JP6116948B2 - 基板処理装置及びその洗浄方法 - Google Patents
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Description
すなわち、従来の装置は、フォトレジスト被膜の破片の一部がオーバフロー槽へ排出されず、処理槽内に滞留することがある。このような状態では、処理槽の剥離液を廃棄するために排出しても、処理槽内にフォトレジスト被膜の破片が付着して残ることがある。そのため、新たな剥離液が処理槽に供給された際に、処理槽に付着していたフォトレジスト被膜の破片が剥離液中に浮遊するので、新たな剥離液で処理される基板にその破片が付着して基板の汚染が生じることがあるという問題がある。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に被着された被膜を剥離液により剥離処理する基板処理装置において、剥離液を貯留し、基板を浸漬して処理するための処理槽と、前記処理槽に貯留する剥離液を排出するための排出管と、前記処理槽から溢れた剥離液を回収するオーバフロー槽と、前記オーバフロー槽の剥離液を前記処理槽に循環させる循環配管と、複数枚の基板を保持し、前記処理槽内の処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降自在のリフタと、前記処理槽内に存在する被膜の破片を細かく破砕する破砕手段と、複数枚の基板を保持した前記リフタを処理位置に位置させ、前記循環配管により剥離液を循環させて剥離処理を行わせた後、前記リフタを待機位置に上昇させて前記基板を処理槽外に搬出し、前記破砕手段を作動させて前記処理槽内に存在する被膜の破片を細かくさせる破砕処理を行った後に、前記排出管を介して前記処理槽内の剥離液を排出させる制御手段と、を備えていることを特徴とするものである。
図1は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
1 … 処理部
3 … 処理槽
5 … オーバフロー槽
7 … 伝播槽
9 … リフタ
19 … 気泡供給管
21 … 超音波振動付与部
22 … 循環配管
25 … 循環ポンプ
31 … 循環フィルタ
33,37 … 排出管
41 … 回収槽
43 … 網状部材
Claims (17)
- 基板に被着された被膜を剥離液により剥離処理する基板処理装置において、
剥離液を貯留し、基板を浸漬して処理するための処理槽と、
前記処理槽に貯留する剥離液を排出するための排出管と、
前記処理槽から溢れた剥離液を回収するオーバフロー槽と、
前記オーバフロー槽の剥離液を前記処理槽に循環させる循環配管と、
複数枚の基板を保持し、前記処理槽内の処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降自在のリフタと、
前記処理槽内に存在する被膜の破片を細かく破砕する破砕手段と、
複数枚の基板を保持した前記リフタを処理位置に位置させ、前記循環配管により剥離液を循環させて剥離処理を行わせた後、前記リフタを待機位置に上昇させて前記基板を処理槽外に搬出し、前記破砕手段を作動させて前記処理槽内に存在する被膜の破片を細かくさせる破砕処理を行った後に、前記排出管を介して前記処理槽内の剥離液を排出させる制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記制御手段は、前記破砕処理に続いて、前記リフタを処理位置に位置させて前記破砕処理を行わせることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置において、
前記破砕手段は、前記処理槽内の剥離液に対して超音波振動を付与する超音波振動付与手段であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置において、
前記破砕手段は、前記処理槽の底部に設けられ、前記処理槽内の剥離液に気泡を供給する気泡供給手段であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記排出管の排出先に回収槽と、前記回収槽に備えられ、前記排出管の開口面積よりも大面積の網状部材をさらに備え、
前記排出管は、前記回収槽側に位置する側が複数本に分岐され、それぞれが離間して前記網状部材に臨むように配置されていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記排出管の排出先に回収槽と、前記回収槽に備えられ、前記排出管の開口面積よりも大面積の網状部材と、前記網状部材を面方向に移動させる面方向駆動手段とを、さらに備え、
前記制御手段は、前記網状部材に被膜の破片が分散するように前記面方向駆動手段を操作することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記排出管の排出先に回収槽と、前記回収槽に備えられ、前記排出管の開口面積よりも大面積であって、無端状に形成された網状部材と、前記網状部材の内周面側に当接して配置され、前記網状部材を駆動する駆動手段と、前記網状部材に当接して、前記網状部材の移動を案内する案内部材と、をさらに備え、
前記制御手段は、前記網状部材に被膜の破片が分散するように前記駆動手段を操作することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7に記載の基板処理装置において、
前記網状部材は、その端部が前記回収槽から外れた位置に延出されており、
前記網状部材の延出された部分において、その内周側に配置され、前記網状部材の内面から外面に向かって洗浄液を噴射する洗浄手段をさらに備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 基板に被着された被膜を剥離液により剥離処理する基板処理装置の洗浄方法において、
剥離液を貯留し、基板を収容可能な処理槽と、前記処理槽から溢れた剥離液を回収するオーバフロー槽とにわたって循環配管で剥離液を循環させつつ、基板を保持するリフタを前記処理槽内の処理位置に位置させて、基板に対して剥離液による剥離処理を行わせる過程と、
前記剥離処理が完了した後、前記リフタを前記処理槽の上方にあたる待機位置に上昇させて前記基板を前記処理槽外に搬出する過程と、
前記基板を前記処理槽外に搬出する過程の後、前記処理槽内に存在する被膜の破片を細かくさせる破砕処理を行わせる過程と、
前記処理槽内の剥離液を排出管から排出させる過程と、
を実施することを特徴とする基板処理装置の洗浄方法。 - 請求項9に記載の基板処理装置の洗浄方法において、
前記破砕処理を行わせる過程は、前記破砕処理に続いて、前記リフタだけを処理位置に位置させて再び破砕処理を行わせることを特徴とする基板処理装置の洗浄方法。 - 請求項9または10に記載の基板処理装置の洗浄方法において、
前記破砕処理を行わせる過程は、前記処理槽内の剥離液に対して超音波振動を付与することによって行われることを特徴とする基板処理装置の洗浄方法。 - 請求項9または10に記載の基板処理装置の洗浄方法において、
前記破砕処理を行わせる過程は、前記処理槽内の底部から剥離液に気泡を供給することによって行われることを特徴とする基板処理装置の洗浄方法。 - 請求項9から12のいずれかに記載の基板処理装置の洗浄方法において、
前記排出させる過程は、前記排出管の排出先に設けられ、前記排出管の開口面積よりも大面積の網状部材を備えた回収槽に対して行われることを特徴とする基板処理装置の洗浄方法。 - 請求項9から12のいずれかに記載の基板処理装置の洗浄方法において、
前記排出させる過程は、前記排出管の排出先に設けられ、前記排出管の開口面積よりも大面積の網状部材を備えた回収槽に対して行われ、前記網状部材を面方向に移動させつつ行われることを特徴とする基板処理装置の洗浄方法。 - 基板に被着された被膜を剥離液により剥離処理する基板処理装置の洗浄方法において、
剥離液を貯留し、基板を収容可能な処理槽と、前記処理槽から溢れた剥離液を回収するオーバフロー槽とにわたって循環配管で剥離液を循環させつつ、基板を保持するリフタを前記処理槽内の処理位置に位置させて、基板に対して剥離液による剥離処理を行わせる過程と、
前記剥離処理が完了した後、前記リフタを前記処理槽の上方にあたる待機位置に上昇させる過程と、
前記処理槽内に存在する被膜の破片を細かくさせる破砕処理を行わせる過程と、
前記処理槽内の剥離液を排出管から排出させる過程と、
を実施し、
前記破砕処理を行わせる過程は、前記破砕処理に続いて、前記リフタだけを処理位置に位置させて再び破砕処理を行わせることを特徴とする基板処理装置の洗浄方法。 - 基板に被着された被膜を剥離液により剥離処理する基板処理装置の洗浄方法において、
剥離液を貯留し、基板を収容可能な処理槽と、前記処理槽から溢れた剥離液を回収するオーバフロー槽とにわたって循環配管で剥離液を循環させつつ、基板を保持するリフタを前記処理槽内の処理位置に位置させて、基板に対して剥離液による剥離処理を行わせる過程と、
前記剥離処理が完了した後、前記リフタを前記処理槽の上方にあたる待機位置に上昇させる過程と、
前記処理槽内に存在する被膜の破片を細かくさせる破砕処理を行わせる過程と、
前記処理槽内の剥離液を排出管から排出させる過程と、
を実施し、
前記破砕処理を行わせる過程は、前記処理槽内の底部から剥離液に気泡を供給することを特徴とする基板処理装置の洗浄方法。 - 基板に被着された被膜を剥離液により剥離処理する基板処理装置の洗浄方法において、
剥離液を貯留し、基板を収容可能な処理槽と、前記処理槽から溢れた剥離液を回収するオーバフロー槽とにわたって循環配管で剥離液を循環させつつ、基板を保持するリフタを前記処理槽内の処理位置に位置させて、基板に対して剥離液による剥離処理を行わせる過程と、
前記剥離処理が完了した後、前記リフタを前記処理槽の上方にあたる待機位置に上昇させる過程と、
前記処理槽内に存在する被膜の破片を細かくさせる破砕処理を行わせる過程と、
前記処理槽内の剥離液を排出管から排出させる過程と、
を実施し、
前記排出させる過程は、前記排出管の排出先に設けられ、前記排出管の開口面積よりも大面積の網状部材を備えた回収槽に対して行われ、前記網状部材を面方向に移動させつつ行われることを特徴とする基板処理装置の洗浄方法。
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