JP4936793B2 - 洗浄装置および洗浄方法、ならびにコンピュータ読取可能な記憶媒体 - Google Patents
洗浄装置および洗浄方法、ならびにコンピュータ読取可能な記憶媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4936793B2 JP4936793B2 JP2006146802A JP2006146802A JP4936793B2 JP 4936793 B2 JP4936793 B2 JP 4936793B2 JP 2006146802 A JP2006146802 A JP 2006146802A JP 2006146802 A JP2006146802 A JP 2006146802A JP 4936793 B2 JP4936793 B2 JP 4936793B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- tank
- liquid
- removal
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
ここでは、基板としてのウエハにレジスト膜等を剥離する処理を施す洗浄装置を備えた洗浄システムについて説明する。図1は本実施形態に係る洗浄装置を備えた洗浄システムを示す斜視図であり、図2はその内部を示す平面図である。
まず、未処理のウエハWを例えば25枚収納したキャリアCを搬入出部31のキャリア搬入出部34に載置する。この状態でシャッター44を開き、キャリア搬入出部34に載置されたキャリアCをキャリア搬送装置42によってキャリアストック部35へ搬入する。キャリアストック部35では、窓部46に対面するようにキャリアCを検査/搬入出ステージ45に載置する。そして、蓋体開閉機構47によって窓部46を開き、ウエハ検査装置48によってキャリアC内のウエハWの枚数を計測するとともに,所定のピッチで平行に1枚ずつ配置されているかを適宜検出する。その後、ウエハ搬入出装置49によって窓部46を通して1個のキャリアC内に収納された25枚のウエハWを搬出し、姿勢変換機構51aにおいて25枚のウエハWを水平状態から垂直状態へと姿勢変換する。そしてウエハ垂直保持機構51bへ受け渡す。続いて、2個目のキャリアCから25枚のウエハWをウエハ搬入出装置49により姿勢変換機構51aへ移し替え、ウエハ垂直保持機構51bへ受け渡す。そして、ウエハ垂直保持機構51bでウエハWの配列ピッチを半分にし、2個のキャリアC内に収納された合計50枚のウエハWが収納される。この状態でウエハ搬送装置52がウエハ垂直保持機構51bからウエハWを受け取り、適宜パーキングエリア40a,40bに待機させた後、処理部32内の洗浄装置80でウエハWのレジスト膜やエッチングデポ等の除去処理を行う。
まず、ウエハ搬送装置52から搬送装置67のウエハ保持部材141へ複数枚、例えば50枚のウエハWを受け渡す(ステップ1)。引き続き搬送装置67の保持部材141を第1の洗浄部61の直上に移動させ、さらに下降させることにより、ウエハWを第1の洗浄部61の内槽101a内に貯留されている洗浄液、例えば有機剥離液に浸漬させ、洗浄液を循環させつつウエハWに形成されたレジスト膜やエッチングデポの剥離処理を行う(ステップ2、図6(a))。
62;第1のリンス部
67;搬送装置
70;集中制御部
71;プロセスコントローラ
72;ユーザーインターフェイス
73;記憶部
100;コントローラ
101;洗浄槽
101a;内槽
101b;外槽
103;ノズル
104;循環ライン
111;パーティクルセンサ
114,115;フィルタ
121;リンス槽(除去処理槽)
123;ノズル
124,132;リンス液供給配管
131;シャワーヘッド
135;超音波振動子
141;ウエハ保持部材
142;駆動機構
W;半導体ウエハ
Claims (22)
- 被処理体に形成された物質を除去する洗浄装置であって、
前記物質の剥離処理を行うための洗浄液を貯留し、その中に被処理体を浸漬させて、被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態となるまで洗浄処理を行う洗浄槽と、
フィルタが介在され前記洗浄槽内の洗浄液を循環させる循環ラインと、
前記洗浄槽で洗浄処理を行った被処理体に残存している物質を除去液により除去する除去処理を行う除去処理槽と、
前記除去処理槽に前記除去液を供給する除去液供給機構と、
前記除去処理槽内の前記除去液を循環せずに排出する除去液排出配管と、
前記洗浄槽と前記除去処理槽との間で被処理体を搬送する搬送装置と、
前記洗浄槽での処理により前記被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態となった際に、前記搬送装置に対し被処理体を前記洗浄槽から前記除去処理槽へ搬送する指令を発する制御部と
を具備することを特徴とする洗浄装置。 - 前記制御部は、予め把握した、前記被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態となるまでの時間を記憶しておき、その時間が経過した時点で前記搬送装置に対して前記指令を発することを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記洗浄液中のパーティクルを検出するパーティクルセンサをさらに有し、前記制御部は、前記パーティクルセンサの検出値が入力され、その検出値が前記被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態に対応する値となった時点で前記搬送装置に対して前記指令を発することを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記除去処理槽は、洗浄後のリンス処理を行う機能を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 前記除去処理槽は、被処理体に形成された物質を物理的に除去する手段を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 前記物理的に除去する手段は、前記除去処理槽内の被処理体に対し除去液のシャワーを供給するシャワーヘッドを有することを特徴とする請求項5に記載の洗浄装置。
- 前記物理的に除去する手段は、前記除去処理槽内に除去液を貯留した状態で除去液に超音波を作用させる超音波振動子を有することを特徴とする請求項5に記載の洗浄装置。
- 前記物理的に除去する手段は、前記除去処理槽内に除去液を貯留した状態で前記除去液を攪拌する攪拌手段を有することを特徴とする請求項5に記載の洗浄装置。
- 前記洗浄槽は、洗浄液が貯留される内槽と、内槽からオーバーフローした洗浄液を受ける外槽とを有し、前記循環ラインは前記外槽から排出された洗浄液を前記内槽へ供給することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 前記除去液が純水であることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 前記被処理体に形成されている前記物質がレジスト膜またはエッチング工程で発生するデポ物であることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の洗浄装置。
- 被処理体に形成された物質を除去する洗浄方法であって、
前記物質の剥離処理を行うための洗浄液を洗浄槽に貯留し、フィルタが介在された循環ラインにより洗浄液を循環させながら前記洗浄槽の洗浄液中に被処理体を浸漬させて洗浄処理を行う工程と、
前記洗浄槽での処理により被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態となったことを把握する工程と、
前記被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態となったことが把握された時点で、被処理体を除去処理槽に搬送する工程と、
前記除去処理槽に、被処理体に残存している物質を除去する除去液を循環させることなく供給して前記除去液により被処理体に残存している物質を除去する工程と
を有することを特徴とする洗浄方法。 - 前記被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態となったことを把握する工程は、前記被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態となるまでの時間を予め把握しておき、その時間が経過した時点で前記被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態になったとすることを特徴とする請求項12に記載の洗浄方法。
- 前記被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態となったことを把握する工程は、前記洗浄液のパーティクルを検出し、その検出値が所定の値になった際に前記被処理体に形成された物質の剥離が進行しているがその物質の大部分が被処理体に残存している状態になったとすることを特徴とする請求項12に記載の洗浄方法。
- 前記除去処理槽は被処理体に残存している物質を除去するとともに、リンス処理を行うことを特徴とする請求項12から請求項14のいずれか1項に記載の洗浄方法。
- 被処理体に残存している物質を除去液により除去する工程は、被処理体に形成された物質を物理的に除去する手段を用いて除去することを特徴とする請求項12から請求項15のいずれか1項に記載の洗浄方法。
- 前記物理的に除去する手段は、前記除去処理槽内の被処理体に対し除去液のシャワーを供給することを特徴とする請求項16に記載の洗浄方法。
- 前記物理的に除去する手段は、前記除去処理槽内に除去液を貯留した状態で除去液に超音波を作用させることを特徴とする請求項16に記載の洗浄方法。
- 前記物理的に除去する手段は、前記除去処理槽内に除去液を貯留した状態で前記除去液を攪拌することを特徴とする請求項16に記載の洗浄方法。
- 前記除去液が純水であることを特徴とする請求項12から請求項19のいずれか1項に記載の洗浄方法。
- 被処理体に形成されている物質がレジスト膜またはエッチング工程で発生するデポ物であることを特徴とする請求項12から請求項20のいずれか1項に記載の洗浄方法。
- コンピュータ上で動作し、洗浄装置を制御するためのプログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記プログラムは、実行時に、請求項12から請求項21のいずれかの洗浄方法が実施されるようにコンピュータに前記洗浄装置を制御させることを特徴とするコンピュータ読取可能な記憶媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006146802A JP4936793B2 (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | 洗浄装置および洗浄方法、ならびにコンピュータ読取可能な記憶媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006146802A JP4936793B2 (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | 洗浄装置および洗浄方法、ならびにコンピュータ読取可能な記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007317936A JP2007317936A (ja) | 2007-12-06 |
JP4936793B2 true JP4936793B2 (ja) | 2012-05-23 |
Family
ID=38851525
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006146802A Active JP4936793B2 (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | 洗浄装置および洗浄方法、ならびにコンピュータ読取可能な記憶媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4936793B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20140196744A1 (en) * | 2013-01-11 | 2014-07-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and device for cleaning a brush surface having a contamination |
JP6535493B2 (ja) * | 2015-03-27 | 2019-06-26 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP2021509596A (ja) * | 2017-12-28 | 2021-04-01 | エシコン エルエルシーEthicon LLC | 二重直列大液滴及び小液滴フィルタ |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000058411A (ja) * | 1998-08-04 | 2000-02-25 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体製造装置 |
JP3671115B2 (ja) * | 1998-09-11 | 2005-07-13 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 |
JP4005326B2 (ja) * | 2000-09-22 | 2007-11-07 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2004327962A (ja) * | 2003-04-07 | 2004-11-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レジストの剥離装置及び剥離方法 |
-
2006
- 2006-05-26 JP JP2006146802A patent/JP4936793B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007317936A (ja) | 2007-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4828503B2 (ja) | 基板処理装置、基板搬送方法、コンピュータプログラムおよび記憶媒体 | |
JP6331961B2 (ja) | 基板液処理装置 | |
KR100673817B1 (ko) | 기판처리장치 및 기판처리장치에 있어서의 기판반송장치 | |
JP2003203833A (ja) | 処理システム及び処理方法 | |
KR102376870B1 (ko) | 기판 액처리 장치, 기판 액처리 방법 및 기억 매체 | |
JP2006179757A (ja) | 基板処理装置 | |
KR102530228B1 (ko) | 기판 액처리 장치 및 기판 액처리 방법, 및 기판 액처리 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 | |
JP4936793B2 (ja) | 洗浄装置および洗浄方法、ならびにコンピュータ読取可能な記憶媒体 | |
JP2002050600A (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
JP3697063B2 (ja) | 洗浄システム | |
JP3254518B2 (ja) | 洗浄処理方法及び洗浄処理システム | |
JP2003045843A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JPH09162156A (ja) | 処理方法及び処理装置 | |
JP5425719B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法、およびこの基板処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体 | |
JP2007042691A (ja) | 基板処理法及び基板処理装置 | |
KR101052821B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 그 방법 | |
JP3682168B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2018148245A (ja) | リン酸水溶液を用いたエッチング処理制御装置及びリン酸水溶液を用いたエッチング処理制御方法並びに基板をリン酸水溶液でエッチング処理させるプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | |
WO2007077992A1 (ja) | 被処理体搬送器の洗浄・乾燥処理方法、及び洗浄・乾燥処理装置、並びに記憶媒体 | |
KR102599614B1 (ko) | 기판 이송 장치 | |
WO2023282064A1 (ja) | 基板処理システム、及び基板処理方法 | |
JPH11283947A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JPH10163158A (ja) | 板状体洗浄装置 | |
JP2000218243A (ja) | 基板処理装置 | |
JP3177706B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090515 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110421 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110920 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120221 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120221 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150302 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4936793 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |