JP5021695B2 - 基板の処理装置 - Google Patents
基板の処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5021695B2 JP5021695B2 JP2009103154A JP2009103154A JP5021695B2 JP 5021695 B2 JP5021695 B2 JP 5021695B2 JP 2009103154 A JP2009103154 A JP 2009103154A JP 2009103154 A JP2009103154 A JP 2009103154A JP 5021695 B2 JP5021695 B2 JP 5021695B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air knife
- substrate
- support member
- longitudinal direction
- locking portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Screen Printers (AREA)
Description
上記上部エアーナイフの長手方向中途部に設けられた上部フックと、
上記下部エアーナイフの長手方向中途部に設けられた下部フックと、
上記上部エアーナイフの上方と上記下部エアーナイフの下方にそれぞれ各エアーナイフと同方向に沿って平行に設けられた上部支持部材及び下部支持部材と、
上記上部支持部材の長手方向の中途部に垂直方向に位置決め可能に設けられ下端に上記上部フックが揺動可能に係合する上部係止部を有する吊り下げ部材と、
上記下部支持部材の長手方向の中途部に垂直方向に位置決め可能に設けられ上端に上記下部フックが揺動可能に係合する下部係止部を有する押し上げ部材と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
上記上部フックと下部フックは一端が上記上部エアーナイフ及び下部エアーナイフにそれぞれ固定され他端が上記上部係止部と下部係止部にそれぞれ係合する係合部に形成されていることが好ましい。
上記上部支持部材と上記下部支持部材の長手方向の一端部と他端部は、上記一対の連結部材の上端と下端にそれぞれ連結固定されることが好ましい。
図1は基板の処理装置の長手方向に沿う縦断面図であって、この処理装置はチャンバ1を備えている。このチャンバ1内には図示しない駆動機構によって回転駆動される複数の搬送ローラ2が上記長手方向に沿って所定間隔で配置されている。
Claims (4)
- チャンバ内を水平搬送される基板の上面に対向して配置されこの基板の上面に気体を噴射する上部エアーナイフ、上記基板の下面に対向して配置されこの基板の下面に気体を噴射する下部エアーナイフをそれぞれ有し、上記上部エアーナイフと上記下部エアーナイフは、それぞれ一端と他端において、上記基板に対する傾斜角度及び上下方向の位置決めが可能に上記チャンバに取付けられてなり、上記上部エアーナイフと上記下部エアーナイフから噴射される気体によって上記基板を乾燥処理する基板の処理装置において、
上記上部エアーナイフの長手方向中途部に設けられた上部フックと、
上記下部エアーナイフの長手方向中途部に設けられた下部フックと、
上記上部エアーナイフの上方と上記下部エアーナイフの下方にそれぞれ各エアーナイフと同方向に沿って平行に設けられた上部支持部材及び下部支持部材と、
上記上部支持部材の長手方向の中途部に垂直方向に位置決め可能に設けられ下端に上記上部フックが揺動可能に係合する上部係止部を有する吊り下げ部材と、
上記下部支持部材の長手方向の中途部に垂直方向に位置決め可能に設けられ上端に上記下部フックが揺動可能に係合する下部係止部を有する押し上げ部材と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。 - 上記上部係止部と下部係止部は円柱状であって、
上記上部フックと下部フックは一端が上記上部エアーナイフ及び下部エアーナイフにそれぞれ固定され他端が上記上部係止部と下部係止部にそれぞれ係合する係合部に形成されていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。 - 上記上部エアーナイフと上記下部エアーナイフの長手方向の一端と他端は、一対の連結部材の上下方向の中途部にそれぞれ傾斜角度及び上下方向の位置決め可能に取り付けられていて、
上記上部支持部材と上記下部支持部材の長手方向の一端部と他端部は、上記一対の連結部材の上端と下端にそれぞれ連結固定されることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。 - 上記上部支持部材と下部支持部材の長手方向の中途部には、複数の上記吊り下げ部材と押し上げ部材が設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009103154A JP5021695B2 (ja) | 2009-04-21 | 2009-04-21 | 基板の処理装置 |
TW099105294A TWI539129B (zh) | 2009-04-21 | 2010-02-24 | Substrate processing device |
KR1020100034698A KR101095107B1 (ko) | 2009-04-21 | 2010-04-15 | 기판의 처리 장치 |
CN201010170141.XA CN101871721B (zh) | 2009-04-21 | 2010-04-21 | 基板的处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009103154A JP5021695B2 (ja) | 2009-04-21 | 2009-04-21 | 基板の処理装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010258035A JP2010258035A (ja) | 2010-11-11 |
JP2010258035A5 JP2010258035A5 (ja) | 2011-05-26 |
JP5021695B2 true JP5021695B2 (ja) | 2012-09-12 |
Family
ID=42996729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009103154A Active JP5021695B2 (ja) | 2009-04-21 | 2009-04-21 | 基板の処理装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5021695B2 (ja) |
KR (1) | KR101095107B1 (ja) |
CN (1) | CN101871721B (ja) |
TW (1) | TWI539129B (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102954676A (zh) * | 2011-08-25 | 2013-03-06 | 无锡尚德太阳能电力有限公司 | 去除器件上的碱性溶液的方法及设备 |
CN103851887B (zh) * | 2012-12-07 | 2016-01-27 | 深南电路有限公司 | Pcb干燥机 |
CN103995434A (zh) * | 2014-06-12 | 2014-08-20 | 上海华力微电子有限公司 | 一种掩膜版除尘装置 |
KR102278073B1 (ko) * | 2014-11-28 | 2021-07-16 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
CN104759433B (zh) * | 2015-04-20 | 2017-01-25 | 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 | 一种汽车喷涂前自动吹灰系统 |
CN106738400A (zh) * | 2016-12-12 | 2017-05-31 | 惠科股份有限公司 | 玻璃碎屑清洁结构及搬运机 |
KR102247201B1 (ko) * | 2019-08-13 | 2021-05-03 | 이돈형 | 멀티 슬릿 에어 나이프 장치 |
CN110779320A (zh) * | 2019-09-17 | 2020-02-11 | 苏州晶洲装备科技有限公司 | 一种新型风干系统及具有该系统的oled基板剥离设备 |
JP7356368B2 (ja) * | 2020-02-10 | 2023-10-04 | 株式会社荏原製作所 | 基板乾燥装置 |
CN111330917B (zh) * | 2020-04-21 | 2024-01-02 | 南通芯盟测试研究院运营管理有限公司 | 微电子器件编带的除尘装置 |
CN113465347B (zh) * | 2021-07-13 | 2022-06-21 | 江西师范大学 | 一种食品真空包装用风淋式快速干燥装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5005250A (en) * | 1989-06-05 | 1991-04-09 | Billco Manufacturing, Inc. | Glass sheet cleaning apparatus |
JP3012279B2 (ja) * | 1990-05-01 | 2000-02-21 | 株式会社松谷製作所 | 歯科用ハンドピース |
JP3122795B2 (ja) * | 1991-09-19 | 2001-01-09 | ヤンマー農機株式会社 | 乾燥装置 |
JPH08288250A (ja) * | 1995-04-19 | 1996-11-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の液切り装置 |
EP1390806B1 (en) * | 2001-02-27 | 2010-08-25 | Dolby Laboratories Licensing Corporation | High dynamic range display devices |
JP4602798B2 (ja) * | 2005-03-03 | 2010-12-22 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板の処理装置 |
KR100873333B1 (ko) | 2007-11-21 | 2008-12-10 | 세메스 주식회사 | 처리 유체 공급 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
JP2009262033A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Micro Engineering Inc | 梁のたわみ制御方法 |
-
2009
- 2009-04-21 JP JP2009103154A patent/JP5021695B2/ja active Active
-
2010
- 2010-02-24 TW TW099105294A patent/TWI539129B/zh active
- 2010-04-15 KR KR1020100034698A patent/KR101095107B1/ko active IP Right Grant
- 2010-04-21 CN CN201010170141.XA patent/CN101871721B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101871721A (zh) | 2010-10-27 |
TW201040476A (en) | 2010-11-16 |
JP2010258035A (ja) | 2010-11-11 |
KR101095107B1 (ko) | 2011-12-16 |
KR20100116123A (ko) | 2010-10-29 |
CN101871721B (zh) | 2014-04-30 |
TWI539129B (zh) | 2016-06-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5021695B2 (ja) | 基板の処理装置 | |
JP5265928B2 (ja) | 基板処理装置 | |
US11287186B2 (en) | Drying device for display panel | |
JP2013066829A (ja) | 処理液吐出ノズル及び基板処理装置 | |
JP4393941B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR20170006104A (ko) | 슬릿 코팅장치용 기판 상의 이물질을 감지할 수 있는 이물질 감지장치, 그 이물질 감지방법 및 그 슬릿 코팅장치 | |
KR102252536B1 (ko) | 현상장치 | |
KR20150055655A (ko) | 기판 세정 장치 | |
TW202029313A (zh) | 用於馬蘭葛尼乾燥的方法及設備 | |
TWI483329B (zh) | 加工流體提供裝置及應用其之基板加工設備 | |
JP2008016786A (ja) | 両面フレキシブル・プリント配線板のエッチング装置 | |
JP2006081997A (ja) | 基板の処理装置 | |
JP2004153033A (ja) | 基板処理装置 | |
US20120180557A1 (en) | Surface processing apparatus | |
JP2562815Y2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
KR101583747B1 (ko) | 액 공급 유닛 | |
KR102094943B1 (ko) | 식각 장치 | |
KR101113935B1 (ko) | 기판 반송장치 | |
JP6691694B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及びガラス基板の製造装置 | |
KR101077485B1 (ko) | 기판 이송용 아이들 롤러 장치 | |
KR102351696B1 (ko) | 기판세정장치 | |
KR20070096683A (ko) | 반도체 제조 장치 | |
KR20100024176A (ko) | 파이프 고정 장치 및 이를 포함하는 기판 세정 장치 | |
KR20230143999A (ko) | 세정 시스템 및 세정 방법 | |
TW200424105A (en) | Support holder of the substrate and device for centering or feeding using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110413 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110413 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110823 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110913 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111114 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120605 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120614 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5021695 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150622 Year of fee payment: 3 |