JPH0774225A - 搬送装置 - Google Patents
搬送装置Info
- Publication number
- JPH0774225A JPH0774225A JP21848793A JP21848793A JPH0774225A JP H0774225 A JPH0774225 A JP H0774225A JP 21848793 A JP21848793 A JP 21848793A JP 21848793 A JP21848793 A JP 21848793A JP H0774225 A JPH0774225 A JP H0774225A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- roller
- cleaning
- fine particles
- conveyer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は搬送ロ−ラから基板へ微粒子が転
移するのを防止した洗浄装置を提供することにある。 【構成】 基板２を搬送ロ−ラ１３によって搬送する搬
送装置において、上記搬送ロ−ラと対向する部位には、
この搬送ロ−ラを洗浄するノズル２５が設けられている
ことを特徴とする。
移するのを防止した洗浄装置を提供することにある。 【構成】 基板２を搬送ロ−ラ１３によって搬送する搬
送装置において、上記搬送ロ−ラと対向する部位には、
この搬送ロ−ラを洗浄するノズル２５が設けられている
ことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、基板をたとえば洗浄
するためなどに、搬送ロ−ラによって搬送する搬送装置
に関する。
するためなどに、搬送ロ−ラによって搬送する搬送装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば液晶表示装置や半導体装置の製
造工程においては、基板としての液晶用ガラス基板や半
導体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求される工
程がある。このような基板を洗浄する方式としては、洗
浄液中に複数枚の基板を浸漬するデイップ方式や基板に
向けて洗浄液を噴射して一枚づつ洗浄する枚葉方式があ
り、最近では高い清浄度が得られるとともに、コスト的
に有利な枚葉方式が採用されることが多くなってきてい
る。
造工程においては、基板としての液晶用ガラス基板や半
導体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求される工
程がある。このような基板を洗浄する方式としては、洗
浄液中に複数枚の基板を浸漬するデイップ方式や基板に
向けて洗浄液を噴射して一枚づつ洗浄する枚葉方式があ
り、最近では高い清浄度が得られるとともに、コスト的
に有利な枚葉方式が採用されることが多くなってきてい
る。
【０００３】枚葉方式の洗浄装置の場合、基板を搬送ロ
−ラからなる搬送装置によって所定方向に搬送するとと
もに、その搬送途中に上記基板の表裏両面に接触する複
数のロ−ルブラシを配置し、洗浄液を供給しながら各ロ
−ルブラシのブラシ毛を上記基板に接触させることで、
上記基板に付着した微粒子を除去するいうことが行われ
ている。
−ラからなる搬送装置によって所定方向に搬送するとと
もに、その搬送途中に上記基板の表裏両面に接触する複
数のロ−ルブラシを配置し、洗浄液を供給しながら各ロ
−ルブラシのブラシ毛を上記基板に接触させることで、
上記基板に付着した微粒子を除去するいうことが行われ
ている。
【０００４】このような洗浄方式によれば、ロ−ルブラ
シのブラシ毛が基板に付着した微粒子を擦り落とすの
で、高い清浄度が得られる。しかしながら、基板を搬送
ロ−ラによって搬送する構成であるため、基板と搬送ロ
−ラとの摩擦によって微粒子が発生する。そのため、そ
の微粒子が搬送ロ−ラに付着し、搬送ロ−ラから基板の
裏面へ転移し、基板を汚損させるということがある。
シのブラシ毛が基板に付着した微粒子を擦り落とすの
で、高い清浄度が得られる。しかしながら、基板を搬送
ロ−ラによって搬送する構成であるため、基板と搬送ロ
−ラとの摩擦によって微粒子が発生する。そのため、そ
の微粒子が搬送ロ−ラに付着し、搬送ロ−ラから基板の
裏面へ転移し、基板を汚損させるということがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように、基板を搬
送ロ−ラによって搬送する構成であると、両者の摩擦に
よって発生した微粒子が搬送ロ−ラから基板へ転移する
ため、基板が汚損されるということがあった。
送ロ−ラによって搬送する構成であると、両者の摩擦に
よって発生した微粒子が搬送ロ−ラから基板へ転移する
ため、基板が汚損されるということがあった。
【０００６】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、搬送ロ−ラと基板との摩
擦によって発生する微粒子が上記基板へ転移するのを防
止できるようにした搬送装置を提供することにある。
で、その目的とするところは、搬送ロ−ラと基板との摩
擦によって発生する微粒子が上記基板へ転移するのを防
止できるようにした搬送装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明は、基板を搬送ロ−ラによって搬送する搬送
装置において、上記搬送ロ−ラと対向する部位には、こ
の搬送ロ−ラを洗浄する洗浄手段が設けられていること
を特徴とする。
にこの発明は、基板を搬送ロ−ラによって搬送する搬送
装置において、上記搬送ロ−ラと対向する部位には、こ
の搬送ロ−ラを洗浄する洗浄手段が設けられていること
を特徴とする。
【０００８】
【作用】上記構成によれば、搬送ロ−ラによって基板を
搬送することで、これら両者間の摩擦力で微粒子が発生
しても、洗浄手段によって洗浄除去されるから、搬送ロ
−ラに付着して基板へ転移するのが防止される。
搬送することで、これら両者間の摩擦力で微粒子が発生
しても、洗浄手段によって洗浄除去されるから、搬送ロ
−ラに付着して基板へ転移するのが防止される。
【０００９】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図１乃至図４を
参照して説明する。図１と図２は、ガラス基板や半導体
ウエハなどの基板２を洗浄する洗浄装置１１を示し、こ
の洗浄装置１１には搬送手段１２によって上記基板２が
搬送されてくる。この搬送手段１２は上記基板２の幅方
向両端部の下面に接触する搬送ロ−ラ１３が基板２の搬
送方向に沿って所定の間隔で配置されてなる。すなわ
ち、搬送ロ−ラ１３は後述する洗浄槽１４の入口側と出
口側およびその内部にわたって所定の間隔で設けられて
いる。
参照して説明する。図１と図２は、ガラス基板や半導体
ウエハなどの基板２を洗浄する洗浄装置１１を示し、こ
の洗浄装置１１には搬送手段１２によって上記基板２が
搬送されてくる。この搬送手段１２は上記基板２の幅方
向両端部の下面に接触する搬送ロ−ラ１３が基板２の搬
送方向に沿って所定の間隔で配置されてなる。すなわ
ち、搬送ロ−ラ１３は後述する洗浄槽１４の入口側と出
口側およびその内部にわたって所定の間隔で設けられて
いる。
【００１０】上記搬送ロ−ラ１３は、図３に示すように
上記基板２に接触する支持ロ−ラ部１３ａと、この支持
ロ−ラ部１３ａよりも大径なガイドロ−ラ部１３ｂとが
樹脂などによって一体に形成されてなり、一対の搬送ロ
−ラ１３がロ−ラ軸１３ｃの両端部に支持ロ−ラ部１３
ａを内側に向けて設けられている。
上記基板２に接触する支持ロ−ラ部１３ａと、この支持
ロ−ラ部１３ａよりも大径なガイドロ−ラ部１３ｂとが
樹脂などによって一体に形成されてなり、一対の搬送ロ
−ラ１３がロ−ラ軸１３ｃの両端部に支持ロ−ラ部１３
ａを内側に向けて設けられている。
【００１１】上記ロ−ラ軸１３ａは図示しない駆動源に
よって回転駆動される。それによって、上記基板２は図
１に矢印で示す方向に所定の速度で搬送されるようにな
っている。
よって回転駆動される。それによって、上記基板２は図
１に矢印で示す方向に所定の速度で搬送されるようにな
っている。
【００１２】上記洗浄装置１１は一端面に入口１４ａ、
他端面に出口１４ｂが形成された上記洗浄槽１４を備え
ている。この洗浄槽１４の内部には、上記基板２の表面
（上面）と裏面（下面）に上下２本で対をなす２組のロ
−ルブラシ１０が上記基板２の搬送方向に沿って所定の
間隔で配設されている。
他端面に出口１４ｂが形成された上記洗浄槽１４を備え
ている。この洗浄槽１４の内部には、上記基板２の表面
（上面）と裏面（下面）に上下２本で対をなす２組のロ
−ルブラシ１０が上記基板２の搬送方向に沿って所定の
間隔で配設されている。
【００１３】各組のロ−ルブラシ１０の一方は、その軸
方向一端側に連結された駆動モ−タ１５によって回転駆
動され、他方のロ−ルブラシ１０には歯車やプ−リ（図
示せず）などによって回転が伝達されるようになってい
る。上記ロ−ラ軸１３ｃと上記ロ−ルブラシ１０とは、
それぞれ上記洗浄槽１４の両側壁に両端部が回転自在に
支持されている。
方向一端側に連結された駆動モ−タ１５によって回転駆
動され、他方のロ−ルブラシ１０には歯車やプ−リ（図
示せず）などによって回転が伝達されるようになってい
る。上記ロ−ラ軸１３ｃと上記ロ−ルブラシ１０とは、
それぞれ上記洗浄槽１４の両側壁に両端部が回転自在に
支持されている。
【００１４】各組の上下一対のロ−ルブラシ１０は、図
１に実線の矢印で示すように逆方向に回転駆動されると
ともに、一方の組と他方の組の隣り合うロ−ルブラシ１
０の回転方向も逆方向となっている。
１に実線の矢印で示すように逆方向に回転駆動されると
ともに、一方の組と他方の組の隣り合うロ−ルブラシ１
０の回転方向も逆方向となっている。
【００１５】なお、各組Ｘ、Ｙの一対のロ−ルブラシ１
０を回転駆動する駆動モ−タ１５は図２に示す制御装置
１６によって回転方向や回転速度を制御できるようにな
っている。
０を回転駆動する駆動モ−タ１５は図２に示す制御装置
１６によって回転方向や回転速度を制御できるようにな
っている。
【００１６】各組の上下一対のロ−ルブラシ１０は、図
１に示す矢印方向に搬送されてくる基板２の上面と下面
に対して接触することで、その上下面に付着した微粒子
を除去する。
１に示す矢印方向に搬送されてくる基板２の上面と下面
に対して接触することで、その上下面に付着した微粒子
を除去する。
【００１７】各組のロ−ルブラシ１０の上流側には、上
記ロ−ルブラシ１０および基板２に向けて洗浄液Ｌを噴
出する第１のノズル１７が設けられている。各ノズル１
７から洗浄液Ｌが噴出されることで、上記ロ−ルブラシ
１０によるかきとり作用と相俟って基板２から微粒子を
除去することができる。つまり、上記ロ−ルブラシ１０
と第１のノズル１７とで第１の洗浄手段を構成してい
る。
記ロ−ルブラシ１０および基板２に向けて洗浄液Ｌを噴
出する第１のノズル１７が設けられている。各ノズル１
７から洗浄液Ｌが噴出されることで、上記ロ−ルブラシ
１０によるかきとり作用と相俟って基板２から微粒子を
除去することができる。つまり、上記ロ−ルブラシ１０
と第１のノズル１７とで第１の洗浄手段を構成してい
る。
【００１８】上記ロ−ルブラシ１０は、図４に示すよう
に金属軸２１の外周面に、ブラシ毛１０ａが植設される
筒状軸２２が外嵌されていて、上記ブラシ毛１０ａはそ
の先端が上記金属軸２１に接触する状態で上記筒状軸２
２に植設されている。
に金属軸２１の外周面に、ブラシ毛１０ａが植設される
筒状軸２２が外嵌されていて、上記ブラシ毛１０ａはそ
の先端が上記金属軸２１に接触する状態で上記筒状軸２
２に植設されている。
【００１９】上記金属軸２１は洗浄槽１４を介して図２
に示すようにア−スＥされている。それによって、ブラ
シ毛１０ａが基板２と接触することで静電気が発生して
も、その静電気がロ−ルブラシ１０に帯電するのが防止
されるから、静電気によりロ−ルブラシ１０に微粒子が
付着するのを防止できる。さらには、静電気による基板
２上のパタ−ンの破壊を未然に防止することもできる。
に示すようにア−スＥされている。それによって、ブラ
シ毛１０ａが基板２と接触することで静電気が発生して
も、その静電気がロ−ルブラシ１０に帯電するのが防止
されるから、静電気によりロ−ルブラシ１０に微粒子が
付着するのを防止できる。さらには、静電気による基板
２上のパタ−ンの破壊を未然に防止することもできる。
【００２０】上記搬送手段１２を構成する各搬送ロ−ラ
１３の下方には第２の洗浄手段を構成する第２のノズル
２５がそれぞれ先端を対向させて配設されている。各ノ
ズル２５からは、上記搬送ロ−ラ１３に向けて洗浄液Ｌ
が吹き付けられ、それによって各搬送ロ−ラ１３が洗浄
されるようになっている。
１３の下方には第２の洗浄手段を構成する第２のノズル
２５がそれぞれ先端を対向させて配設されている。各ノ
ズル２５からは、上記搬送ロ−ラ１３に向けて洗浄液Ｌ
が吹き付けられ、それによって各搬送ロ−ラ１３が洗浄
されるようになっている。
【００２１】上記構成の洗浄装置１１において、基板２
が搬送手段１２の回転駆動される搬送ロ−ラ１３によっ
て洗浄槽１４の入口１４ａから内部へ搬送されてくる
と、その基板２の上下面にロ−ルブラシ１０が回転しな
がら接触するとともに第１のノズル１７から洗浄液Ｌが
基板２に向かって供給されるから、その上下面に付着し
た微粒子が洗浄除去されることになる。
が搬送手段１２の回転駆動される搬送ロ−ラ１３によっ
て洗浄槽１４の入口１４ａから内部へ搬送されてくる
と、その基板２の上下面にロ−ルブラシ１０が回転しな
がら接触するとともに第１のノズル１７から洗浄液Ｌが
基板２に向かって供給されるから、その上下面に付着し
た微粒子が洗浄除去されることになる。
【００２２】一方、基板２を搬送する各搬送ロ−ラ１３
には第２のノズル２５から洗浄液Ｌが吹き付けられる。
そのため、搬送の際、搬送ロ−ラ１３と基板２との摩擦
力によって微粒子が発生しても、その微粒子は搬送ロ−
ラ１３に付着することなく洗浄除去される。したがっ
て、搬送の際に発生する微粒子が搬送ロ−ラ１３から基
板２へ転移するのが防止できるから、上記基板２を確実
に洗浄することができる。
には第２のノズル２５から洗浄液Ｌが吹き付けられる。
そのため、搬送の際、搬送ロ−ラ１３と基板２との摩擦
力によって微粒子が発生しても、その微粒子は搬送ロ−
ラ１３に付着することなく洗浄除去される。したがっ
て、搬送の際に発生する微粒子が搬送ロ−ラ１３から基
板２へ転移するのが防止できるから、上記基板２を確実
に洗浄することができる。
【００２３】なお、この発明は上記一実施例に限定され
ず、種々変形可能である。たとえば、搬送ロ−ラ１３を
洗浄する第２の洗浄手段は、第２のノズル２５から洗浄
液を噴出させる代わりに、図５に示すように上記搬送ロ
−ラ１３に洗浄ブラシ３１を接触させて設け、洗浄する
ようにしてもよい。その場合、搬送ロ−ラ１３に向けて
洗浄液を噴出させるようにすれば、洗浄効果を高めるこ
とができる。
ず、種々変形可能である。たとえば、搬送ロ−ラ１３を
洗浄する第２の洗浄手段は、第２のノズル２５から洗浄
液を噴出させる代わりに、図５に示すように上記搬送ロ
−ラ１３に洗浄ブラシ３１を接触させて設け、洗浄する
ようにしてもよい。その場合、搬送ロ−ラ１３に向けて
洗浄液を噴出させるようにすれば、洗浄効果を高めるこ
とができる。
【００２４】また、第１の洗浄手段としてはロ−ルブラ
シに代わり、超音波振動が付与された洗浄液をノズルか
ら基板に向けて噴射させるようにしたものであってもよ
い。さらに、この発明の搬送装置は基板の洗浄工程だけ
でなく、他の工程にも適用することができ、要は基板を
搬送ロ−ラで搬送する場合に適用可能である。
シに代わり、超音波振動が付与された洗浄液をノズルか
ら基板に向けて噴射させるようにしたものであってもよ
い。さらに、この発明の搬送装置は基板の洗浄工程だけ
でなく、他の工程にも適用することができ、要は基板を
搬送ロ−ラで搬送する場合に適用可能である。
【００２５】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明の搬送装置
は、基板を搬送する搬送ロ−ラを洗浄する洗浄手段を備
えたことを特徴とする。そのため、搬送ロ−ラと基板と
の間の摩擦力によって微粒子が発生しても、その微粒子
が搬送ロ−ラから上記基板へ転移するのが防止されるか
ら、上記基板をその搬送過程で汚損させるのを防止でき
る。
は、基板を搬送する搬送ロ−ラを洗浄する洗浄手段を備
えたことを特徴とする。そのため、搬送ロ−ラと基板と
の間の摩擦力によって微粒子が発生しても、その微粒子
が搬送ロ−ラから上記基板へ転移するのが防止されるか
ら、上記基板をその搬送過程で汚損させるのを防止でき
る。
【図１】この発明の一実施例の全体構成を示す洗浄装置
の縦断面図。
の縦断面図。
【図２】同じく横断面図。
【図３】同じく搬送ロ−ラと第２のノズルとを示す側面
図。
図。
【図４】同じくロ−ルブラシの拡大断面図。
【図５】この発明の他の実施例を示す搬送ロ−ラと洗浄
ブラシの側面図。
ブラシの側面図。
２…基板、１３…搬送ロ−ラ、２５…第２のノズル（洗
浄手段）。
浄手段）。
Claims (1)
- 【請求項１】 基板を搬送ロ−ラによって搬送する搬送
装置において、上記搬送ロ−ラと対向する部位には、こ
の搬送ロ−ラを洗浄する洗浄手段が設けられていること
を特徴とする搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21848793A JPH0774225A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21848793A JPH0774225A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0774225A true JPH0774225A (ja) | 1995-03-17 |
Family
ID=16720702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21848793A Pending JPH0774225A (ja) | 1993-09-02 | 1993-09-02 | 搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0774225A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19781822B4 (de) * | 1996-07-08 | 2004-09-09 | Speedfam-Ipec Corp.(N.D.Ges.D.Staates Delaware), Chandler | Reinigungsstation zur Verwendung bei einem System zum Reinigen, Spülen und Trocknen von Halbleiterscheiben |
-
1993
- 1993-09-02 JP JP21848793A patent/JPH0774225A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19781822B4 (de) * | 1996-07-08 | 2004-09-09 | Speedfam-Ipec Corp.(N.D.Ges.D.Staates Delaware), Chandler | Reinigungsstation zur Verwendung bei einem System zum Reinigen, Spülen und Trocknen von Halbleiterscheiben |
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