JPH076987A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH076987A JPH076987A JP5143410A JP14341093A JPH076987A JP H076987 A JPH076987 A JP H076987A JP 5143410 A JP5143410 A JP 5143410A JP 14341093 A JP14341093 A JP 14341093A JP H076987 A JPH076987 A JP H076987A
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 62
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 74
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 claims description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 abstract description 32
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000003803 hair density Effects 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】この発明は被洗浄基板を洗浄することによって
ロ−ルブラシのブラシ毛に付着した微粒子が上記被洗浄
基板に転移するのを防止した洗浄装置を提供することに
ある。 【構成】 所定方向に搬送される被洗浄基板2の表裏両
面をロ−ルブラシ10で洗浄する洗浄装置において、上
記ロ−ルブラシは、上記被洗浄基板の搬送方向に対して
交差する方向に対向して配設され、かつ対向する一対の
ロ−ルブラシは、これらの間から上記被洗浄基板が搬出
されたときに、互いのブラシ毛10aが接触する間隔で
配置されていることを特徴とする。
ロ−ルブラシのブラシ毛に付着した微粒子が上記被洗浄
基板に転移するのを防止した洗浄装置を提供することに
ある。 【構成】 所定方向に搬送される被洗浄基板2の表裏両
面をロ−ルブラシ10で洗浄する洗浄装置において、上
記ロ−ルブラシは、上記被洗浄基板の搬送方向に対して
交差する方向に対向して配設され、かつ対向する一対の
ロ−ルブラシは、これらの間から上記被洗浄基板が搬出
されたときに、互いのブラシ毛10aが接触する間隔で
配置されていることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は被洗浄基板に付着した
微粒子をロ−ルブラシを用いて洗浄する洗浄装置に関す
る。
微粒子をロ−ルブラシを用いて洗浄する洗浄装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】たとえば液晶表示装置や半導体装置の製
造工程においては、被洗浄基板としての液晶用ガラス基
板や半導体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求さ
れる工程がある。このような被洗浄基板を洗浄する方式
としては、洗浄液中に複数枚の被洗浄基板を浸漬するデ
イップ方式や被洗浄基板に向けて洗浄液を噴射して一枚
づつ洗浄する枚葉方式があり、最近では高い清浄度が得
られるとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採用され
ることが多くなってきている。
造工程においては、被洗浄基板としての液晶用ガラス基
板や半導体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求さ
れる工程がある。このような被洗浄基板を洗浄する方式
としては、洗浄液中に複数枚の被洗浄基板を浸漬するデ
イップ方式や被洗浄基板に向けて洗浄液を噴射して一枚
づつ洗浄する枚葉方式があり、最近では高い清浄度が得
られるとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採用され
ることが多くなってきている。
【0003】枚葉方式の1つとしてロ−ルブラシを用い
た洗浄装置が知られている。この洗浄装置は被洗浄基板
を搬送機構によって所定方向に搬送するとともに、その
搬送途中に、上記被洗浄基板の表裏両面に接触する複数
のロ−ルブラシを配置し、洗浄液を供給しながら各ロ−
ルブラシのブラシ毛を上記被洗浄基板に接触させること
で、上記ロ−ルブラシのブラシ毛によって微粒子を除去
するようにしている。
た洗浄装置が知られている。この洗浄装置は被洗浄基板
を搬送機構によって所定方向に搬送するとともに、その
搬送途中に、上記被洗浄基板の表裏両面に接触する複数
のロ−ルブラシを配置し、洗浄液を供給しながら各ロ−
ルブラシのブラシ毛を上記被洗浄基板に接触させること
で、上記ロ−ルブラシのブラシ毛によって微粒子を除去
するようにしている。
【0004】このような洗浄方式によれば、ロ−ルブラ
シのブラシ毛が被洗浄基板に付着した微粒子を擦り落と
すので、高い清浄度が得られる。しかしながら、ブラシ
毛によって擦り落とされた微粒子はブラシ毛に付着し、
洗浄液によって流出されずに残留することがある。その
ような場合、つぎの被洗浄基板を洗浄するときに、ブラ
シ毛に付着した微粒子がその洗浄基板に転移し、洗浄効
果が低下してしまうということがある。
シのブラシ毛が被洗浄基板に付着した微粒子を擦り落と
すので、高い清浄度が得られる。しかしながら、ブラシ
毛によって擦り落とされた微粒子はブラシ毛に付着し、
洗浄液によって流出されずに残留することがある。その
ような場合、つぎの被洗浄基板を洗浄するときに、ブラ
シ毛に付着した微粒子がその洗浄基板に転移し、洗浄効
果が低下してしまうということがある。
【0005】また、被洗浄基板の表面はエッチングなど
によって形成された回路パタ−ンなどによって凹凸状と
なっていることがある。そのような場合、たとえば図8
に示すように矢印a方向に回転する複数のロ−ルブラシ
1に対して矢印b方向に被洗浄基板2が搬送されてくる
とすると、上記ロ−ルブラシ1のブラシ毛1aによって
擦られた微粒子pが上記被洗浄基板2の凹部2aの搬送
方向後端側の角部に押し付けられて残留し易いため、洗
浄効果が低下するということもあった。
によって形成された回路パタ−ンなどによって凹凸状と
なっていることがある。そのような場合、たとえば図8
に示すように矢印a方向に回転する複数のロ−ルブラシ
1に対して矢印b方向に被洗浄基板2が搬送されてくる
とすると、上記ロ−ルブラシ1のブラシ毛1aによって
擦られた微粒子pが上記被洗浄基板2の凹部2aの搬送
方向後端側の角部に押し付けられて残留し易いため、洗
浄効果が低下するということもあった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のロ
−ルブラシを用いた洗浄装置においては、洗浄作用によ
ってブラシ毛に付着した微粒子がつぎの被洗浄基板に転
移し、洗浄効果が低下するということがあった。
−ルブラシを用いた洗浄装置においては、洗浄作用によ
ってブラシ毛に付着した微粒子がつぎの被洗浄基板に転
移し、洗浄効果が低下するということがあった。
【0007】また、被洗浄物の表面に凹部があると、所
定方向に回転されるロ−ルブラシによって上記凹部の一
端部に微粒子が残留し易いため、高い洗浄効果が得られ
ないということがあった。
定方向に回転されるロ−ルブラシによって上記凹部の一
端部に微粒子が残留し易いため、高い洗浄効果が得られ
ないということがあった。
【0008】この発明の第1の目的は、ロ−ルブラシの
ブラシ毛に微粒子が付着しても、その微粒子をつぎの被
洗浄基板に付着させずに、除去できるようにした洗浄装
置を提供することにある。
ブラシ毛に微粒子が付着しても、その微粒子をつぎの被
洗浄基板に付着させずに、除去できるようにした洗浄装
置を提供することにある。
【0009】この発明の第2の目的は、被洗浄基板の表
面に凹部が形成されていても、その凹部の一端部に微粒
子を残すことなく洗浄できるようにした洗浄装置を提供
することにある。
面に凹部が形成されていても、その凹部の一端部に微粒
子を残すことなく洗浄できるようにした洗浄装置を提供
することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明の第1の手段は、所定方向に搬送される被洗
浄基板の表裏両面をロ−ルブラシで洗浄する洗浄装置に
おいて、上記ロ−ルブラシは、上記被洗浄基板の搬送方
向に対して交差する方向に対向して配設され、かつ対向
する一対のロ−ルブラシは、これらの間から上記被洗浄
基板が搬出されたときに、互いのブラシ毛が接触する間
隔で配置されていることを特徴とする。
にこの発明の第1の手段は、所定方向に搬送される被洗
浄基板の表裏両面をロ−ルブラシで洗浄する洗浄装置に
おいて、上記ロ−ルブラシは、上記被洗浄基板の搬送方
向に対して交差する方向に対向して配設され、かつ対向
する一対のロ−ルブラシは、これらの間から上記被洗浄
基板が搬出されたときに、互いのブラシ毛が接触する間
隔で配置されていることを特徴とする。
【0011】この発明の第2の手段は、所定方向に搬送
される被洗浄基板の表裏両面をロ−ルブラシで洗浄する
洗浄装置において、上記ロ−ルブラシは、被洗浄基板の
搬送方向に対して交差する方向に上下2つで対をなすよ
う対向し、かつ上記被洗浄基板の搬送方向に沿って所定
の間隔で複数対配設され、隣り合う各対のロ−ルブラシ
は異なる方向に回転駆動されることを特徴とする。
される被洗浄基板の表裏両面をロ−ルブラシで洗浄する
洗浄装置において、上記ロ−ルブラシは、被洗浄基板の
搬送方向に対して交差する方向に上下2つで対をなすよ
う対向し、かつ上記被洗浄基板の搬送方向に沿って所定
の間隔で複数対配設され、隣り合う各対のロ−ルブラシ
は異なる方向に回転駆動されることを特徴とする。
【0012】
【作用】上記第1の手段によれば、一対のロ−ルブラシ
の間から洗浄された被洗浄基板が搬出されると、これら
のブラシ毛が互いに接触することで、ブラシ毛に付着し
た微粒子が除去されることになる。
の間から洗浄された被洗浄基板が搬出されると、これら
のブラシ毛が互いに接触することで、ブラシ毛に付着し
た微粒子が除去されることになる。
【0013】上記第2の手段によれば、被洗浄基板に付
着した微粒子が一対のロ−ルブラシによってその回転方
向一端側に押し寄せられると、その回転方向と逆方向に
回転するつぎの一対のロ−ルブラシによって一方向に押
し寄せられた微粒子はすくい取られて除去され易い。
着した微粒子が一対のロ−ルブラシによってその回転方
向一端側に押し寄せられると、その回転方向と逆方向に
回転するつぎの一対のロ−ルブラシによって一方向に押
し寄せられた微粒子はすくい取られて除去され易い。
【0014】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1乃至図6を
参照して説明する。図1と図2に示す洗浄装置11に
は、ガラス基板や半導体ウエハなどの被洗浄基板2が搬
送手段12によって搬送されてくる。この搬送手段12
は上記被洗浄基板2の幅方向両端部の上下面を挟持する
上下一対の搬送ロ−ラ13が被洗浄基板2の搬送方向に
沿って所定の間隔で複数対配置されてなる。上記搬送ロ
−ラ13はロ−ラ軸13aの両端部に設けられ、このロ
−ラ軸13aは図示しない駆動源によって回転駆動され
る。それによって、上記被洗浄基板2を矢印方向に所定
の速度で搬送できるようになっている。
参照して説明する。図1と図2に示す洗浄装置11に
は、ガラス基板や半導体ウエハなどの被洗浄基板2が搬
送手段12によって搬送されてくる。この搬送手段12
は上記被洗浄基板2の幅方向両端部の上下面を挟持する
上下一対の搬送ロ−ラ13が被洗浄基板2の搬送方向に
沿って所定の間隔で複数対配置されてなる。上記搬送ロ
−ラ13はロ−ラ軸13aの両端部に設けられ、このロ
−ラ軸13aは図示しない駆動源によって回転駆動され
る。それによって、上記被洗浄基板2を矢印方向に所定
の速度で搬送できるようになっている。
【0015】上記洗浄装置11は一端面に導入口14
a、他端面に導出口14bが形成された洗浄槽14を備
えている。この洗浄槽14の内部には、上記被洗浄基板
2の表面(上面)と裏面(下面)に上下2本で対をなす
2組のロ−ルブラシ10が上記被洗浄基板2の搬送方向
に沿って所定の間隔で、かつ上記搬送方向に対して交差
する方向、この実施例では直交して配設されている。各
組のロ−ルブラシ10の一方は、その軸方向一端側に連
結された駆動モ−タ15によって回転駆動され、他方の
ロ−ルブラシ10には歯車やプ−リ(図示せず)などに
よって回転が伝達されるようになっている。上記ロ−ラ
軸13aと上記ロ−ルブラシ10とは、それぞれ上記洗
浄槽14の両側壁に両端部が回転自在に支持されてい
る。
a、他端面に導出口14bが形成された洗浄槽14を備
えている。この洗浄槽14の内部には、上記被洗浄基板
2の表面(上面)と裏面(下面)に上下2本で対をなす
2組のロ−ルブラシ10が上記被洗浄基板2の搬送方向
に沿って所定の間隔で、かつ上記搬送方向に対して交差
する方向、この実施例では直交して配設されている。各
組のロ−ルブラシ10の一方は、その軸方向一端側に連
結された駆動モ−タ15によって回転駆動され、他方の
ロ−ルブラシ10には歯車やプ−リ(図示せず)などに
よって回転が伝達されるようになっている。上記ロ−ラ
軸13aと上記ロ−ルブラシ10とは、それぞれ上記洗
浄槽14の両側壁に両端部が回転自在に支持されてい
る。
【0016】図1に実線の矢印で示すように各組の上下
一対のロ−ルブラシ10は逆方向に回転駆動されるとと
もに、一方の組と他方の組の隣り合うロ−ルブラシ10
の回転方向も逆方向となっている。この実施例では、被
洗浄基板2の搬送方向上流側に位置する第1組Xの一対
のロ−ルブラシ10は、上記被洗浄基板2の搬送方向と
逆方向に回転駆動されるようになっており、下流側に位
置する第2組Yの一対のロ−ルブラシ10は被洗浄基板
2の搬送方向と同方向に回転駆動されるようになってい
る。
一対のロ−ルブラシ10は逆方向に回転駆動されるとと
もに、一方の組と他方の組の隣り合うロ−ルブラシ10
の回転方向も逆方向となっている。この実施例では、被
洗浄基板2の搬送方向上流側に位置する第1組Xの一対
のロ−ルブラシ10は、上記被洗浄基板2の搬送方向と
逆方向に回転駆動されるようになっており、下流側に位
置する第2組Yの一対のロ−ルブラシ10は被洗浄基板
2の搬送方向と同方向に回転駆動されるようになってい
る。
【0017】なお、各組X、Yの一対のロ−ルブラシ1
0を回転駆動する駆動モ−タ15は図2に示す制御装置
16によって回転方向や回転速度を制御できるようにな
っている。
0を回転駆動する駆動モ−タ15は図2に示す制御装置
16によって回転方向や回転速度を制御できるようにな
っている。
【0018】各組X、Yの上下一対のロ−ルブラシ10
は、図3に示す矢印方向に搬送されてくる被洗浄基板2
の上面と下面に対して接触するとともに、これらの間か
ら被洗浄基板2が搬出された状態において、それぞれの
ブラシ毛10aが接触する間隔で配設されている。ロ−
ルブラシ10のブラシ毛10aが互いに接触すること
で、これらブラシ毛10aに微粒子Pが付着しても、後
述するごとく払い落とされるようになっている。
は、図3に示す矢印方向に搬送されてくる被洗浄基板2
の上面と下面に対して接触するとともに、これらの間か
ら被洗浄基板2が搬出された状態において、それぞれの
ブラシ毛10aが接触する間隔で配設されている。ロ−
ルブラシ10のブラシ毛10aが互いに接触すること
で、これらブラシ毛10aに微粒子Pが付着しても、後
述するごとく払い落とされるようになっている。
【0019】各組X、Yのロ−ルブラシ10の上流側に
は、上記ロ−ルブラシ10および被洗浄基板2に向けて
洗浄液Lを噴出するノズル17が設けられている。各ノ
ズル17から洗浄液Lが噴出されることで、上記ロ−ル
ブラシ10によるかきとり作用と相俟って被洗浄基板2
から微粒子pが除去される。
は、上記ロ−ルブラシ10および被洗浄基板2に向けて
洗浄液Lを噴出するノズル17が設けられている。各ノ
ズル17から洗浄液Lが噴出されることで、上記ロ−ル
ブラシ10によるかきとり作用と相俟って被洗浄基板2
から微粒子pが除去される。
【0020】上記ロ−ルブラシ10は、図4(a)、
(b)に示すようにステンレス製の中空軸21の外周面
に、上記ブラシ毛10aが設けられている。つまり、ブ
ラシ毛10aは、図5(a)、(b)に示すように所定
長さのナイロン繊維を2つに折り曲げ、その折り曲げ部
分を、ステンレス製の帯状板を断面コ字状に曲成したホ
ルダ22の内部に挿入し、芯線23によって押えたの
ち、上記ホルダ22をかしめることで一体化されてい
る。そして、ブラシ毛10aを保持した上記ホルダ22
を図4(a)に示すように上記中空軸21の外周面に螺
旋状に捲着することで、上記ロ−ルブラシ10が形成さ
れている。
(b)に示すようにステンレス製の中空軸21の外周面
に、上記ブラシ毛10aが設けられている。つまり、ブ
ラシ毛10aは、図5(a)、(b)に示すように所定
長さのナイロン繊維を2つに折り曲げ、その折り曲げ部
分を、ステンレス製の帯状板を断面コ字状に曲成したホ
ルダ22の内部に挿入し、芯線23によって押えたの
ち、上記ホルダ22をかしめることで一体化されてい
る。そして、ブラシ毛10aを保持した上記ホルダ22
を図4(a)に示すように上記中空軸21の外周面に螺
旋状に捲着することで、上記ロ−ルブラシ10が形成さ
れている。
【0021】このようにしてブラシ毛10aを設けるよ
うにしたロ−ルブラシ10によると、ブラシ毛10aの
植毛密度を高密度化することが可能となる。この実施例
では、直径が0.06〜0.1mm のブラシ毛10aを、1500本
/cm2 以上の密度で設けることが可能となった。
うにしたロ−ルブラシ10によると、ブラシ毛10aの
植毛密度を高密度化することが可能となる。この実施例
では、直径が0.06〜0.1mm のブラシ毛10aを、1500本
/cm2 以上の密度で設けることが可能となった。
【0022】上記構成の洗浄装置11において、各組
X、Yのロ−ルブラシ10を所定方向に回転させ、ノズ
ル17から洗浄液Lを噴出させて被洗浄基板2を搬送ロ
−ラ13によって洗浄槽14内へ導入口14aから搬入
すると、その被洗浄基板2の上下面に各組のロ−ルブラ
シ10が順次接触し、その表面に付着した微粒子pがか
き取られ、洗浄液Lによって除去される。
X、Yのロ−ルブラシ10を所定方向に回転させ、ノズ
ル17から洗浄液Lを噴出させて被洗浄基板2を搬送ロ
−ラ13によって洗浄槽14内へ導入口14aから搬入
すると、その被洗浄基板2の上下面に各組のロ−ルブラ
シ10が順次接触し、その表面に付着した微粒子pがか
き取られ、洗浄液Lによって除去される。
【0023】第1組Xの一対のロ−ルブラシ1の回転方
向と、第2組Yの一対のロ−ルブラシ10の回転方向と
は逆方向に設定されている。そのため、上記被洗浄基板
2の表面(上面)に図6(a)に示すようにエッチング
加工などによって凹部2aが形成されていて、その凹部
2a内に付着した微粒子pが第1組Xのロ−ルブラシ1
0によってその回転方向一端側に押し寄せられて残留し
ても、回転方向が異なる第2組Yのロ−ルブラシ10に
よって上記凹部2aの一端側に押し付けられた微粒子p
はすくい上げるようにしてかき取られることになる。
向と、第2組Yの一対のロ−ルブラシ10の回転方向と
は逆方向に設定されている。そのため、上記被洗浄基板
2の表面(上面)に図6(a)に示すようにエッチング
加工などによって凹部2aが形成されていて、その凹部
2a内に付着した微粒子pが第1組Xのロ−ルブラシ1
0によってその回転方向一端側に押し寄せられて残留し
ても、回転方向が異なる第2組Yのロ−ルブラシ10に
よって上記凹部2aの一端側に押し付けられた微粒子p
はすくい上げるようにしてかき取られることになる。
【0024】つまり、被洗浄基板2の表面に、たとえば
回路用の凹部2aが形成されていても、微粒子pを上記
凹部2a内に残留させることなく除去することができ
る。下記表1は2組のロ−ルブラシX、Yを本件発明の
ように逆方向に回転させた場合と、従来のように同方向
に回転させた場合に、被洗浄基板2の凹部2aの図6
(b)に(ア)と(イ)で示す箇所に残留する微粒子p
を計数した実験結果を示す。
回路用の凹部2aが形成されていても、微粒子pを上記
凹部2a内に残留させることなく除去することができ
る。下記表1は2組のロ−ルブラシX、Yを本件発明の
ように逆方向に回転させた場合と、従来のように同方向
に回転させた場合に、被洗浄基板2の凹部2aの図6
(b)に(ア)と(イ)で示す箇所に残留する微粒子p
を計数した実験結果を示す。
【0025】
【表1】
【0026】以上の結果より、2組のロ−ルブラシ10
を逆方向に回転させる、本件発明の方が同方向に回転さ
せる従来に比べて洗浄効果が向上することが分かる。被
洗浄基板2が各組の上下一対のロ−ルブラシ10間から
搬出されると、それら一対のロ−ルブラシ10は図3に
示すように互いのブラシ毛10aが接触する。それによ
って、上記被洗浄基板2から除去された微粒子pが上記
ロ−ルブラシ10のブラシ毛10aに付着していても、
互いのブラシ毛10aが接触することで、それらブラシ
毛10aから払い落とされて洗浄液Lとともに流出す
る。そのため、つぎの被洗浄基板2を洗浄するときに、
ブラシ毛10aから被洗浄基板2へ微粒子pが転移し、
洗浄効果が低下するということが防止される。
を逆方向に回転させる、本件発明の方が同方向に回転さ
せる従来に比べて洗浄効果が向上することが分かる。被
洗浄基板2が各組の上下一対のロ−ルブラシ10間から
搬出されると、それら一対のロ−ルブラシ10は図3に
示すように互いのブラシ毛10aが接触する。それによ
って、上記被洗浄基板2から除去された微粒子pが上記
ロ−ルブラシ10のブラシ毛10aに付着していても、
互いのブラシ毛10aが接触することで、それらブラシ
毛10aから払い落とされて洗浄液Lとともに流出す
る。そのため、つぎの被洗浄基板2を洗浄するときに、
ブラシ毛10aから被洗浄基板2へ微粒子pが転移し、
洗浄効果が低下するということが防止される。
【0027】この発明の高密度ロ−ルブラシ10と、従
来のロ−ルブラシとにより、被洗浄基板2を洗浄し、そ
の洗浄効果を測定した実験結果を表2に示す。この発明
のロ−ルブラシ10は直径70mm、長さ400mm 、ブラシ毛
10aが直径0.07mmのナイロン繊維、同じく毛足の長さ
が16mm、毛束の幅(ホルダ22の幅)3mmで、そのホル
ダ22を中空軸21の外周面に隙間なく螺旋状に捲着し
たもので、それによってブラシ毛10aの植毛密度は15
00本/cm2 以上が達成された。
来のロ−ルブラシとにより、被洗浄基板2を洗浄し、そ
の洗浄効果を測定した実験結果を表2に示す。この発明
のロ−ルブラシ10は直径70mm、長さ400mm 、ブラシ毛
10aが直径0.07mmのナイロン繊維、同じく毛足の長さ
が16mm、毛束の幅(ホルダ22の幅)3mmで、そのホル
ダ22を中空軸21の外周面に隙間なく螺旋状に捲着し
たもので、それによってブラシ毛10aの植毛密度は15
00本/cm2 以上が達成された。
【0028】これに対して従来のロ−ルブラシは、直径
70mm、長さ400mm 、ブラシ毛10aが直径0.07mmのナイ
ロン繊維、同じく毛足の長さが16mm、毛束の径4.2mm 、
毛束のピッチ(P)9.1mm で、軸方向に12列、円周方
向に1/3・Pづつ、ずらして植毛した構成で、そのよ
うな構成によって植毛密度は300 本/cm2 程度となる。
70mm、長さ400mm 、ブラシ毛10aが直径0.07mmのナイ
ロン繊維、同じく毛足の長さが16mm、毛束の径4.2mm 、
毛束のピッチ(P)9.1mm で、軸方向に12列、円周方
向に1/3・Pづつ、ずらして植毛した構成で、そのよ
うな構成によって植毛密度は300 本/cm2 程度となる。
【0029】各ブラシの回転数は300rpm、被洗浄基板2
の搬送速度は0.9 m/min 、被搬送基板2は大きさは30
0mm ×400mm 、厚さは1.1 mmで、図7に示すパタ−ン3
1が形成されており、微粒子pがなくなるよう、十分に
洗浄したのち、その面に、微粒子pとして1 μm、5 μ
m、10μmのSiC粒子を散布して汚染させたのち、被
洗浄基板2に対するブラシ毛の押付け量を0.5mm と2.0m
m で洗浄し、図7に示すそのパタ−ン31のL、S、
a、b、c、dの6カ所において残った微粒子pを金属
顕微鏡で計数した。その結果を下記表1に示す。
の搬送速度は0.9 m/min 、被搬送基板2は大きさは30
0mm ×400mm 、厚さは1.1 mmで、図7に示すパタ−ン3
1が形成されており、微粒子pがなくなるよう、十分に
洗浄したのち、その面に、微粒子pとして1 μm、5 μ
m、10μmのSiC粒子を散布して汚染させたのち、被
洗浄基板2に対するブラシ毛の押付け量を0.5mm と2.0m
m で洗浄し、図7に示すそのパタ−ン31のL、S、
a、b、c、dの6カ所において残った微粒子pを金属
顕微鏡で計数した。その結果を下記表1に示す。
【0030】
【表2】
【0031】このように、押付け量が1.0mm と2.0mm の
いずれの場合にも、本件発明のロ−ルブラシ10を用い
た方が、従来のブラシに比べて高い洗浄効果が得られる
ことが確認された。つまり、ブラシ毛10aをホルダ2
2に保持して中空軸21の外周面に螺旋状に捲着するこ
とで、1500本/cm2 の植毛密度を達成できたのため、30
0 本/cm2 程度の植毛密度しか達成できない従来のロ−
ルブラシに比べて洗浄効果に大きな差が生じたものと考
察される。
いずれの場合にも、本件発明のロ−ルブラシ10を用い
た方が、従来のブラシに比べて高い洗浄効果が得られる
ことが確認された。つまり、ブラシ毛10aをホルダ2
2に保持して中空軸21の外周面に螺旋状に捲着するこ
とで、1500本/cm2 の植毛密度を達成できたのため、30
0 本/cm2 程度の植毛密度しか達成できない従来のロ−
ルブラシに比べて洗浄効果に大きな差が生じたものと考
察される。
【0032】また、従来のロ−ルブラシにおいては、ブ
ラシ毛の押付け量を大きくすることで、洗浄効果を向上
させることができるものの、押付け量を大きくしたので
は、接触圧力が増大し、被洗浄基板2に傷を付ける虞が
あるから、精密洗浄には適さない。
ラシ毛の押付け量を大きくすることで、洗浄効果を向上
させることができるものの、押付け量を大きくしたので
は、接触圧力が増大し、被洗浄基板2に傷を付ける虞が
あるから、精密洗浄には適さない。
【0033】なお、この発明は上記実施例だけに限定さ
れず、その発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能
である。たとえば、上記一実施例では被洗浄基板の搬送
方向に2組のロ−ルブラシを配設したが、3組以上のロ
−ルブラシを配置するようにしてもよく、その点はなん
ら限定されるものでない。
れず、その発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能
である。たとえば、上記一実施例では被洗浄基板の搬送
方向に2組のロ−ルブラシを配設したが、3組以上のロ
−ルブラシを配置するようにしてもよく、その点はなん
ら限定されるものでない。
【0034】また各組のロ−ルブラシ10の回転方向
は、図1に破線の矢印で示すように、上下一対のロ−ル
ブラシ10を同方向に回転させ、隣り合う各組のロ−ル
ブラシ10を逆方向に回転させてもよく、要は隣り合う
ロ−ルブラシ10の回転方向が逆方向であればよい。
は、図1に破線の矢印で示すように、上下一対のロ−ル
ブラシ10を同方向に回転させ、隣り合う各組のロ−ル
ブラシ10を逆方向に回転させてもよく、要は隣り合う
ロ−ルブラシ10の回転方向が逆方向であればよい。
【0035】
【発明の効果】以上述べたように請求項1に記載された
発明によれば、被洗浄基板を挟んで対向する一対のロ−
ルブラシ間から被洗浄基板が搬出されたときに、上記一
対のロ−ルブラシのブラシ毛が接触するよう、上記一対
のロ−ルブラシの配置間隔を設定した。
発明によれば、被洗浄基板を挟んで対向する一対のロ−
ルブラシ間から被洗浄基板が搬出されたときに、上記一
対のロ−ルブラシのブラシ毛が接触するよう、上記一対
のロ−ルブラシの配置間隔を設定した。
【0036】そのため、洗浄作用にともないブラシ毛に
微粒子が付着しても、被洗浄基板が一対のロ−ルブラシ
間から搬出されたときに、ブラシ毛が互いに接触し、こ
れらブラシ毛に付着した微粒子が払い除かれるから、つ
ぎの洗浄のときにブラシ毛から被洗浄基板へ微粒子が転
移するということが防止される。
微粒子が付着しても、被洗浄基板が一対のロ−ルブラシ
間から搬出されたときに、ブラシ毛が互いに接触し、こ
れらブラシ毛に付着した微粒子が払い除かれるから、つ
ぎの洗浄のときにブラシ毛から被洗浄基板へ微粒子が転
移するということが防止される。
【0037】請求項2に記載された発明によれば、被洗
浄基板を複数対のロ−ルブラシで洗浄する場合に、隣り
合う各対のロ−ルブラシを異なる方向に回転駆動するよ
うにした。
浄基板を複数対のロ−ルブラシで洗浄する場合に、隣り
合う各対のロ−ルブラシを異なる方向に回転駆動するよ
うにした。
【0038】そのため、最初の一対のロ−ルブラシで被
洗浄基板に付着した微粒子がその回転方向に沿う、たと
えばエッチングパタ−ンなどの凹部の一方向に押付けら
れると、つぎの一対のロ−ルブラシの回転方向が異なる
ことで、一方向に押付けられた微粒子がすくい取られる
ため、洗浄効果を向上させることができる。
洗浄基板に付着した微粒子がその回転方向に沿う、たと
えばエッチングパタ−ンなどの凹部の一方向に押付けら
れると、つぎの一対のロ−ルブラシの回転方向が異なる
ことで、一方向に押付けられた微粒子がすくい取られる
ため、洗浄効果を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例の全体構成を示す縦断面
図。
図。
【図2】同じく横断面図。
【図3】同じくロ−ルブラシ間から被洗浄基板が搬出さ
れたときの一対のロ−ルブラシのブラシ毛が接触してい
る状態の側面図。
れたときの一対のロ−ルブラシのブラシ毛が接触してい
る状態の側面図。
【図4】(a)は同じくロ−ルブラシの一部分の拡大正
面図、(b)は同じく側面図。
面図、(b)は同じく側面図。
【図5】同じく(a)はブラシ毛を保持したホルダの正
面図、(b)は同じく側面図。
面図、(b)は同じく側面図。
【図6】(a)、(b)は被洗浄基板の上面に凹部が形
成されている場合の2組のロ−ルブラシにより微粒子が
除去される状態を順次示す説明図。
成されている場合の2組のロ−ルブラシにより微粒子が
除去される状態を順次示す説明図。
【図7】同じく被搬洗浄基板に形成されたパタ−ンの一
部を示す平面図。
部を示す平面図。
【図8】従来の洗浄方式によって被洗浄基板の上面に形
成された凹部に微粒子が残留する状態の説明図。
成された凹部に微粒子が残留する状態の説明図。
2…被洗浄基板、10…ロ−ルブラシ、10a…ブラシ
毛、13…搬送ロ−ラ、14…洗浄槽、15…駆動モ−
タ、16…制御装置。
毛、13…搬送ロ−ラ、14…洗浄槽、15…駆動モ−
タ、16…制御装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒川 禎明 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株 式会社芝浦製作所大船工場内 (72)発明者 佐藤 均 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株 式会社芝浦製作所大船工場内 (72)発明者 土井 敏 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株 式会社芝浦製作所大船工場内
Claims (3)
- 【請求項1】 所定方向に搬送される被洗浄基板の表裏
両面をロ−ルブラシで洗浄する洗浄装置において、上記
ロ−ルブラシは、上記被洗浄基板の搬送方向に対して交
差する方向に対向して配設され、かつ対向する一対のロ
−ルブラシは、これらの間から上記被洗浄基板が搬出さ
れたときに、互いのブラシ毛が接触する間隔で配置され
ていることを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項2】 所定方向に搬送される被洗浄基板の表裏
両面をロ−ルブラシで洗浄する洗浄装置において、上記
ロ−ルブラシは、被洗浄基板の搬送方向に対して交差す
る方向に上下2つで対をなすよう対向し、かつ上記被洗
浄基板の搬送方向に沿って所定の間隔で複数対配設さ
れ、隣り合う各対のロ−ルブラシは異なる方向に回転駆
動されることを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項3】 上記ロ−ルブラシのブラシ毛は、直径が
0.06〜0.1mm のナイロン繊維が、1500本/cm2 以上の植
毛密度で設けられていることを特徴とする請求項1また
は請求項2記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5143410A JPH076987A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5143410A JPH076987A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH076987A true JPH076987A (ja) | 1995-01-10 |
Family
ID=15338129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5143410A Pending JPH076987A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH076987A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006263622A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Jcm:Kk | シート状物の洗浄装置 |
KR100720437B1 (ko) * | 2000-12-27 | 2007-05-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 세정 장치 |
KR100871135B1 (ko) * | 2007-03-13 | 2008-12-03 | 주식회사 에스에프에이 | 기판 세정장치 |
KR100879015B1 (ko) * | 2007-03-13 | 2009-01-15 | 주식회사 에스에프에이 | 기판 세정장치 |
JP2016064357A (ja) * | 2014-09-25 | 2016-04-28 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
TWI554461B (zh) * | 2012-02-20 | 2016-10-21 | 日本電氣硝子股份有限公司 | 玻璃板搬運裝置及其搬運方法 |
JP2017113663A (ja) * | 2015-12-21 | 2017-06-29 | 日本電気硝子株式会社 | 洗浄装置 |
WO2019003899A1 (ja) * | 2017-06-26 | 2019-01-03 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの製造方法 |
-
1993
- 1993-06-15 JP JP5143410A patent/JPH076987A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100720437B1 (ko) * | 2000-12-27 | 2007-05-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 세정 장치 |
JP2006263622A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Jcm:Kk | シート状物の洗浄装置 |
JP4522897B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2010-08-11 | 株式会社ジェイシーエム | シート状物の洗浄装置 |
KR100871135B1 (ko) * | 2007-03-13 | 2008-12-03 | 주식회사 에스에프에이 | 기판 세정장치 |
KR100879015B1 (ko) * | 2007-03-13 | 2009-01-15 | 주식회사 에스에프에이 | 기판 세정장치 |
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JP2016064357A (ja) * | 2014-09-25 | 2016-04-28 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
JP2017113663A (ja) * | 2015-12-21 | 2017-06-29 | 日本電気硝子株式会社 | 洗浄装置 |
WO2019003899A1 (ja) * | 2017-06-26 | 2019-01-03 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの製造方法 |
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