流体供給部100は、第1ナイフ110と前記第1ナイフ110を通じて延長する第1ロッド112を含むことができる。
前記第1ナイフ110を支持するための側壁102は、前記第1ナイフ110の両側端部と隣接して配置することができ、前記第1ナイフ110の両側端部は、前記側壁102に連結することができる。
前記第1ナイフ110は、前記基板20の上部面上に処理流体を供給するための第1スリットノズル114を有することができ、前記基板20の表面に対して平行する方向に延長することができる。例えば、前記基板20の移送方向と異なる方向に延長することができる。
前記第1ロッド112は、前記第1ナイフ110の垂れを防止するために前記第1ナイフ110の延長方向に前記第1ナイフ110を貫通して配置することができ、前記第1ロッド112には前記第1ナイフの延長方向に張力(tensile force)を印加することができる。よって、前記第1ロッド112は、前記張力によって水平方向に維持することができ、これによって前記第1ナイフ110の垂れを防止することができる。
また、前記処理流体供給部100は、前記第1ナイフ110の下部で前記第1ナイフ110と平行に延長する第2ナイフ120を更に含むことができる。前記第2ナイフ120の両側端部は前記側壁102によって支持することができ、前記基板20の下部面上に前記処理流体を供給するための第2スリットノズル124を有することができる。
前記第2ナイフ120の垂れを防止するために第2ロッド122が前記第2ナイフ120を通じて延長することができ、前記第2ロッド122には前記第2ナイフ120の延長方向に張力を印加することができる。
一方、前記第1ナイフ110及び第2ナイフは、前記基板20の表面に対して傾斜角を有することができる。例えば、前記第1ナイフ110及び第2ナイフ120は基板20の移送方向に対して反対方向に傾斜角を有することができる。
前記側壁102は、前記第1ナイフ110及び第2ナイフ120を支持するためのサポートブラケット104を含むことができる。前記第1ナイフ110及び第2ナイフ120は、複数のボルト116によって前記サポートブラケット104に連結されることが可能である。しかし、前記第1ナイフ110及び第2ナイフ120は、前記側壁102に多様な方法を通じて連結されることができるので、前記第1ナイフ110及び第2ナイフ120を前記側壁102に装着する方法によって本発明の範囲が限定されることはない。
本発明の他の実施例によると、前記第1及び第2ナイフ(110、120)は前記サポートブラケット104との結合のためのマウンティングブラケットを含むことができる。図示していないが、前記マウンティングブラケットは、第1及び第2ナイフ(110、120)の両側端部それぞれに具備されることが可能であり、前記ボルト116は、前記サポートブラケット104及び前記マウンティングブラケットを通じて締結することができ
る。
また、前記側壁102は、複数のホールを有することができる。前記第1及び第2ロッド(112、122)は、前記第1ナイフ110及び第2ナイフ120を通じてそれぞれ延長し、前記第1及び第2ロッド(112、122)の端部は、前記側壁102に形成されたホールを通じて延長することができる。特に、それぞれの前記第1及び第2ロッド(112、122)は、前記側壁102のホールを通じて延長するねじ加工された端部(112a、122a)を含むことができる。
前記第1及び第2ロッド(112、122)のねじ加工された端部(112a、122a)には、それぞれナット126が結合され、これによって前記第1及び第2ロッド(112、122)に張力を印加することができる。
一方、前記側壁102の上部の間には第1ベース106を配置することができ、前記側壁102の下部の間には第2ベース108を配置することができる。前記第1ベース106には前記第1ナイフ110の垂れを防止するための第1サポート130を装着することができ、前記第2ベース108には前記第2ナイフ120の垂れを防止するための第2サポート132を装着することができる。それぞれの第1及び第2サポート(130、132)は、折り曲げられたプレートの形状を有し、前記第1及び第2ナイフ(110、120)を支持するための支持部と前記第1及び第2ベース(106、108)に装着される装着部を含むことができる。本発明の他の実施例によると、前記処理流体供給部100は、複数の第1サポートと複数の第2サポートを含むこともできる。
また、図示していないが、前記第1及び第2ナイフ(110、120)は、前記処理流体を供給するための配管と連結することができる。例えば、前記第1ナイフ110の上部面と第2ナイフ120の下部面には前記処理流体を供給するための配管をそれぞれ連結することができ、前記配管は前記第1スリットノズル114及び第2スリットノズル124とそれぞれ連結することができる。
前記によると、前記第1ロッド112及び第2ロッド122が前記側壁102に連結されているが、前記第1ロッド112及び第2ロッド122は、前記基板20を処理するための処理チャンバ(図示せず)の側壁に連結することもできる。
図5、図2に示した第1または第2ロッドの他の例を説明するための概略図である。
図5を参照すると、図示したロッドはねじ加工された端部及び前記ねじ加工された端部に対向するヘッドを有することができる。前記ロッドは第1ナイフまたは第2ナイフ及び側璧を通じて配置することができ、前記ねじ加工された端部にナットを締結することによって前記ロッドに張力を印加することができる。
図6は、本発明の他の実施例による処理流体供給装置を説明するための概略的な正面図であり、図7は、図6に示した処理流体供給装置を説明するための概略的な断面図である。図8は、本発明の更に他の実施例による処理流体供給装置を説明するための概略的な正面図である。
図6及び図7を参照すると、示した処理流体供給装置200は、ガラス基板のような平板型基板20の表面に処理流体を供給するために用いることができる。
前記処理流体供給装置200は、第1ナイフ210と前記第1ナイフ210を通じて延長する第1ロッド212を含むことができる。
前記第1ナイフ210は、前記基板20の上部面上に処理流体を供給するための第1ス
リットノズル214を有することができる。前記第1ナイフ210の上部面上には前記第1ロッド212が通過する第1チューブ216を配置することができ、前記第1チューブ216は、前記第1ナイフ210と平行に延長することができる。
本発明の更に他の実施例によると、前記第1チューブ216は、前記第1ナイフ210の下部面上に配置することもできる。
前記第1ナイフ210を支持するための側壁202は、前記第1ナイフ210の両側端部と隣接して配置することができ、前記第1ナイフ210の両側端部は、前記側壁202に装着することができる。
前記第1ロッド212は、ねじ加工された端部212aを有することができ、前記ねじ加工された端部212aは、前記側壁202を通じて外側に延長することができる。また、前記ねじ加工された端部212aにはナット218を締結することができ、前記ナット218によって前記第1ロッド212に張力を印加することができる。即ち、前記第1ロッド212は、前記張力によって水平方向に維持することができ、これによって前記第1ナイフ210の垂れを防止することができる。
本発明の更に他の実施例によると、前記第1ロッド212は図5に示したようにねじ加工された端部と前記ねじ加工された端部に対向するヘッドを含むこともできる。
また、前記処理流体供給装置200は、前記第1ナイフ210の下部で前記第1ナイフ210と平行に延長する第2ナイフ220を更に含むことができる。前記第2ナイフ220の両側端部は、前記側壁202によって支持することができ、前記基板20の下部面上に前記処理流体を供給するための第2スリットノズル224を有することができる。
前記第2ナイフ220の上部面上には、第2ロッド222が通過する第2チューブ226を配置することができ、前記第2チューブ226には、前記第2ナイフ220と平行に延長することができる。前記第2ロッド222は、ねじ加工された端部222aを有することができ、前記ねじ加工された端部222aは前記側壁202を通じて延長することができる。前記ねじ加工された端部222aにはナット218を締結することができ、これによって前記第2ロッド222には張力を印加することができる。
本発明の更に他の実施例によると、前記第チューブ226は、前記第2ナイフ220の下部面上に配置することができる。
本発明の更に他の実施例によると、図8に示したように第1ナイフ210及び第2ナイフ220の上部面上には複数の第1チューブ216aと複数の第2チューブ226aをそれぞれ配置することができる。
本発明の更に他の実施例によると、前記第1ナイフ210及び第2ナイフ220の上部面には前記第1ロッド212及び第2ロッド222が通過する複数のフック(hooks:図示せず)を配置することもできる。
再び図6及び図7を参照すると、前記側壁202は、前記第1ナイフ210及び第2ナイフ220を支持するためのサポートブラケット204を含むことができる。前記第1ナイフ210及び第2ナイフ220は複数のボルト228によって前記サポートブラケット204に連結することができる。
一方、前記側壁202の上部の間には第1ベース206を配置することができ、前記側
壁202の下部の間には第2ベース208を配置することができる。前記第1ベース206には前記第1ナイフ210の垂れを防止するための第1サポート230を装着することができ、前記第2ベース208には前記第2ナイフ220の垂れを防止するための第2サポート232を装着することができる。
前記処理流体供給装置200に対する追加的な詳細説明は図2乃至図4を参照して既に説明したことと類似であるので省略する。
図9は、本発明の更に他の実施例による処理流体供給装置を説明するための概略的な正面図であり、図10は、図9に示した処理流体供給装置を説明するための概略的な背面図であり、図11は、図9に示した処理流体供給装置を説明するための平面図である。
図9乃至図11を参照すると、示した処理流体供給装置300は、ガラス基板のような平板型基板20の表面に処理流体を供給するために用いることができる。
前記処理流体供給装置300は第1ナイフ310と第2ナイフ320を含むことができる。
前記第1ナイフ310は、前記基板20の表面に対して平行する方向に延長することができ、前記基板20の上部面上に処理流体を供給するための第1スリットノズル314を有することができる。前記第1ナイフ310を支持するための側壁302は、前記第1ナイフ310の両側端部と隣接して配置することができ、前記第1ナイフ310の両側端部は前記側壁302に連結することができる。
特に、前記第1ナイフ310の両側端部には、前記第1ナイフ310に張力を印加するための第1ロッド312をそれぞれ連結することができる。前記第1ロッド312は、前記第1ナイフ310の両側端部に直接的に連結することができる。前記第1ロッド312は、前記側壁302を通じて延長することができ、前記第1ロッド312の端部には前記第1ナイフ310に張力を印加するためにナット316を締結することができる。
前記第2ナイフ320は、前記第1ナイフ310と平行に延長することができ、前記基板20の下部面上に前記処理流体を供給するための第2スリットノズル324を有することができる。
前記第2ナイフ320の両側端部には第2ロッド322をそれぞれ連結することができ、前記第2ロッド322は、前記側壁302を通じて延長することができる。また、前記第2ロッド322の端部には前記第2ナイフ320に張力を印加するナット316を締結することができる。
前述したように、前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320にはそれぞれ第1ロッド312及び第2ロッド322を直接連結することができ、前記ナット316の締結によって前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320には張力を印加することができる。これによって、前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320の垂れを防止することができる。
本発明の更に他の実施例によると、前記第1ナイフの一端部は、前記側壁のいずれかに装着することができ、他の端部には張力を印加するために第1ロッドを連結することができる。また、前記第2ナイフの一端部は、前記側壁のいずれかに装着することができ、他の端部には張力を印加するために第2ロッドを連結することができる。
図12乃至図14は、第1または第2ロッドの例を説明するための断面図である。
図12を参照すると、示したロッド412は、ねじ加工された端部(412a、412b)を含むことができる。前記ロッド412の一端部412aは前記第1ナイフ310または第2ナイフ320に締結することができ、残りの端部412bは、前記側壁302を通じて延長することができる。
図13を参照すると、示したロッド512は、ねじ加工された端部512aを含むことができ、前記ねじ加工された端部512aは、前記側壁302を通じて延長することができる。また、前記ロッド512の残りの端部は、前記第1ナイフ310または第2ナイフ320に溶接によって結合することができる。
図14を参照すると、示したロッド612は、ねじ加工された端部612aと前記ねじ加工された端部612aに対向するヘッド部612bを有することができる。前記ヘッド部612bは前記第1ナイフ310または第2ナイフ320の内部に配置することができる。
前述したように、前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320に張力を印加するためのロッドの構成は多様に変更することができる。即ち、前記ロッドは、前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320に直接連結することができ、前記ロッドと前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320の連結方法は本発明の範囲を限定することはない。
再び図9乃至図11を参照すると、前記側壁302は、前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320を支持するためのサポートブラケット304を含むことができる。前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320は複数のボルト318によって前記サポートブラケット304に連結するこができる。
それぞれのサポートブラケット304は、前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320の延長方向に延長する長孔304aを有することができる。前記ボルト318は、前記第1ロッド312、第2ロッド322、及びナット316によって前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320に張力が印加された後、前記長孔304aを通じて前記第1ナイフ310及び第2ナイフ320に締結することができる。
一方、前記側壁302の上部の間には、第1ベース306を配置することができ、前記側壁302の下部の間には、第2ベース308を配置することができる。前記第1ベース306には前記第1ナイフ310の垂れを防止するための第1サポート330を装着することができ、前記第2ベース308には前記第2ナイフ320の垂れを防止するための第2サポート332を装着することができる。
前記処理流体供給装置300に対する追加的な詳細説明は図2乃至図4を参照して既に説明されたことと類似であるので、省略する。
前述したのような本発明の実施例によると、平板型基板の表面に処理流体を供給するための第1ナイフ及び第2ナイフの垂れは張力の印加されたロッドによってまたは前記第1ナイフ及び第2ナイフに直接張力を印加することで防止することができる。
よって、前記第1ナイフ及び第2ナイフの垂れによって発生しうる基板の損傷を防止することができ、前記基板上に前記処理流体を均一に供給することができる。
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離脱す
ることなく、本発明を修正または変更できる。
本発明の一実施例による基板処理装置を説明するための概略的な構成図である。 図1に示した処理流体供給部を説明するための概略的な正面図である。 図2に示した処理流体供給部を説明するための概略的な平面図である。 図2に示した処理流体供給部を説明するための概略的な断面図である。 図2に示した第1または第2ロッドの他の例を説明するための概略図である。 本発明の他の実施例による処理供給装置を説明するための概略的な正面図である。 図6に示した処理流体供給装置を説明するための概略的な断面図である。 本発明の更に他の実施例による処理流体供給装置を説明するための概略的な正面図である。 本発明の更に他の実施例による処理流体供給装置を説明するための概略的な正面図である。 図9に示した処理流体供給装置を説明するための概略的な背面図である。 図9に示した処理流体供給装置を説明するための平面図である。 第1または第2ロッドの例を説明するための断面図である。 第1または第2ロッドの例を説明するための断面図である。 第1または第2ロッドの例を説明するための断面図である。
符号の説明
10 基板処理装置
20 基板
30 基板移送部
32 ローラー
100 処理流体供給部
102 側壁
104 サポートブラケット
106 第1ベース
108 第2ベース
110 第1ナイフ
112 第1ロッド
114 第1スリットノズル
116 ボルト
120 第2ナイフ
122 第2ロッド
124 第2スリットノズル
126 ナット
130 第1サポート
132 第2サポート

Claims (20)

  1. 基板上に処理流体を供給するためのスリットノズルを有し、前記基板の表面に対して平行する方向に延長するナイフと、
    前記ナイフの垂れを防止するために、前記ナイフを通じて延長し、前記ナイフの延長方向に張力の印加されたロッドと、を含むことを特徴とする処理流体供給装置。
  2. 前記ナイフの両側端部と連結され、前記ナイフを支持する側壁を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の処理流体供給装置。
  3. 前記ロッドは、前記側壁に連結されることを特徴とする請求項2に記載の処理流体供給装置。
  4. 前記ロッドは、前記側壁を通じて延長するねじ加工された端部を含み、前記ねじ加工された端部に結合されるナットによって前記ロッドに前記張力が印加されることを特徴とする請求項2に記載の処理流体供給装置。
  5. 前記ロッドは、前記側壁を通じて延長し、ねじ加工された端部と前記ねじ加工された端部に対向するヘッド部を含み、前記ねじ加工された端部に結合されるナットによって前記ロッドに前記張力が印加されることを特徴とする請求項2に記載の処理流体供給装置。
  6. 前記側壁の間に配置されるベースと、
    前記ベースに装着され、前記ナイフの垂れを防止するためのサポートと、を更に含むことを特徴とする請求項2に記載の処理流体供給装置。
  7. それぞれの側壁は、前記ナイフを支持するサポートブラケットを含むことを特徴とする請求項2に記載の処理流体供給装置。
  8. 前記ナイフは、前記ロッドが貫通するチューブまたはフックを含むことを特徴とする請求項1に記載の処理流体供給装置。
  9. 前記ナイフは、前記ロッドが貫通する複数のチューブまたは複数のフックを含むことを特徴とする請求項1に記載の処理流体供給装置。
  10. 前記ナイフと平行に延長する第2ナイフを更に含み、前記基板は、前記ナイフと前記第2ナイフとの間に配置されることを特徴とする請求項1に記載の処理流体供給装置。
  11. 基板上に処理流体を供給するためのスリットノズルを有し、前記基板の表面に対して平行する方向に延長するナイフと、
    前記ナイフの両側端部のうち、少なくとも一つと連結され、前記ナイフの垂れを防止するために前記ナイフの延長方向に前記ナイフに張力を印加する張力印加部と、を含むことを特徴とする処理流体供給装置。
  12. 前記ナイフの両側端部に隣接するように配置され、前記ナイフの両側端部を支持する側壁を更に含むことを特徴とする請求項11に記載の処理流体供給装置。
  13. 前記張力印加部は、
    前記ナイフの端部と連結され、前記側壁のうち、一つを通じて延長し、ねじ加工された端部を含むロッドと、
    前記張力を印加するために前記ロッドのねじ加工された端部に締結されるナットと、を
    含むことを特徴とする請求項12に記載の処理流体供給装置。
  14. 前記ロッドは、前記ナイフの端部に締結される第2ねじ加工された端部を更に含むことを特徴とする請求項13に記載の処理流体供給装置。
  15. 前記ロッドは、前記ねじ加工された端部に対向するヘッドを更に含み、前記ヘッドは前記ナイフの端部内に配置されることを特徴とする請求項13に記載の処理流体供給装置。
  16. それぞれの側壁は、前記ナイフを支持するためのサポートブラケットを含むことを特徴とする請求項11に記載の処理流体供給装置。
  17. 前記サポートブラケットには、前記ナイフの延長方向と平行に延長する長孔が形成され、前記ナイフは前記長孔を通じて前記ナイフの端部に締結されるボルトによって前記側壁に装着されることを特徴とする請求項16に記載の処理流体供給装置。
  18. 前記ナイフと平行に延長する第2ナイフを更に含み、前記基板は前記ナイフと前記第2ナイフとの間に配置されることを特徴とする請求項11に記載の処理流体供給装置。
  19. 基板を支持する複数のローラーと、
    前記基板を移送するために前記ローラーに回転力を提供する駆動部と、
    前記基板上に処理流体を供給するための処理流体供給部を含み、
    前記処理流体供給部は、
    前記基板上に前記処理流体を供給するためのスリットノズルを有し、前記基板の表面に対して平行する方向に延長するナイフと、
    前記ナイフの垂れを防止するために前記ナイフを通じて延長して前記ナイフの延長方向に張力の印加されたロッドと、を含むことを特徴とする基板処理装置。
  20. 基板を支持する複数のローラーと、
    前記基板を移送するために前記ローラーに回転力を提供する駆動部と、
    前記基板上に処理流体を供給するための処理流体供給部を含み、
    前記処理流体供給部は、
    前記基板上に前記処理流体を供給するためのスリットノズルを有し、前記基板の表面に対して平行する方向に延長するナイフと、
    前記ナイフの両側端部のうち、少なくとも一つと連結され、前記ナイフの垂れを防止するために前記ナイフの延長方向に前記ナイフに張力を印加する張力印加部と、を含むことを特徴とする基板処理装置。
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