JP6356727B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
すなわち、従来の装置は、フォトレジスト被膜の破片がフィルタ部材によって捕捉されるものの、フィルタ部材の交換頻度が高くなり、フィルタ部材の手動による洗浄が必要となってメンテナンスが煩雑になるという問題がある。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に被着された被膜を剥離液により剥離処理する基板処理装置において、剥離液を貯留し、基板を浸漬して処理するための処理槽と、前記処理槽から溢れた剥離液を回収するオーバフロー槽と、複数枚の基板を保持し、前記処理槽内の処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降自在のリフタと、前記リフタの下部に取り付けられた板状部材と、を備え、前記リフタに複数枚の基板を保持させた状態で、前記リフタを処理位置に移動させ、剥離処理を行わせ、剥離処理の終了後、前記リフタを待機位置に移動させる際に、前記板状部材で剥離液に上昇液流を生じさせ、前記処理槽に浮遊している被膜の破片を前記オーバフロー槽へ排出させ、前記板状部材は、基板の両側縁を越え、前記処理槽の内壁を越えない幅を備えていることを特徴とするものである。
図1は、実施例1に係る基板処理装置の概略構成を示す全体図である。また、図2は、リフタが待機位置にある状態を示す模式図であり、図3は、リフタが処理位置に下降した状態を示す模式図であり、図4は、剥離処理中を示す模式図であり、図5は、剥離処理により基板からフォトレジスト被膜が剥離している状態を示す模式図であり、図6は、剥離処理後にリフタを待機位置に上昇させた状態を示す模式図であり、図7は、網状部材に付着したフォトレジスト被膜の破片を廃棄する動作を示す模式図であり、図8は、洗浄槽でリフタの網状部材を洗浄する動作を示す模式図である。
図9は、実施例2に係る基板処理装置の概略構成を示す全体図である。また、図10は、オートカバーを開放させた状態を示す模式図であり、図11は、リフタを処理位置に移動させた状態を示す模式図であり、図12は、剥離処理中を示す模式図であり、図13は、剥離処理を終えた状態を示す模式図であり、図14は、オートカバーを開放させる動作を示す模式図であり、図15は、スクイーザの動作を示す模式図であり、図16は、スクイーザの動作を示す模式図である。
図17は、実施例3に係る基板処理装置の概略構成を示す全体図である。また、図18は、剥離処理中を示す模式図であり、図19は、剥離処理中を示す模式図である。
図20は、実施例4に係る基板処理装置の概略構成を示す全体図である。また、図21は、剥離処理中を示す模式図であり、図22は、リフタを処理位置から上昇させ始めた状態を示す模式図である。
1 … 処理部
3 … 処理槽
5 … オーバフロー槽
9 … リフタ
15 … すくい上げ網部
19 … 気泡供給管
21 … 捕捉部
23 … 捕捉部材
27 … 回収容器
33 … 循環配管
35 … 循環ポンプ
53 … 制御部
ff … フォトレジスト被膜の破片
Claims (2)
- 基板に被着された被膜を剥離液により剥離処理する基板処理装置において、
剥離液を貯留し、基板を浸漬して処理するための処理槽と、
前記処理槽から溢れた剥離液を回収するオーバフロー槽と、
複数枚の基板を保持し、前記処理槽内の処理位置と、前記処理槽の上方にあたる待機位置とにわたって昇降自在のリフタと、
前記リフタの下部に取り付けられた板状部材と、
を備え、
前記リフタに複数枚の基板を保持させた状態で、前記リフタを処理位置に移動させ、剥離処理を行わせ、剥離処理の終了後、前記リフタを待機位置に移動させる際に、前記板状部材で剥離液に上昇液流を生じさせ、前記処理槽に浮遊している被膜の破片を前記オーバフロー槽へ排出させ、
前記板状部材は、基板の両側縁を越え、前記処理槽の内壁を越えない幅を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
純水を貯留し、基板を浸漬して洗浄処理するための洗浄槽をさらに備え、
前記リフタを前記洗浄槽へ収容して、前記板状部材で捕捉された被膜の破片を純水により洗浄除去することを特徴とする基板処理装置。
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