JPH076987A - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

Info

Publication number
JPH076987A
JPH076987A JP5143410A JP14341093A JPH076987A JP H076987 A JPH076987 A JP H076987A JP 5143410 A JP5143410 A JP 5143410A JP 14341093 A JP14341093 A JP 14341093A JP H076987 A JPH076987 A JP H076987A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaned
substrate
roll
brush
cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5143410A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoaki Sakurai
直明 桜井
Yoshiyuki Nagahara
義幸 永原
Sadaaki Kurokawa
禎明 黒川
Hitoshi Sato
均 佐藤
Satoshi Doi
敏 土井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Shibaura Engineering Works Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Shibaura Engineering Works Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP5143410A priority Critical patent/JPH076987A/ja
Publication of JPH076987A publication Critical patent/JPH076987A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】この発明は被洗浄基板を洗浄することによって
ロ−ルブラシのブラシ毛に付着した微粒子が上記被洗浄
基板に転移するのを防止した洗浄装置を提供することに
ある。 【構成】 所定方向に搬送される被洗浄基板2の表裏両
面をロ−ルブラシ10で洗浄する洗浄装置において、上
記ロ−ルブラシは、上記被洗浄基板の搬送方向に対して
交差する方向に対向して配設され、かつ対向する一対の
ロ−ルブラシは、これらの間から上記被洗浄基板が搬出
されたときに、互いのブラシ毛10aが接触する間隔で
配置されていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は被洗浄基板に付着した
微粒子をロ−ルブラシを用いて洗浄する洗浄装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】たとえば液晶表示装置や半導体装置の製
造工程においては、被洗浄基板としての液晶用ガラス基
板や半導体ウエハを高い清浄度で洗浄することが要求さ
れる工程がある。このような被洗浄基板を洗浄する方式
としては、洗浄液中に複数枚の被洗浄基板を浸漬するデ
イップ方式や被洗浄基板に向けて洗浄液を噴射して一枚
づつ洗浄する枚葉方式があり、最近では高い清浄度が得
られるとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採用され
ることが多くなってきている。
【0003】枚葉方式の1つとしてロ−ルブラシを用い
た洗浄装置が知られている。この洗浄装置は被洗浄基板
を搬送機構によって所定方向に搬送するとともに、その
搬送途中に、上記被洗浄基板の表裏両面に接触する複数
のロ−ルブラシを配置し、洗浄液を供給しながら各ロ−
ルブラシのブラシ毛を上記被洗浄基板に接触させること
で、上記ロ−ルブラシのブラシ毛によって微粒子を除去
するようにしている。
【0004】このような洗浄方式によれば、ロ−ルブラ
シのブラシ毛が被洗浄基板に付着した微粒子を擦り落と
すので、高い清浄度が得られる。しかしながら、ブラシ
毛によって擦り落とされた微粒子はブラシ毛に付着し、
洗浄液によって流出されずに残留することがある。その
ような場合、つぎの被洗浄基板を洗浄するときに、ブラ
シ毛に付着した微粒子がその洗浄基板に転移し、洗浄効
果が低下してしまうということがある。
【0005】また、被洗浄基板の表面はエッチングなど
によって形成された回路パタ−ンなどによって凹凸状と
なっていることがある。そのような場合、たとえば図8
に示すように矢印a方向に回転する複数のロ−ルブラシ
1に対して矢印b方向に被洗浄基板2が搬送されてくる
とすると、上記ロ−ルブラシ1のブラシ毛1aによって
擦られた微粒子pが上記被洗浄基板2の凹部2aの搬送
方向後端側の角部に押し付けられて残留し易いため、洗
浄効果が低下するということもあった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のロ
−ルブラシを用いた洗浄装置においては、洗浄作用によ
ってブラシ毛に付着した微粒子がつぎの被洗浄基板に転
移し、洗浄効果が低下するということがあった。
【0007】また、被洗浄物の表面に凹部があると、所
定方向に回転されるロ−ルブラシによって上記凹部の一
端部に微粒子が残留し易いため、高い洗浄効果が得られ
ないということがあった。
【0008】この発明の第1の目的は、ロ−ルブラシの
ブラシ毛に微粒子が付着しても、その微粒子をつぎの被
洗浄基板に付着させずに、除去できるようにした洗浄装
置を提供することにある。
【0009】この発明の第2の目的は、被洗浄基板の表
面に凹部が形成されていても、その凹部の一端部に微粒
子を残すことなく洗浄できるようにした洗浄装置を提供
することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明の第1の手段は、所定方向に搬送される被洗
浄基板の表裏両面をロ−ルブラシで洗浄する洗浄装置に
おいて、上記ロ−ルブラシは、上記被洗浄基板の搬送方
向に対して交差する方向に対向して配設され、かつ対向
する一対のロ−ルブラシは、これらの間から上記被洗浄
基板が搬出されたときに、互いのブラシ毛が接触する間
隔で配置されていることを特徴とする。
【0011】この発明の第2の手段は、所定方向に搬送
される被洗浄基板の表裏両面をロ−ルブラシで洗浄する
洗浄装置において、上記ロ−ルブラシは、被洗浄基板の
搬送方向に対して交差する方向に上下2つで対をなすよ
う対向し、かつ上記被洗浄基板の搬送方向に沿って所定
の間隔で複数対配設され、隣り合う各対のロ−ルブラシ
は異なる方向に回転駆動されることを特徴とする。
【0012】
【作用】上記第1の手段によれば、一対のロ−ルブラシ
の間から洗浄された被洗浄基板が搬出されると、これら
のブラシ毛が互いに接触することで、ブラシ毛に付着し
た微粒子が除去されることになる。
【0013】上記第2の手段によれば、被洗浄基板に付
着した微粒子が一対のロ−ルブラシによってその回転方
向一端側に押し寄せられると、その回転方向と逆方向に
回転するつぎの一対のロ−ルブラシによって一方向に押
し寄せられた微粒子はすくい取られて除去され易い。
【0014】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1乃至図6を
参照して説明する。図1と図2に示す洗浄装置11に
は、ガラス基板や半導体ウエハなどの被洗浄基板2が搬
送手段12によって搬送されてくる。この搬送手段12
は上記被洗浄基板2の幅方向両端部の上下面を挟持する
上下一対の搬送ロ−ラ13が被洗浄基板2の搬送方向に
沿って所定の間隔で複数対配置されてなる。上記搬送ロ
−ラ13はロ−ラ軸13aの両端部に設けられ、このロ
−ラ軸13aは図示しない駆動源によって回転駆動され
る。それによって、上記被洗浄基板2を矢印方向に所定
の速度で搬送できるようになっている。
【0015】上記洗浄装置11は一端面に導入口14
a、他端面に導出口14bが形成された洗浄槽14を備
えている。この洗浄槽14の内部には、上記被洗浄基板
2の表面(上面)と裏面(下面)に上下2本で対をなす
2組のロ−ルブラシ10が上記被洗浄基板2の搬送方向
に沿って所定の間隔で、かつ上記搬送方向に対して交差
する方向、この実施例では直交して配設されている。各
組のロ−ルブラシ10の一方は、その軸方向一端側に連
結された駆動モ−タ15によって回転駆動され、他方の
ロ−ルブラシ10には歯車やプ−リ(図示せず)などに
よって回転が伝達されるようになっている。上記ロ−ラ
軸13aと上記ロ−ルブラシ10とは、それぞれ上記洗
浄槽14の両側壁に両端部が回転自在に支持されてい
る。
【0016】図1に実線の矢印で示すように各組の上下
一対のロ−ルブラシ10は逆方向に回転駆動されるとと
もに、一方の組と他方の組の隣り合うロ−ルブラシ10
の回転方向も逆方向となっている。この実施例では、被
洗浄基板2の搬送方向上流側に位置する第1組Xの一対
のロ−ルブラシ10は、上記被洗浄基板2の搬送方向と
逆方向に回転駆動されるようになっており、下流側に位
置する第2組Yの一対のロ−ルブラシ10は被洗浄基板
2の搬送方向と同方向に回転駆動されるようになってい
る。
【0017】なお、各組X、Yの一対のロ−ルブラシ1
0を回転駆動する駆動モ−タ15は図2に示す制御装置
16によって回転方向や回転速度を制御できるようにな
っている。
【0018】各組X、Yの上下一対のロ−ルブラシ10
は、図3に示す矢印方向に搬送されてくる被洗浄基板2
の上面と下面に対して接触するとともに、これらの間か
ら被洗浄基板2が搬出された状態において、それぞれの
ブラシ毛10aが接触する間隔で配設されている。ロ−
ルブラシ10のブラシ毛10aが互いに接触すること
で、これらブラシ毛10aに微粒子Pが付着しても、後
述するごとく払い落とされるようになっている。
【0019】各組X、Yのロ−ルブラシ10の上流側に
は、上記ロ−ルブラシ10および被洗浄基板2に向けて
洗浄液Lを噴出するノズル17が設けられている。各ノ
ズル17から洗浄液Lが噴出されることで、上記ロ−ル
ブラシ10によるかきとり作用と相俟って被洗浄基板2
から微粒子pが除去される。
【0020】上記ロ−ルブラシ10は、図4(a)、
(b)に示すようにステンレス製の中空軸21の外周面
に、上記ブラシ毛10aが設けられている。つまり、ブ
ラシ毛10aは、図5(a)、(b)に示すように所定
長さのナイロン繊維を2つに折り曲げ、その折り曲げ部
分を、ステンレス製の帯状板を断面コ字状に曲成したホ
ルダ22の内部に挿入し、芯線23によって押えたの
ち、上記ホルダ22をかしめることで一体化されてい
る。そして、ブラシ毛10aを保持した上記ホルダ22
を図4(a)に示すように上記中空軸21の外周面に螺
旋状に捲着することで、上記ロ−ルブラシ10が形成さ
れている。
【0021】このようにしてブラシ毛10aを設けるよ
うにしたロ−ルブラシ10によると、ブラシ毛10aの
植毛密度を高密度化することが可能となる。この実施例
では、直径が0.06〜0.1mm のブラシ毛10aを、1500本
/cm2 以上の密度で設けることが可能となった。
【0022】上記構成の洗浄装置11において、各組
X、Yのロ−ルブラシ10を所定方向に回転させ、ノズ
ル17から洗浄液Lを噴出させて被洗浄基板2を搬送ロ
−ラ13によって洗浄槽14内へ導入口14aから搬入
すると、その被洗浄基板2の上下面に各組のロ−ルブラ
シ10が順次接触し、その表面に付着した微粒子pがか
き取られ、洗浄液Lによって除去される。
【0023】第1組Xの一対のロ−ルブラシ1の回転方
向と、第2組Yの一対のロ−ルブラシ10の回転方向と
は逆方向に設定されている。そのため、上記被洗浄基板
2の表面(上面)に図6(a)に示すようにエッチング
加工などによって凹部2aが形成されていて、その凹部
2a内に付着した微粒子pが第1組Xのロ−ルブラシ1
0によってその回転方向一端側に押し寄せられて残留し
ても、回転方向が異なる第2組Yのロ−ルブラシ10に
よって上記凹部2aの一端側に押し付けられた微粒子p
はすくい上げるようにしてかき取られることになる。
【0024】つまり、被洗浄基板2の表面に、たとえば
回路用の凹部2aが形成されていても、微粒子pを上記
凹部2a内に残留させることなく除去することができ
る。下記表1は2組のロ−ルブラシX、Yを本件発明の
ように逆方向に回転させた場合と、従来のように同方向
に回転させた場合に、被洗浄基板2の凹部2aの図6
(b)に(ア)と(イ)で示す箇所に残留する微粒子p
を計数した実験結果を示す。
【0025】
【表1】
【0026】以上の結果より、2組のロ−ルブラシ10
を逆方向に回転させる、本件発明の方が同方向に回転さ
せる従来に比べて洗浄効果が向上することが分かる。被
洗浄基板2が各組の上下一対のロ−ルブラシ10間から
搬出されると、それら一対のロ−ルブラシ10は図3に
示すように互いのブラシ毛10aが接触する。それによ
って、上記被洗浄基板2から除去された微粒子pが上記
ロ−ルブラシ10のブラシ毛10aに付着していても、
互いのブラシ毛10aが接触することで、それらブラシ
毛10aから払い落とされて洗浄液Lとともに流出す
る。そのため、つぎの被洗浄基板2を洗浄するときに、
ブラシ毛10aから被洗浄基板2へ微粒子pが転移し、
洗浄効果が低下するということが防止される。
【0027】この発明の高密度ロ−ルブラシ10と、従
来のロ−ルブラシとにより、被洗浄基板2を洗浄し、そ
の洗浄効果を測定した実験結果を表2に示す。この発明
のロ−ルブラシ10は直径70mm、長さ400mm 、ブラシ毛
10aが直径0.07mmのナイロン繊維、同じく毛足の長さ
が16mm、毛束の幅(ホルダ22の幅)3mmで、そのホル
ダ22を中空軸21の外周面に隙間なく螺旋状に捲着し
たもので、それによってブラシ毛10aの植毛密度は15
00本/cm2 以上が達成された。
【0028】これに対して従来のロ−ルブラシは、直径
70mm、長さ400mm 、ブラシ毛10aが直径0.07mmのナイ
ロン繊維、同じく毛足の長さが16mm、毛束の径4.2mm 、
毛束のピッチ(P)9.1mm で、軸方向に12列、円周方
向に1/3・Pづつ、ずらして植毛した構成で、そのよ
うな構成によって植毛密度は300 本/cm2 程度となる。
【0029】各ブラシの回転数は300rpm、被洗浄基板2
の搬送速度は0.9 m/min 、被搬送基板2は大きさは30
0mm ×400mm 、厚さは1.1 mmで、図7に示すパタ−ン3
1が形成されており、微粒子pがなくなるよう、十分に
洗浄したのち、その面に、微粒子pとして1 μm、5 μ
m、10μmのSiC粒子を散布して汚染させたのち、被
洗浄基板2に対するブラシ毛の押付け量を0.5mm と2.0m
m で洗浄し、図7に示すそのパタ−ン31のL、S、
a、b、c、dの6カ所において残った微粒子pを金属
顕微鏡で計数した。その結果を下記表1に示す。
【0030】
【表2】
【0031】このように、押付け量が1.0mm と2.0mm の
いずれの場合にも、本件発明のロ−ルブラシ10を用い
た方が、従来のブラシに比べて高い洗浄効果が得られる
ことが確認された。つまり、ブラシ毛10aをホルダ2
2に保持して中空軸21の外周面に螺旋状に捲着するこ
とで、1500本/cm2 の植毛密度を達成できたのため、30
0 本/cm2 程度の植毛密度しか達成できない従来のロ−
ルブラシに比べて洗浄効果に大きな差が生じたものと考
察される。
【0032】また、従来のロ−ルブラシにおいては、ブ
ラシ毛の押付け量を大きくすることで、洗浄効果を向上
させることができるものの、押付け量を大きくしたので
は、接触圧力が増大し、被洗浄基板2に傷を付ける虞が
あるから、精密洗浄には適さない。
【0033】なお、この発明は上記実施例だけに限定さ
れず、その発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能
である。たとえば、上記一実施例では被洗浄基板の搬送
方向に2組のロ−ルブラシを配設したが、3組以上のロ
−ルブラシを配置するようにしてもよく、その点はなん
ら限定されるものでない。
【0034】また各組のロ−ルブラシ10の回転方向
は、図1に破線の矢印で示すように、上下一対のロ−ル
ブラシ10を同方向に回転させ、隣り合う各組のロ−ル
ブラシ10を逆方向に回転させてもよく、要は隣り合う
ロ−ルブラシ10の回転方向が逆方向であればよい。
【0035】
【発明の効果】以上述べたように請求項1に記載された
発明によれば、被洗浄基板を挟んで対向する一対のロ−
ルブラシ間から被洗浄基板が搬出されたときに、上記一
対のロ−ルブラシのブラシ毛が接触するよう、上記一対
のロ−ルブラシの配置間隔を設定した。
【0036】そのため、洗浄作用にともないブラシ毛に
微粒子が付着しても、被洗浄基板が一対のロ−ルブラシ
間から搬出されたときに、ブラシ毛が互いに接触し、こ
れらブラシ毛に付着した微粒子が払い除かれるから、つ
ぎの洗浄のときにブラシ毛から被洗浄基板へ微粒子が転
移するということが防止される。
【0037】請求項2に記載された発明によれば、被洗
浄基板を複数対のロ−ルブラシで洗浄する場合に、隣り
合う各対のロ−ルブラシを異なる方向に回転駆動するよ
うにした。
【0038】そのため、最初の一対のロ−ルブラシで被
洗浄基板に付着した微粒子がその回転方向に沿う、たと
えばエッチングパタ−ンなどの凹部の一方向に押付けら
れると、つぎの一対のロ−ルブラシの回転方向が異なる
ことで、一方向に押付けられた微粒子がすくい取られる
ため、洗浄効果を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例の全体構成を示す縦断面
図。
【図2】同じく横断面図。
【図3】同じくロ−ルブラシ間から被洗浄基板が搬出さ
れたときの一対のロ−ルブラシのブラシ毛が接触してい
る状態の側面図。
【図4】(a)は同じくロ−ルブラシの一部分の拡大正
面図、(b)は同じく側面図。
【図5】同じく(a)はブラシ毛を保持したホルダの正
面図、(b)は同じく側面図。
【図6】(a)、(b)は被洗浄基板の上面に凹部が形
成されている場合の2組のロ−ルブラシにより微粒子が
除去される状態を順次示す説明図。
【図7】同じく被搬洗浄基板に形成されたパタ−ンの一
部を示す平面図。
【図8】従来の洗浄方式によって被洗浄基板の上面に形
成された凹部に微粒子が残留する状態の説明図。
【符号の説明】
2…被洗浄基板、10…ロ−ルブラシ、10a…ブラシ
毛、13…搬送ロ−ラ、14…洗浄槽、15…駆動モ−
タ、16…制御装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒川 禎明 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株 式会社芝浦製作所大船工場内 (72)発明者 佐藤 均 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株 式会社芝浦製作所大船工場内 (72)発明者 土井 敏 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地1 株 式会社芝浦製作所大船工場内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定方向に搬送される被洗浄基板の表裏
    両面をロ−ルブラシで洗浄する洗浄装置において、上記
    ロ−ルブラシは、上記被洗浄基板の搬送方向に対して交
    差する方向に対向して配設され、かつ対向する一対のロ
    −ルブラシは、これらの間から上記被洗浄基板が搬出さ
    れたときに、互いのブラシ毛が接触する間隔で配置され
    ていることを特徴とする洗浄装置。
  2. 【請求項2】 所定方向に搬送される被洗浄基板の表裏
    両面をロ−ルブラシで洗浄する洗浄装置において、上記
    ロ−ルブラシは、被洗浄基板の搬送方向に対して交差す
    る方向に上下2つで対をなすよう対向し、かつ上記被洗
    浄基板の搬送方向に沿って所定の間隔で複数対配設さ
    れ、隣り合う各対のロ−ルブラシは異なる方向に回転駆
    動されることを特徴とする洗浄装置。
  3. 【請求項3】 上記ロ−ルブラシのブラシ毛は、直径が
    0.06〜0.1mm のナイロン繊維が、1500本/cm2 以上の植
    毛密度で設けられていることを特徴とする請求項1また
    は請求項2記載の洗浄装置。
JP5143410A 1993-06-15 1993-06-15 洗浄装置 Pending JPH076987A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5143410A JPH076987A (ja) 1993-06-15 1993-06-15 洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5143410A JPH076987A (ja) 1993-06-15 1993-06-15 洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH076987A true JPH076987A (ja) 1995-01-10

Family

ID=15338129

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5143410A Pending JPH076987A (ja) 1993-06-15 1993-06-15 洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH076987A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006263622A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Jcm:Kk シート状物の洗浄装置
KR100720437B1 (ko) * 2000-12-27 2007-05-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 세정 장치
KR100871135B1 (ko) * 2007-03-13 2008-12-03 주식회사 에스에프에이 기판 세정장치
KR100879015B1 (ko) * 2007-03-13 2009-01-15 주식회사 에스에프에이 기판 세정장치
JP2016064357A (ja) * 2014-09-25 2016-04-28 芝浦メカトロニクス株式会社 基板洗浄装置および基板洗浄方法
TWI554461B (zh) * 2012-02-20 2016-10-21 日本電氣硝子股份有限公司 玻璃板搬運裝置及其搬運方法
JP2017113663A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 日本電気硝子株式会社 洗浄装置
WO2019003899A1 (ja) * 2017-06-26 2019-01-03 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルムの製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100720437B1 (ko) * 2000-12-27 2007-05-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 세정 장치
JP2006263622A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Jcm:Kk シート状物の洗浄装置
JP4522897B2 (ja) * 2005-03-24 2010-08-11 株式会社ジェイシーエム シート状物の洗浄装置
KR100871135B1 (ko) * 2007-03-13 2008-12-03 주식회사 에스에프에이 기판 세정장치
KR100879015B1 (ko) * 2007-03-13 2009-01-15 주식회사 에스에프에이 기판 세정장치
TWI554461B (zh) * 2012-02-20 2016-10-21 日本電氣硝子股份有限公司 玻璃板搬運裝置及其搬運方法
JP2016064357A (ja) * 2014-09-25 2016-04-28 芝浦メカトロニクス株式会社 基板洗浄装置および基板洗浄方法
JP2017113663A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 日本電気硝子株式会社 洗浄装置
WO2019003899A1 (ja) * 2017-06-26 2019-01-03 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルムの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3970471A (en) Methods and apparatus for treating wafer-like articles
TWI327897B (ja)
JPH08181093A (ja) ウェーハの洗浄及び洗浄乾燥装置
JPH076987A (ja) 洗浄装置
KR100841501B1 (ko) 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
TWI473667B (zh) 清潔方法及裝置
JP4172567B2 (ja) 基板洗浄具及び基板洗浄装置
KR100985122B1 (ko) 금속 테이프의 표면 연마를 위한 시스템 및 방법
JP2002096038A (ja) 基板の処理装置
JP2010115587A (ja) 洗浄ブラシ及び洗浄装置
JP2003145060A (ja) 洗浄用ブラシ、洗浄装置
JP2002239485A (ja) 基板の洗浄装置及び洗浄方法
CN217315018U (zh) 一种玻璃基板清洗设备
JP2003124285A (ja) ウエット処理装置及び搬送方法
JP4287551B2 (ja) ブラシ洗浄装置
JPH11179299A (ja) 洗浄装置
JP3493676B2 (ja) 半導体基板の洗浄方法および洗浄装置
JP3194221B2 (ja) 小物洗浄装置
CN207914285U (zh) 玻璃清洗设备
JPH11216430A (ja) 洗浄装置
JP3529032B2 (ja) 半導体ウェーハのエッチング方法
JPH10337543A (ja) 洗浄処理装置
JP3551301B2 (ja) ウェーハ面取り面のエッチング装置
JP2006080187A (ja) ロールブラシ、基板洗浄装置
JPH08267024A (ja) スクラブ洗浄装置