KR102206730B1 - 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제1 SPM을 기판에 공급한다. 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제2 SPM을, 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 기판에 공급한다. 기판으로부터 배출된 제1 SPM을, 배액 배관에 유입시킨다. 기판으로부터 배출된 제2 SPM을, 회수 배관에 유입시킨다. 회수 배관에 의해서 안내된 제2 SPM에 포함되는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 SPM을 작성한다.

Description

기판 처리 방법 및 기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
이 출원은, 2018년 3월 26일에 제출된 일본국 특허출원 2018-057501호와, 2018년 11월 1일에 제출된 일본국 특허출원 2018-206627호에 의거한 우선권을 주장하고 있으며, 이 출원의 전체 내용은 여기에 인용에 의해 편입되는 것으로 한다.
본 발명은, 기판을 처리하는 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치에 관한 것이다. 처리 대상의 기판에는, 예를 들어, 반도체 웨이퍼, 액정 표시 장치나 유기 EL(electroluminescence) 표시 장치 등의 FPD(Flat Panel Display)용 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 세라믹 기판, 태양 전지용 기판 등이 포함된다.
반도체 장치나 액정 표시 장치 등의 제조 공정에서는, 반도체 웨이퍼나 액정표시 장치용 유리 기판 등의 기판을 처리하는 기판 처리 장치가 이용된다.
JP 2018-019016 A는, 기판을 1장씩 처리하는 매엽식의 기판 처리 장치를 개시하고 있다. 이 기판 처리 장치는, 기판을 수평으로 유지하면서 회전시키는 스핀 척과, 스핀 척에 유지되어 있는 기판을 향해서 SPM(황산과 과산화수소수의 혼합액)을 토출하는 노즐을 구비하고 있다. JP 2018-019016 A의 단락 0061 및 0065에는, 레지스트막을 제거하기 위해서 SPM을 기판에 공급하고, 기판에 공급된 SPM을 회수하는 것이 개시되어 있다.
JP 2018-019016 A에는, 기판에 공급된 SPM을 회수하는 것이 개시되어 있지만, 황산 및 과산화수소수의 농도에 대해서는 개시되어 있지 않다. 과산화수소수의 농도, 즉, 혼합 전의 황산 및 과산화수소수의 체적에 대한 혼합 전의 과산화수소수의 체적의 비율을 증가시키면, SPM의 제거 능력(SPM이 레지스트를 제거하는 능력)이 높아진다.
한편, 과산화수소수의 농도를 증가시키면, 회수된 SPM에 포함되는 황산의 농도가 저하해 버린다. 이 경우, SPM의 회수 및 재이용을 반복하면, 회수된 SPM에 포함되는 황산의 농도는, 단기간에 재이용에 적절하지 않은 값까지 저하해 버린다. 회수된 SPM에 포함되는 황산의 농도를 높이기 위해서 과산화수소수의 농도를 감소시키면, 회수되기 전의 SPM의 제거 능력이 저하해 버린다. 따라서, JP 2018-019016 A에 기재된 발명으로는, 기판으로부터 효율적으로 레지스트를 제거하면서, 황산의 농도가 높은 SPM을 회수할 수 없다.
그래서, 본 발명의 목적 중 하나는, 기판으로부터 효율적으로 레지스트를 제거하면서, 황산의 농도가 높은 SPM을 회수할 수 있는 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시 형태는, 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 방법으로서, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제1 SPM을 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과, 상기 제1 SPM보다 높은 농도로 황산을 포함하는 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과, 상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 포함하는, 기판 처리 방법을 제공한다.
기판에 공급되고 기판으로부터 배출된 제1 SPM은, 회수 배관이 아닌, 배액 배관에 유입된다. 기판으로부터 배출된 제1 SPM은, 과산화수소수의 농도가 상대적으로 높고, 황산의 농도가 상대적으로 낮다. 그 뿐만이 아니라, 기판으로부터 배출된 제1 SPM은, 제1 SPM과 레지스트의 반응에 의해서 발생한 많은 오염 물질(레지스트의 탄화물 등)을 포함하고 있다. 따라서, 기판으로부터 배출된 제1 SPM은, 회수에 적절하지 않다.
한편, 기판으로부터 배출된 황산 함유액은, 황산의 농도가 상대적으로 높다. 또한, 기판으로부터 배출된 황산 함유액에 포함되는 오염 물질의 양은, 기판으로부터 배출된 제1 SPM에 포함되는 오염 물질의 양보다 적다. 따라서, 황산의 농도가 상대적으로 높고, 오염 물질의 함유량이 적은 황산 함유액이, 회수 배관으로 인도되어, 과산화수소수와 다시 혼합된다. 이로써, 황산 함유액에 포함되는 황산이 과산화수소수와 반응하여, 새로운 SPM이 작성된다. 그로 인해, SPM의 폐기량을 줄일 수 있다.
이와 같이, 황산의 농도가 높은 황산 함유액을 회수할 수 있다. 또한, 황산의 농도가 높은 상태를 유지하는 것이 아닌, 레지스트를 제거하는 액체의 회수를 개시하기 전에, 과산화수소수의 농도가 높고, 충분한 제거 능력을 갖는 제1 SPM을 기판에 공급한다. 이로써, 레지스트를 효율적으로 기판으로부터 제거할 수 있다. 따라서, 기판으로부터 효율적으로 레지스트를 제거하면서, 황산의 농도가 높은 황산 함유액을 회수할 수 있다.
상기 실시 형태에 있어서, 이하의 특징 중 적어도 하나가, 상기 기판 처리 방법에 추가되어도 된다.
상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며, 상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며, 상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함한다.
이 구성에 의하면, 제1 SPM을 작성하기 위해서 황산 및 과산화수소수가 혼합되고, 작성된 제1 SPM이 기판에 공급된다. 그리고, 제1 SPM의 공급이 정지된 후, 제2 SPM을 작성하기 위해서 황산 및 과산화수소수가 혼합되고, 작성된 제2 SPM이 기판에 공급된다. 이로써, 제1 SPM 및 제2 SPM이 기판에 공급되고, 레지스트가 기판으로부터 제거된다.
제1 SPM을 작성할 때는, 황산 및 과산화수소수가 제1 혼합비로 혼합된다. 제2 SPM을 작성할 때는, 황산 및 과산화수소수가 제2 혼합비로 혼합된다. 제1 혼합비 및 제2 혼합비는, 모두 혼합 전의 과산화수소수의 체적에 대한 혼합 전의 황산의 체적의 비를 나타낸다. 제1 혼합비는, 제2 혼합비보다 작다. 따라서, 제1 SPM에 포함되는 과산화수소수의 농도는, 제2 SPM에 포함되는 과산화수소수의 농도보다 높다.
과산화수소수의 농도가 상대적으로 높으므로, 제1 SPM은, 제2 SPM보다 높은 제거 능력을 갖고 있다. 따라서, 레지스트를 효율적으로 기판으로부터 제거할 수 있다. 그리고, 제1 SPM이 기판에 공급된 후, 제2 SPM이 기판에 공급된다. 제2 SPM은 제거 능력이 제1 SPM보다 뒤떨어지지만, 제1 SPM의 공급에 의해서 거의 모든 레지스트가 기판으로부터 제거되어 있으므로, 비교적 제거하기 쉬운 레지스트밖에 기판에 남아 있지 않다. 그로 인해, 제거 능력이 뒤떨어지는 제2 SPM이어도, 레지스트를 기판으로부터 확실히 제거할 수 있다.
기판에 공급되고 기판으로부터 배출된 제1 SPM은, 회수 배관이 아닌, 배액 배관에 유입된다. 기판으로부터 배출된 제1 SPM은, 과산화수소수의 농도가 상대적으로 높고, 황산의 농도가 상대적으로 낮다. 그 뿐만이 아니라, 기판으로부터 배출된 제1 SPM은, 제1 SPM과 레지스트의 반응에 의해서 발생한 많은 오염 물질(레지스트의 탄화물 등)을 포함하고 있다. 따라서, 기판으로부터 배출된 제1 SPM은, 회수에 적절하지 않다.
한편, 기판으로부터 배출된 제2 SPM은, 황산의 농도가 상대적으로 높다. 또한, 기판으로부터 배출된 제2 SPM에 포함되는 오염 물질의 양은, 기판으로부터 배출된 제1 SPM에 포함되는 오염 물질의 양보다 적다. 따라서, 황산의 농도가 상대적으로 높고, 오염 물질의 함유량이 적은 제2 SPM이, 회수 배관으로 인도되어, 과산화수소수와 다시 혼합된다. 이로써, 제2 SPM에 포함되는 황산이 과산화수소수와 반응하여, 새로운 SPM이 작성된다. 그로 인해, SPM의 폐기량을 줄일 수 있다.
이와 같이, 황산의 농도, 즉, 혼합 전의 황산 및 과산화수소수의 체적에 대한 혼합 전의 황산의 체적의 비율이 클 때에, SPM을 회수하므로, 황산의 농도가 높은 SPM을 회수할 수 있다. 또한, 황산의 농도가 높은 상태를 유지하는 것이 아닌, SPM의 회수를 개시하기 전에, 과산화수소수의 농도가 높고, 충분한 제거 능력을 갖는 SPM을 기판에 공급하므로, 레지스트를 효율적으로 기판으로부터 제거할 수 있다. 따라서, 기판으로부터 효율적으로 레지스트를 제거하면서, 황산의 농도가 높은 SPM을 회수할 수 있다.
제1 SPM의 공급은, 제1 SPM, 또는, 혼합 전의 황산 및 과산화수소수를 기판을 향해서 토출하는 것을 의미한다. 이것은, 제2 SPM이나 후술하는 제3 SPM에 대해서도 동일하다. 즉, 황산 및 과산화수소수는, 기판을 향해서 노즐로부터 토출되기 전에 혼합되어도 되고, 복수의 노즐로부터 토출된 후에 혼합되어도 된다. 후자의 경우, 황산 및 과산화수소수는, 복수의 노즐과 기판 사이의 공간에서 혼합되어도 되고, 기판 상에서 혼합되어도 된다.
상기 기판 처리 방법은, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 기판을 둘러싸고 있고, 상기 배액 배관에 접속된 제1 가드로 하여금 받아내게 하는 제1 SPM 포획 공정과, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 기판을 둘러싸고 있고, 상기 회수 배관에 접속된 제2 가드로 하여금 받아내게 하는 제2 SPM 포획 공정을 더 포함한다.
이 구성에 의하면, 기판으로부터 배출된 제1 SPM이, 기판을 둘러싸는 제1 가드로 하여금 받아내진다. 기판으로부터 배출된 제2 SPM은, 기판을 둘러싸는 제2 가드로 하여금 받아내진다. 제1 가드로 하여금 받아내진 제1 SPM은, 제1 가드에 접속된 배액 배관에 유입된다. 제2 가드로 하여금 받아내진 제2 SPM은, 제2 가드에 접속된 회수 배관에 유입된다.
기판으로부터 배출된 제1 SPM은, 많은 오염 물질을 포함하고 있다. 따라서, 제1 가드가 제1 SPM을 받아낸 후에는, 오염 물질이 제1 가드의 내벽에 잔류하고 있는 경우가 있다. 기판으로부터 배출된 제2 SPM을 제1 가드로 하여금 받아내어 회수하면, 제1 가드에 부착되어 있는 오염 물질이, 제2 SPM에 혼입되는 경우가 있다. 따라서, 제1 가드와는 상이한 제2 가드로 하여금 제2 SPM을 받아내게 함으로써, 회수된 SPM에 포함되는 오염 물질의 양을 줄일 수 있다.
상기 기판 처리 방법은, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지되는 것과 동시에 또는 정지된 후에, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태를, 상기 기판으로부터 배출된 액체를 상기 제1 가드가 받아내는 제1 상태로부터 상기 기판으로부터 배출된 액체를 상기 제2 가드가 받아내는 제2 상태로 전환하는 가드 전환 공정을 더 포함한다.
이 구성에 의하면, 제1 SPM의 공급이 정지되었을 때에 기판으로부터 배출된 제1 SPM은, 제1 가드로 하여금 받아내진다. 그 후, 제1 가드 및 제2 가드의 상태가 제1 상태로부터 제2 상태로 전환되고, 기판으로부터 배출된 제2 SPM이 제2 가드로 하여금 받아내진다. 즉, 오염 물질의 함유량이 많은 제1 SPM의 배출이 종료된 후에, 제1 가드가 기판에 직접 대향한 상태로부터 제2 가드가 기판에 직접 대향한 상태로 전환된다. 이로써, 오염 물질의 함유량이 많은 제1 SPM으로 제2 가드가 오염되는 것을 방지할 수 있다.
상기 가드 전환 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM의 공급이 개시된 후에, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태를, 상기 제1 상태로부터 상기 제2 상태로 전환하는 공정을 포함한다.
이 구성에 의하면, 기판으로부터 배출된 제1 SPM이 제1 가드로 하여금 받아내진다. 그 후, 제2 SPM이 기판에 공급되고, 기판으로부터 배출된다. 제2 SPM의 공급이 개시되었을 때에 기판으로부터 배출된 제2 SPM은, 제1 가드로 하여금 받아내진다. 그 후, 제1 가드 및 제2 가드의 상태가 제1 상태로부터 제2 상태로 전환되고, 기판으로부터 배출된 제2 SPM이 제2 가드로 하여금 받아내진다.
기판으로부터 배출된 제2 SPM에 포함되는 오염 물질의 양은, 기판으로부터 배출된 제1 SPM에 포함되는 오염 물질의 양보다 적다. 따라서, 오염 물질의 함유량이 많은 제1 SPM이 제1 가드로 하여금 받아내지고, 그 후, 오염 물질의 함유량이 적은 제2 SPM이 제1 가드로 하여금 받아내진다. 이로써, 제1 가드의 내벽에 부착되어 있는 오염 물질이 씻어 내어진다. 제1 가드에 부착되어 있는 오염 물질이 마르면, 기판이 배치된 공간을 오염 물질이 떠돌다, 당해 기판에 부착되는 경우가 있다. 따라서, 기판의 오염을 저감할 수 있다.
또한, 제2 SPM의 공급을 개시했을 때는, 비교적 제거하기 쉬운 레지스트가 기판에 남아 있고, 기판으로부터 배출된 제2 SPM에 오염 물질이 포함되는 경우가 있다. 이 경우, 제2 SPM의 공급을 개시하고 나서 어느 정도의 시간이 경과하면, 모든 레지스트가 기판으로부터 제거되고, 오염 물질을 포함하지 않거나 또는 거의 포함하지 않는 제2 SPM이 기판으로부터 배출된다.
제2 SPM의 공급을 개시했을 때에 기판으로부터 배출된 제2 SPM에 오염 물질이 포함되는 경우에도, 이러한 제2 SPM은, 제1 가드를 통해 배액 배관으로 인도된다. 따라서, 오염 물질을 포함하는 제2 SPM이 회수 배관에 회수되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 이러한 제2 SPM을 이용하여 제1 가드를 세정하므로, SPM의 사용량을 늘리는 일 없이, 제1 가드를 세정할 수 있다.
상기 가드 전환 공정은, 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을 상기 제1 가드로 하여금 받아내게 하면서, 상기 기판과 상기 제1 가드를 상하 방향으로 상대적으로 이동하게 하는 상대 이동 공정을 포함한다.
이 구성에 의하면, 기판으로부터 배출된 제2 SPM이 제1 가드로 하여금 받아내질 때에, 기판과 제1 가드를 상하 방향으로 상대적으로 이동시킨다. 이로써, 제2 SPM이 제1 가드의 내벽에 직접 닿는 위치가, 제1 가드에 대해서 상하로 이동한다. 이로써, 제1 가드에 대해서 제2 SPM이 직접 닿는 범위가 넓어지므로, 제1 가드의 내벽에 부착되어 있는 오염 물질을 효과적으로 제거할 수 있다.
상기 상대 이동 공정은, 상기 기판만 또는 상기 제1 가드만을 상하 방향으로 이동시키는 공정이어도 되고, 상기 기판 및 제1 가드의 양방을 상하 방향으로 이동시키는 공정이어도 된다. 상기 상대 이동 공정은, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태가 상기 제2 상태로 전환될 때까지, 상기 제1 가드를 하측 방향으로만 이동시키는 공정이어도 된다. 또, 상기 상대 이동 공정은, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태가 상기 제2 상태로 전환되기 전에, 상기 제1 가드를 일단 정지시키는 공정을 포함하고 있어도 된다.
상기 제1 SPM 공급 공정은, 황산 및 과산화수소수를 노즐 내에서 혼합하고, 상기 노즐 내에서 작성된 상기 제1 SPM을 상기 노즐로부터 상기 기판을 향해서 토출하는 노즐 내 혼합 공정을 포함한다.
이 구성에 의하면, 황산 및 과산화수소수가, 노즐에 공급되고, 노즐 내에서 혼합된다. 이로써, 제1 SPM이 작성된다. 그 후, 제1 SPM이 기판에 공급된다. 황산 및 과산화수소수의 반응에 의해서 생성되는 퍼옥소일황산(카로산이라고도 불린다.)의 산화 능력은, 시간의 경과에 수반하여 저하한다. 황산 및 과산화수소수를 혼합한 직후에, 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM을 기판에 공급하면, 이러한 산화 능력의 저하를 최소한으로 막을 수 있다. 이로써, 제거 능력이 높은 제1 SPM을 기판에 공급할 수 있고, 레지스트의 제거에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다.
상기 기판 처리 방법은, 상기 제1 SPM 공급 공정 및 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 SPM을 상기 기판에 공급하면서, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 상기 제1 혼합비로부터 상기 제2 혼합비까지 연속적으로 증가시키는 혼합비 연속 증가 공정을 더 포함한다.
이 구성에 의하면, SPM이 기판에 공급되고 있을 때에, 혼합비(과산화수소수에 대한 황산의 비)를, 제1 혼합비로부터 제2 혼합비로 연속적으로 증가시킨다. 이로써, 제1 SPM이 기판에 공급되고, 그 후, 제2 SPM이 기판에 공급된다. SPM에 포함되는 과산화수소수가 감소하여, 과산화수소수의 농도가 저하하면, SPM의 온도가 저하한다. 혼합비를 연속적으로 변경하면, SPM의 온도를 연속적으로 변화시킬 수 있다. 따라서, 기판의 급격한 온도 변화를 방지하면서, 레지스트를 효율적으로 제거할 수 있다.
상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정과, 상기 회수 배관에 유입된 상기 제2 SPM을, 황산을 저류하는 황산 탱크에 유입시키는 공정을 포함하며, 상기 기판 처리 방법은, 상기 황산 탱크 내의 황산의 황산 농도를 측정하는 황산 농도 측정 공정과, 상기 황산 농도 측정 공정에 있어서 측정된 황산 농도가 하한치를 밑도는 경우에, 상기 황산 탱크 내의 황산보다 황산 농도가 높은 황산을 상기 황산 탱크 내에 공급하는 황산 보충 공정을 더 포함한다.
회수된 제2 SPM은, 황산 이외의 성분을 포함하지만, 그 절반 이상은 황산이다. SPM의 회수 및 재이용을 반복하면, 회수된 황산의 황산 농도가 서서히 저하해 간다. 바꾸어 말하면, 회수된 SPM에 포함되는 황산의 수분 농도가 서서히 상승해 간다. 회수 배관에 유입된 제2 SPM은, 황산을 저류하는 황산 탱크에 회수된다. 황산 탱크 내의 황산의 황산 농도가 측정되고, 측정된 황산 농도가 하한치를 밑돌면, 황산 탱크 내의 황산보다 황산 농도가 높은 황산이 황산 탱크 내에 공급된다. 이로써, 황산 탱크 내의 황산의 황산 농도를 재이용에 적절한 범위 내에 유지할 수 있다.
상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간보다 길다.
이 구성에 의하면, 제1 SPM이 장시간 기판에 공급된다. 즉, 제1 SPM이 기판에 공급되고 있는 시간은, 제2 SPM이 기판에 공급되고 있는 시간보다 길다. 따라서, 제거 능력이 높은 SPM이 장시간 기판에 공급된다. 그로 인해, 제2 SPM이 장시간 기판에 공급되는 경우에 비해, 레지스트의 제거에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다.
상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간보다 짧다.
이 구성에 의하면, 제2 SPM이 장시간 기판에 공급된다. 즉, 제1 SPM이 기판에 공급되고 있는 시간은, 제2 SPM이 기판에 공급되고 있는 시간보다 짧다. 따라서, 제1 SPM이 장시간 기판에 공급되는 경우에 비해, SPM이 회수되는 시간을 연장할 수 있다. 이로써, 재이용되는 SPM을 늘릴 수 있고, SPM의 폐기량을 줄일 수 있다.
상기 기판 처리 방법은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제3 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제3 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로의 상기 제1 SPM의 공급이 개시되기 전에 상기 기판에 공급하는 제3 SPM 공급 공정을 더 포함한다.
이 구성에 의하면, 과산화수소수의 농도가 높은 제1 SPM을 기판에 공급하기 전에, 황산의 농도가 높은 제3 SPM을 기판에 공급한다. 강도가 낮은 패턴이 기판에 형성되어 있는 경우, 과산화수소수의 농도가 높은 SPM을 기판에 공급하여 레지스트의 제거를 개시하면, 패턴이 데미지를 받는 경우가 있다. 따라서, 과산화수소수의 농도를 단계적 또는 연속적으로 증가시키면, 강도가 낮은 패턴이 기판에 형성되어 있는 경우에도, 패턴의 데미지를 줄일 수 있다.
상기 기판 처리 방법은, 상기 제1 SPM 공급 공정 및 제3 SPM 공급 공정에 있어서 상기 SPM을 상기 기판에 공급하면서, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 상기 제3 혼합비로부터 상기 제1 혼합비까지 연속적으로 감소시키는 혼합비 연속 감소 공정을 더 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 단계적으로 감소시키는 경우에 비해, 패턴의 데미지를 줄일 수 있다. 제3 혼합비는, 제2 혼합비와 동일해도 되고, 상이해도 된다.
상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판을 향해서 토출되는 상기 제2 SPM의 유량(단위 시간당 토출되는 양. 이하, 동일)은, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판을 향해서 토출되는 상기 제1 SPM의 유량보다 크다. 제1 및 제2 SPM 중 적어도 한쪽의 유량이 시간의 경과에 수반하여 변화하는 경우는, 제2 SPM의 유량의 최대치가, 제1 SPM의 유량의 최대치보다 크면 된다. 기판에 공급되는 제2 SPM의 총량은, 기판에 공급되는 제1 SPM의 총량보다 많은 것이 바람직하다.
이 구성에 의하면, 제1 SPM의 공급을 정지한 후에, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 제2 혼합비까지 높임과 더불어, 제1 SPM의 유량보다 큰 유량으로 제2 SPM을 기판을 향해서 토출한다. 과산화수소수의 농도의 감소에 의해서 반응열이 감소하지만, 기판을 향해서 토출되는 SPM의 유량이 증가하므로, 기판 상의 SPM의 온도를 상승시킬 수 있다. 이로써, 과산화수소수의 농도 저하에 수반하는 박리 능력의 저하를 보충할 수 있다.
상기 기판 처리 방법은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제2 혼합비보다 큰 제4 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제4 SPM을, 상기 제2 SPM 공급 공정 후에 상기 기판에 공급하는 제4 SPM 공급 공정을 더 포함하며, 상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정과, 상기 제4 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제4 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며, 상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM 및 제4 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함한다.
이 구성에 의하면, 제2 SPM이 기판에 공급된 후에, 제2 SPM보다 황산의 농도가 높은 제4 SPM이 기판에 공급된다. 제4 SPM은, 제2 SPM과 동일하게, 회수 배관에 유입되고, 새로운 SPM의 작성에 이용된다. 따라서, 회수된 SPM에 포함되는 황산의 농도를 단계적 또는 연속적으로 높일 수 있다. 이로써, 황산의 농도가 높은 SPM을 회수할 수 있다.
상기 제1 SPM 공급 공정은, 상기 제2 SPM의 작성에 이용되는 황산보다 황산 농도가 높은 황산과 과산화수소수를 상기 제1 혼합비로 혼합함으로써 상기 제1 SPM을 작성하는 공정을 포함하며, 상기 제2 SPM 공급 공정은, 상기 회수 배관에 유입된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산과 과산화수소수를 상기 제2 혼합비로 혼합함으로써 상기 제2 SPM을 작성하는 공정을 포함한다.
제2 SPM을 계속 회수하면, 회수된 제2 SPM이 공급되는 황산 탱크 내의 황산에 있어서의 황산의 농도가 점차 저하하고, 황산 탱크 내의 황산을 이용하여 작성된 SPM의 박리 능력이 저하하는 경우가 있다. 고농도의 황산, 즉, 고농도 황산 탱크 내의 황산을 이용하여 SPM을 작성하면, 박리 능력이 높은 SPM을 레지스트의 표면에 접촉시킬 수 있다. 따라서, 레지스트의 표면에 경화층이 형성되어 있어도, 레지스트의 경화층을 파괴할 수 있다. 경화층이 파괴된 후는, 경화층의 균열을 통해 SPM이 레지스트의 내부(경화되어 있지 않은 레지스트)에 침투하므로, 회수된 SPM을 포함하는 황산을 이용하여 작성된 SPM을 기판에 공급해도, 레지스트를 박리 할 수 있다. 이로써, 고농도의 황산의 사용량을 억제하면서, 기판 상의 레지스트를 단시간에 확실히 박리할 수 있다.
본 발명의 다른 실시 형태는, 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 장치로서, 적어도 일부가 레지스트로 덮인 기판을 유지하는 기판 유지 유닛과, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 변경하는 혼합비 변경 유닛을 포함하고, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하며, 황산을 포함하는 황산 함유액을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 유닛과, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배액 배관과, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 회수 배관과, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배관을, 상기 배액 배관 및 회수 배관 사이에서 전환하는 전환 유닛과, 상기 황산 함유액 공급 유닛 및 전환 유닛을 제어하는 제어 장치를 구비하는, 기판 처리 장치를 제공한다.
상기 제어 장치는, 상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제1 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제1 SPM을, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과, 상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM보다 황산 농도가 높은 상기 황산 함유액을 작성하고, 작성된 상기 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과, 상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과, 상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 상기 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과, 상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 실행한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 실시 형태에 있어서, 이하의 특징 중 적어도 하나가, 상기 기판 처리 장치에 추가되어도 된다.
상기 황산 함유액 공급 유닛은, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써, 상기 SPM을 작성하고, 작성된 상기 SPM을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하며, 상기 혼합비 변경 유닛이 설치된 SPM 공급 유닛을 포함한다.
상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제2 SPM을 작성하며, 작성된 상기 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하고, 상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며, 상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 기판 처리 장치는, 상기 배액 배관에 접속되어 있고, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을 둘러싸는 제1 가드와, 상기 회수 배관에 접속되어 있고, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을 둘러싸는 제2 가드를 더 구비하며, 상기 전환 유닛은, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태를, 상기 기판으로부터 배출된 액체를 상기 제1 가드가 받아내는 제1 상태와, 상기 기판으로부터 배출된 액체를 상기 제2 가드가 받아내는 제2 상태 사이에서 전환하는 가드 전환 유닛을 포함하며, 상기 제어 장치는, 상기 가드 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 제1 가드로 하여금 받아내게 하는 제1 SPM 포획 공정과, 상기 가드 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 제2 가드로 하여금 받아내게 하는 제2 SPM 포획 공정을 더 실행한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 제어 장치는, 상기 가드 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지되는 것과 동시에 또는 정지된 후에, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태를, 상기 제1 상태로부터 상기 제2 상태로 전환하는 가드 전환 공정을 더 실행한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 가드 전환 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM의 공급이 개시된 후에, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태를, 상기 제1 상태로부터 상기 제2 상태로 전환하는 공정을 포함한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 가드 전환 유닛은, 상기 제1 가드 및 제2 가드를 개별적으로 승강시키는 가드 승강 유닛을 포함하고, 상기 가드 전환 공정은, 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을 상기 제1 가드로 하여금 받아내게 하면서, 상기 가드 승강 유닛으로 하여금 상기 기판과 상기 제1 가드를 상하 방향으로 상대적으로 이동하게 하는 상대 이동 공정을 포함한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 황산 함유액 공급 유닛은, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을 향해서 상기 SPM을 토출하는 노즐을 포함하고, 상기 제1 SPM 공급 공정은, 황산 및 과산화수소수를 상기 노즐 내에서 혼합하여, 상기 노즐 내에서 작성된 상기 제1 SPM을 상기 노즐로부터 상기 기판을 향해서 토출하는 노즐 내 혼합 공정을 포함한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 제어 장치는, 상기 혼합비 변경 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정 및 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 SPM을 상기 기판에 공급하면서, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 상기 제1 혼합비로부터 상기 제2 혼합비까지 연속적으로 증가시키는 혼합비 연속 증가 공정을 더 실행한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 기판 처리 장치는, 황산을 저류하고 있고, 상기 회수 배관에 유입된 상기 제2 SPM이 유입되는 황산 탱크와, 상기 황산 탱크 내의 황산의 황산 농도를 측정하는 황산 농도계와, 상기 황산 탱크 내의 황산보다 황산 농도가 높은 황산을 상기 황산 탱크 내에 공급하는 황산 보충 유닛을 더 구비하며, 상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정과, 상기 회수 배관에 유입된 상기 제2 SPM을 상기 황산 탱크에 유입시키는 공정을 포함하며, 상기 제어 장치는, 상기 황산 탱크 내의 황산의 황산 농도를, 상기 황산 농도계로 하여금 측정하게 하는 황산 농도 측정 공정과, 상기 황산 농도 측정 공정에 있어서 측정된 황산 농도가 하한치를 밑도는 경우에, 상기 황산 탱크 내의 황산보다 황산 농도가 높은 황산을 상기 황산 보충 유닛에 의해서 상기 황산 탱크 내에 공급하는 황산 보충 공정을 더 실행한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간보다 길다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간보다 짧다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 제어 장치는, 상기 SPM 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제3 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제3 SPM을 작성하며, 작성된 상기 제3 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로의 상기 제1 SPM의 공급이 개시되기 전에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제3 SPM 공급 공정을 더 실행한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판을 향해서 토출되는 상기 제2 SPM의 유량은, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판을 향해서 토출되는 상기 제1 SPM의 유량보다 크다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 제어 장치는, 상기 SPM 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제2 혼합비보다 큰 제4 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제4 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제4 SPM을, 상기 제2 SPM 공급 공정 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제4 SPM 공급 공정을 더 실행하며, 상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정과, 상기 제4 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제4 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며, 상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM 및 제4 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
상기 기판 처리 장치는, 황산을 저류하고 있고, 상기 회수 배관에 유입된 상기 제2 SPM이 유입되는 황산 탱크와, 상기 황산 탱크 내의 황산보다 황산 농도가 높은 황산을 저류하는 고농도 황산 탱크를 더 구비하며, 상기 제1 SPM 공급 공정은, 상기 고농도 황산 탱크 내의 황산과 과산화수소수를 상기 제1 혼합비로 혼합함으로써 상기 제1 SPM을 작성하는 공정을 포함하며, 상기 제2 SPM 공급 공정은, 상기 황산 탱크 내의 황산과 과산화수소수를 상기 제2 혼합비로 혼합함으로써 상기 제2 SPM을 작성하는 공정을 포함한다. 이 구성에 의하면, 전술한 효과와 동일한 효과를 발휘할 수 있다.
본 발명에 있어서의 전술의, 또는 또 다른 목적, 특징 및 효과는, 첨부 도면을 참조하여 다음에 기술하는 실시 형태의 설명에 의해 분명해진다.
도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 따르는 기판 처리 장치의 내부의 레이아웃을 설명하기 위한 도해적인 평면도이다.
도 2는, 기판 처리 장치에 구비된 처리 유닛의 구성예를 설명하기 위한 도해적인 단면도이다.
도 3은, 기판 처리 장치의 전기적 구성을 설명하기 위한 블록도이다.
도 4는, 기판 처리 장치에 의해서 행해지는 기판의 처리의 일례에 대해 설명하기 위한 플로우 차트이다.
도 5는, SPM 공정에 있어서의, 황산 및 과산화수소수의 혼합비의 추이와, 제1 가드 및 제2 가드의 동작 등을 나타내는 타이밍 차트이다.
도 6은, SPM을 작성하기 위해서 황산 및 과산화수소수를 혼합하여, 기판으로부터 회수된 SPM을 다른 기판에 공급할 때의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.
도 7은, 회수된 황산의 농도의 추이를 나타내는 그래프이다.
도 8은, 본 발명의 제2 실시 형태에 따르는 타이밍 차트이며, SPM 공정에 있어서의, 황산 및 과산화수소수의 혼합비의 추이를 나타내고 있다.
도 9는, 본 발명의 제3 실시 형태에 따르는 타이밍 차트이다.
도 10은, 본 발명의 제4 실시 형태에 따르는 타이밍 차트이다.
도 11은, 본 발명의 제5 실시 형태에 따르는 SPM 공급 유닛의 황산 공급부를 도시하는 모식도이다.
도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 따르는 기판 처리 장치(1)의 내부의 레이아웃을 설명하기 위한 도해적인 평면도이다.
기판 처리 장치(1)는, 반도체 웨이퍼 등의 원판형의 기판(W)을 1장씩 처리하는 매엽식의 장치이다. 기판 처리 장치(1)는, 기판(W)을 수용하는 복수의 기판 수용기(C)를 유지하는 복수의 로드 포트(LP)와, 복수의 로드 포트(LP)로부터 반송된 기판(W)을 약액 등의 처리액으로 처리하는 복수(예를 들어 12대)의 처리 유닛(2)과, 복수의 로드 포트(LP)로부터 복수의 처리 유닛(2)으로 기판(W)을 반송하는 반송 로봇과, 기판 처리 장치(1)를 제어하는 제어 장치(3)를 포함한다. 반송 로봇은, 로드 포트(LP)와 처리 유닛(2) 사이의 경로 상에서 기판(W)을 반송하는 인덱서 로봇(IR)과, 인덱서 로봇(IR)과 처리 유닛(2) 사이의 경로 상에서 기판(W)을 반송하는 기판 반송 로봇(CR)을 포함한다.
기판 처리 장치(1)는, 밸브 등을 수용하는 복수의 유체 박스(4)와, 황산을 저류하는 황산 탱크(27)(도 2 참조) 등을 수용하는 저류 박스(6)를 포함한다. 처리 유닛(2) 및 유체 박스(4)는, 기판 처리 장치(1)의 프레임(5) 안에 배치되어 있고, 기판 처리 장치(1)의 프레임(5)으로 덮여 있다. 저류 박스(6)는 도 1의 예에서는, 기판 처리 장치(1)의 프레임(5)의 밖에 배치되어 있으나, 프레임(5) 안에 수용되어 있어도 된다. 저류 박스(6)는, 복수의 유체 박스(4)에 대응하는 1개의 박스여도 되고, 유체 박스(4)에 일대일 대응으로 설치된 복수의 박스여도 된다.
12대의 처리 유닛(2)은, 평면에서 볼 때 기판 반송 로봇(CR)을 둘러싸도록 배치된 4개의 탑을 형성하고 있다. 각 탑은, 상하로 적층된 3대의 처리 유닛(2)을 포함한다. 4대의 저류 박스(6)는, 4개의 탑의 각각에 대응하고 있다. 마찬가지로, 4대의 유체 박스(4)는, 각각 4개의 탑에 대응하고 있다. 각 저류 박스(6) 내의 황산 탱크(27)에 저류되어 있는 황산은, 그 저류 박스(6)에 대응하는 유체 박스(4)를 통해, 이 저류 박스(6)에 대응하는 3대의 처리 유닛(2)에 공급된다.
도 2는, 기판 처리 장치(1)에 구비된 처리 유닛(2)의 구성예를 설명하기 위한 도해적인 단면도이다.
처리 유닛(2)은, 내부 공간을 갖는 상자형의 챔버(7)와, 챔버(7) 내에서 1장의 기판(W)을 수평 자세로 유지하고, 기판(W)의 중심을 지나는 연직인 회전축선(A1) 둘레로 기판(W)을 회전시키는 스핀 척(기판 유지 유닛)(8)과, 스핀 척(8)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면에, 약액의 일례로서의 SPM(황산 과산화수소수 혼합액(sulfuric acid/hydrogen peroxide mixture))을 공급하기 위한 SPM 공급 유닛(약액 공급 유닛)(9)과, 스핀 척(8)에 유지되어 있는 기판(W)의 상면에 린스액을 공급하기 위한 린스액 공급 유닛(10)과, 스핀 척(8)을 둘러싸는 통형의 처리 컵(11)을 포함한다.
챔버(7)는, 상자형의 격벽(12)과, 격벽(12)의 상부로부터 격벽(12) 내(챔버(7) 내에 상당)로 청정 공기를 보내는 송풍 유닛으로서의 FFU(팬·필터·유닛) (14)와, 격벽(12)의 하부로부터 챔버(7) 내의 기체를 배출하는 배기 장치(도시 생략)를 포함한다. FFU(14)는 격벽(12)의 상방에 배치되어 있고, 격벽(12)의 천정에 장착되어 있다. FFU(14)는, 격벽(12)의 천정으로부터 챔버(7) 내로 청정 공기를 보낸다. 배기 장치(도시 생략)는, 처리 컵(11)에 접속된 배기 덕트(13)를 통해 처리 컵(11)의 저부에 접속되어 있고, 처리 컵(11)의 저부로부터 처리 컵(11) 내의 기체를 흡인한다. FFU(14) 및 배기 장치(도시 생략)에 의해, 챔버(7) 내에 다운 플로우(하강류)가 형성된다.
스핀 척(8)으로서, 기판(W)을 수평 방향으로 끼워 기판(W)을 수평으로 유지하는 협지식의 척이 채용되고 있다. 구체적으로는, 스핀 척(8)은, 스핀 모터(회전 유닛)(M)와, 이 스핀 모터(M)의 구동축과 일체화된 스핀축(15)과, 스핀축(15)의 상단에 대략 수평으로 장착된 원판형의 스핀 베이스(16)를 포함한다.
스핀 베이스(16)는, 기판(W)의 외경보다 큰 외경을 갖는 수평인 원형의 상면(16a)을 포함한다. 상면(16a)에는, 그 주연부에 복수개(3개 이상. 예를 들어 6개)의 협지 부재(17)가 배치되어 있다. 복수개의 협지 부재(17)는, 스핀 베이스(16)의 상면 주연부에 있어서, 기판(W)의 외주 형상에 대응하는 원주 상에서 적당한 간격을 두고 배치되어 있다.
SPM 공급 유닛(9)은, 기판(W)의 상면을 향해서 SPM을 토출하는 SPM 노즐(18)과, SPM 노즐(18)이 선단부에 장착된 노즐 아암(19)과, 노즐 아암(19)을 이동시킴으로써, SPM 노즐(18)을 이동시키는 노즐 이동 유닛(20)을 포함한다. SPM 노즐(18)은, 예를 들어, 연속류의 상태로 SPM을 토출하는 스트레이트 노즐이다. SPM 노즐(18)은, 예를 들어, 기판(W)의 상면에 수직인 방향으로 처리액을 토출하는 수직 자세로 노즐 아암(19)에 장착되어 있다. 노즐 아암(19)은 수평 방향으로 연장되어 있다.
노즐 이동 유닛(20)은, 처리 컵(11)의 둘레에 설정된 연직인 요동축선 둘레로 노즐 아암(19)을 수평 이동시킴으로써, SPM 노즐(18)을 수평으로 이동시킨다. 노즐 이동 유닛(20)은, SPM 노즐(18)로부터 토출된 SPM이 기판(W)의 상면에 착액 하는 처리 위치와, SPM 노즐(18)이 평면에서 봤을 때 스핀 척(8)의 주위에 위치하는 퇴피 위치 사이에서, SPM 노즐(18)을 수평으로 이동시킨다. 이 실시 형태에서는, 처리 위치는, 예를 들어, SPM 노즐(18)로부터 토출된 SPM이 기판(W)의 상면 중앙부에 착액하는 중앙 위치이다.
SPM 공급 유닛(9)은, SPM 노즐(18)에 황산(H2SO4)을 공급하는 황산 공급 유닛(21)을 포함한다. 황산 공급 유닛(21)은, SPM 노즐(18)에 일단이 접속된 황산 배관(23)과, 황산 배관(23)을 개폐하기 위한 황산 밸브(24)와, 황산 배관(23)의 개도를 조정하여, 황산 배관(23)을 유통하는 황산의 유량을 조정하는 황산 유량 조정 밸브(25)와, 황산 배관(23)의 타단이 접속된 황산 공급부(26)를 포함한다. 황산 밸브(24) 및 황산 유량 조정 밸브(25)는, 유체 박스(4)에 수용되어 있다. 황산 공급부(26)는 저류 박스(6)에 수용되어 있다.
도시는 생략하나, 황산 밸브(24)는, 액체가 흐르는 내부 유로와 내부 유로를 둘러싸는 환상의 밸브 시트가 설치된 밸브 보디와, 밸브 시트에 대해서 이동 가능한 밸브체와, 밸브체가 밸브 시트에 접촉하는 닫힘 위치와 밸브체가 밸브 시트로부터 멀어진 열림 위치 사이에서 밸브체를 이동시키는 액추에이터를 포함한다. 다른 밸브에 대해서도 동일하다. 액추에이터는, 공압 액추에이터 또는 전동 액추에이터여도 되고, 이들 이외의 액추에이터여도 된다. 제어 장치(3)는, 액추에이터를 제어함으로써, 황산 밸브(24)를 개폐시킨다.
황산 공급부(26)는, 황산 배관(23)에 공급해야 할 황산을 저류하는 황산 탱크(27)와, 처리 컵(11)으로부터 회수된 황산을 저류하는 회수 탱크(29)와, 회수 탱크(29)에 저류되어 있는 황산을 황산 탱크(27)로 보내기 위한 송액 배관(30)과, 회수 탱크(29) 내의 황산을 송액 배관(30)으로 이동시키는 제1 송액 장치(31)와, 황산 탱크(27)와 황산 배관(23)을 접속하는 황산 공급 배관(32)과, 황산 공급 배관(32)을 유통하는 황산을 가열하여 온도 조정하는 온도 조정기(33)와, 황산 탱크(27) 내의 황산을 황산 공급 배관(32)으로 이동시키는 제2 송액 장치(34)를 포함한다.
온도 조정기(33)는, 황산 탱크(27)의 황산 내에 침지되어 있어도 되고, 도 2에 도시한 바와 같이 황산 공급 배관(32)의 도중부에 끼워 설치되어 있어도 된다. 황산 공급부(26)는, 황산 공급 배관(32)을 흐르는 황산을 여과하는 필터, 및/또는 황산 공급 배관(32)을 흐르는 황산의 온도를 계측하는 온도계를 더 구비하고 있어도 된다. 또한, 이 실시 형태에서는, 황산 공급부(26)가 2개의 탱크를 갖고 있으나, 회수 탱크(29)가 생략되고, 처리 컵(11)으로부터 회수된 황산이 직접 황산 탱크(27)에 공급되어도 된다. 제1 송액 장치(31) 및 제2 송액 장치(34)는, 예를 들어 펌프이다. 펌프는, 황산 등의 액체를 빨아들이고, 그 빨아들인 액체를 토출한다.
황산 공급부(26)는, 황산 공급 배관(32)으로부터 황산 탱크(27)로 황산을 안내하는 리턴 배관(38)과, 리턴 배관(38)을 개폐하는 리턴 밸브(39)를 포함한다. 리턴 배관(38)의 상류단은, 황산 밸브(24)의 상류에서 황산 공급 배관(32)에 접속되어 있고, 리턴 배관(38)의 하류단은, 황산 탱크(27)에 접속되어 있다. 황산 밸브(24)가 닫히고, 리턴 밸브(39)가 열리면, 황산 탱크(27)로부터 황산 공급 배관(32)으로 보내진 황산이, 리턴 배관(38)을 통해 황산 탱크(27)로 돌아간다. 이로써, 황산 탱크(27) 내의 황산이, 황산 탱크(27), 황산 공급 배관(32), 및 리턴 배관(38)에 의해서 형성된 환상의 순환로를 순환한다.
황산 공급부(26)는, 황산 탱크(27) 내의 황산의 황산 농도를 측정하는 황산 농도계(C1)와, 새로운 황산을 황산 탱크(27)에 보충하는 황산 보충 배관(28p)과, 황산 보충 배관(28p)을 개폐하는 황산 보충 밸브(28v)를 포함한다. 황산 농도계(C1)는, 황산 탱크(27)에 장착되어 있어도 되고, 황산 공급 배관(32) 또는 리턴 배관(38)에 장착되어 있어도 된다. 도 2는, 황산 농도계(C1)가 리턴 배관(38)에 장착되어 있는 예를 도시하고 있다. 이 경우, 황산 농도계(C1)는, 황산 공급 배관(32)을 통해 리턴 배관(38)으로 보내진 황산 탱크(27) 내의 황산의 황산 농도를 측정한다.
SPM 공급 유닛(9)은, SPM 노즐(18)에 과산화수소수(H2O2)를 공급하는 과산화수소수 공급 유닛(22)을 포함한다. 과산화수소수 공급 유닛(22)은, SPM 노즐(18)에 접속된 과산화수소수 배관(35)과, 과산화수소수 배관(35)을 개폐하기 위한 과산화수소수 밸브(36)와, 과산화수소수 밸브(36)의 개도를 조정하여, 과산화수소수 밸브(36)를 유통하는 과산화수소수의 유량을 조정하는 과산화수소수 유량 조정 밸브(37)를 포함한다. 과산화수소수 밸브(36) 및 과산화수소수 유량 조정 밸브(37)는, 유체 박스(4)에 수용되어 있다. 과산화수소수 배관(35)에는, 저류 박스(6)에 수용된 과산화수소수 공급원으로부터, 온도 조정되어 있지 않은 상온(20~30℃) 정도의 과산화수소수가 공급된다.
황산 밸브(24) 및 과산화수소수 밸브(36)가 열리면, 황산 배관(23)으로부터의 황산 및 과산화수소수 배관(35)으로부터의 과산화수소수가, SPM 노즐(18)의 케이싱(도시 생략) 내로 공급되고, 케이싱 내에 있어서 충분히 혼합(교반)된다. 이 혼합에 의해서, 황산과 과산화수소수가 균일하게 서로 섞여, 황산과 과산화수소수의 반응에 의해서 황산 및 과산화수소수의 혼합액(SPM)이 생성된다. SPM은, 산화력이 강한 퍼옥소일황산(Peroxymonosulfuric acid；H2SO5)을 포함하고, 혼합 전의 황산 및 과산화수소수의 온도보다 높은 온도(100℃이상. 예를 들어 160~220℃)까지 승온된다. 생성된 고온의 SPM은, SPM 노즐(18)의 케이싱의 선단(예를 들어 하단)으로 개구한 토출구로부터 토출된다.
SPM 노즐(18)에 공급되는 황산의 유량은, 황산 유량 조정 밸브(25)에 의해서 변경된다. SPM 노즐(18)에 공급되는 과산화수소수의 유량은, 과산화수소수 유량 조정 밸브(37)에 의해서 변경된다. 따라서, 황산 및 과산화수소수의 혼합비는, 황산 유량 조정 밸브(25) 및 과산화수소수 유량 조정 밸브(37)에 의해서 변경된다. 황산 및 과산화수소수의 혼합비(황산 및 과산화수소수의 유량비)는, 예를 들어, 30：1(황산：과산화수소수)~2：1(황산：과산화수소수)의 범위 내에서 조정된다.
린스액 공급 유닛(10)은, 기판(W)의 상면을 향해서 린스액을 토출하는 린스액 노즐(47)을 포함한다. 린스액 노즐(47)은, 예를 들어, 연속류의 상태로 액을 토출하는 스트레이트 노즐이다. 린스액 노즐(47)은, 챔버(7)의 격벽(12)에 대해서 고정된 고정 노즐이다. 린스액 노즐(47)의 토출구는, 기판(W)의 상면 중앙부를 향하고 있다. 린스액 노즐(47)은, 챔버(7) 내에서 이동 가능한 스캔 노즐이어도 된다. 즉, 린스액 공급 유닛(10)은, 린스액 노즐(47)을 이동시킴으로써, 기판(W)의 상면에 대한 린스액의 착액 위치를 기판(W)의 상면 내에서 이동시키는 노즐 이동 유닛을 구비하고 있어도 된다.
린스액 노즐(47)은, 린스액 공급원으로부터의 린스액을 안내하는 린스액 배관(48)에 접속되어 있다. 린스액 배관(48)의 도중부에는, 린스액 노즐(47)로부터의 린스액의 공급/공급 정지를 전환하기 위한 린스액 밸브(49)가 끼워 설치되어 있다. 린스액 밸브(49)가 열리면, 린스액이 린스액 배관(48)으로부터 린스액 노즐(47)에 공급되고, 린스액 노즐(47)의 하단에 설치된 토출구로부터 토출된다.
린스액 밸브(49)가 닫히면, 린스액 배관(48)으로부터 린스액 노즐(47)로의 린스액의 공급이 정지된다. 린스액은, 예를 들어 탈이온수(DIW(Deionized Water))이지만, DIW에 한정되지 않으며, 탄산수, 전해 이온수, 수소수, 오존수, 암모니아수 및 희석 농도(예를 들어, 10ppm~100ppm 정도)의 염산수 중 어느 하나여도 된다. 린스액은, 상온(20~30℃)이어도 되고, 기판(W)에 공급되기 전에 가열되어 있어도 된다.
처리 컵(11)은, 스핀 척(8)에 유지되어 있는 기판(W)보다 외방(회전축선(A1)으로부터 멀어지는 방향)에 배치되어 있다. 처리 컵(11)은, 스핀 베이스(16)의 측방을 둘러싸고 있다. 스핀 척(8)이 기판(W)을 회전시키고 있는 상태로, 처리액이 기판(W)에 공급되면, 기판(W)에 공급된 처리액이 기판(W)의 주위에 흩뿌려진다. 처리액이 기판(W)에 공급될 때, 상향으로 열린 처리 컵(11)의 상단부(11a)는, 스핀 베이스(16)보다 상방에 배치된다. 따라서, 기판(W)의 주위에 배출된 약액이나 물 등의 처리액은, 처리 컵(11)에 의해서 받아내진다. 그리고, 처리 컵(11)으로 하여금 받아내진 처리액은, 회수 탱크(29) 또는 도시 생략한 폐액 장치로 보내진다.
처리 컵(11)은, 기판(W)의 주위에 비산한 처리액(약액 또는 린스액)을 받아내는 복수의 통형의 가드(43~45)(제1, 제2 및 제3 가드(43, 44, 45))와, 복수의 가드(43~45)에 의해서 안내된 처리액을 받아내는 환상의 복수의 컵(41, 42)과, 복수의 가드(43~45) 및 복수의 컵(41, 42)을 둘러싸는 원통 부재(40)를 포함한다.
처리 컵(11)은, 또한, 개개의 가드(43~45)를 독립적으로 승강시키는 가드 승강 유닛(46)을 포함한다. 가드 승강 유닛(46)은, 예를 들어, 동력을 발생시키는 전동 모터와, 전동 모터의 동력을 어느 한 가드(43~45)에 전달하는 볼나사 기구를 포함한다. 가드 승강 유닛(46)이 3개의 가드(43~45) 중 적어도 하나를 승강시키면, 처리 컵(11)의 상태가 전환된다.
후술하는 바와 같이, 처리 컵(11)의 상태는, 모든 가드(43~45)의 상단이 기판(W)보다 하방에 배치된 퇴피 상태(도 2에 도시한 상태)와, 제1 가드(43)가 기판(W)의 둘레단면에 대향하는 제1 대향 상태와, 제2 가드(44)가 기판(W)의 둘레단면에 대향하는 제2 대향 상태와, 제3 가드(45)가 기판(W)의 둘레단면에 대향하는 제3 대향 상태 중 어느 하나로 전환된다.
제1 컵(41)은, 원통 부재(40)의 내측에서 스핀 척(8)을 둘러싸고 있다. 제1 컵(41)은, 기판(W)의 처리에 사용된 처리액이 유입되는 환상의 제1 홈(50)을 구획하고 있다. 제1 홈(50)의 저부의 가장 낮은 개소에는, 배액구(51)가 개구되어 있고, 배액구(51)에는, 제1 배액 배관(52)이 접속되어 있다. 제1 배액 배관(52)에 도입되는 처리액은, 배액 장치로 보내지고, 당해 장치에서 처리된다.
제2 컵(42)은, 원통 부재(40)의 내측에서 제1 컵(41)을 둘러싸고 있다. 제2 컵(42)은, 기판(W)의 처리에 사용된 처리액이 유입되는 환상의 제2 홈(53)을 구획하고 있다. 제2 홈(53)의 저부의 가장 낮은 개소에는, 배액/회수구(54)가 개구되어 있고, 배액/회수구(54)에는, 공용 배관(55)이 접속되어 있다. 회수 배관(56) 및 제2 배액 배관(57)은, 공용 배관(55)으로부터 분기하고 있다. 회수 배관(56)의 상류단은, 공용 배관(55)에 접속되어 있고, 회수 배관(56)의 하류단은, 황산 공급부(26)의 회수 탱크(29)에 접속되어 있다.
회수 배관(56)에는 회수 밸브(58)가 끼워 설치되어 있고, 제2 배액 배관(57)에는 배액 밸브(59)가 끼워 설치되어 있다. 배액 밸브(59)가 닫히고, 회수 밸브(58)가 열리면, 공용 배관(55) 내를 흐르는 액이 회수 배관(56)으로 인도된다. 또, 배액 밸브(59)가 열리고, 회수 밸브(58)가 닫히면, 공용 배관(55) 내를 흐르는 액이 제2 배액 배관(57)으로 인도된다. 회수 밸브(58) 및 배액 밸브(59)는, 기판(W)으로부터 배출된 액이 유입되는 배관을 회수 배관(56)과 제2 배액 배관(57) 사이에서 전환하는 회수 배액 전환 유닛에 포함된다.
가장 내측의 제1 가드(43)는, 원통 부재(40)의 내측에서 스핀 척(8)을 둘러싸고 있다. 제1 가드(43)는, 스핀 척(8)의 주위를 둘러싸는 원통형의 하단부(63)와, 하단부(63)의 상단으로부터 외방(기판(W)의 회전축선(A1)으로부터 멀어지는 방향)으로 연장되는 통형부(64)와, 통형부(64)의 상단으로부터 연직 상방으로 연장되는 원통형의 중단부(65)와, 중단부(65)의 상단으로부터 내방(기판(W)의 회전축선(A1)에 가까워지는 방향)을 향해 비스듬한 상방으로 연장되는 원환상의 상단부(66)를 포함한다.
제1 가드(43)의 하단부(63)는, 제1 컵(41)의 제1 홈(50) 상에 위치하고 있다. 제1 가드(43)의 상단부(66)의 내주단은, 평면에서 봤을 때, 스핀 척(8)에 유지되는 기판(W)보다 대경의 원형을 이루고 있다. 도 2에 도시한 바와 같이, 제1 가드(43)의 상단부(66)의 단면 형상은 직선형이다. 상단부(66)의 단면 형상은, 원호 등의 직선형 이외의 형상이어도 된다.
내측으로부터 2번째의 제2 가드(44)는, 원통 부재(40)의 내측에서 제1 가드(43)를 둘러싸고 있다. 제2 가드(44)는, 제1 가드(43)를 둘러싸는 원통부(67)와, 원통부(67)의 상단으로부터 중심측(기판(W)의 회전축선(A1)에 가까워지는 방향)에 비스듬한 상방으로 연장되는 원환상의 상단부(68)를 갖고 있다. 제2 가드(44)의 원통부(67)는, 제2 컵(42)의 제2 홈(53) 상에 위치하고 있다.
제2 가드(44)의 상단부(68)의 내주단은, 평면에서 봤을 때, 스핀 척(8)에 유지되는 기판(W)보다 대경의 원형을 이루고 있다. 제2 가드(44)의 상단부(68)의 단면 형상은 직선형이다. 상단부(68)의 단면 형상은, 원호 등의 직선형 이외의 형상이어도 된다. 제2 가드(44)의 상단부(68)는, 제1 가드(43)의 상단부(66)와 상하 방향으로 겹쳐져 있다. 제2 가드(44)의 상단부(68)는, 제1 가드(43)와 제2 가드(44)가 가장 근접한 상태로 제1 가드(43)의 상단부(66)에 대해서 미소한 간극을 유지하여 근접하도록 형성되어 있다.
내측으로부터 3번째의 제3 가드(45)는, 원통 부재(40)의 내측에서 제2 가드(44)를 둘러싸고 있다. 제3 가드(45)는, 제2 가드(44)를 둘러싸는 원통부(70)와, 원통부(70)의 상단으로부터 중심측(기판(W)의 회전축선(A1)에 가까워지는 방향)에 비스듬한 상방으로 연장되는 원환상의 상단부(71)를 갖고 있다. 상단부(71)의 내주단은, 평면에서 봤을 때, 스핀 척(8)에 유지되는 기판(W)보다 대경의 원형을 이루고 있다. 상단부(71)의 단면 형상은 직선형이다. 상단부(71)의 단면 형상은, 원호 등의 직선형 이외의 형상이어도 된다.
제1 컵(41)의 제1 홈(50), 제1 가드(43)의 내벽(43a) 및 스핀 척(8)의 케이싱의 외주는, 기판(W)의 처리에 이용된 약액이 인도되는 제1 유통 공간(바꾸어 말하면, 배액 공간)(S1)을 구획하고 있다. 제2 컵(42)의 제2 홈(53), 제1 가드(43)의 외벽(43b) 및 제2 가드(44)의 내벽(44a)은, 기판(W)의 처리에 이용된 약액이 인도되는 제2 유통 공간(바꾸어 말하면, 회수 공간)(S2)을 구획하고 있다. 제1 유통 공간(S1)과 제2 유통 공간(S2)은, 제1 가드(43)에 의해서 서로 격리되어 있다.
가드 승강 유닛(46)은, 가드(43~45)의 상단부가 기판(W)보다 상방에 위치하는 상위치(上位置)와, 가드(43~45)의 상단부가 기판(W)보다 하방에 위치하는 하위치(下位置) 사이에서, 각 가드(43~45)를 승강시킨다. 가드 승강 유닛(46)은, 상위치와 하위치 사이의 임의의 위치에서 각 가드(43~45)를 유지 가능하다. 기판(W)으로의 처리액의 공급은, 어느 한 가드(43~45)가 기판(W)의 둘레단면에 대향하고 있는 상태에서 행해진다.
가장 내측의 제1 가드(43)를 기판(W)의 둘레단면에 대향시키는, 처리 컵(11)의 제1 대향 상태에서는, 제1~제3 가드(43~45) 전부가 상위치(처리 높이 위치)에 배치된다. 내측으로부터 2번째의 제2 가드(44)를 기판(W)의 둘레단면에 대향시키는, 처리 컵(11)의 제2 대향 상태에서는, 제2 및 제3 가드(44, 45)가 상위치에 배치되고, 또한 제1 가드(43)가 하위치에 배치된다. 가장 외측의 제3 가드(45)를 기판(W)의 둘레단면에 대향시키는, 처리 컵(11)의 제3 대향 상태에서는, 제3 가드(45)가 상위치에 배치되고, 또한 제1 및 제2 가드(43, 44)가 하위치에 배치된다. 모든 가드(43~45)를, 기판(W)의 둘레단면으로부터 퇴피시키는 퇴피 상태(도 2 참조)에서는, 제1~제3 가드(43~45) 전부가 하위치에 배치된다.
후술하는 바와 같이, 처리 컵(11)을 제1 대향 상태로부터 제2 대향 상태로 전환할 때에, 제1 가드(43)는, 제2 및 제3 가드(44, 45)가 상위치에 배치되어 있는 상태로, 상위치와 하위치 사이의 세정 높이 위치에 배치된다. 이 상태는, 처리 컵(11)이 제1 대향 상태로부터 제2 대향 상태로 전환되는 이행 상태이다. 처리 컵(11)은, 제1~제3 대향 상태, 퇴피 상태, 및 이행 상태를 포함하는 복수의 상태 중 어느 하나로 전환된다. 이행 상태는, 제1 가드(43)가 기판(W)의 둘레단면에 대향하는 상태이다.
도 3은, 기판 처리 장치(1)의 전기적 구성을 설명하기 위한 블록도이다.
제어 장치(3)는, 예를 들어 컴퓨터이다. 제어 장치(3)는, CPU 등의 연산 유닛과, 고정 메모리 디바이스, 하드 디스크 드라이브 등의 기억 유닛과, 정보의 입력 및 출력이 행해지는 입출력 유닛을 갖고 있다. 기억 유닛은, 연산 유닛에 의해서 실행되는 컴퓨터 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체를 포함한다. 기록 매체에는, 제어 장치(3)에 후술하는 레지스트 제거 처리를 실행시키도록 단계 군이 편입되어 있다.
제어 장치(3)는, 미리 정해진 프로그램에 따라서, 스핀 모터(M), 노즐 이동 유닛(20), 가드 승강 유닛(46), 제1 송액 장치(31) 및 제2 송액 장치(34), 온도 조정기(33) 등의 동작을 제어한다. 또, 제어 장치(3)는, 미리 정해진 프로그램에 따라서, 황산 밸브(24), 과산화수소수 밸브(36), 린스액 밸브(49) 등의 개폐 동작을 제어한다. 또, 제어 장치(3)는, 미리 정해진 프로그램에 따라서, 황산 유량 조정 밸브(25), 과산화수소수 유량 조정 밸브(37)의 개도를 조정한다. 황산 농도계(C1)의 측정치는, 제어 장치(3)에 입력된다.
도 4는, 기판 처리 장치(1)에 의해서 행해지는 기판(W)의 처리의 일례에 대해 설명하기 위한 플로우 차트이다.
이하에서는, 도 1~도 4를 참조하면서, 기판(W)의 처리의 일례에 대해 설명한다. 이 기판(W)의 처리의 일례는, 기판(W)의 상면(주면)으로부터 레지스트를 제거하는 레지스트 제거 처리이다. 레지스트는, 예를 들어, 탄소를 포함하는 화합물에 의해서 형성된 포토레지스트이다.
기판 처리 장치(1)에 의해서 기판(W)이 처리될 때, 제어 장치(3)는, 모든 노즐이 스핀 척(8)의 상방으로부터 퇴피하고 있고, 모든 가드(43~45)가 하위치에 위치하고 있는 상태로, 기판(W)의 표면(디바이스 형성면)의 적어도 일부가 레지스트로 덮인 기판(W)을 유지하고 있는 기판 반송 로봇(CR)(도 1 참조)의 핸드를 챔버(7)의 내부에 진입시킨다. 이로써, 기판(W)은, 그 표면이 위를 향한 상태로 스핀 척(8)에 건네지고, 스핀 척(8)에 유지된다(기판 유지 공정).
기판(W)이 스핀 척(8)에 유지된 후, 제어 장치(3)는, 스핀 모터(M)에 회전을 개시시킨다. 이로써, 기판(W)의 회전이 개시된다(도 4의 S2. 기판 회전 공정). 기판(W)의 회전 속도는, 미리 정한 액처리 속도(300~1500rpm의 범위 내에서, 예를 들어 500rpm)까지 상승되고, 그 액처리 속도에 유지된다. 그리고, 기판(W)의 회전 속도가 액처리 속도에 도달하면, 제어 장치(3)는, SPM 공정(약액 공급 공정)(S3)을 실행한다.
구체적으로는, 제어 장치(3)는, 노즐 이동 유닛(20)을 제어하여, SPM 노즐(18)을, 퇴피 위치로부터 처리 위치로 이동시킨다. 또, 제어 장치(3)는, 황산 밸브(24) 및 과산화수소수 밸브(36)를 동시에 연다. 이로써, 황산 배관(23)을 지나 황산이 SPM 노즐(18)에 공급됨과 더불어, 과산화수소수 배관(35)을 지나 과산화수소수가 SPM 노즐(18)에 공급된다. SPM 노즐(18)의 내부에 있어서 황산과 과산화수소수가 혼합되어, 고온(예를 들어, 160~220℃)의 SPM이 생성된다. 그 SPM이, SPM 노즐(18)의 토출구로부터 토출되고, 기판(W)의 상면 중앙부에 착액한다.
SPM 노즐(18)로부터 토출된 SPM은, 기판(W)의 상면에 착액한 후, 원심력에 의해서 기판(W)의 상면을 따라서 외방으로 흐른다. 그로 인해, SPM이 기판(W)의 상면 전역에 공급되고, 기판(W)의 상면 전역을 덮는 SPM의 액막이 기판(W) 상에 형성된다. 이로써, 레지스트와 SPM이 화학 반응하여, 기판(W) 상의 레지스트가 SPM에 의해서 기판(W)으로부터 제거된다. 기판(W)의 주연부로 이동한 SPM은, 기판(W)의 주연부로부터 기판(W)의 측방을 향해서 비산한다.
또한, 제어 장치(3)는, SPM 공정 S3에 있어서, 노즐 이동 유닛(20)을 제어하여, SPM 노즐(18)을, 기판(W)의 상면의 주연부에 대향하는 주연 위치와, 기판(W)의 상면의 중앙부에 대향하는 중앙 위치 사이에서 이동시켜도 된다. 이 경우, 기판(W)의 상면에 있어서의 SPM의 착액 위치가, 기판(W)의 상면의 전역을 통과하므로, 기판(W)의 상면의 전역이 SPM의 착액 위치에서 주사된다. 이로써, 기판(W)의 상면 전역이 균일하게 처리된다.
SPM의 토출 개시로부터 미리 정한 기간이 경과하면, 제어 장치(3)는, 황산 밸브(24) 및 과산화수소수 밸브(36)를 닫아, SPM 노즐(18)로부터의 SPM의 토출을 정지한다. 이로써, SPM 공정 S3이 종료된다. 그 후, 제어 장치(3)가 노즐 이동 유닛(20)(도 2 참조)을 제어하여, SPM 노즐(18)을 퇴피 위치로 되돌린다.
이어서, 린스액을 기판(W)에 공급하는 린스 공정(도 4의 S4)이 행해진다. 구체적으로는, 제어 장치(3)는, 린스액 밸브(49)를 열어, 기판(W)의 상면 중앙부를 향해서 린스액 노즐(47)에 린스액을 토출시킨다. 린스액 노즐(47)로부터 토출된 린스액은, SPM에 의해서 덮여 있는 기판(W)의 상면 중앙부에 착액한다. 기판(W)의 상면 중앙부에 착액한 린스액은, 기판(W)의 회전에 의한 원심력을 받아 기판(W)의 상면 위를 기판(W)의 주연부를 향해서 흐른다. 이로써, 기판(W) 상의 SPM이, 린스액에 의해서 외방으로 밀려, 기판(W)의 주위로 배출된다. 그 결과, SPM 및 레지스트(레지스트 잔사)가 기판(W)의 상면의 전역으로부터 씻어 내어진다. 린스 공정 S4의 개시로부터 미리 정한 기간이 경과하면, 제어 장치(3)는, 린스액 밸브(49)를 닫아, 린스액 노즐(47)에 린스액의 토출을 정지시킨다.
이어서, 기판(W)을 건조시키는 건조 공정(도 4의 S5)이 행해진다. 구체적으로는, 제어 장치(3)는, 스핀 모터(M)를 제어함으로써, SPM 공정 S3 및 린스 공정 S4까지의 회전 속도보다 큰 건조 회전 속도(예를 들어 수천rpm)까지 기판(W)을 가속시켜, 건조 회전 속도로 기판(W)을 회전시킨다. 이로써, 큰 원심력이 기판(W) 상의 액에 가해져, 기판(W)에 부착되어 있는 액이 기판(W)의 주위에 흩뿌려진다. 이와 같이 하여, 기판(W)으로부터 액이 제거되고, 기판(W)이 건조된다. 그리고, 기판(W)의 고속 회전이 개시되고 나서 소정 시간이 경과하면, 제어 장치(3)는, 스핀 모터(M)를 정지시켜, 스핀 척(8)에 의한 기판(W)의 회전을 정지시킨다(도 4의 S6).
이어서, 챔버(7) 내로부터 기판(W)이 반출된다(도 4의 S7). 구체적으로는, 제어 장치(3)는, 모든 가드(43~45)가 하위치에 위치하고 있는 상태로, 기판 반송 로봇(CR)의 핸드를 챔버(7)의 내부로 진입시킨다. 그리고, 제어 장치(3)는, 기판 반송 로봇(CR)의 핸드에 스핀 척(8) 상의 기판(W)을 유지시킨다. 그 후, 제어 장치(3)는, 기판 반송 로봇(CR)의 핸드를 챔버(7) 내로부터 퇴피시킨다. 이로써, 표면(디바이스 형성면)으로부터 레지스트가 제거된 기판(W)이 챔버(7)로부터 반출된다.
다음으로, SPM 공정(도 4의 S3)에 있어서의, 황산 및 과산화수소수의 혼합비의 추이와, 제1 가드(43) 및 제2 가드(44)의 동작 등에 대해 설명한다.
도 5는, SPM 공정(도 4의 S3)에 있어서의, 황산 및 과산화수소수의 혼합비의 추이와, 제1 가드(43) 및 제2 가드(44)의 동작 등을 나타내는 타이밍 차트이다. 도 5에 있어서, 회수의 ON은, 기판(W)으로부터 배출된 SPM이 제2 가드(44)를 통해 회수 배관(56)에 유입되는 것을 나타내고, 회수의 OFF는, 회수 배관(56)으로의 SPM의 유입이 정지되어 있는 것을 나타낸다. 도 5에 있어서, 배액의 ON은, 기판(W)으로부터 배출된 SPM이 제1 가드(43)를 통해 제1 배액 배관(52)에 유입되는 것을 나타내고, 배액의 OFF는, 제1 배액 배관(52)으로의 SPM의 유입이 정지되어 있는 것을 나타낸다. 이하에서는, 도 2 및 도 5를 참조한다. 이하의 동작 등은, 제어 장치(3)가 기판 처리 장치(1)를 제어함으로써 실행된다. 바꾸어 말하면, 제어 장치(3)는, 이하의 동작 등을 실행하도록 프로그램되어 있다.
도 5에 도시한 시각 T1에서 황산 밸브(24) 및 과산화수소수 밸브(36)가 열리면, 황산이 제1 H2SO4 유량으로 SPM 노즐(18)에 공급되고, 과산화수소수가 제1 H2O2 유량으로 SPM 노즐(18)에 공급된다. 그로 인해, 황산 및 과산화수소수는, SPM 노즐(18) 내에 있어서 제1 혼합비(제1 H2SO4 유량/제1 H2O2 유량)로 혼합된다. 이로써, 제1 SPM이, SPM 노즐(18) 내에서 작성되고, SPM 노즐(18)로부터 기판(W)의 상면을 향해서 토출된다. 그 결과, 기판(W)의 상면의 전역을 덮는 제1 SPM의 액막이 형성된다.
황산 밸브(24) 및 과산화수소수 밸브(36)가 열리고 나서 소정 시간이 경과하면, 도 5에 도시한 시각 T2에서 황산 유량 조정 밸브(25) 및 과산화수소수 유량 조정 밸브(37) 중 적어도 한쪽의 개도가 변경되어, 황산 및 과산화수소수가, 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비(제2 H2SO4 유량/제2 H2O2 유량)로 SPM 노즐(18) 내에서 혼합된다. 도 5는, 황산 유량 조정 밸브(25) 및 과산화수소수 유량 조정 밸브(37)의 양방의 개도가 변경되는 예를 도시하고 있다. 이로써, 제2 SPM이, SPM 노즐(18) 내에서 작성되고, SPM 노즐(18)로부터 기판(W)의 상면을 향해서 토출된다. 그 결과, 기판(W)의 상면의 전역을 덮는 제1 SPM의 액막이, 기판(W)의 상면의 전역을 덮는 제2 SPM의 액막으로 치환된다.
도 5에 도시한 예에서는, 황산이 제1 H2SO4 유량보다 큰 제2 H2SO4 유량으로 SPM 노즐(18)에 공급되고, 과산화수소수가 제1 H2O2 유량보다 작은 제2 H2O2 유량으로 SPM 노즐(18)에 공급된다. 제2 H2SO4 유량 및 제2 H2O2 유량은, 혼합비(과산화수소수에 대한 황산의 비)가 변경되어도 SPM 노즐(18)로부터 토출되는 SPM의 유량이 일정하게 유지되도록 설정되어도 되고, SPM 노즐(18)로부터 토출되는 SPM의 유량이 증가 또는 감소하도록 설정되어도 된다. 혼합비는, 제1 혼합비로부터 제2 혼합비로 연속적으로 변경된다. 따라서, 기판(W)의 상면에 공급되는 SPM은, 과산화수소수의 농도가 높은 상태로부터 황산의 농도가 높은 상태로 연속적으로 변화한다.
SPM의 혼합비가 제2 혼합비로 변경되고 나서 소정 시간이 경과하면, 도 5에 도시한 시각 T5에서 황산 밸브(24) 및 과산화수소수 밸브(36)가 닫히고, SPM 노즐(18)로부터의 SPM의 토출이 정지된다. 도 5는, SPM의 혼합비가 제1 혼합비로 설정되어 있는 시간(시각 T1부터 시각 T2까지의 시간)이, SPM의 혼합비가 제2 혼합비로 설정되어 있는 시간(시각 T2부터 시각 T5까지의 시간)보다 긴 예를 도시하고 있다. SPM의 혼합비가 제1 혼합비로 설정되어 있는 시간은, SPM의 혼합비가 제2 혼합비로 설정되어 있는 시간과 동일해도 되고, SPM의 혼합비가 제2 혼합비로 설정되어 있는 시간보다 짧아도 된다. 도 8은, 후자의 예를 도시하고 있다.
도 5에 도시한 바와 같이, 처리 컵(11)은, SPM 노즐(18)이 제1 SPM의 토출을 개시하기 전에(도 5에 도시한 시각 T1 전에), 3개의 가드(43~45) 중에서 가장 내측의 제1 가드(43)가 기판(W)의 둘레단면에 대향하는 제1 대향 상태로 설정되어 있다. 따라서, 기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM은, 제1 가드(43)의 내벽(43a)에 의해서 받아내지고, 제1 컵(41)으로 안내된다. 그리고, 제1 컵(41) 내의 제1 SPM은, 제1 배액 배관(52)에 배출된다(도 5에 도시한 배액의 ON).
도 5에 도시한 바와 같이, SPM의 혼합비가 제2 혼합비로 변경된 시점에서는(도 5에 도시한 시각 T2), 제1 가드(43)는, 상위치에 위치하고 있다. 따라서, 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM은, 제1 가드(43)의 내벽(43a)에 의해서 받아내지고, 제1 컵(41)으로 안내된다. 가드 승강 유닛(46)은, SPM의 혼합비가 제2 혼합비로 변경된 후, 도 5에 도시한 시각 T3에서 제1 가드(43)를 상위치와 하위치 사이의 세정 높이 위치까지 하강시킨다. 이로써, 제2 SPM이 제1 가드(43)의 내벽(43a)에 직접 닿는 위치가, 제1 가드(43)에 대해서 상방으로 이동한다.
가드 승강 유닛(46)은, 예를 들어 제1 가드(43)를 세정 높이 위치에서 소정 시간 정지시킨 후, 도 5에 도시한 시각 T4에서 제1 가드(43)를 하위치까지 하강시킨다. 따라서, 처리 컵(11)은, SPM 노즐(18)이 제2 SPM을 토출하고 있고, 기판(W)의 상면의 전역이 제2 SPM의 액막으로 덮여 있는 상태로, 제2 가드(44)가 기판(W)의 둘레단면에 대향하는 제2 대향 상태로 전환된다. 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM은, 제2 가드(44)의 내벽(44a)에 의해서 받아내지고, 제2 컵(42)으로 안내된다. 그리고, 제2 컵(42) 내의 제2 SPM은, 공용 배관(55) 및 회수 배관(56)을 통해 회수 탱크(29)로 보내진다. 이로써, 기판(W)에 공급된 제2 SPM이 회수된다(도 5에 도시한 회수의 ON).
도 5에 도시한 시각 T5에서 SPM 노즐(18)로부터의 SPM의 토출이 정지되면, 가드 승강 유닛(46)은, 도 5에 도시한 시각 T6에서 제1 가드(43)를 하위치로부터 상위치까지 상승시킨다. 이로써, 처리 컵(11)은, SPM 노즐(18)이 SPM의 토출을 정지하고 있고, 기판(W)의 상면의 전역이 SPM의 액막으로 덮여 있는 상태로, 제1 가드(43)가 기판(W)의 둘레단면에 대향하는 제1 대향 상태로 전환된다. 이 상태로, 린스액을 기판(W)에 공급하는 린스 공정(도 4의 S4)이 행해진다. 기판(W)을 건조시키는 건조 공정(도 4의 S5)은, 제3 가드(45)가 기판(W)의 둘레단면에 대향하는 제3 대향 상태에 처리 컵(11)이 설정된 상태로 행해진다.
도 6은, SPM을 작성하기 위해서 황산 및 과산화수소수를 혼합하여, 기판(W)으로부터 회수된 SPM을 다른 기판(W)에 공급할 때의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다. 이하에서는, 도 2 및 도 6을 참조한다. 이하의 동작 등은, 제어 장치(3)가 기판 처리 장치(1)를 제어함으로써 실행된다. 바꾸어 말하면, 제어 장치(3)는, 이하의 동작 등을 실행하도록 프로그램되어 있다.
전술과 같이, SPM 공정(도 4의 S3)을 개시할 때는, 도 6에 도시한 바와 같이, 황산 및 과산화수소수를 제1 혼합비로 혼합하여, 제1 SPM을 작성한다(도 6의 S11). 제1 SPM은, SPM 노즐(18)로부터 토출되고, 기판(W)에 공급된다(도 6의 S12). 그리고, 기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM은, 제1 가드(43) 및 제1 컵(41)을 통해 제1 배액 배관(52)으로 인도된다.
제1 SPM의 토출이 개시되고 나서 소정 시간이 경과하면, 황산 및 과산화수소수의 혼합비(혼합 전의 과산화수소수의 유량에 대한 혼합 전의 황산의 유량의 비)가, 제1 혼합비로부터 제2 혼합비로 증가한다(도 6의 S13). 이로써, 황산 및 과산화수소수가 제2 혼합비로 혼합되어, 제2 SPM이 작성된다. 그 후, 제2 SPM은, 기판(W)에 공급되고(도 6의 S14), 기판(W)으로부터 배출된다. 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM은, 제2 가드(44), 제2 컵(42), 공용 배관(55), 및 회수 배관(56)을 통해, 회수 탱크(29)에 회수된다(도 6의 S15).
회수 탱크(29)에 회수된 제2 SPM은, 황산을 저류하는 황산 탱크(27)로 보내진다. 회수 탱크(29)에 회수된 제2 SPM은, 황산 이외의 성분을 포함하지만, 그 절반 이상은 황산이다. 회수 탱크(29)에 회수된 제2 SPM에 포함되는 황산은, 황산 탱크(27) 내의 황산과 혼합된다. 황산 탱크(27) 내의 황산의 황산 농도는, 황산 농도계(C1)에 의해서 측정된다(도 6의 S16). 제어 장치(3)는, 황산 농도계(C1)의 측정치에 의거하여 황산 탱크(27) 내의 황산의 황산 농도를 감시하고 있다(도 6의 S17).
황산 농도계(C1)에 의해서 측정된 황산의 황산 농도가 하한치 이상이면(도 6의 S17에서 Yes), 제어 장치(3)는, 황산 탱크(27) 내의 황산을 다시 SPM 노즐(18)에 공급한다. 이로써, 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM에 포함되는 황산이 과산화수소수와 혼합되어, 새로운 SPM이 작성된다. 그리고, 이 새로운 SPM은, 후속의 기판(W)에 공급된다. 이로써, 기판(W)으로부터 배출된 SPM이 재이용되므로, SPM의 폐기량을 줄일 수 있다.
한편, 황산 농도계(C1)에 의해서 측정된 황산의 황산 농도가 하한치를 밑도는 경우(도 6의 S17에서 No), 제어 장치(3)는, 황산 보충 배관(28p)에 끼워 설치된 황산 보충 밸브(28v)를 열어, 황산 탱크(27) 내에 황산을 보충한다(도 6의 S18). 보충되는 황산은, 미사용의 황산(예를 들어 농황산)이며, 그 황산 농도는, 황산 탱크(27) 내의 황산의 황산 농도보다 높다. 따라서, 미사용의 황산이 황산 탱크(27) 내에 보충됨으로써, 황산 탱크(27) 내의 황산의 황산 농도가 상승한다. 제어 장치(3)는, 황산 보충 밸브(28v)를 닫은 후, 황산의 황산 농도가 하한치를 밑도는지의 여부를 다시 확인한다(도 6의 S16으로 돌아간다). 이로써, 황산 탱크(27) 내의 황산의 황산 농도가 높은 상태로 유지된다.
도 7은, 회수된 황산의 농도의 추이를 나타내는 그래프이다. 도 7 중의 종축은, 회수된 황산의 농도를 나타내고 있다. 도 7 중의 횡축은, 기판 처리 장치(1)에서 처리된 기판(W)의 매수를 나타내고 있다. 도 7 중의 비 X, 비 Y, 및 비 Z는, 모두, 과산화수소수의 유량을 1로 한 경우의 황산의 유량의 비를 나타내고 있다. 비 X는, 비 Y보다 크고, 비 Y는, 비 Z보다 크다(비 X＞비 Y＞비 Z).
도 7을 보면 알 수 있듯이, 황산의 비가 비 X, 비 Y, 및 비 Z인 어느 경우에도, 황산의 농도는, 기판(W)의 처리 매수가 증가함에 따라서 감소한다. 황산의 농도의 저하율은, 황산의 비가 작을수록 높다. 즉, 황산의 비가 비 Z일 때, 황산의 농도의 저하율이 가장 높고, 황산의 비가 비 Y일 때, 황산의 농도의 저하율이 2번째로 높다. 바꾸어 말하면, 황산의 비가 높으면, 황산의 농도가 저하하기 어렵다. 황산의 비가 비 X일 때, 기판(W)에 공급된 SPM을 회수하면서 100매 이상의 기판(W)을 처리해도, 황산의 농도가 90% 정도까지밖에 저하하지 않는 것이 확인되었다.
전술과 같이, 본 실시 형태에서는, 황산의 농도가 높은 SPM을 황산 탱크(27)에 회수하여, 회수된 SPM을 황산으로서 재이용한다. 도 7을 보면 알 수 있듯이, 회수된 SPM에 있어서의 황산의 농도가 높으면, 다수매의 기판(W)을 처리해도 황산의 농도가 저하하기 어렵다. 따라서, 황산 탱크(27) 내의 황산의 농도를 장기에 걸쳐 재이용에 적절한 값으로 유지할 수 있다. 이로써, 황산 탱크(27) 내의 황산의 교환 빈도나, 황산 탱크(27) 내에 새로운 황산을 보충하는 빈도를 줄일 수 있다.
이상과 같이 본 실시 형태에서는, 제1 SPM을 작성하기 위해서 황산 및 과산화수소수가 혼합되어, 작성된 제1 SPM이 기판(W)에 공급된다. 그리고, 제1 SPM의 공급이 정지된 후, 제2 SPM을 작성하기 위해서 황산 및 과산화수소수가 혼합되어, 작성된 제2 SPM이 기판(W)에 공급된다. 이로써, 제1 SPM 및 제2 SPM이 기판(W)에 공급되고, 레지스트가 기판(W)으로부터 제거된다.
제1 SPM을 작성할 때는, 황산 및 과산화수소수가 제1 혼합비로 혼합된다. 제2 SPM을 작성할 때는, 황산 및 과산화수소수가 제2 혼합비로 혼합된다. 제1 혼합비 및 제2 혼합비는, 모두, 혼합 전의 과산화수소수의 체적에 대한 혼합 전의 황산의 체적의 비를 나타낸다. 제1 혼합비는, 제2 혼합비보다 작다. 따라서, 제1 SPM에 포함되는 과산화수소수의 농도는, 제2 SPM에 포함되는 과산화수소수의 농도보다 높다.
과산화수소수의 농도가 상대적으로 높으므로, 제1 SPM은, 제2 SPM보다 높은 제거 능력을 갖고 있다. 따라서, 레지스트를 효율적으로 기판(W)으로부터 제거할 수 있다. 그리고, 제1 SPM이 기판(W)에 공급된 후, 제2 SPM이 기판(W)에 공급된다. 제2 SPM은 제거 능력이 제1 SPM보다 뒤떨어지지만, 제1 SPM의 공급에 의해서 거의 모든 레지스트가 기판(W)으로부터 제거되어 있으므로, 비교적 제거하기 쉬운 레지스트밖에 기판(W)에 남아 있지 않다. 그로 인해, 제거 능력이 뒤떨어지는 제2 SPM이어도, 레지스트를 기판(W)으로부터 확실히 제거할 수 있다.
기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM은, 회수 배관(56)이 아닌, 제1 배액 배관(52)에 유입된다. 기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM은, 과산화수소수의 농도가 상대적으로 높고, 황산의 농도가 상대적으로 낮다. 그 뿐만이 아니라, 기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM은, 제1 SPM과 레지스트의 반응에 의해서 발생한 많은 오염 물질(레지스트의 탄화물 등)을 포함하고 있다. 따라서, 기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM은, 회수에 적절하지 않다.
한편, 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM은, 황산의 농도가 상대적으로 높다. 또한, 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM에 포함되는 오염 물질의 양은, 기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM에 포함되는 오염 물질의 양보다 적다. 따라서, 황산의 농도가 상대적으로 높고, 오염 물질의 함유량이 적은 제2 SPM이, 회수 배관(56)으로 인도되어, 과산화수소수와 다시 혼합된다. 이로써, 제2 SPM에 포함되는 황산이 과산화수소수와 반응하여, 새로운 SPM이 작성된다. 그로 인해, SPM의 폐기량을 줄일 수 있다.
이와 같이, 황산의 농도, 즉, 혼합 전의 황산 및 과산화수소수의 체적에 대한 혼합 전의 황산의 체적의 비율이 클 때에, SPM을 회수하므로, 황산의 농도가 높은 SPM을 회수할 수 있다. 또한, 황산의 농도가 높은 상태를 유지하는 것이 아니라, SPM의 회수를 개시하기 전에, 과산화수소수의 농도가 높고, 충분한 제거 능력을 갖는 SPM을 기판(W)에 공급하므로, 레지스트를 효율적으로 기판(W)으로부터 제거할 수 있다. 따라서, 기판(W)으로부터 효율적으로 레지스트를 제거하면서, 황산의 농도가 높은 SPM을 회수할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM이, 기판(W)을 둘러싸는 제1 가드(43)로 하여금 받아내진다. 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM은, 기판(W)을 둘러싸는 제2 가드(44)로 하여금 받아내진다. 제1 가드(43)로 하여금 받아내진 제1 SPM은, 제1 가드(43)에 접속된 제1 배액 배관(52)에 유입된다. 제2 가드(44)로 하여금 받아내진 제2 SPM은, 제2 가드(44)에 접속된 회수 배관(56)에 유입된다.
기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM은, 많은 오염 물질을 포함하고 있다. 따라서, 제1 가드(43)가 제1 SPM을 받아낸 후에는, 오염 물질이 제1 가드(43)의 내주면에 잔류하고 있는 경우가 있다. 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM을 제1 가드(43)로 하여금 받아내어 회수하면, 제1 가드(43)에 부착되어 있는 오염 물질이, 제2 SPM에 혼입되는 경우가 있다. 따라서, 제1 가드(43)와는 상이한 제2 가드(44)로 하여금 제2 SPM을 받아내게 함으로써, 회수된 SPM에 포함되는 오염 물질의 양을 줄일 수 있다.
본 실시 형태에서는, 제1 SPM의 공급이 정지되었을 때에 기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM은, 제1 가드(43)로 하여금 받아내진다. 그 후, 제1 가드(43) 및 제2 가드(44)의 상태가 제1 대향 상태로부터 제2 대향 상태로 전환되고, 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM이 제2 가드(44)로 하여금 받아내진다. 즉, 오염 물질의 함유량이 많은 제1 SPM의 배출이 종료된 후에, 제1 가드(43)가 기판(W)에 직접 대향한 상태로부터 제2 가드(44)가 기판(W)에 직접 대향한 상태로 전환된다. 이로써, 오염 물질의 함유량이 많은 제1 SPM으로 제2 가드(44)가 오염되는 것을 방지할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM이 제1 가드(43)로 하여금 받아내진다. 그 후, 제2 SPM이 기판(W)에 공급되고, 기판(W)으로부터 배출된다. 제2 SPM의 공급이 개시되었을 때에 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM은, 제1 가드(43)로 하여금 받아내진다. 그 후, 제1 가드(43) 및 제2 가드(44)의 상태가 제1 대향 상태로부터 제2 대향 상태로 전환되고, 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM이 제2 가드(44)로 하여금 받아내진다.
기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM에 포함되는 오염 물질의 양은, 기판(W)으로부터 배출된 제1 SPM에 포함되는 오염 물질의 양보다 적다. 따라서, 오염 물질의 함유량이 많은 제1 SPM이 제1 가드(43)로 하여금 받아내지고, 그 후, 오염 물질의 함유량이 적은 제2 SPM이 제1 가드(43)로 하여금 받아내진다. 이로써, 제1 가드(43)의 내벽(43a)에 부착되어 있는 오염 물질이 씻어 내어진다. 제1 가드(43)에 부착되어 있는 오염 물질이 마르면, 기판(W)이 배치된 공간을 오염 물질이 떠돌다, 당해 기판(W)에 부착되는 경우가 있다. 따라서, 기판(W)의 오염을 저감할 수 있다.
또한, 제2 SPM의 공급을 개시했을 때는, 비교적 제거하기 쉬운 레지스트가 기판(W)에 남아 있고, 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM에 오염 물질이 포함되는 경우가 있다. 이 경우, 제2 SPM의 공급을 개시하고 나서 어느 정도의 시간이 경과하면, 모든 레지스트가 기판(W)으로부터 제거되고, 오염 물질을 포함하지 않거나 또는 거의 포함하지 않는 제2 SPM이 기판(W)으로부터 배출된다.
제2 SPM의 공급을 개시했을 때에 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM에 오염 물질이 포함되는 경우에도, 이러한 제2 SPM은, 제1 가드(43)를 통해 제1 배액 배관(52)으로 인도된다. 따라서, 오염 물질을 포함하는 제2 SPM이 회수 배관(56)에 회수되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 이러한 제2 SPM을 이용하여 제1 가드(43)를 세정하므로, SPM의 사용량을 늘리는 일 없이, 제1 가드(43)를 세정할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 기판(W)으로부터 배출된 제2 SPM이 제1 가드(43)로 하여금 받아내지고 있을 때에, 기판(W)과 제1 가드(43)를 상하 방향으로 상대적으로 이동시킨다. 이로써, 제2 SPM이 제1 가드(43)의 내벽(43a)에 직접 닿는 위치가, 제1 가드(43)에 대해서 상하로 이동한다. 이로써, 제1 가드(43)에 대해서 제2 SPM이 직접 닿는 범위가 넓어지므로, 제1 가드(43)의 내벽(43a)에 부착되어 있는 오염 물질을 효과적으로 제거할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 황산 및 과산화수소수가, SPM 노즐(18)에 공급되고, SPM 노즐(18) 내에서 혼합된다. 이로써, 제1 SPM이 작성된다. 그 후, 제1 SPM이 기판(W)에 공급된다. 황산 및 과산화수소수의 반응에 의해서 생성되는 퍼옥소일황산(카로산이라고도 불린다.)의 산화 능력은, 시간의 경과에 수반하여 저하한다. 황산 및 과산화수소수를 혼합한 직후에, 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM을 기판(W)에 공급하면, 이러한 산화 능력의 저하를 최소한으로 막을 수 있다. 이로써, 제거 능력이 높은 제1 SPM을 기판(W)에 공급할 수 있고, 레지스트의 제거에 필요로 하는 시간을 단축할 수 있다.
본 실시 형태에서는, SPM이 기판(W)에 공급되고 있을 때에, 혼합비(과산화수소수에 대한 황산의 비)를, 제1 혼합비로부터 제2 혼합비로 연속적으로 증가시킨다. 이로써, 제1 SPM이 기판(W)에 공급되고, 그 후, 제2 SPM이 기판(W)에 공급된다. SPM에 포함되는 과산화수소수가 감소하고, 과산화수소수의 농도가 저하하면, SPM의 온도가 저하한다. 혼합비를 연속적으로 변경하면, SPM의 온도를 연속적으로 변화시킬 수 있다. 따라서, 기판(W)의 급격한 온도 변화를 방지하면서, 레지스트를 효율적으로 제거할 수 있다.
회수된 제2 SPM은, 황산 이외의 성분을 포함하지만, 그 절반 이상은 황산이다. SPM의 회수 및 재이용을 반복하면, 회수된 황산의 황산 농도가 서서히 저하해 간다. 바꾸어 말하면, 회수된 SPM에 포함되는 황산의 수분 농도가 서서히 상승해 간다. 회수 배관(56)에 유입된 제2 SPM은, 황산을 저류하는 황산 탱크(27)에 회수된다. 황산 탱크(27) 내의 황산의 황산 농도가 측정되고, 측정된 황산 농도가 하한치를 밑돌면, 황산 탱크(27) 내의 황산보다 황산 농도가 높은 황산이 황산 탱크(27) 내에 공급된다. 이로써, 황산 탱크(27) 내의 황산의 황산 농도를 재이용에 적절한 범위 내에 유지할 수 있다.
다른 실시 형태
본 발명은, 전술의 실시 형태의 내용에 한정되는 것이 아니며, 각종 변경이 가능하다.
예를 들어, 도 8에 도시한 바와 같이, 황산 및 과산화수소수를 제1 혼합비로 혼합하기 전에, 제1 혼합비보다 큰 제3 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제3 SPM을 작성하고, 작성된 제3 SPM을 기판(W)에 공급해도 된다. 제3 혼합비는, 제2 혼합비와 동일해도 되고, 제2 혼합비와 상이해도 된다. 도 8은, 제3 혼합비가 제2 혼합비보다 작은 예를 도시하고 있다.
강도가 낮은 패턴이 기판(W)에 형성되어 있는 경우, 과산화수소수의 농도가 높은 SPM을 기판(W)에 공급하여 레지스트의 제거를 개시하면, 패턴이 데미지를 받는 경우가 있다. 따라서, 도 8에 도시한 바와 같이, 과산화수소수의 농도를 연속적으로 증가시키면, 강도가 낮은 패턴이 기판(W)에 형성되어 있는 경우에도, 패턴의 데미지를 줄일 수 있다. 또한, 과산화수소수의 농도를 연속적으로 증가시키면, SPM의 온도가 서서히 오르므로, 기판(W)의 온도가 급격하게 상승하는 것을 방지할 수 있다.
전술의 기판(W)의 처리의 일례에 있어서, SPM 노즐(18)로부터 토출되는 SPM의 유량은 일정하지 않아도 된다. 예를 들어, 가드(43, 44)의 전환시에 있어서, 즉, 도 5에 도시한 시각 T4에 있어서, 기판(W)에 공급되는 SPM의 공급 유량을, 도 5에 도시한 시각 T1~시각 T2까지의 기간에 있어서의 SPM의 공급 유량보다 일시적으로 줄여도 된다. 이것을 대신하여 또는 아울러, 가드(43, 44)의 전환시에 있어서, 기판(W)의 회전 속도를 도 5에 도시한 시각 T1~시각 T2까지의 기간에 있어서의 기판(W)의 회전 속도보다 느리게 해도 된다.
기판(W)으로의 SPM의 공급을 계속한 채로(즉 기판(W)으로부터의 SPM의 배출을 계속한 채로), 가드(43, 44)의 전환을 행하는 경우, 기판(W)으로부터 배출된 SPM이, 제1 가드(43)의 상단(도 2에 도시한 상단부(66)의 내주단)에 충돌하여, 예기치 않은 방향으로 비산할 우려가 있다.
가드(43, 44)의 전환시에, 기판(W)에 공급되는 SPM의 공급 유량을 줄이거나, 기판(W)의 회전 속도를 느리게 함으로써, 기판(W)의 주연부로부터 비산하는 SPM의 기세(속도)를 약하게 하거나, 당해 주연부로부터 비산하는 SPM의 양을 줄일 수 있다. 이로써, 챔버(7) 내에 배치된 제1 가드(43) 이외의 부재가, 기판(W)으로부터 배출된 SPM으로 오염되는 것을 억제 또는 방지할 수 있다.
가드(43, 44)의 전환시에 있어서, 기판(W)으로의 SPM의 공급을 일시적으로 정지해도 된다. 이 경우, 기판(W)으로부터의 SPM의 배출량이 감소하므로, 기판(W)으로부터 배출된 SPM이 제1 가드(43)의 상단(도 2에 도시한 상단부(66)의 내주단)에 충돌하여 예기치 않은 방향으로 비산하는 것을 방지할 수 있다.
전술의 기판(W)의 처리의 일례에 있어서, 도 9에 도시한 바와 같이, 기판(W)을 향해서 토출되는 제2 SPM의 유량은, 기판(W)을 향해서 토출되는 제1 SPM의 유량보다 커도 된다. 이 경우, 제2 SPM의 유량은, 예를 들어 5% 이상~20% 이하, 특히, 5% 이상~12% 이하의 범위에서, 제1 SPM의 유량보다 큰 것이 바람직하다.
제2 SPM은, 제1 SPM과 비교하면 황산의 농도가 높다. 따라서, 제1 SPM과 비교하면, 제2 SPM은, 과산화수소수와 황산의 혼합에 의해 발생하는 반응열이 적고, 온도가 낮다. 제2 SPM의 온도가 저하하면, 레지스트에 대한 충분한 박리 능력이 얻어지지 않는 경우가 있다. 기판(W)을 향해서 토출되는 제2 SPM의 유량을 늘리면, 기판(W) 상에서의 제2 SPM의 온도가 오른다. 이로써, 제2 SPM의 박리 능력을 더 높일 수 있다.
또, 기판(W)을 향해서 토출되는 제2 SPM의 유량을 증가시키는 것에 추가하거나 또는 대신하여, SPM이 기판(W)으로부터 배출되는 속도를 늦추기 위해서, 제2 SPM 공급 공정에서의 기판(W)의 회전 속도를 제1 SPM 공급 공정에서의 기판(W)의 회전 속도보다 느리게 해도 된다. 이 경우에도, 전술과 동일한 효과를 얻을 수 있다. 제1 및 제2 SPM 공급 공정 중 적어도 한쪽에 있어서 기판(W)의 회전 속도가 시간의 경과에 수반하여 변화하는 경우는, 제2 SPM 공급 공정에서의 기판(W)의 회전 속도의 최소치가 제1 SPM 공급 공정에서의 기판(W)의 회전 속도의 최소치보다 작으면 된다.
전술의 기판(W)의 처리의 일례에 있어서, 도 10에 도시한 바와 같이, 제2 SPM 공급 공정 후, 황산 및 과산화수소수를, 제2 혼합비(제2 H2SO4 유량/제2 H2O2 유량)보다 큰 제4 혼합비(제4 H2SO4 유량/제4 H2O2 유량)로 혼합하여, 제4 SPM을 작성하고, 작성된 제4 SPM을 기판(W)에 공급해도 된다. 이 경우, 기판(W)을 향해서 토출되는 제4 SPM의 유량은, 기판(W)을 향해서 토출되는 제2 SPM의 유량과 동일해도 되고, 상이해도 된다. SPM의 박리 능력의 저하를 방지하기 위해서, 제4 SPM의 유량을, 예를 들어 5% 이상~20% 이하, 특히, 5% 이상~12% 이하의 범위에서, 제2 SPM의 유량보다 크게 해도 된다.
처리 컵(11)을 제1 대향 상태와 제2 대향 상태 사이에서 전환하는 것이 아니라, 제1 대향 상태와 제3 대향 상태 사이, 혹은, 제2 대향 상태와 제3 대향 상태 사이에서 전환해도 된다.
회수 배관(56)이, 공용 배관(55)을 통하지 않고, 제2 컵(42)의 저부에 직접 접속되어 있어도 된다. 이 경우, 제2 컵(42) 내의 SPM은, 회수 배관(56)을 통해, 황산 공급부(26)에 회수된다. 따라서, 제2 배액 배관(57) 및 전환 유닛(회수 밸브(58) 및 배액 밸브(59))은 생략된다.
SPM 공정 S3의 처음부터 끝까지 1개의 가드를 이용하여 기판(W)으로부터 배출된 SPM을 받아내도 된다. 예를 들어, 제2 가드(44)로 하여금 SPM을 받아내게 해도 된다. 이 경우, 제2 가드(44)로 하여금 받아내진 SPM을 회수할 때는, 회수 밸브(58)(도 2 참조)를 열고, 배액 밸브(59)를 닫으면 된다.
SPM 공정 S3에 있어서, 제1 가드(43)를 세정 높이 위치에서 정지시키는 일 없이 상위치로부터 하위치까지 하강시켜도 된다.
전술의 기판(W)의 처리의 일례에 있어서, SPM 공정 S3에 앞서, 기판(W)의 상면을, 제1 세정액을 이용하여 세정하는 제1 세정 공정과, 제1 세정액을 린스액으로 씻어내는 제2 린스 공정이 실행되어도 된다. 제1 세정액으로서 예를 들어 불산(HF)을 예시할 수 있다. 제1 세정 공정 및 제2 린스 공정은, 처리 컵(11)이 제1 대향 상태에 있는 상태로 실행되어도 된다.
전술의 기판(W)의 처리의 일례에 있어서, SPM 공정 S3의 후에 린스 공정 S4에 앞서, 과산화수소수를 기판(W)의 상면(표면)에 공급하는 과산화수소수 공급 공정이 실행되어도 된다. 이 경우, 제어 장치(3)는, 과산화수소수 밸브(36)를 연 상태로 유지하면서 황산 밸브(24)만을 닫으면 된다. 이로써, SPM 노즐(18)에 과산화수소수만이 공급되고, SPM 노즐(18)의 토출구로부터 과산화수소수가 토출된다. 과산화수소수 공급 공정은, 처리 컵(11)이 제1 대향 상태에 있는 상태로 실행되어도 된다.
전술의 기판(W)의 처리의 일례에 있어서, 린스 공정 S4 후에, 기판(W)의 상면을, 제2 세정액을 이용하여 세정하는 제2 세정 공정과, 제2 세정액을 린스액으로 씻어내는 제3 린스 공정이 실행되어도 된다. 제2 세정액으로서 SC1(NH4OH와 H2O2를 포함하는 혼합액)을 예시할 수 있다. 제2 세정 공정 및 제3 린스 공정은, 처리 컵(11)이 제1 대향 상태에 있는 상태로 실행되어도 된다.
건조 공정 S5에 앞서, IPA(이소프로필알코올) 등의 물보다 표면장력이 낮고, 물보다 휘발성이 높은 유기용제를 기판(W)에 공급하여, 기판(W) 상의 린스액을 유기용제에 의해서 치환하는 유기용제 치환 공정이 실행되어도 된다. 유기용제 치환 공정은, 처리 컵(11)이 제3 대향 상태에 있는 상태로 실행되어도 된다.
도 11에 도시한 바와 같이, SPM 공급 유닛(9)의 황산 공급부(26)는, 황산 배관(23)에 공급해야 할 황산을 저류하는 고농도 황산 탱크(127)를 더 구비하고 있어도 된다. 고농도 황산 탱크(127) 내의 황산(엄밀하게는 황산의 수용액)에 있어서의 황산의 농도는, 황산 탱크(27) 내의 황산에 있어서의 황산의 농도보다 높다.
고농도 황산 탱크(127) 내의 황산은, 미사용의 황산(예를 들어 농황산)이어도 되고, 미사용의 황산과 회수된 SPM의 혼합액이어도 된다. 또, 고농도 황산 탱크(127)는, 황산 탱크(27)와 동일한 저류 박스(6)에 수용되어 있어도 되고, 황산 탱크(27)와는 다른 저류 박스(6)에 수용되어 있어도 된다. 도 11은, 고농도 황산 탱크(127)가 황산 탱크(27)와는 다른 저류 박스(6)에 수용되어 있고, 회수된 SPM이 고농도 황산 탱크(127)에 공급되지 않는 예를 도시하고 있다.
고농도 황산 탱크(127)는, 고농도 황산 공급 배관(132)에 의해서 황산 배관(23)에 접속되어 있다. 고농도 황산 탱크(127) 내의 황산은, 제3 송액 장치(134)에 의해서 황산 배관(23)으로 보내진다. 고농도 황산 공급 배관(132)을 통해 황산 배관(23)에 공급되는 황산은, 온도 조정기(133)에 의해서 가열된다. 온도 조정기(133)에 의해서 가열된 황산은, 리턴 배관(138)을 통해 고농도 황산 탱크(127)로 돌아간다. 리턴 배관(138)의 상류단은, 고농도 황산 공급 배관(132)을 개폐하는 공급 밸브(125a)의 상류에서 고농도 황산 공급 배관(132)에 접속되어 있고, 리턴 배관(138)의 하류단은, 고농도 황산 탱크(127)에 접속되어 있다.
황산 공급 배관(32)에 끼워 설치된 공급 밸브(25a)가 열리면, 황산 탱크(27) 내의 황산이, 황산 유량 조정 밸브(25)의 개도에 대응하는 유량으로 황산 배관(23)에 공급된다. 고농도 황산 공급 배관(132)에 끼워 설치된 공급 밸브(125a)가 열리면, 고농도 황산 탱크(127) 내의 황산이, 황산 유량 조정 밸브(125)의 개도에 대응하는 유량으로 황산 배관(23)에 공급된다. 제어 장치(3)는, 고농도 황산 탱크(127) 내의 황산을 이용하여 제1 SPM을 작성하고, 황산 탱크(27) 내의 황산을 이용하여 제2 SPM을 작성해도 된다. 즉, 새로운 황산과 과산화수소수의 혼합에 의해 제1 SPM을 작성하고, 회수된 SPM을 포함하는 황산과 과산화수소수의 혼합에 의해 제2 SPM을 작성해도 된다.
황산 탱크(27)로 SPM을 계속 회수하면, 황산 탱크(27) 내의 황산에 있어서의 황산의 농도가 점차 저하하고, 황산 탱크(27) 내의 황산을 이용하여 작성된 SPM의 박리 능력이 저하하는 경우가 있다. 고농도의 황산, 즉, 고농도 황산 탱크(127) 내의 황산을 이용하여 SPM을 작성하면, 박리 능력이 높은 SPM을 레지스트의 표면에 접촉시킬 수 있다. 따라서, 레지스트의 표면에 경화층이 형성되어 있어도, 레지스트의 경화층을 파괴할 수 있다. 경화층이 파괴된 후에는, 경화층의 균열을 통해 SPM이 레지스트의 내부(경화되어 있지 않은 레지스트)에 침투하므로, 회수된 SPM을 포함하는 황산을 이용하여 작성된 SPM을 기판(W)에 공급해도, 레지스트를 박리할 수 있다. 이로써, 고농도의 황산의 사용량을 억제하면서, 기판(W) 상의 레지스트를 단시간에 확실히 박리할 수 있다.
전술의 기판(W)의 처리의 일례에 있어서, 제2 SPM을 대신하여, 황산을 기판(W)에 공급해도 된다. 즉, 제1 SPM보다 황산 농도가 높으면, 제1 SPM의 공급 후에 기판(W)에 공급되는 액체는, SPM 및 황산 중 어느 하나여도 된다.
제2 SPM을 대신하여 황산을 기판(W)에 공급하는 경우, 예를 들어, 황산 밸브(24)(도 2 참조)를 연 채로, 과산화수소수 밸브(36)(도 2 참조)를 닫으면 된다. 이와 같이 하면, 황산 함유액 노즐의 일례인 SPM 노즐(18)로부터 황산만이 토출된다. SPM 공급 유닛(9)은, 황산 함유액 공급 유닛의 일례이다.
기판 처리 장치(1)는, 원판형의 기판(W)을 처리하는 장치에 한정되지 않으며, 다각형의 기판(W)을 처리하는 장치여도 된다.
전술의 모든 구성의 2개 이상이 조합되어도 된다. 전술의 모든 단계의 2개 이상이 조합되어도 된다.
본 발명의 실시 형태에 대해 상세하게 설명해 왔으나, 이들은 본 발명의 기술적 내용을 분명히 하기 위해서 이용된 구체예에 지나지 않으며, 본 발명은 이들 구체예에 한정하여 해석되어야 하는 것이 아니고, 본 발명의 정신 및 범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 한정된다.

Claims (30)

  1. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 방법으로서,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제1 SPM을 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 제1 SPM보다 높은 농도로 황산을 포함하는 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정과, 상기 회수 배관에 유입된 상기 제2 SPM을, 황산을 저류하는 황산 탱크에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하고,
    상기 기판 처리 방법은, 상기 황산 탱크 내의 황산의 황산 농도를 측정하는 황산 농도 측정 공정과, 상기 황산 농도 측정 공정에 있어서 측정된 황산 농도가 하한치를 밑도는 경우에, 상기 황산 탱크 내의 황산보다 황산 농도가 높은 황산을 상기 황산 탱크 내에 공급하는 황산 보충 공정을 더 포함하는, 기판 처리 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 기판을 둘러싸고 있고, 상기 배액 배관에 접속된 제1 가드로 하여금 받아내게 하는 제1 SPM 포획 공정과,
    상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 기판을 둘러싸고 있고, 상기 회수 배관에 접속된 제2 가드로 하여금 받아내게 하는 제2 SPM 포획 공정을 더 포함하는, 기판 처리 방법.
  3. 청구항2에 있어서,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지되는 것과 동시에 또는 정지된 후에, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태를, 상기 기판으로부터 배출된 액체를 상기 제1 가드가 받아내는 제1 상태로부터 상기 기판으로부터 배출된 액체를 상기 제2 가드가 받아내는 제2 상태로 전환하는 가드 전환 공정을 더 포함하는, 기판 처리 방법.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 가드 전환 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM의 공급이 개시된 후에, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태를, 상기 제1 상태로부터 상기 제2 상태로 전환하는 공정을 포함하는, 기판 처리 방법.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 가드 전환 공정은, 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을 상기 제1 가드로 하여금 받아내게 하면서, 상기 기판과 상기 제1 가드를 상하 방향으로 상대적으로 이동시키는 상대 이동 공정을 포함하는, 기판 처리 방법.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 SPM 공급 공정은, 황산 및 과산화수소수를 노즐 내에서 혼합하고, 상기 노즐 내에서 작성된 상기 제1 SPM을 상기 노즐로부터 상기 기판을 향해서 토출하는 노즐 내 혼합 공정을 포함하는, 기판 처리 방법.
  7. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 SPM 공급 공정 및 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 SPM을 상기 기판에 공급하면서, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 상기 제1 혼합비로부터 상기 제2 혼합비까지 연속적으로 증가시키는 혼합비 연속 증가 공정을 더 포함하는, 기판 처리 방법.
  8. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 방법으로서,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제1 SPM을 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 제1 SPM보다 높은 농도로 황산을 포함하는 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하고,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간보다 긴, 기판 처리 방법.
  9. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 방법으로서,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제1 SPM을 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 제1 SPM보다 높은 농도로 황산을 포함하는 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하고,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간보다 짧은, 기판 처리 방법.
  10. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 방법으로서,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제1 SPM을 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 제1 SPM보다 높은 농도로 황산을 포함하는 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정과,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제3 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제3 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로의 상기 제1 SPM의 공급이 개시되기 전에 상기 기판에 공급하는 제3 SPM 공급 공정을 포함하는, 기판 처리 방법.
  11. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 방법으로서,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제1 SPM을 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 제1 SPM보다 높은 농도로 황산을 포함하는 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하고,
    상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판을 향해서 토출되는 상기 제2 SPM의 유량은, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판을 향해서 토출되는 상기 제1 SPM의 유량보다 큰, 기판 처리 방법.
  12. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 방법으로서,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제1 SPM을 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 제1 SPM보다 높은 농도로 황산을 포함하는 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 기판 처리 방법은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제2 혼합비보다 큰 제4 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제4 SPM을, 상기 제2 SPM 공급 공정 후에 상기 기판에 공급하는 제4 SPM 공급 공정을 더 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정과, 상기 제4 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제4 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM 및 제4 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하는, 기판 처리 방법.
  13. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 방법으로서,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제1 SPM을 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 제1 SPM보다 높은 농도로 황산을 포함하는 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 작성된 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에 상기 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하고,
    상기 제1 SPM 공급 공정은, 상기 제2 SPM의 작성에 이용되는 황산보다 황산 농도가 높은 황산과 과산화수소수를 상기 제1 혼합비로 혼합함으로써 상기 제1 SPM을 작성하는 공정을 포함하며,
    상기 제2 SPM 공급 공정은, 상기 회수 배관에 유입된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산과 과산화수소수를 상기 제2 혼합비로 혼합함으로써 상기 제2 SPM을 작성하는 공정을 포함하는, 기판 처리 방법.
  14. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 장치로서,
    적어도 일부가 레지스트로 덮인 기판을 유지하는 기판 유지 유닛과,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 변경하는 혼합비 변경 유닛을 포함하고, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하며, 황산을 포함하는 황산 함유액을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 유닛과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배액 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 회수 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배관을, 상기 배액 배관 및 회수 배관 사이에서 전환하는 전환 유닛과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛 및 전환 유닛을 제어하는 제어 장치를 구비하며,
    상기 제어 장치는,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제1 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제1 SPM을, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM보다 황산 농도가 높은 상기 황산 함유액을 작성하고, 작성된 상기 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 상기 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 실행하고,
    상기 황산 함유액 공급 유닛은, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써, 상기 SPM을 작성하고, 작성된 상기 SPM을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하며, 상기 혼합비 변경 유닛이 설치된 SPM 공급 유닛을 더 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내며, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제2 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하고,
    상기 기판 처리 장치는, 황산을 저류하고 있고, 상기 회수 배관에 유입된 상기 제2 SPM이 유입되는 황산 탱크와, 상기 황산 탱크 내의 황산의 황산 농도를 측정하는 황산 농도계와, 상기 황산 탱크 내의 황산보다 황산 농도가 높은 황산을 상기 황산 탱크 내에 공급하는 황산 보충 유닛을 더 구비하며,
    상기 회수 공정은, 상기 회수 배관에 유입된 상기 제2 SPM을 상기 황산 탱크에 유입시키는 공정을 더 포함하고,
    상기 제어 장치는, 상기 황산 탱크 내의 황산의 황산 농도를, 상기 황산 농도계로 하여금 측정하게 하는 황산 농도 측정 공정과, 상기 황산 농도 측정 공정에 있어서 측정된 황산 농도가 하한치를 밑도는 경우에, 상기 황산 탱크 내의 황산보다 황산 농도가 높은 황산을 상기 황산 보충 유닛에 의해서 상기 황산 탱크 내에 공급하는 황산 보충 공정을 더 실행하는, 기판 처리 장치.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는,
    상기 배액 배관에 접속되어 있고, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을 둘러싸는 제1 가드와,
    상기 회수 배관에 접속되어 있고, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을 둘러싸는 제2 가드를 더 구비하며,
    상기 전환 유닛은, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태를, 상기 기판으로부터 배출된 액체를 상기 제1 가드가 받아내는 제1 상태와, 상기 기판으로부터 배출된 액체를 상기 제2 가드가 받아내는 제2 상태 사이에서 전환하는 가드 전환 유닛을 포함하며,
    상기 제어 장치는,
    상기 가드 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 제1 가드로 하여금 받아내게 하는 제1 SPM 포획 공정과,
    상기 가드 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 제2 가드로 하여금 받아내게 하는 제2 SPM 포획 공정을 더 실행하는, 기판 처리 장치.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 제어 장치는, 상기 가드 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지되는 것과 동시에 또는 정지된 후에, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태를, 상기 제1 상태로부터 상기 제2 상태로 전환하는 가드 전환 공정을 더 실행하는, 기판 처리 장치.
  17. 청구항 16에 있어서,
    상기 가드 전환 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM의 공급이 개시된 후에, 상기 제1 가드 및 제2 가드의 상태를, 상기 제1 상태로부터 상기 제2 상태로 전환하는 공정을 포함하는, 기판 처리 장치.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 가드 전환 유닛은, 상기 제1 가드 및 제2 가드를 개별적으로 승강시키는 가드 승강 유닛을 포함하고,
    상기 가드 전환 공정은, 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을 상기 제1 가드로 하여금 받아내게 하면서, 상기 가드 승강 유닛으로 하여금 상기 기판과 상기 제1 가드를 상하 방향으로 상대적으로 이동하게 하는 상대 이동 공정을 포함하는, 기판 처리 장치.
  19. 청구항 14 내지 청구항 18 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 황산 함유액 공급 유닛은, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을 향해서 상기 SPM을 토출하는 노즐을 포함하고,
    상기 제1 SPM 공급 공정은, 황산 및 과산화수소수를 상기 노즐 내에서 혼합하여, 상기 노즐 내에서 작성된 상기 제1 SPM을 상기 노즐로부터 상기 기판을 향해서 토출하는 노즐 내 혼합 공정을 포함하는, 기판 처리 장치.
  20. 청구항 14 내지 청구항 18 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제어 장치는, 상기 혼합비 변경 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정 및 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 SPM을 상기 기판에 공급하면서, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 상기 제1 혼합비로부터 상기 제2 혼합비까지 연속적으로 증가시키는 혼합비 연속 증가 공정을 더 실행하는, 기판 처리 장치.
  21. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 장치로서,
    적어도 일부가 레지스트로 덮인 기판을 유지하는 기판 유지 유닛과,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 변경하는 혼합비 변경 유닛을 포함하고, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하며, 황산을 포함하는 황산 함유액을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 유닛과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배액 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 회수 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배관을, 상기 배액 배관 및 회수 배관 사이에서 전환하는 전환 유닛과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛 및 전환 유닛을 제어하는 제어 장치를 구비하며,
    상기 제어 장치는,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제1 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제1 SPM을, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM보다 황산 농도가 높은 상기 황산 함유액을 작성하고, 작성된 상기 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 상기 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 실행하고,
    상기 황산 함유액 공급 유닛은, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써, 상기 SPM을 작성하고, 작성된 상기 SPM을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하며, 상기 혼합비 변경 유닛이 설치된 SPM 공급 유닛을 더 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내며, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제2 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하고,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간보다 긴, 기판 처리 장치.
  22. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 장치로서,
    적어도 일부가 레지스트로 덮인 기판을 유지하는 기판 유지 유닛과,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 변경하는 혼합비 변경 유닛을 포함하고, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하며, 황산을 포함하는 황산 함유액을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 유닛과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배액 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 회수 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배관을, 상기 배액 배관 및 회수 배관 사이에서 전환하는 전환 유닛과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛 및 전환 유닛을 제어하는 제어 장치를 구비하며,
    상기 제어 장치는,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제1 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제1 SPM을, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM보다 황산 농도가 높은 상기 황산 함유액을 작성하고, 작성된 상기 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 상기 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 실행하고,
    상기 황산 함유액 공급 유닛은, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써, 상기 SPM을 작성하고, 작성된 상기 SPM을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하며, 상기 혼합비 변경 유닛이 설치된 SPM 공급 유닛을 더 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내며, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제2 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하고,
    상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제2 SPM이 상기 기판에 공급되고 있는 시간보다 짧은, 기판 처리 장치.
  23. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 장치로서,
    적어도 일부가 레지스트로 덮인 기판을 유지하는 기판 유지 유닛과,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 변경하는 혼합비 변경 유닛을 포함하고, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하며, 황산을 포함하는 황산 함유액을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 유닛과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배액 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 회수 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배관을, 상기 배액 배관 및 회수 배관 사이에서 전환하는 전환 유닛과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛 및 전환 유닛을 제어하는 제어 장치를 구비하며,
    상기 제어 장치는,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제1 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제1 SPM을, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM보다 황산 농도가 높은 상기 황산 함유액을 작성하고, 작성된 상기 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 상기 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 실행하고,
    상기 제어 장치는, 상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제1 혼합비보다 큰 제3 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제3 SPM을 작성하며, 작성된 상기 제3 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판으로의 상기 제1 SPM의 공급이 개시되기 전에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제3 SPM 공급 공정을 더 실행하는, 기판 처리 장치.
  24. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 장치로서,
    적어도 일부가 레지스트로 덮인 기판을 유지하는 기판 유지 유닛과,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 변경하는 혼합비 변경 유닛을 포함하고, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하며, 황산을 포함하는 황산 함유액을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 유닛과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배액 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 회수 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배관을, 상기 배액 배관 및 회수 배관 사이에서 전환하는 전환 유닛과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛 및 전환 유닛을 제어하는 제어 장치를 구비하며,
    상기 제어 장치는,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제1 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제1 SPM을, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM보다 황산 농도가 높은 상기 황산 함유액을 작성하고, 작성된 상기 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 상기 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 실행하고,
    상기 황산 함유액 공급 유닛은, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써, 상기 SPM을 작성하고, 작성된 상기 SPM을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하며, 상기 혼합비 변경 유닛이 설치된 SPM 공급 유닛을 더 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내며, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제2 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하고,
    상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판을 향해서 토출되는 상기 제2 SPM의 유량은, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판을 향해서 토출되는 상기 제1 SPM의 유량보다 큰, 기판 처리 장치.
  25. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 장치로서,
    적어도 일부가 레지스트로 덮인 기판을 유지하는 기판 유지 유닛과,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 변경하는 혼합비 변경 유닛을 포함하고, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하며, 황산을 포함하는 황산 함유액을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 유닛과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배액 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 회수 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배관을, 상기 배액 배관 및 회수 배관 사이에서 전환하는 전환 유닛과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛 및 전환 유닛을 제어하는 제어 장치를 구비하며,
    상기 제어 장치는,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제1 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제1 SPM을, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM보다 황산 농도가 높은 상기 황산 함유액을 작성하고, 작성된 상기 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 상기 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 실행하고,
    상기 황산 함유액 공급 유닛은, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써, 상기 SPM을 작성하고, 작성된 상기 SPM을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하며, 상기 혼합비 변경 유닛이 설치된 SPM 공급 유닛을 더 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내며, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제2 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 제어 장치는, 상기 SPM 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내고, 상기 제2 혼합비보다 큰 제4 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제4 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제4 SPM을, 상기 제2 SPM 공급 공정 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제4 SPM 공급 공정을 더 실행하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정과, 상기 제4 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제4 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM 및 제4 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하는, 기판 처리 장치.
  26. 황산 및 과산화수소수의 혼합액인 SPM으로 기판으로부터 레지스트를 제거하는 기판 처리 장치로서,
    적어도 일부가 레지스트로 덮인 기판을 유지하는 기판 유지 유닛과,
    과산화수소수에 대한 황산의 비를 변경하는 혼합비 변경 유닛을 포함하고, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하며, 황산을 포함하는 황산 함유액을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 유닛과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배액 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급되고 당해 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 회수 배관과,
    상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판으로부터 배출된 액체가 유입되는 배관을, 상기 배액 배관 및 회수 배관 사이에서 전환하는 전환 유닛과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛 및 전환 유닛을 제어하는 제어 장치를 구비하며,
    상기 제어 장치는,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내는 제1 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제1 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제1 SPM을, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제1 SPM 공급 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM보다 황산 농도가 높은 상기 황산 함유액을 작성하고, 작성된 상기 황산 함유액을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 황산 함유액 공급 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제1 SPM을, 상기 배액 배관에 유입시키는 배액 공정과,
    상기 전환 유닛을 제어함으로써, 상기 황산 함유액 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 황산 함유액을, 상기 회수 배관에 유입시키는 회수 공정과,
    상기 황산 함유액 공급 유닛을 제어함으로써, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 황산 함유액을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 재혼합 공정을 실행하고,
    상기 황산 함유액 공급 유닛은, 황산 및 과산화수소수를 혼합함으로써, 상기 SPM을 작성하고, 작성된 상기 SPM을 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하며, 상기 혼합비 변경 유닛이 설치된 SPM 공급 유닛을 더 포함하고,
    상기 황산 함유액 공급 공정은, 과산화수소수에 대한 황산의 비를 나타내며, 상기 제1 혼합비보다 큰 제2 혼합비로 황산 및 과산화수소수를 혼합하여 제2 SPM을 작성하고, 작성된 상기 제2 SPM을, 상기 제1 SPM 공급 공정에 있어서 상기 제1 SPM의 공급이 정지된 후에, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판에 공급하는 제2 SPM 공급 공정을 포함하며,
    상기 회수 공정은, 상기 제2 SPM 공급 공정에 있어서 상기 기판에 공급되고 상기 기판으로부터 배출된 상기 제2 SPM을, 상기 회수 배관에 유입시키는 공정을 포함하며,
    상기 재혼합 공정은, 상기 회수 배관에 의해서 안내된 상기 제2 SPM을 포함하는 황산에 과산화수소수를 혼합함으로써 상기 SPM을 작성하는 공정을 포함하고,
    상기 기판 처리 장치는, 황산을 저류하고 있고, 상기 회수 배관에 유입된 상기 제2 SPM이 유입되는 황산 탱크와, 상기 황산 탱크 내의 황산보다 황산 농도가 높은 황산을 저류하는 고농도 황산 탱크를 더 구비하며,
    상기 제1 SPM 공급 공정은, 상기 고농도 황산 탱크 내의 황산과 과산화수소수를 상기 제1 혼합비로 혼합함으로써 상기 제1 SPM을 작성하는 공정을 포함하며,
    상기 제2 SPM 공급 공정은, 상기 황산 탱크 내의 황산과 과산화수소수를 상기 제2 혼합비로 혼합함으로써 상기 제2 SPM을 작성하는 공정을 포함하는, 기판 처리 장치.
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