JP3254518B2 - 洗浄処理方法及び洗浄処理システム - Google Patents

洗浄処理方法及び洗浄処理システム

Info

Publication number
JP3254518B2
JP3254518B2 JP33501297A JP33501297A JP3254518B2 JP 3254518 B2 JP3254518 B2 JP 3254518B2 JP 33501297 A JP33501297 A JP 33501297A JP 33501297 A JP33501297 A JP 33501297A JP 3254518 B2 JP3254518 B2 JP 3254518B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
time
cleaning
exchange
replacement
container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP33501297A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH11150094A (ja
Inventor
健二 浦田
光 久保田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP33501297A priority Critical patent/JP3254518B2/ja
Publication of JPH11150094A publication Critical patent/JPH11150094A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3254518B2 publication Critical patent/JP3254518B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウ
エハやLCD用ガラス基板等の被処理体を、洗浄処理液
に浸漬して、上記被処理体を洗浄する洗浄処理方法及び
洗浄処理システムに関するもので、詳しくは処理容器内
に貯留された洗浄処理液の交換時期をずらして洗浄処理
を能率的に行うようにした洗浄処理方法及び洗浄処理シ
ステムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体製造装置の洗浄工程にお
いては、半導体ウエハやLCD用ガラス基板等(以下に
ウエハ等という)の被処理体を、洗浄処理装置内に設け
られた処理容器まで搬送し、容器内に貯留された薬液や
リンス液(洗浄液)等に浸して洗浄処理又はリンス処理
した後、取出された処理済みのウエハ等を搬出部まで搬
送し、搬出する方法が知られている。
【0003】この場合、洗浄処理の品質を維持するため
に、一定の洗浄時間、洗浄回数等に応じて予め設定され
た時間を経過する毎に、一定の所要時間をもって処理容
器内に貯留された洗浄処理液を交換し、劣化した洗浄処
理液を使用しないようにするのが一般的である。
【0004】また、従来のこの種の洗浄処理方法におい
ては、一定の洗浄時間、洗浄回数に達して洗浄処理液の
交換時期と判断された場合には、ウエハ等の洗浄処理工
程と重なる場合であっても、予め設定されたプログラム
通りに洗浄処理液を交換し、その後に、ウエハ等を遅ら
せて投入していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、洗浄処
理装置を長時間運転するときは、予め設定された洗浄処
理液の交換時期が、被処理体の洗浄処理工程と重なる回
数も多くなるので、その都度、洗浄容器への被処理体の
投入時期を遅らせなければならず、したがって、ロスタ
イムが増大し、洗浄処理に要する時間が長くなると共
に、スループットが低下するという問題があった。
【0006】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、予め設定された洗浄処理液の交換時期と、被処理体
の洗浄処理時期とが重なる状態を回避して洗浄処理のス
ループットの向上を図れるようにした洗浄処理方法及び
洗浄処理システムを提供することを目的とするものであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の洗浄処理方法は、被処理体を、洗浄
処理液を貯留した洗浄容器まで搬送する工程と、上記被
処理体を上記洗浄容器内に投入し、洗浄処理する工程
と、処理済みの上記被処理体を、上記洗浄容器から取出
し、搬送する工程と、を有する洗浄処理方法において、
処理時間、処理回数等に応じて、予め設定された所定
時間経過、又は処理回数経過毎に、一定の所用時間をも
って上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換する工程を有
し、かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時点から上記
洗浄容器内に投入されるまでの投入予定時間と、洗浄処
理液の交換を開始するまでの交換開始時間及び交換に要
する交換所要時間とを比較して、 上記投入予定時間が
上記交換開始時間と上記交換所要時間との和より短い場
合において、 上記交換開始時間が上記交換所要時間よ
り長く、かつ、上記投入予定時間より短い場合は、洗浄
処理液の交換開始時期を早めるようにした、ことを特徴
とする。
【0008】請求項2記載の洗浄処理方法は、被処理体
を、洗浄処理液を貯留した洗浄容器まで搬送する工程
と、 上記被処理体を上記洗浄容器内に投入し、洗浄処
理する工程と、 処理済みの上記被処理体を、上記洗浄
容器から取出し、搬送する工程と、を有する洗浄処理方
法において、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設
定された所定時間経過、又は処理回数経過毎に、一定の
所用時間をもって上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換す
る工程を有し、かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時
点から上記洗浄容器内に投入されるまでの投入予定時間
及び洗浄処理に要する洗浄処理時間と、洗浄処理液の交
換を開始するまでの交換開始時間及び交換に要する交換
所要時間とを比較して、 上記投入予定時間が上記交換
開始時間と上記交換所要時間との和より短い場合におい
て、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、
かつ、上記投入予定時間より長い場合で、投入予定時間
が交換所要時間より長い場合は、交換開始時間と、投入
予定時間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判
断し、交換開始時間が短い場合は、洗浄処理液の交換開
始時期を早めるようにした、ことを特徴とする
【0009】請求項3記載の洗浄処理方法は、被処理体
を、洗浄処理液を貯留した洗浄容器まで搬送する工程
と、 上記被処理体を上記洗浄容器内に投入し、洗浄処
理する工程と、 処理済みの上記被処理体を、上記洗浄
容器から取出し、搬送する工程と、を有する洗浄処理方
法において、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設
定された所定時間経過、又は処理回数経過毎に、一定の
所用時間をもって上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換す
る工程を有し、かつ、洗浄処理前の上記被処理体 の現時
点から上記洗浄容器内に投入されるまでの投入予定時間
及び洗浄処理に要する洗浄処理時間と、洗浄処理液の交
換を開始するまでの交換開始時間及び交換に要する交換
所要時間とを比較して、 上記投入予定時間が上記交換
開始時間と上記交換所要時間との和より短い場合におい
て、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、
かつ、上記投入予定時間より長い場合で、投入予定時間
が交換所要時間より短い場合は、交換開始時間と、投入
予定時間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判
断し、交換開始時間が短い場合は、上記被処理体の洗浄
処理終了後に洗浄処理液の交換を開始するようにした、
ことを特徴とする
【0010】請求項4記載の洗浄処理方法は、被処理体
を、洗浄処理液を貯留した洗浄容器まで搬送する工程
と、 上記被処理体を上記洗浄容器内に投入し、洗浄処
理する工程と、 処理済みの上記被処理体を、上記洗浄
容器から取出し、搬送する工程と、を有する洗浄処理方
法において、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設
定された所定時間経過、又は処理回数経過毎に、一定の
所用時間をもって上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換す
る工程を有し、かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時
点から上記洗浄容器内に投入されるまでの投入予定時間
及び洗浄処理に要する洗浄処理時間と、洗浄処理液の交
換を開始するまでの交換開始時間及び交換に要する交換
所要時間とを比較して、 上記投入予定時間が上記交換
開始時間と上記交換所要時間との和より短い場合におい
て、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、
かつ、上記投入予定時間より短い場合は、洗浄処理液の
交換開始時期を早め、 また、上記交換開始時間が上記
交換所要時間より長く、かつ、上記投入予定時間より長
い場合で、投入予定時間が交換所要時間より長い場合
は、交換開始時間と、投入予定時間と上記洗浄処理時間
との和とが長いか否かを判断し、交換開始時間が短い場
合は、洗浄処理液の交換開始時期を早め、 更に、上記
交換開始時間が上記交換所要時間より長く、かつ、上記
投入予定時間より長い場合で、投入予定時間が交換所要
時間より短い場合は、交換開始時間と、投入予定時間と
上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判断し、交換
開始時間が短い場合は、上記被処理体の洗浄処理終了後
に洗浄処理液の交換を開始するようにした、ことを特徴
とする
【0011】請求項記載の洗浄処理方法は、請求項1
ないし4のいずれかに記載の洗浄処理方法において、
上記洗浄処理液の交換中に、上記被処理体が上記洗浄容
器内に投入される状態にない場合、上記被処理体の洗
浄処理中に、上記洗浄処理液が交換される状態にない場
合は、予め設定された所定時間経過毎に洗浄処理液の交
換を開始するようにした、ことを特徴とする。
【0012】また、請求項記載の洗浄処理システム
は、請求項1記載の洗浄処理方法を具現化するもので、
被処理体を、洗浄処理液を貯留した洗浄容器まで搬送
し、上記洗浄容器内に投入して洗浄処理し、処理済みの
上記被処理体を、上記洗浄容器から取出し、搬送する洗
浄処理システムにおいて、 処理時間、処理回数等に応
じて、予め設定された所定時間経過、又は処理回数経過
毎に、一定の所用時間をもって上記洗浄容器内の洗浄処
理液を交換する手段を有し、かつ、洗浄処理前の上記被
処理体の現時点から上記洗浄容器内に投入されるまでの
投入予定時間と、洗浄処理液の交換を開始するまでの
換開始時間及び交換に要する交換所要時間とを比較し
て、上記洗浄処理液の交換中に、上記被処理体が上記洗
浄容器内に投入される状態、あるいは、上記被処理体の
洗浄処理中に、上記洗浄処理液が交換される状態を回避
すべく洗浄処理液の交換開始時期をずらす手段を具備
し、 上記洗浄処理液の交換開始時期をずらす手段は、
上記投入予定時間が上記交換開始時間と上記交換所要時
間との和より短い場合において、 上記交換開始時間が
上記交換所要時間より長く、かつ、上記投入予定時間よ
り短い場合は、洗浄処理液の交換開始時期を早めるよう
に形成されることを特徴とする。
【0013】また、請求項7〜9記載の洗浄処理システ
ムは、請求項2〜4記載の洗浄処理方法を具現化するも
ので、被処理体を、洗浄処理液を貯留した洗浄容器まで
搬送し、上記洗浄容器内に投入して洗浄処理し、処理済
みの上記被処理体を、上記洗浄容器から取出し、搬送す
る洗浄処理システムにおいて、 処理時間、処理回数等
に応じて、予め設定された所定時間経過、又は処理回数
経過毎に、一定の所用時間をもって上記洗浄容器内の洗
浄処理液を交換する手段を有し、かつ、洗浄処 理前の上
記被処理体の現時点から上記洗浄容器内に投入されるま
での投入予定時間及び洗浄処理に要する洗浄処理時間
と、洗浄処理液の交換を開始するまでの交換開始時間及
び交換に要する交換所要時間とを比較して、上記洗浄処
理液の交換中に、上記被処理体が上記洗浄容器内に投入
される状態、あるいは、上記被処理体の洗浄処理中に、
上記洗浄処理液が交換される状態を回避すべく洗浄処理
液の交換開始時期をずらす手段を具備してなり、 請求項
7記載の洗浄処理システムにおいては、上記洗浄処理液
の交換開始時期をずらす手段は、上記投入予定時間が上
記交換開始時間と上記交換所要時間との和より短い場合
において、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より
長く、かつ、上記投入予定時間より長い場合で、投入予
定時間が交換所要時間より長い場合は、交換開始時間と
投入予定時間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否か
を判断し、交換開始時間が短い場合は、洗浄処理液の交
換開始時期を早めるように形成される、ことを特徴とす
【0014】また、請求項8記載の洗浄処理システムに
おいては、 上記洗浄処理液の交換開始時期をずらす手
段は、上記投入予定時間が上記交換開始時間と上記交換
所要時間との和より短い場合において、 上記交換開始
時間が上記交換所要時間より長く、かつ、上記投入予定
時間より長い場合で、投入予定時間が交換所要時間より
短い場合は、交換開始時間と、投入予定時間と上記洗浄
処理時間との和とが長いか否かを判断し、交換開始時間
が短い場合は、上記被処理体の洗浄処理終了後に洗浄処
理液の交換を開始するように形成される、ことを特徴と
する
【0015】また、請求項9記載の洗浄処理システムに
おいては、上記洗浄処理液の交換開始時期をずらす手段
は、上記投入予定時間が上記交換開始時間と上記交換所
要時間との和より短い場合において、 上記交換開始時
間が上記交換所要時間より長く、かつ、上記投入予定時
間より短い場合は、洗浄処理液の交換開始時期を早め、
また、上記交換開始時間が上記交換所要時間より長
く、かつ、上記投入予定時間より長い場合で、投入予定
時間が交換所要時間より長い場合は、交換開始時間と投
入予定時間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを
判断し、交換開始 時間が短い場合は、洗浄処理液の交換
開始時期を早め、 更に、上記交換開始時間が上記交換
所要時間より長く、かつ、上記投入予定時間より長い場
合で、投入予定時間が交換所要時間より短い場合は、交
換開始時間と、投入予定時間と上記洗浄処理時間との和
とが長いか否かを判断し、交換開始時間が短い場合は、
上記被処理体の洗浄処理終了後に洗浄処理液の交換を開
始するように形成される、ことを特徴とする
【0016】この発明の洗浄処理方法及び洗浄処理シス
テムによれば、予め設定された洗浄処理液を交換する時
期が被処理体の洗浄処理工程と重なる場合でも、洗浄処
理液交換の開始時期を適宜ずらすことにより、被処理体
を洗浄容器へ投入する時期を遅らせる機会を極力少なく
することができる。これにより、洗浄処理工程から次の
洗浄処理工程までの洗浄処理液交換に係るロスタイムを
減少することができ、円滑に次の洗浄処理を行うことが
できる。したがって、洗浄処理を能率的に行うことがで
きると共に、洗浄処理のスループットを向上させること
ができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄処理システムに適用した場合について説
明する。
【0018】図1はこの発明に係る洗浄処理装置を適用
した洗浄処理システムの一例を示す概略平面図である。
【0019】上記洗浄処理システムは、被処理体である
半導体ウエハW(以下にウエハという)を水平状態に収
納する容器例えばキャリア1を搬入、搬出するための搬
入搬出部2と、ウエハWを薬液、リンス液等の液処理を
する処理部3と、搬入搬出部2と処理部3との間に位置
してウエハWの受渡し、位置調整及び姿勢変換等を行う
インターフェース部4とで主に構成されている。
【0020】上記搬入搬出部2は、洗浄処理システムの
一側端部に併設して設けられる搬入部5と搬出部6とで
構成されている。また、搬入部5は、上部搬送機構(図
示せず)からキャリア1を受け取る受取り部5aと、こ
の受取り部5aから水平に搬送されるキャリア1を載置
する受渡し部5bとからなり、受渡し部5bには、キャ
リア1を上部位置とインターフェース部4の搬入口(図
示せず)との間で搬送するキャリアリフタ8が配設され
ている。また、搬出部6には、キャリア1をインターフ
ェース部4の搬出口(図示せず)と上部との間で搬送す
るキャリアリフタ8が配設され、これらキャリアリフタ
8によって搬入部5間又は搬出部6間でのキャリア1の
搬送を行うことができると共に、空のキャリア1をイン
ターフェース部4の上方に設けられたキャリア待機部
(図示せず)への受け渡し及びキャリア待機部からの受
け取りを行うことができるように構成されている。
【0021】上記インターフェース部4は、区画壁4c
によって区画される搬入搬出部2に隣接する第1の室4
aと、処理部3に隣接する第2の室4bとで構成されて
いる。そして、第1の室4a内には、搬入部5(具体的
には受渡し部5b)のキャリア1から複数枚のウエハW
を取り出して搬送する水平方向(X,Y方向),垂直方
向(Z方向)及び回転(θ方向)可能なウエハ取出しア
ーム10と、ウエハWに設けられたノッチを検出するノ
ッチアライナー11と、ウエハ取出しアーム10によっ
て取り出された複数枚のウエハWの間隔を調整する間隔
調整機構(図示せず)を具備すると共に、水平状態のウ
エハWを垂直状態に変換する第1の姿勢変換装置12が
配設されている。
【0022】また、第2の室4b内には、処理済みの複
数枚のウエハWを処理部3から垂直状態のまま搬送する
後述する搬送手段例えばウエハ搬送チャック23から受
け取ったウエハWを垂直状態から水平状態に変換する第
2の姿勢変換装置13と、この第2の姿勢変換装置13
によって水平状態に変換された複数枚のウエハWを受け
取ってウエハ受取り部14に搬送された空のキャリア1
内に収納する水平方向(X,Y方向),垂直方向(Z方
向)及び回転(θ方向)可能なウエハ収納アーム15が
配設されている。なお、ウエハ受取り部14には、ウエ
ハ受取り部14とキャリア待機部(図示せず)との間で
キャリアを搬送するキャリアリフタ8が配設されてい
る。また、キャリア待機部には、ウエハ受渡し部5bに
よってウエハWを受け渡した後の空のキャリア1やウエ
ハ受取り部14でキャリア1内にウエハWを収容したキ
ャリア1を所定の待機位置あるいはウエハ受取り部14
からキャリア待機部に搬送されたウエハWを収納したキ
ャリア1を搬出部6の上方へ移動するキャリア搬送ロボ
ット(図示せず)が配設されている。
【0023】一方、上記処理部3には、ウエハWに付着
するパーティクルや有機物汚染を除去する第1の処理ユ
ニット17a及び純水でリンス処理する第1のリンス処
理ユニット17bと、ウエハWに付着する金属汚染を除
去する第2の処理ユニット18a及び純水でリンス処理
する第2のリンス処理ユニットと、ウエハWに付着する
酸化膜を除去する第3の処理ユニット19a及び純水で
リンス処理する第3のリンス処理ユニット19b並びに
チャック洗浄ユニット20が直線状に配列されている。
なお、第3のリンス処理ユニット19bの上方には図示
しない乾燥処理ユニットを配設してもよい。また、これ
ら各ユニット17a〜19a,17b〜19b及び20
と対向する位置から上記インターフェース部4に延在し
てに設けられた搬送路22に、X,Y方向(水平方
向)、Z方向(垂直方向)及び回転(θ)可能な搬送手
段例えばウエハ搬送チャック23が配設されている。
【0024】上記第1〜第3の処理ユニット17a〜1
9aは、それぞれ図2に示すように、薬液例えばAPM
液(アンモニア、過酸化水素及び水の混合液)等の洗浄
処理液Lを貯留すると共に、洗浄処理液L中にウエハW
を浸漬してその表面を洗浄する処理容器例えば洗浄槽3
0と、この洗浄槽30と薬液供給源36とを接続すべく
洗浄槽30内に配設される洗浄処理液供給ノズル34と
薬液供給源36とを、開閉弁36aを介して接続する洗
浄処理液供給管37とで主に構成されている。
【0025】この場合、洗浄槽30は、洗浄処理液Lを
貯留する内槽31と、この内槽31の開口部の外方縁部
を覆う外槽32とで構成されている。また、外槽32の
底部に設けられた排出口と、内槽31内の底部側に配設
される洗浄処理液供給ノズル34とが循環管路38にて
接続されており、この循環管路38には、排出口側から
洗浄処理液供給ノズル34に向かって順に、三方弁38
a,循環ポンプ38b,温度調節機構38c,フィルタ
38d及び弁38eが介設されている。このように構成
することにより、洗浄槽30内に貯留された薬液(例え
ばAPM液等)の希釈液を循環供給してウエハWの表面
に付着するパーティクルや有機物汚染を除去することが
できる。
【0026】なお、上記洗浄液供給管37の循環管路3
8との接続部側には逆止弁39が介設されている。ま
た、上記内槽31の底部に設けられた排出口には、ドレ
ン弁31bを介設したドレン管31aが接続されてい
る。更に上記内槽31内には、洗浄処理中のウエハWを
保持するための保持部材33が配設されている。この保
持部材33は昇降可能に形成されており、上記ウエハ搬
送チャック23との間でウエハWの受渡しを行うように
構成されている。
【0027】次に、この洗浄処理ユニットの動作態様に
ついて説明する。まず、予め所定濃度に希釈された洗浄
処理液Lとなって薬液供給源36から供給される所定量
の洗浄処理液Lが洗浄処理液供給ノズル34から噴出し
て内槽31内に供給される。次に洗浄処理液Lで満たさ
れた上記内槽31内に、ウエハ搬送チャック23によっ
てインターフェース部4から搬送された複数例えば50
枚のウエハWが、保持部材33に受け渡され、保持され
て浸漬され、洗浄される。この間にも随時洗浄処理液L
は供給され、洗浄処理液Lの表面に浮いたパーティクル
や汚染物質等と共に、内槽31から溢れた洗浄処理液L
が外槽32へと流入する。外槽32内に流入した使用済
みの洗浄処理液Lは、三方弁38aの切り換えによっ
て、そのまま排液されるか、あるいは循環系によって再
利用される。
【0028】再利用される場合は、循環ポンプ38bに
よって循環管路38を流動し、温度調節機構38cを通
って所定温度に温調され、フィルタ38dを通過するこ
とによりパーティクル等が除去される。なお、洗浄処理
液Lの循環供給中に、蒸発等によって減少した洗浄処理
液Lを補充している。再生された洗浄処理液Lは洗浄処
理液供給ノズル34から再び噴出し、内槽31内に供給
される。このとき、洗浄処理液供給管37に介設された
逆止弁39によって、再生された洗浄処理液Lが薬液供
給源36の方へ逆流することはない。このようにして洗
浄処理を完了する。
【0029】なお、上記洗浄槽30に供給される洗浄処
理液Lに関して、APM液の場合について説明したが、
APM液が用いられるのは主にウエハWに付着したパー
ティクルや有機物汚染を除去するための第1の処理ユニ
ット17aであり、第2の処理ユニット18aの場合
は、ウエハWに付着した金属汚染を除去するために例え
ばHPM(HCl/H2O2/H2O混合液)が用いられ
る。また、第3の処理ユニット19aの場合はウエハW
に付着した酸化膜を除去するために、例えばDHF(フ
ッ酸希釈液)が用いられる。
【0030】このようにして順次洗浄処理を繰り返し、
処理時間、処理回数等に応じて予め決められたプログラ
ムに基づいて、所定時間を経過する毎に洗浄処理液Lが
交換される。また、上記処理装置の洗浄処理液交換も含
めた一連の動作は、ホストコンピュータ25(H.C)
から中央演算処理装置24(CPU)を介して各部、す
なわち処理装置の搬入部5の搬入手段、ウエハ搬送チャ
ック23及び各処理ユニット17a〜19aに設けられ
た駆動部等(図示せず)への指令信号に基づいて行われ
る(図3参照)。
【0031】なお、洗浄処理液Lを交換する場合は、ま
ずドレン弁31bを開放して内槽31内の洗浄処理液L
を排出すると共に、三方弁38aを切り換えて外槽32
内の洗浄処理液Lを排出した後、ドレン管31bを閉
じ、三方弁38aを切換える。次に、開閉弁36aを開
放して、予め所定濃度に希釈された洗浄処理液Lを洗浄
処理液供給ノズル34から内槽31内に噴射(供給)し
て行うことができる。
【0032】次に、上記洗浄処理装置を適用した洗浄処
理システム全体の動作手順について図4に示すフローチ
ャートを参照して説明する。搬入部5にウエハW(ロッ
ト)を搬入した後、第1の姿勢変換装置12で水平状態
のウエハWを垂直状態に変換する。その後、搬送手段例
えばウエハ搬送チャック23で処理部3まで搬送し、第
1〜第3の処理ユニット17a〜19aにウエハWを順
次投入し、浸漬させて上述のような薬液処理を行う。な
お、各処理ユニット17a〜19aにおける薬液処理を
終了する毎に、洗浄槽30から取出して、それぞれに対
応するリンス処理ユニット17b〜19bのいずれかに
おいて純水によるリンス処理を行う。更に第3のリンス
処理ユニット19bの例えば上部に設けられた乾燥処理
ユニット(図示せず)にて乾燥処理を行った後、ウエハ
搬送チャック23でインターフェース部4まで搬送し、
第2の姿勢変換装置によってウエハWを垂直状態から水
平状態へ変換する。最後に搬出部6からウエハWを搬出
して一連の工程が終了する。
【0033】上記薬液・洗浄処理の工程において、洗浄
処理の品質を維持するために、洗浄処理液Lを一定の処
理時間、処理回数等に基づいて交換するが、この洗浄処
理液Lの交換の時期とウエハWの洗浄処理工程とが重な
る場合が生じる。そのため、この状態を回避するように
洗浄処理液Lの交換開始時期をずらすようにプログラム
を設定する。以下に、これを決定する手順を、図5に示
すフローチャートと、図6に示すタイムチャートを参照
して説明する。まず、現時点(T=0)から予め設定さ
れた洗浄処理液Lの交換開始までの時間(以下に交換開
始予定時間という)aと洗浄処理液Lの交換に要する時
間(以下に交換所要時間という)tとの和が、現時点か
ら洗浄槽30にウエハWが投入されるまでの時間(以下
に投入予定時間という)b1,b2,・・・b6(以下にbを
代表として説明する)より短いかどうかを判断し(ステ
ップ1)、投入予定時間bが長い場合はそのまま予定さ
れている時期(T=a)に交換を開始する(ステップ
2;図6(A)参照)。これにより、予め設定されたプ
ログラムに基づいて通常の洗浄処理液Lの交換が行われ
る。一方、投入予定時間bが短い場合は、更に交換所要
時間tが交換開始予定時間aより短いかどうかを判断す
る(ステップ3)。交換所要時間tが交換開始予定時間
aより長いと判断された場合は、更に、投入予定時間b
が交換所要時間tより長いか否かを判断し(ステップ
4)、ここで投入予定時間bの方が長ければ、少なくと
もウエハWが投入されるまでには洗浄処理液Lの交換が
完了するように、交換時期を投入予定時間bより少なく
とも交換所要時間tだけ早めて交換を開始する(ステッ
プ5)。これにより、ウエハWの洗浄槽30への投入を
遅らせることなく、洗浄処理を能率的に行うことができ
る。また、交換時間tより投入予定時間bの方が短けれ
ば、先にウエハWを洗浄槽30に投入後、洗浄処理終了
を確認してから洗浄処理液Lの交換を開始する(ステッ
プ6)。これにより、洗浄処理液Lの交換時期が遅れる
が、洗浄処理を能率的に行うことができる。なお、洗浄
処理後、直ちに洗浄処理液Lの交換を行えば、洗浄処理
液Lの劣化を極力抑えることができる。
【0034】一方、ステップ3において、交換所要時間
tが交換開始予定時間aより短いと判断された場合は、
更に投入予定時間bが交換開始予定時間aより短いか否
かを判断し(ステップ7)、投入予定時間bの方が長い
場合は、少なくともウエハWが投入されるまでには洗浄
処理液Lの交換が完了するように、交換時期を投入予定
時間bより少なくとも交換所要時間tだけ早め(ステッ
プ5;図6(B)参照)、投入予定時間bの方が交換開
始予定時間aより短い場合は、更に投入予定時間bが交
換所要時間tより短いか否かが判断される(ステップ
8)。ステップ8において、投入予定時間bが交換所要
時間tより短いと判断されると、投入予定時間bとウエ
ハWの洗浄処理に要する時間(以下に洗浄処理時間とい
う)cとの和が、交換開始予定時間aより長いか否かが
判断される(ステップ9)。
【0035】ステップ9において、投入予定時間bと洗
浄処理時間cとの和が、交換開始予定時間aより短いと
判断された場合は、交換開始予定時間aにそのまま交換
を開始する(ステップ2;図6(E)参照)。ステップ
9において、投入予定時間bと洗浄処理時間cとの和
が、交換開始予定時間aより長いと判断された場合(こ
の場合のaをa1とする)は、先にウエハWを洗浄槽3
0に投入し、洗浄処理終了を確認後、洗浄処理液Lの交
換を開始する(ステップ6;図6(F)参照)。
【0036】一方、ステップ8において、投入予定時間
bが交換所要時間tより長いと判断されると、投入予定
時間bと洗浄処理時間cとの和が、交換開始予定時間a
より長いか否かが判断される(ステップ10)。ステッ
プ10において、投入予定時間bと洗浄処理時間cとの
和が、交換開始予定時間aより短いと判断された場合
は、交換開始予定時間aにそのまま交換を開始する(ス
テップ2;図6(C)参照)。ステップ10において、
投入予定時間bと洗浄処理時間cとの和が、交換開始予
定時間aより長いと判断された場合は、少なくともウエ
ハWが投入されるまでには洗浄処理液Lの交換が完了す
るように、交換時期を投入予定時間bより少なくとも交
換所要時間tだけ早める(ステップ5;図6(D)参
照)。
【0037】以上に説明したようなフローチャートに基
づいて、交換予定時間aの通りに交換を開始するか、あ
るいは交換開始を早めたり遅らせたりするかを適宜変更
できるようにしたので、洗浄処理液Lの交換の際、ウエ
ハWを洗浄槽30に投入する時期を遅らせる機会を極力
少なくすることができる。これにより、洗浄処理から次
の洗浄処理までの洗浄処理液Lの交換に係るロスタイム
を極力抑えることができる。したがって、洗浄処理を能
率的に行うことができると共に、洗浄処理のスループッ
トを向上させることができる。
【0038】なお、上記実施形態では洗浄処理とリンス
処理を異なる処理ユニットで行う場合について説明した
が、洗浄処理とリンス処理を一つの処理ユニットで行う
いわゆるワンバス方式の洗浄処理装置にも適用できる。
以下にワンバス方式の洗浄処理装置に適用した場合の実
施形態を、図7に示す概略断面図を参照して説明する。
この場合、上記実施形態との大きな違いは、流路60に
洗浄処理液Lを一時的に貯留するためのタンク50及び
純水供給源35を設けたことである。また、流路60
は、薬液処理中に利用される循環管路38A(一部は洗
浄処理液供給管37Aと共用している)と、洗浄槽30
とタンク50とを接続して薬液処理からリンス処理へ、
あるいはリンス処理から薬液処理への切換え時に利用さ
れるドレン管31a,40及び洗浄処理液供給管37A
とで主に構成されている。
【0039】また、上記内槽31に接続されたドレン管
31a及び外槽32の下部側に接続されたドレン管40
は、それぞれドレン弁31b,40a及び三方弁31
c,40bを介してタンク50と排液側に接続されてい
る。したがって、それぞれの三方弁31c,40bを適
宜切り換えることによって、洗浄槽30内の洗浄処理液
Lをタンク50へ戻すか、あるいは排液することができ
る。また、上記タンク50は、供給管50c及び三方弁
50dを介して洗浄処理液供給管37Aに接続されてい
る。これにより、タンク50内に戻されて貯留された洗
浄処理液Lを洗浄槽30内に再供給することができる。
なお、洗浄液供給管37Aには、三方弁50dから洗浄
液供給ノズル34に向かって順に、ポンプ61,温度調
節機構62,フィルタ63及び逆止弁64が介設されて
いる。一方、タンク50は、第2の薬液供給管36eに
よって薬液供給源36とも接続されており、タンク50
内の洗浄処理液Lの量が減少している場合は、第2の薬
液供給管36eに介設される開閉弁36fを開放するこ
とにより、薬液供給源36から適宜供給して一定量を保
てるようになっている。なお、上記タンク50の下部側
一側方にはドレン弁50bを介設したドレン管50aが
接続されている。
【0040】また、上記循環管路38Aは、その一端が
上記外槽32の下部側に、かつ上記ドレン管40とは異
なる位置に接続され、開閉弁39Aと三方弁35bを介
して洗浄処理液供給管37Aに接続され、三方弁35b
から上記洗浄槽30へ再供給するまでの経路は洗浄処理
液供給管37Aを共用する。なお、上記洗浄処理液供給
管37Aには、純水供給管35a及び三方弁35bを介
して純水供給源35が接続されると共に、第1の薬液供
給管36c及び三方弁36dを介して薬液供給源36が
接続されている。その他の構造は図2と同様であるの
で、同一部分には同一符号を付してその説明を省略す
る。
【0041】次に、上記ワンバス式の洗浄処理装置に適
用した場合の動作態様について説明する。洗浄処理を行
う場合は、上記ドレン弁31b,40aを閉じた後、弁
64を開放すると共に、三方弁36d,50dを洗浄処
理液供給管37Aの流路方向に切り換える。この場合、
外槽32から循環管路38Aに流入した洗浄処理液L
は、ポンプ61によって流動し、温度調節機構62にお
いて所定温度に温調され、フィルタ63によってパーテ
ィクル等を除去されて、再び洗浄処理液供給ノズル34
から内槽31内に供給される。
【0042】また、洗浄処理からリンス処理へ移行する
ときは、ドレン弁31b,40aを開放すると共に、三
方弁31c,40bをタンク50側に流入するように切
り換える。これにより、内槽31及び外槽32内の洗浄
処理液Lはタンク50に一時的に貯留され、内槽31が
排液状態になった時点でドレン弁31bを閉じ、三方弁
40bを排液側に切り換えると共に、三方弁35bを切
り換えて純水供給源35から純水を供給できるようにす
れば、内槽31には絶えず純水が供給され続け、リンス
処理が行われる。なお、内槽31から外槽32へ流入し
た純水は、ドレン管40から三方弁40bを通過して排
液される。
【0043】この後、次に処理されるウエハWを投入し
て洗浄処理する場合、すなわちリンス処理から洗浄処理
へ移行する場合は、ドレン弁31bを開放すると共に、
三方弁31cを切り換えて排液できるようにする。ま
た、三方弁35bを切り換えて純水供給源35からの供
給状態を解除する。これにより、タンク50内の洗浄処
理液Lは、ポンプ61によって供給管50cを流動し、
温度調節機構62によって温調され、フィルタ63によ
ってパーティクル等が除去されて、再び洗浄処理液供給
ノズル34から内槽31内に供給される。供給された洗
浄処理液Lは、溢れて外槽32へ流入し、再び上述した
循環管路38Aを通るようになる。なお、循環管路38
Aを流れてきた洗浄処理液Lが三方弁50dに初めて到
達した時点で、上記三方弁50dを切り換えて、循環管
路に沿って流れるようにする。
【0044】次に、洗浄処理液Lを交換する場合につい
て説明する。この場合は、ドレン弁31b,40a,5
0bを開放して、三方弁31c,40bを排液方向に切
り換える。これにより、内槽31、外槽32及びタンク
50内の洗浄処理液Lを排液し、必要なときには、ドレ
ン弁31b,40b,50bを閉じて、三方弁36dを
切り換えて薬液供給源36から洗浄処理液Lを供給でき
るようにする。
【0045】なお、動作態様のその他の部分は図2に示
す実施形態と同様であるので、説明は省略する。
【0046】なお、上記実施形態では、半導体ウエハの
洗浄処理について説明したが、例えばLCD基板等にも
適用できるのは勿論であり、その他の洗浄処理に利用で
きるのも勿論である。
【0047】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明の洗浄
処理方法及び洗浄処理システムによれば、予め設定され
た洗浄処理液を交換する時期が被処理体の洗浄処理工程
と重なる場合でも、洗浄処理液交換の開始時期を適宜ず
らすことにより、被処理体を洗浄容器へ投入する時期を
遅らせる機会を極力少なくすることができるので、洗浄
処理工程から次の洗浄処理工程までの洗浄処理液交換に
係るロスタイムを減少することができ、円滑に次の洗浄
処理を行うことができる。したがって、洗浄処理を能率
的に行うことができると共に、洗浄処理のスループット
を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る洗浄処理装置を適用した洗浄処
理システムの概略平面図である。
【図2】この発明に係る洗浄処理装置と洗浄処理液の流
路の一例を示す概略断面図である。
【図3】上記洗浄処理システムと制御系との接続状態を
示す概略平面図である。
【図4】この発明に係る洗浄処理方法の各工程を示すフ
ローチャートである。
【図5】この発明に係る洗浄処理液交換を何時実行する
か判断するための手順を示すフローチャートである。
【図6】図5の各判断時における交換開始予定時間a、
投入予定時間b、洗浄処理時間c及び交換所要時間tの
関係を示すタイムチャートである。
【図7】この発明に係る洗浄処理装置と洗浄処理液の流
路の別の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
W 半導体ウエハ(被処理体) L 洗浄処理液 3 処理部 5 搬入部 6 搬出部 17a 第1の処理ユニット 18a 第2の処理ユニット 19a 第3の処理ユニット 23 ウエハ搬送チャック(搬送手段) 24 CPU 25 ホストコンピュータ 30 洗浄槽(処理容器) 34 洗浄処理液供給ノズル 36 薬液供給源 37,37A 洗浄処理液供給管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平10−261613(JP,A) 特開 平10−275796(JP,A) 特開 平8−102457(JP,A) 特開 平6−252124(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/304

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被処理体を、洗浄処理液を貯留した洗浄
    容器まで搬送する工程と、 上記被処理体を上記洗浄容器内に投入し、洗浄処理する
    工程と、 処理済みの上記被処理体を、上記洗浄容器から取出し、
    搬送する工程と、を有する洗浄処理方法において、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設定された所定時
    間経過、又は処理回数経過毎に、一定の所用時間をもっ
    て上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換する工程を有し、
    かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時点から上記洗浄
    容器内に投入されるまでの投入予定時間と、洗浄処理液
    の交換を開始するまでの交換開始時間及び交換に要する
    交換所要時間とを比較して、上記投入予定時間が上記交換開始時間と上記交換所要時
    間との和より短い場合において、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、かつ、
    上記投入予定時間より短い場合は、洗浄処理液の交換開
    始時期を早めるようにした、 ことを特徴とする洗浄処理方法。
  2. 【請求項2】 被処理体を、洗浄処理液を貯留した洗浄
    容器まで搬送する工程と、 上記被処理体を上記洗浄容器内に投入し、洗浄処理する
    工程と、 処理済みの上記被処理体を、上記洗浄容器から取出し、
    搬送する工程と、を有する洗浄処理方法において、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設定された所定時
    間経過、又は処理回数経過毎に、一定の所用時間をもっ
    て上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換する工程を有し、
    かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時点から上記洗浄
    容器内に投入されるまでの投入予定時間及び洗浄処理に
    要する洗浄処理時間と、洗浄処理液の交換を開始するま
    での交換開始時間及び交換に要する交換所要時間とを比
    較して、 上記投入予定時間が上記交換開始時間と上記交換所要時
    間との和より短い場合 において、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、かつ、
    上記投入予定時間より長い場合で、投入予定時間が交換
    所要時間より長い場合は、交換開始時間と、投入予定時
    間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判断し、
    交換開始時間が短い場合は、洗浄処理液の交換開始時期
    を早めるようにした、 ことを特徴とする洗浄処理方法。
  3. 【請求項3】 被処理体を、洗浄処理液を貯留した洗浄
    容器まで搬送する工程と、 上記被処理体を上記洗浄容器内に投入し、洗浄処理する
    工程と、 処理済みの上記被処理体を、上記洗浄容器から取出し、
    搬送する工程と、を有する洗浄処理方法において、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設定された所定時
    間経過、又は処理回数経過毎に、一定の所用時間をもっ
    て上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換する工程を有し、
    かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時点から上記洗浄
    容器内に投入されるまでの投入予定時間及び洗浄処理に
    要する洗浄処理時間と、洗浄処理液の交換を開始するま
    での交換開始時間及び交換に要する交換所要時間とを比
    較して、 上記投入予定時間が上記交換開始時間と上記交換所要時
    間との和より短い場合において、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、かつ、
    上記投入予定時間より長い場合で、投入予定時間が交換
    所要時間より短い場合は、交換開始時間と、投入予定時
    間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判断し、
    交換開始時間が短い場合は、上記被処理体の洗浄処理終
    了後に洗浄処理液の交換を開始するようにした、 ことを特徴とする洗浄処理方法。
  4. 【請求項4】 被処理体を、洗浄処理液を貯留した洗浄
    容器まで搬送する工程と、 上記被処理体を上記洗浄容器内に投入し、洗浄処理する
    工程と、 処理済みの上記被処理体を、上記洗浄容器から取出し、
    搬送する工程と、を有する洗浄処理方法において、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設定された所定時
    間経過、又は処理回数経過毎に、一定の所用時間をもっ
    て上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換する工程を有し、
    かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時点から上記洗浄
    容器内に投入されるまでの投入予定時間及び洗浄処理に
    要する洗浄処理時間と、洗浄処理液の交換を開始するま
    での交換開始時間及び交換に要する交換所要時間とを比
    較して、 上記投入予定時間が上記交換開始時間と上記交換所要時
    間との和より短い場合において、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、かつ、
    上記投入予定時間より短い場合は、洗浄処理液の交換開
    始時期を早め、 また、上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、
    かつ、上記投入予定時間より長い場合で、投入予定時間
    が交換所要時間より長い場合は、交換開始時間と、投入
    予定時間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判
    断し、交換開始時間が短い場合は、洗浄処理液の交換開
    始時期を早め、 更に、上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、
    かつ、上記投入予定時間より長い場合で、投入予定時間
    が交換所要時間より短い場合は、交換開始時間と、投入
    予定時間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判
    断し、交換開始時間が短い場合は、上記被処理体の洗浄
    処理終了後に洗浄処理液の交換を開始するようにした、 ことを特徴とする洗浄処理方法。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかに記載の洗
    浄処理方法において、 上記洗浄処理液の交換中に、上記被処理体が上記洗浄容
    器内に投入される状態にない場合、上記被処理体の洗
    浄処理中に、上記洗浄処理液が交換される状態にない場
    合は、予め設定された所定時間経過毎に洗浄処理液の交
    換を開始するようにした、ことを特徴とする洗浄処理方
    法。
  6. 【請求項6】 被処理体を、洗浄処理液を貯留した洗浄
    容器まで搬送し、上記洗浄容器内に投入して洗浄処理
    し、処理済みの上記被処理体を、上記洗浄容器から取出
    し、搬送する洗浄処理システムにおいて、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設定された所定時
    間経過、又は処理回数経過毎に、一定の所用時間をもっ
    て上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換する手段を有し、
    かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時点から上記洗浄
    容器内に投入されるまでの投入予定時間と、洗浄処理液
    の交換を開始するまでの交換開始時間及び交換に要する
    交換所要時間とを比較して、上記洗浄処理液の交換中
    に、上記被処理体が上記洗浄容器内に投入される状態、
    あるいは、上記被処理体の洗浄処理中に、上記洗浄処理
    液が交換される状態を回避すべく洗浄処理液の交換開始
    時期をずらす手段を具備し、 上記洗浄処理液の交換開始時期をずらす手段は、上記投
    入予定時間が上記交換開始時間と上記交換所要時間との
    和より短い場合において、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、かつ、
    上記投入予定時間より短い場合は、洗浄処理液の交換開
    始時期を早めるように形成される、 ことを特徴とする洗
    浄処理システム。
  7. 【請求項7】 被処理体を、洗浄処理液を貯留した洗浄
    容器まで搬送し、上記洗浄容器内に投入して洗浄処理
    し、処理済みの上記被処理体を、上記洗浄容器から取出
    し、搬送する洗浄処理システムにおいて、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設定された所定時
    間経過、又は処理回数経過毎に、一定の所用時間をもっ
    て上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換する手段を有し、
    かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時点から上記洗浄
    容器内に投入されるまでの投入予定時間及び洗浄処理に
    要する洗浄処理時間と、洗浄処理液の交換を開始するま
    での交換開始時間及び交換に要する交換所要時間とを比
    較して、上記洗浄処理液の交換中に、上記被処理体が上
    記洗浄容器内に投入される状態、あるいは、上記被処理
    体の洗浄処理中に、上記洗浄処理液が交換される状態を
    回避すべく洗浄処理液の交換開始時期をずらす手段を具
    備し、 上記洗浄処理液の交換開始時期をずらす手段は、上記投
    入予定時間が上記交換開始時間と上記交換所要時間との
    和より短い場合において、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、かつ、
    上記投入予定時間より長い場合で、投入予定時間が交換
    所要時間より長い場合は、交換開始時間と投入予定時間
    と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判断し、交
    換開始時間が短い場合は、洗浄処理液の交換開始時期を
    早めるように形成される、ことを特徴と する洗浄処理シ
    ステム。
  8. 【請求項8】 被処理体を、洗浄処理液を貯留した洗浄
    容器まで搬送し、上記洗浄容器内に投入して洗浄処理
    し、処理済みの上記被処理体を、上記洗浄容器から取出
    し、搬送する洗浄処理システムにおいて、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設定された所定時
    間経過、又は処理回数経過毎に、一定の所用時間をもっ
    て上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換する手段を有し、
    かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時点から上記洗浄
    容器内に投入されるまでの投入予定時間及び洗浄処理に
    要する洗浄処理時間と、洗浄処理液の交換を開始するま
    での交換開始時間及び交換に要する交換所要時間とを比
    較して、上記洗浄処理液の交換中に、上記被処理体が上
    記洗浄容器内に投入される状態、あるいは、上記被処理
    体の洗浄処理中に、上記洗浄処理液が交換される状態を
    回避すべく洗浄処理液の交換開始時期をずらす手段を具
    備し、 上記洗浄処理液の交換開始時期をずらす手段は、上記投
    入予定時間が上記交換開始時間と上記交換所要時間との
    和より短い場合において、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、かつ、
    上記投入予定時間より長い場合で、投入予定時間が交換
    所要時間より短い場合は、交換開始時間と、投入予定時
    間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判断し、
    交換開始時間が短い場合は、上記被処理体の洗浄処理終
    了後に洗浄処理液の交換を開始するように形成される、
    ことを特徴とする洗浄処理システム。
  9. 【請求項9】 被処理体を、洗浄処理液を貯留した洗浄
    容器まで搬送し、上記洗浄容器内に投入して洗浄処理
    し、処理済みの上記被処理体を、上記洗浄容器から取出
    し、搬送する洗浄処理システムにおいて、 処理時間、処理回数等に応じて、予め設定された所定時
    間経過、又は処理回数経過毎に、一定の所用時間をもっ
    て上記洗浄容器内の洗浄処理液を交換する手段を有し、
    かつ、洗浄処理前の上記被処理体の現時点から上記洗浄
    容器内に投入されるまでの投入予定時間及び洗浄処理に
    要する洗浄処理時間と、洗浄処理液の交換を開始するま
    での交換開始時間及び交換に要する交換所要時間とを比
    較して、上記洗浄処理液の交換中に、上記被処理体が上
    記洗浄容器内に投入される状態、あるいは、上記被処理
    体の洗浄処理中に、上記洗浄処理液が交換される状態を
    避すべく洗浄処理液の交換開始時期をずらす手段を具
    備し、 上記洗浄処理液の交換開始時期をずらす手段は、上記投
    入予定時間が上記交換開始時間と上記交換所要時間との
    和より短い場合において、 上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、かつ、
    上記投入予定時間より短い場合は、洗浄処理液の交換開
    始時期を早め、 また、上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、
    かつ、上記投入予定時間より長い場合で、投入予定時間
    が交換所要時間より長い場合は、交換開始時間と投入予
    定時間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判断
    し、交換開始時間が短い場合は、洗浄処理液の交換開始
    時期を早め、 更に、上記交換開始時間が上記交換所要時間より長く、
    かつ、上記投入予定時間より長い場合で、投入予定時間
    が交換所要時間より短い場合は、交換開始時間と、投入
    予定時間と上記洗浄処理時間との和とが長いか否かを判
    断し、交換開始時間が短い場合は、上記被処理体の洗浄
    処理終了後に洗浄処理液の交換を開始するように形成さ
    れる、ことを特徴とする洗浄処理システム。
JP33501297A 1997-11-19 1997-11-19 洗浄処理方法及び洗浄処理システム Expired - Lifetime JP3254518B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33501297A JP3254518B2 (ja) 1997-11-19 1997-11-19 洗浄処理方法及び洗浄処理システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33501297A JP3254518B2 (ja) 1997-11-19 1997-11-19 洗浄処理方法及び洗浄処理システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11150094A JPH11150094A (ja) 1999-06-02
JP3254518B2 true JP3254518B2 (ja) 2002-02-12

Family

ID=18283757

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33501297A Expired - Lifetime JP3254518B2 (ja) 1997-11-19 1997-11-19 洗浄処理方法及び洗浄処理システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3254518B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5132111B2 (ja) * 2006-09-26 2013-01-30 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム
JP5118530B2 (ja) * 2008-03-26 2013-01-16 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム
JP5275282B2 (ja) * 2010-03-30 2013-08-28 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP5295335B2 (ja) * 2011-10-04 2013-09-18 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム
JP6792502B2 (ja) * 2017-04-03 2020-11-25 株式会社Screenホールディングス 基板処理システム、基板処理システムの制御方法およびプログラム
JP7122140B2 (ja) * 2018-04-02 2022-08-19 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11150094A (ja) 1999-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6889108B2 (en) Processing system and processing method
JP3254520B2 (ja) 洗浄処理方法及び洗浄処理システム
JP3254518B2 (ja) 洗浄処理方法及び洗浄処理システム
JP3138901B2 (ja) 基板の浸漬処理装置
JP2001274133A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP3254519B2 (ja) 洗浄処理方法及び洗浄処理システム
JP3530426B2 (ja) 基板の浸漬処理装置
JP3243708B2 (ja) 処理方法及び処理装置
JP3888612B2 (ja) 洗浄処理方法及び洗浄処理装置
JPH11145105A (ja) 洗浄装置
JP2002118086A5 (ja)
JPH08102457A (ja) 洗浄処理装置の制御方法
JP2002172367A (ja) 基板洗浄システムおよびその基板洗浄方法
JP2007317936A (ja) 洗浄装置および洗浄方法、ならびにコンピュータ読取可能な記憶媒体
JP3451567B2 (ja) 洗浄処理装置
JPH10261613A (ja) 基板処理装置
WO2007077992A1 (ja) 被処理体搬送器の洗浄・乾燥処理方法、及び洗浄・乾燥処理装置、並びに記憶媒体
JPH11283947A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR100873939B1 (ko) 기판 세정유닛 및 상기 기판 세정유닛의 배기 처리 방법,그리고 이를 구비하는 기판 처리 장치
JPH1126420A (ja) 洗浄・乾燥処理方法及びその装置
JPH10275796A (ja) 基板処理装置
JP4149625B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JPH08191056A (ja) 基板処理方法及び装置、並びに基板キャリア
JPH1064872A (ja) 洗浄処理方法及びその装置
JPH10150011A (ja) 基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20011031

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101130

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131130

Year of fee payment: 12

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term