JP4563191B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置やＰＤＰ（ｐｌａｓｍａ ｄｉｓｐｌａｙ ｐａｎｅｌ）、あるいは各種の半導体装置の製造工程に用いられ、液晶表示用のガラス基板、ＰＤＰ用のガラス基板、半導体ウエハやフォトマスク用のガラス基板等の各種の基板に対してそれぞれ所定の処理を施す基板処理装置に関するものである。

従来から、例えば、特許文献１に示されるように、平面視で略「コ」字状に各処理部が配置され、レジスト塗布処理、露光処理、現像処理などの予め定められた一連の処理を基板に施す基板処理装置が知られている。この基板処理装置は、基板収納カセットから取り出された基板を、一方向に向けて搬送しながら所定の処理を施す第１搬送路５１と、この第１搬送路５１での処理が完了した基板の搬送方向を転換させる反転経路５３と、この反転経路５３から受け取った基板を、第１搬送路５１の搬送方向とは逆方向に搬送しながら基板に所定の処理を施す第２搬送路５２とを有し、装置全体としては、平面視で略「コ」字形状に構成されている。

この特許文献１に示される基板処理装置では、上記反転経路５３が、基板を傾斜させた状態で搬送する傾斜搬送機構を有し、この傾斜状態の基板搬送により、基板に対して処理液を供給したときにおける基板からの液はねを低減することを可能としている。

また、水平状態の基板を傾斜姿勢に立て替える機構としては、特許文献２に示される基板姿勢変更装置が提案されている。この基板姿勢変更装置は、この特許文献２の図２に示されるように、基板Ｂを傾斜姿勢で搬送する部分支持型ローラ９３と、この部分支持型ローラ９３の上流側に設けられ、水平姿勢の基板Ｂを傾斜姿勢に変更して部分支持型ローラ９３に導入する入口側移載装置３とを有し、基板Ｂの搬送方向に直交する軸心を備えて並設された複数の単位ローラＲ１〜Ｒ５を個別に水平姿勢と傾斜姿勢との間で姿勢変更させる複数の子シリンダＣ１〜Ｃ５によって、基板Ｂを水平姿勢と傾斜姿勢との間で姿勢変更させるものである。
特開２０００−３１２３９号公報 特開平９−２２６９１６号公報

しかしながら、上記の基板姿勢変更装置を適用した基板処理装置の場合、水平姿勢の基板を傾斜姿勢に変更するために複雑な機構が必要になり（特許文献２の図２等）、コストも高くなる。また、このような基板姿勢変更装置を基板搬送路に追加して設けるため、その分、基板処理装置を設置するために必要な床面積が大きくなってしまう。

本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、設置に必要な床面積が少なく、簡単な機構で基板を傾斜姿勢で搬送することができ、設備コストの低減化に貢献する基板処理装置を提供することを目的とする。

請求項１記載の発明は、予め定められた方向に基板を搬送させつつ当該基板を処理する第１処理部と、前記第１処理部と平行に配置され、前記予め定められた方向とは逆方向に基板を搬送させつつ当該基板を処理する第２処理部と、前記第１処理部の基板搬送終了端と前記第２処理部の基板搬送開始端との間で基板を搬送しながら、前記第１処理部による基板搬送方向を前記第２処理部による基板搬送方向に転換する搬送方向転換部とを備えた基板処理装置において、前記搬送方向転換部は、前記第１処理部の基板搬送終了端から基板を受け取り、前記第１処理部による基板搬送方向に向けて勾配を有する第１搬送路と、前記第１搬送路に接続され、前記第１搬送路が有する前記勾配によって傾斜された基板の姿勢を維持した状態で前記第２処理部側に基板を搬送する傾斜搬送部と、前記傾斜搬送部によって搬送される基板の主面に処理液を供給する液供給手段とを備えるものである。

この構成では、第１処理部で処理が施された後の基板を、搬送方向転換部が搬送方向を転換し、その傾斜搬送部によって、第１搬送路の勾配で傾斜姿勢とされた状態を維持したまま第２処理部まで搬送する。この傾斜搬送部によって搬送される基板の主面に対して液供給手段が処理液を供給し、第２処理部では、この基板を、第１処理部とは逆方向に搬送させつつ処理するようになっている。

請求項２記載の発明は、請求項１記載の基板処理装置において、前記傾斜搬送部から搬送されてくる基板を、その傾斜姿勢を維持しつつ、前記第２処理部の基板搬送開始端に向けて搬送し、前記第２処理部による基板搬送方向に対して前記第１搬送路の前記勾配とは反対方向に傾斜した勾配を有する第２搬送路を備えたものである。

この構成は、第１搬送路の勾配による傾斜姿勢を維持して傾斜搬送部から搬送されてくる基板を、前記第２処理部による基板搬送方向に対して第１搬送路の勾配とは反対方向に傾斜した勾配を有する第２搬送路が、傾斜搬送部によって傾斜された状態を維持したまま、第２処理部の基板搬送開始端に向けて搬送するようにすることで、第１搬送路及び傾斜搬送部から第２搬送路にかけて、基板をその傾斜姿勢を変更せずに搬送するものである。

請求項３記載の発明は、請求項２に記載の基板処理装置であって、前記第１搬送路には、当該第１搬送路の勾配によって付与される基板傾斜姿勢を維持したまま、前記第１処理部による基板搬送方向に直交する方向に基板搬送方向を転換する搬送方向転換装置が設けられ、
前記傾斜搬送部は、前記搬送方向転換装置から受け取った基板を、前記第１処理部による基板搬送方向と同一方向であって、かつ、当該傾斜搬送部による基板搬送方向に直交する方向に傾斜させて搬送するものである。

この構成では、搬送方向転換装置によって、第１搬送路の勾配によって付与される基板傾斜姿勢を維持したまま基板の搬送方向を転換させ、傾斜搬送部では、第１搬送路で傾斜された基板の状態を変更することなく、この方向転換後の基板を搬送し、それまでの傾斜姿勢を維持したまま第２搬送路に搬送するようになっている。

請求項４記載の発明は、請求項３に記載の基板処理装置であって、前記第２搬送路には、前記傾斜搬送部によって搬送される基板の傾斜姿勢を維持したまま、前記第２処理部による基板搬送方向に基板搬送方向を転換する搬送方向転換装置がさらに設けられているものである。

この構成によれば、基板が傾斜搬送部から第２搬送路に搬送された後、それまでの傾斜姿勢を保ったまま第２処理部に向けて基板搬送方向を転換し、基板を第２処理部に搬送するようになっている。

請求項５記載の発明は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記第１処理部又は第２処理部には、前記第１搬送路又は第２搬送路の勾配と同一の勾配が形成され、基板収納カセットから基板を出し入れする基板搬送ロボットとの間で基板を受け渡し、前記第１処理部又は第２処理部に基板を載置する基板受け渡し機構が設けられているものである。

この構成によれば、第１処理部又は第２処理部においても、その勾配により基板を傾斜姿勢として、基板処理時に基板表面上での処理液の捌けを向上させて処理効率を高めることができ、また、基板受け渡し機構によって、勾配を有する第１処理部又は第２処理部と基板搬送ロボットとの間における基板受け渡しを円滑に行うことができる。

請求項１記載の発明によれば、第１処理部で処理が施された後の基板を、傾斜搬送部が、第１搬送路の勾配で傾斜姿勢とされた状態を略維持したまま第２処理部まで搬送するので、簡単な機構で基板を傾斜姿勢で搬送することができ、その分設備コストを低減することができる。また、傾斜搬送部による搬送中に液供給手段が基板に対して処理液を供給するので、液供給手段を設けるためだけに余分な設置面積が必要となることがなく、当該基板処理装置の設置に必要な床面積を少なくすることができる。

請求項２記載の発明によれば、第２搬送路が、基板搬送部によって傾斜された状態を略維持したまま、第２処理部の基板搬送開始端に向けて基板を搬送するので、第２処理部に至るまで、簡単な機構で基板の傾斜姿勢を保って搬送することができ、その分設備コストを低減する効果が得られる。

請求項３記載の発明によれば、複雑な構造の基板姿勢立替機構を設けなくても、第１搬送路の勾配により傾斜された基板を、そのままの姿勢を保ったままで搬送方向を転換して、第２搬送路に搬送することができる。

請求項４記載の発明によれば、複雑な構造の基板姿勢立替機構を設けなくても、第１搬送路の勾配、及び傾斜搬送部により傾斜状態とされた基板を、そのままの姿勢を保ったままで、それまでの基板搬送方向を第２処理部による基板搬送方向に転換して、第２処理部に基板を搬送することができる。

請求項５記載の発明によれば、第１処理部又は第２処理部においても、その勾配により基板を傾斜姿勢として、基板処理処理時に基板表面上での処理液の捌けを向上させて処理効率を高めることができ、基板受け渡し機構によって、勾配を有する第１処理部又は第２処理部と基板搬送ロボットとの間における基板受け渡しを円滑に行うことができる。

図１は、本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の概略を示す平面図、図２は図１に示す基板処理装置の概略を側面視等で示す図であり、（イ）は第１処理部から搬送方向転換部を示す側面図、（ロ）は搬送方向転換部の側面斜視図、（ハ）は搬送方向転換部から第２処理部を示す側面図である。

本実施形態に係る基板処理装置１０は、基板Ｂに対して予め定められている一連の処理を施すものであり、図１に示すように、基板収納カセットＣから搬出された基板Ｂを図１の右方向に搬送しつつ、この基板Ｂに対して一連の処理を施す第１処理部２０と、この第１処理部２０での処理が完了した基板Ｂを、第１処理部２０の搬送方向とは逆方向に搬送しつつ更なる処理を施す第２処理部３０とを有している。これら第１処理部２０及び第２処理部３０は、第１処理部２０の下流端から第２処理部３０の上流端に基板Ｂを中継する搬送方向転換部４０によって互いに連結されている。そのため、基板処理装置１０は、平面視で略「コ」字形状を呈した状態になっている。

一方、基板処理装置１０における第１処理部２０の上流側と、第２処理部３０の下流側にあたる場所には、基板Ｂを収納する複数の基板収納カセットＣと、この基板収納カセットＣから基板Ｂを出し入れするロボット部Ｒとを備えるインデクサ部１１が配置されている。処理対象となる基板Ｂは、基板収納カセットＣからロボット部Ｒによって順次搬出されて第１処理部２０へ搬送される。処理が終わった基板Ｂは、ロボット部Ｒにより第２処理部３０から基板収納カセットＣに戻される。

第１処理部２０は、図１及び図２（イ）に示すように、基板収納カセットＣからロボット部Ｒにより水平姿勢で搬送されてくる基板Ｂを受け取って、第１処理部２０内の基板搬送路（搬送路）２９の勾配に合った傾斜姿勢に姿勢変更する基板立替装置２１と、前記勾配に合った傾斜姿勢で搬送される基板Ｂに対し、紫外線を照射して当該基板Ｂに付着している有機物からなる汚れを分解処理する紫外線照射部２２とを備えている。本実施形態においては、第１処理部２０内の基板搬送路（搬送路）２９は、複数本の基板搬送ローラ１２が基板搬送方向に向かって先下がりの下り勾配となるように形成されている。

基板収納カセットＣからロボット部Ｒによって水平姿勢で搬出されてきた基板Ｂは、基板立替装置２１の基板載置部２１１のピン２１１１上に水平な姿勢で載置され、この基板載置部２１１がシリンダ２１２によって下降されると、基板載置部２１１上の基板Ｂは基板搬送路２９上に乗り移る。基板搬送路２９は、図２（イ）に示すように、基板搬送方向に向けて先下がりの下り勾配を有している。これにより、基板Ｂは、下り勾配を有する基板搬送路２９に乗り移った時点で水平姿勢から傾斜姿勢に立替えられる。

紫外線照射部２２には、第１処理部２０を上下から挟むように紫外線ランプ２２１が設けられ、図略の駆動モータの駆動によって基板搬送ローラ１２が回転駆動されて搬送される基板Ｂは、表裏面がこれらの紫外線ランプ２２１からの紫外線の照射によって、基板Ｂに付着している有機物による汚れが、後の洗浄処理で取り除かれ易くなるように分解される。

第２処理部３０の基板搬送路３９は、図２（ハ）に示すように、複数本の基板搬送ローラ１２が、基板搬送方向に対して上り勾配を形成するように下流側（図２の左方）に向かって先上がりに並設されてなる。この第２処理部３０は、図１及び図２（ハ）に示すように、搬送方向転換部４０から基板搬送路３９の上り勾配に沿った傾斜姿勢とされて搬送されてくる基板Ｂに対して乾燥処理を施す乾燥部３１と、ロボット部Ｒに基板Ｂを受け取らせるための基板搬出部３２とを備えている。この基板搬出部３２には、乾燥部３１によって乾燥処理の施された基板Ｂの傾斜姿勢を、ロボット部Ｒによる基板Ｂの受け取りが可能となるように水平姿勢に戻す基板立替装置２１が設けられている。

乾燥部３１は、搬送方向転換部４０で洗浄処理がされた後の基板Ｂに対して乾燥処理を施すものである。乾燥部３１には、基板搬送路３９を上下から挟むよう配設された一対のエアナイフ３１１が設けられている。各エアナイフ３１１は、それぞれの対向面側に幅方向へ延びた長尺のエア噴出孔を有し、図略の圧縮空気源からの清浄圧縮空気がこれらのエア噴出孔から噴出されるようになっている。これにより、濡れた基板Ｂが基板搬送ローラ１２による搬送でエアナイフ３１１間を通過するとき、その表裏面に付着している洗浄液が上下のエアナイフ３１１のエア噴出孔から噴出される乾燥用の清浄エアによって吹き飛ばされ、基板Ｂの表裏面が乾燥するようになっている。

基板搬出部３２では、乾燥部３１で乾燥処理が施された基板Ｂが、基板立替装置２１によって、基板搬送路３９に沿った傾斜姿勢から水平姿勢に姿勢が変更される。すなわち、基板搬送ローラ１２上にある傾斜姿勢の基板Ｂを、基板立替装置２１の基板載置部２１１のピン２１１１によって、基板搬送ローラ１２の間から上方に持ち上げて水平姿勢とし、ロボット部Ｒが受け取り可能な状態とされる。

搬送方向転換部４０は、第１処理部２０から搬送されてきた基板Ｂを、その向き及び傾斜角度を変えないで第２処理部３０まで搬送するものである（図１及び図２（ロ））。すなわち、基板Ｂは、第１処理部２０の下流端では、基板搬送路２９の下り勾配と同様の角度で傾斜した状態となっているが、搬送方向転換部４０は、この基板Ｂの基板搬送方向に対して先下がりとなっている傾斜姿勢を維持したままで、基板搬送方向を９０度転換して、第２処理部３０の上流端まで搬送し、更に基板搬送方向を９０度転換し、その時点での傾斜姿勢を維持したままで、第２処理部３０に向けて基板Ｂを搬送するようになっている。

搬送方向転換部４０は、図１及び図２（ロ）に示すように、基板Ｂを、第１処理部２０下流端に繋げて配設された第１搬送路４１と、この第１搬送路４１に設けられている基板昇降装置６０と、この基板昇降装置６０から基板を受け取った基板Ｂを傾斜姿勢で搬送する傾斜搬送部４９と、この傾斜搬送部４９によって搬送される基板Ｂに対して処理液を供給する液供給部４２と、第２処理部３０の上流端に並設された第２搬送路４３と、液供給部４２での処理が施された基板Ｂを、傾斜搬送部４９から第２搬送路４３に乗り継がせる基板昇降装置８０とを備えている。

液供給部４２に搬入された基板Ｂは、処理液供給装置（液供給手段）４２１から供給される処理液によって基板表面が処理される。すなわち、第１処理部２０から第２処理部３０に基板Ｂを搬送する動作と同時に、予め定められた処理が基板Ｂに対して行われるようになっている。

基板Ｂが傾斜搬送部４９から第２搬送路４３に搬送されると、基板昇降装置８０によって、基板搬送方向が更に９０度変更される。また、基板昇降装置８０の基板搬送方向上流側には、仕上げ用の水洗シャワー４３１が設けられている。基板搬送路３９に搬入された基板Ｂは、この水洗シャワー４３１からの洗浄水の散布を受けた後、第２搬送路４３から第２処理部３０に向けて搬送される。基板昇降装置８０の基板載置部分及び第２搬送路４３は、第２搬送路４３による基板搬送方向に対して先上がりに傾斜しており、傾斜搬送部４９によって維持されていた基板傾斜状態（傾斜搬送部４９による基板搬送方向に直交する方向で、水平状態から傾斜されている状態）を維持したまま、第１処理部２０による基板搬送方向とは逆方向に基板Ｂが搬送されるようになっている。

図３は、基板立替装置２１の一実施形態を示す説明図であり、（イ）は水平姿勢の基板Ｂが基板立替装置２１に載置された状態を示す側面図、（ロ）は同背面図、（ハ）は基板立替装置２１上の基板Ｂが第１処理部２０の基板搬送路２９に乗り移った状態を示す側面図、（ニ）は同背面図である。

基板立替装置２１は、本実施形態では、第１処理部２０の基板搬送方向上流端及び第２処理部３０の基板搬送方向下流端に設けられている。基板立替装置２１は、図３各図に示すように、基板Ｂが載置される基板載置部２１１と、この基板載置部２１１を昇降させる昇降機構であるシリンダ２１２とを備えている。基板載置部２１１は、４本のピン２１１１によって基板Ｂの下面を支え、これらピン２１１１は基板搬送ローラ１２同士の隙間から基板搬送路２９よりも上方に突出可能とされている。

この基板載置部２１１は、シリンダ２１２の昇降によって、ピン２１１１の上端が基板搬送ローラ１２によって形成される基板搬送路２９よりも上方に位置する上方位置Ｌ１と、ピン２１１１の上端が基板搬送路２９よりも下方に位置する下方位置Ｌ２との間で位置変更される。

このように構成された基板立替装置２１により、基板載置部２１１が上方位置Ｌ１に位置設定された状態で、図３の（イ）に示すように、基板収納カセットＣからロボット部Ｒ（図３では図略）によって搬出された基板Ｂが基板載置部２１１のピン２１１１の上端に載置される。この状態で、シリンダ２１２によって基板載置部２１１が下降されると、基板載置部２１１に支持されていた基板Ｂは、図３の（ハ）に示すように、第１処理部２０内の基板搬送路２９（基板搬送ローラ１２）上に乗り移り、以後、基板搬送ローラ１２の回転駆動によって第１処理部２０内を搬送される。

また、図３（ハ）に示すように第２処理部３０の基板搬送ローラ１２上に基板Ｂが載置されている状態で、基板立替装置２１の基板載置部２１１が上昇することによって、基板Ｂが第２処理部３０から基板載置部２１１に乗り移り、ロボット部Ｒへの基板Ｂの引き渡しが可能な状態とされる。

基板処理装置１０による基板搬送について詳細に説明する。図４、図５及び図６は、基板処理装置１０の一部分を示す斜視図であり、第１処理部２０の下流端から、搬送方向転換部４０及び第２処理部３０の上流端に係る部分を示している。具体的には、図１及び図２における紫外線照射部２２（基板搬送路２９）、第１搬送路４１、基板昇降装置６０、傾斜搬送部４９、第２搬送路４３、基板昇降装置８０、及び乾燥部３１（基板搬送路３９）を図示している（紫外線ランプ２２１及びエアナイフ３１１の図示は省略）。また、図４は基板Ｂが第１処理部２０を搬送されている状態を示し、図５は第１搬送路４１に搬入された基板Ｂが傾斜搬送部４９に搬出されつつある状態を示し、図６は第２搬送路４３に搬入された基板Ｂが第２処理部３０へ向けて搬出されつつある状態を示している。なお、図４〜図６において、Ｘ−Ｘ方向を幅方向、Ｙ−Ｙ方向を前後方向といい、特に−Ｘ方向を左方、＋Ｘ方向を右方、−Ｙ方向を前方、＋Ｙ方向を後方という。

第１処理部２０の基板搬送方向下流端から、搬送方向転換部４０及び第２処理部３０の基板搬送方向上流端に係る部分における基板Ｂ搬送動作を説明する。図１及び図２で示したインデクサ部１１から第１処理部２０に移された基板Ｂは、第１処理部２０の基板搬送路２９によって図４の＋Ｙ方向に搬送され、紫外線照射部２２を通って、第１搬送路４１まで搬送される。基板Ｂが第１搬送路４１まで搬送されると、図５に示すように、基板昇降装置６０によって基板Ｂの搬送方向が転換され、同図＋Ｘ方向に向けての基板Ｂの搬送が開始される。そして、図５に示すように、基板Ｂは基板昇降装置６０から傾斜搬送部４９に引き渡され、基板Ｂは傾斜搬送部４９によって第２搬送路４３の基板昇降装置８０まで搬送される。基板Ｂが基板昇降装置８０まで搬送されると、基板昇降装置８０から第２搬送路４３の分割基板搬送ローラ１２１に基板Ｂが引き渡され、基板Ｂの搬送方向が第２処理部３０に向かう方向に転換される。この後、図６に示すように、基板Ｂは、分割基板搬送ローラ１２１によって第２処理部３０の基板搬送路３９に向けて搬送されていく。この基板Ｂは、乾燥部３１を通って第２処理部３０下流端まで搬送され、インデクサ部１１に引き取られる。

引き続き図４乃至図６を用いて、第１処理部２０の基板搬送方向下流端から、搬送方向転換部４０及び第２処理部３０の基板搬送方向上流端に係る部分の構成を詳細に説明する。搬送方向転換部４０は、第１処理部２０の基板搬送路２９の下流端に設けられた第１搬送路４１及び基板昇降装置６０と、第１処理部２０及び第２処理部３０による基板搬送方向に直交する方向に基板Ｂを搬送する傾斜搬送部４９と、第２処理部３０の上流端に設けられた第２搬送路４３及び基板昇降装置８０とを備えている。

基板処理装置１０内には、第１処理部２０の基板搬送路２９に沿い、かつ、第１搬送路４１にかけて設けられた基板搬送方向に対して先下がりに傾斜する第１フレーム１３と、第２搬送路４３から第２処理部３０の基板搬送路３９に沿って、基板搬送方向に向かって先上がりに傾斜させて設けられた第２フレーム１４と、第１処理部２０及び第２処理部３０との間に架設された後方フレーム１５及び前方フレーム１６とが備えられている。

基板搬送ローラ１２は、第１処理部２０内において一対の第１フレーム１３の上縁部間に等ピッチで複数本が並設され、これによって、基板搬送方向に向かって先下がりに、第１処理部２０の基板搬送路２９と、基板昇降装置６０が設けられている第１搬送路４１とが形成されている。また、同一の基板搬送ローラ１２の複数本が、第２処理部３０において一対の第２フレーム１４の上縁部間に等ピッチで並設され、これによって、基板搬送方向に向かって先上がりに、基板昇降装置８０が設けられている第２搬送路４３と、第２処理部３０の基板搬送路３９とが形成されている。

第１処理部２０の基板搬送路２９は第１搬送路４１に至るまで設けられている。第１搬送路４１では、基板搬送ローラ１２と、左右に分割された一対の分割基板搬送ローラ１２１とが前後方向に等ピッチでそれぞれ並設されている。同様に、第２処理部３０の基板搬送路３９は第２搬送路４３から設けられており、第２搬送路４３では、基板搬送ローラ１２と、左右に分割された一対の分割基板搬送ローラ１２１とが前後方向に等ピッチでそれぞれ並設されている。これらの分割基板搬送ローラ１２１は、所定の駆動モータを備えた図略の駆動機構によって軸心回りに駆動回転する。

第１搬送路４１及び第２搬送路４３の基板昇降装置６０，８０の構成を、上記図４乃至図６に加えて、図７乃至図９を参照して説明する。図７は基板昇降装置６０近傍の第１搬送路４１を示す平面図、図８（ａ）（ｂ）（ｃ）は基板の受け渡し時における基板昇降装置６０の動作を示す図であり、図４の＋Ｘ方向に見た側面図である。図９は、基板の受け渡し時における搬送方向転換部４０各部の動作を示す、図４の−Ｙ方向に見た概略側面図であり、（ａ）は基板昇降装置６０近傍の第１搬送路４１部分を示す側面図、（ｂ）は基板昇降装置６０から傾斜搬送部４９及び基板昇降装置８０にかかる第１搬送路４１、傾斜搬送部４９及び第２搬送路４３部分を示す図、（ｃ）は基板昇降装置８０近傍の第２搬送路４３部分を示す側面図である。

図７に示すように、基板昇降装置６０は、第１搬送路４１の分割基板搬送ローラ１２１間に昇降動作可能に設けられている。この基板昇降装置６０は、平面視で矩形状を呈した前後方向に長尺のローラ支持枠体６１と、このローラ支持枠体６１の前後方向一対の縁壁間に等ピッチで架設された複数本の方向転換ローラ６２とを備えている。

図８（ａ）に示すように、基板昇降装置６０は、その基板載置面が、基板搬送路２９及び第１搬送路４１と同様の傾斜角度を付けて配設されており、第１処理部２０から基板Ｂが搬送されてくる時、方向転換ローラ６２が分割基板搬送ローラ１２１より下方に沈んだ下方位置に位置するようになっている。これによって基板Ｂは、分割基板搬送ローラ１２１の駆動で方向転換ローラ６２と干渉することなく、基板昇降装置６０の上方まで搬送される（図８（ｂ），図９（ａ））。

傾斜搬送部４９の基板搬送ローラ１２は、図４乃至図６に示したように、第１処理部２０及び第１搬送路４１に形成されている先下がりの傾斜と、第２処理部３０及び第２搬送路４３に形成された先上がりの傾斜と同様の傾斜を付けて、後方フレーム１５及び前方フレーム１６の間に架設されている。また、図９（ｂ）に示すように、傾斜搬送部４９の基板搬送ローラ１２は、第１搬送路４１及び第２搬送路４３の基板搬送ローラ１２及び分割基板搬送ローラ１２１が配設されている高さよりも高い位置に配設され、傾斜搬送部４９における基板Ｂの搬送路が、第１搬送路４１の基板搬送路よりも高くなるように設定されている。

第２処理部３０に備えられている基板昇降装置８０は、特に図示しないが、基板昇降装置６０と同様の構成であり、ローラ支持枠体８１と方向転換ローラ８２とを備える。そして、基板昇降装置８０は、図９（ｂ）に示すように、傾斜搬送部４９の基板搬送ローラ１２による基板搬送位置と同程度の高さ位置で待機して、この基板搬送ローラ１２から基板Ｂを受け取る。この後、基板昇降装置８０は、基板Ｂを載置すると、図９（ｃ）に示すように、第２処理部３０の分割基板搬送ローラ１２１よりも下方位置まで下降し、基板Ｂが第２搬送路４３の分割基板搬送ローラ１２１及び基板搬送ローラ１２に乗り移るようになっている。以後、分割基板搬送ローラ１２１及び基板搬送ローラ１２の駆動により、基板Ｂは第２処理部３０の基板搬送路３９に向けて搬送される。

基板昇降装置６０及び基板昇降装置８０は、ローラ支持枠体６１又は８１の下部に取り付けられた支持軸６３又は８３が図略のシリンダによって昇降されることで、その載置部が上記昇降動作を行うようになっている。

続いて、基板昇降装置６０，８０による基板Ｂ搬送方向の転換動作について図８及び図９を用いて更に詳細に説明する。基板Ｂが、図４の＋Ｙ方向に搬送されて、第１処理部２０を経て第１搬送路４１に搬入され（図８（ａ））、基板昇降装置６０の上方位置まで搬送されると（図８（ｂ），図９（ａ））、基板搬送ローラ１２及び分割基板搬送ローラ１２１が停止する。

そして、基板昇降装置６０は、第１搬送路４１の基板搬送ローラ１２により基板搬送位置よりも上方の高さ位置であって、傾斜搬送部４９の基板搬送ローラ１２による基板搬送位置と同程度の高さ位置まで上昇する（図８（ｃ），図９（ｂ））。これにより、基板Ｂは第１搬送路４１において、基板搬送ローラ１２から基板昇降装置６０に乗り移る。

この状態で、基板昇降装置６０の方向転換ローラ６２が回転すると、基板Ｂの搬送方向は、それまでの基板搬送方向（図４の＋Ｙ方向）に対して９０°変更され、図４の＋Ｘ方向に転換される。これにより、基板Ｂは、図５に示すように、基板昇降装置６０上から傾斜搬送部４９の基板搬送ローラ１２上に移動していく。そして、図９（ｂ）に傾斜搬送部４７９及び２点鎖線の基板Ｂとして示すように、基板Ｂは、傾斜搬送部４９の基板搬送ローラ１２上に乗り移る。上述したように、基板昇降装置６０の基板載置面、及び、傾斜搬送部４９の基板搬送ローラ１２によって形成される基板搬送路は、第１搬送路４１の基板搬送路と同様の傾斜とされているので、この基板Ｂの基板昇降装置６０から傾斜搬送部４９の基板搬送ローラ１２への乗り移りは、それまでの傾斜姿勢を維持したままで行われる。なお、基板Ｂには、傾斜搬送部４９の搬送中に、液供給部４２（図１及び図２）から処理液が供給される。

傾斜搬送部４９の基板搬送ローラ１２による基板Ｂの搬送中、基板昇降装置８０は、傾斜搬送部４９の基板搬送ローラ１２形成される基板搬送位置と同じ高さ位置である上方位置Ｌ１に上昇しており（図９（ｂ））、方向転換ローラ８２が回転駆動されている。基板Ｂが基板昇降装置８０上に搬送され、基板昇降装置８０の略中心位置まで到達すると、この方向転換ローラ８２が停止する。このようにして基板Ｂが基板昇降装置８０に載置されると、図９（ｃ）に示すように、基板昇降装置８０は、第２搬送路４３の基板搬送ローラ１２及び分割基板搬送ローラ１２１よりも下方となる下方位置Ｌ２まで下降する。これにより、基板Ｂは、基板昇降装置８０から第２搬送路４３の基板搬送ローラ１２及び分割基板搬送ローラ１２１上に乗り移る。

この後、第２搬送路４３の基板搬送ローラ１２及び分割基板搬送ローラ１２１が回転駆動されると、基板Ｂの搬送方向がそれまでの搬送方向（図４の＋Ｘ方向）から９０°変更されて、図４の−Ｙ方向に転換される。そして、図６に示すように、基板Ｂは第２搬送路４３から第２処理部３０に向けて搬送される。なお、この過程においては、基板Ｂに対して、水洗シャワー４３１から洗浄水が噴霧されて仕上げの水洗処理が施される。

このように、本実施形態に係る基板処理装置１０によれば、第１処理部２０から搬送方向転換部４０を介して第２処理部３０に搬送される基板Ｂに対して、従来の複雑な構造の方向転換装置を採用しなくても、第１処理部２０で付与された最初の傾斜姿勢を常に維持したままで、各部における処理を行うことができる。

次に、本発明の第２実施形態に係る基板処理装置について説明する。図１０は、本発明の第２実施形態に係る基板処理装置１０’を示す側面視による説明図であり、（イ）は第２実施形態に係る基板処理装置１０’の第１処理部２０′の概略構成を示す側面図、（ロ）は第２実施形態に係る基板処理装置１０’の第２処理部３０′の概略構成を示す側面図である。第２実施形態に係る基板処理装置１０′では、第１処理部２０’及び第２処理部３０’において、基板搬送路２９又は３９は、少なくとも基板立替装置２１から基板Ｂを受け取る部分は水平に形成される。したがって、基板収納カセットＣからロボット部Ｒによって搬出された基板Ｂは、水平姿勢で第１処理部２０’の基板搬送路２９又は第２処理部３０’の基板搬送路３９に載置される。

そして、図１０（イ）に示すように、基板搬送路２９の基板搬送方向下流側位置、例えば、紫外線照射部２２では、並設される複数の基板搬送ローラ１２ローラによって形成される基板搬送面が、基板搬送方向に対して先下がりとされ、第１搬送路４１の傾斜に円滑に繋げられている。例えば、これらの部分の基板搬送路２９は、上方に向かって凸の円弧状に形成される。

また、基板処理装置１０′では、図１０（ロ）に示すように、第２処理部３０′の基板搬送路３９は、基板搬送ローラ１２によって形成される基板搬送面が、その基板搬送方向下流側（基板収納カセットＣ側）に向かって先上がりとなるように設けられている。例えば、乾燥部３１′付近では、この部分の基板搬送路３９が上に凸の円弧状に設定され、第２処理部３０の基板搬送方向下流端の基板立替装置２１によって基板Ｂの受け渡しが行われる部分では、基板搬送面が水平となるように設定されている。

なお、本発明は、上記各実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。

（１）上記各実施形態においては、第１処理部２０の基板搬送路２９は、搬送方向転換部４０に向かって下り勾配の傾斜が形成され、第２処理部３０の基板搬送路３９は、インデクサ部１１に向かって上り勾配の傾斜が形成されているが、本発明は、このような第１処理部２０及び第２処理部３０の勾配に限定されるものではない。例えば、第１処理部２０の基板搬送路２９が上り勾配で、第２処理部３０の基板搬送路３９が下り勾配であってもよい。この場合、搬送方向転換部４０は、第１処理部２０の上り勾配によって傾斜姿勢とされた基板Ｂの姿勢を維持したまま、基板Ｂを第２処理部３０まで搬送し、この基板Ｂの姿勢を維持したままで、第２処理部３０の下り勾配による基板搬送に繋げる。

（２）上記の第１実施形態においては、第１処理部２０及び第２処理部３０の基板搬送方向上流端から下流端まで勾配が施され、第２実施形態においては、第１処理部２０’の基板搬送方向上流端は基板搬送面が水平とされ、基板搬送方向下流側に進むに連れて先下がりの勾配が形成され、第２処理部３０’の基板搬送方向上流端は先上がりの勾配が形成され、基板搬送方向下流端は基板搬送面が水平とされているが、第１処理部２０と第２処理部３０’との組合せ、第１処理部２０’と第２処理部２０とを組み合わせて、基板処理装置を構成することも可能である。

（３）また、本発明に係る基板処理装置は、第１処理部２０及び第２処理部３０のいずれか一方または双方を水平方向に延びる水平搬送路としてものであってもよい。この場合、基板Ｂは、第１処理部２０から第１搬送路４１に搬送されたときに水平姿勢から傾斜姿勢に姿勢変更されたり、第２搬送路４３から第２処理部３０に搬送されたときに傾斜姿勢から水平姿勢に姿勢変更されたりする。

（４）また、上記各実施形態では、第１処理部２０が紫外線照射部２２を備え、第２処理部３０が乾燥部３１及び基板搬出部３２を備えるものとしているが、これらはあくまでも一例であり、第１処理部２０及び第２処理部３０が備える処理部は適宜変更が可能であり、上記に限定されるものではない。

本発明の第１実施形態に係る基板処理装置の概略を示す平面図である。 図１に示す基板処理装置の概略を側面視等で示す図であり、（イ）は第１処理部から搬送方向転換部を示す側面図、（ロ）は搬送方向転換部の側面斜視図、（ハ）は搬送方向転換部から第２処理部を示す側面図である。 基板立替装置の一実施形態を示す説明図であり、（イ）は水平姿勢の基板が基板立替装置に載置された状態を示す側面図、（ロ）は同背面図、（ハ）は基板立替装置上の基板が第１処理部の基板搬送路に乗り移った状態を示す側面図、（ニ）は同背面図である。 基板処理装置の一部分を示す斜視図であり、基板が第１処理部を搬送されている状態を示す図である。 基板処理装置の一部分を示す斜視図であり、第１搬送路に搬入された基板が傾斜搬送部に搬出されつつある状態を示す図である。 基板処理装置の一部分を示す斜視図であり、第２搬送路に搬入された基板が第２処理部へ向けて搬出されつつある状態を示す図である。 基板昇降装置近傍の第１搬送路を示す平面図である。 （ａ）（ｂ）（ｃ）は、それぞれ基板の受け渡し時における基板昇降装置の動作を示す図であり、図４の＋Ｘ方向に見た側面図である。 基板の受け渡し時における搬送方向転換部各部の動作を示す図４の−Ｙ方向に見た概略側面図であり、（ａ）は基板昇降装置近傍の第１搬送路部分を示す側面図、（ｂ）は基板昇降装置から傾斜搬送部及び基板昇降装置にかかる第１搬送路、傾斜搬送部及び第２搬送路部分を示す図、（ｃ）は基板昇降装置近傍の第２搬送路部分を示す側面図である。 本発明の第２実施形態に係る基板処理装置を示す側面視による説明図であり、（イ）は第２実施形態に係る基板処理装置の第１処理部の概略構成を示す側面図、（ロ）は第２実施形態に係る基板処理装置の第２処理部の概略構成を示す側面図である。

符号の説明

１０ 基板処理装置
１２ 基板搬送ローラ
２０ 第１処理部
２１ 基板立替装置
２９ 基板搬送路
３０ 第２処理部
３９ 基板搬送路
４０ 搬送方向転換部
４１ 第１搬送路
４２ 液供給部
４３ 第２搬送路
４９ 傾斜搬送部
６０ 基板昇降装置
６１ ローラ支持枠体
６２ 方向転換ローラ
６３ 支持軸
８０ 基板昇降装置
８１ ローラ支持枠体
８２ 方向転換ローラ
１２１ 分割搬送ローラ
２１１ 基板載置部
２１２ シリンダ
Ｂ 基板
Ｃ 基板収納カセット
Ｒ ロボット部

Claims (5)

1. 予め定められた方向に基板を搬送させつつ当該基板を処理する第１処理部と、
   前記第１処理部と平行に配置され、前記予め定められた方向とは逆方向に基板を搬送させつつ当該基板を処理する第２処理部と、
   前記第１処理部の基板搬送終了端と前記第２処理部の基板搬送開始端との間で基板を搬送しながら、前記第１処理部による基板搬送方向を前記第２処理部による基板搬送方向に転換する搬送方向転換部とを備えた基板処理装置において、
   前記搬送方向転換部は、前記第１処理部の基板搬送終了端から基板を受け取り、前記第１処理部による基板搬送方向に向けて勾配を有する第１搬送路と、
   前記第１搬送路に接続され、前記第１搬送路が有する前記勾配によって傾斜された基板の姿勢を維持した状態で前記第２処理部側に基板を搬送する傾斜搬送部と、
   前記傾斜搬送部によって搬送される基板の主面に処理液を供給する液供給手段と
   を備える基板処理装置。
2. 前記傾斜搬送部から搬送されてくる基板を、その傾斜姿勢を維持しつつ、前記第２処理部の基板搬送開始端に向けて搬送し、前記第２処理部による基板搬送方向に対して前記第１搬送路の前記勾配とは反対方向に傾斜した勾配を有する第２搬送路を備えた請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記第１搬送路には、当該第１搬送路の勾配によって付与される基板傾斜姿勢を維持したまま、前記第１処理部による基板搬送方向に直交する方向に基板搬送方向を転換する搬送方向転換装置が設けられ、
   前記傾斜搬送部は、前記搬送方向転換装置から受け取った基板を、前記第１処理部による基板搬送方向と同一方向であって、かつ、当該傾斜搬送部による基板搬送方向に直交する方向に傾斜させて搬送する請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記第２搬送路には、前記傾斜搬送部によって搬送される基板の傾斜姿勢を維持したまま、前記第２処理部による基板搬送方向に基板搬送方向を転換する搬送方向転換装置がさらに設けられている請求項３に記載の基板処理装置。
5. 前記第１処理部又は第２処理部には、前記第１搬送路又は第２搬送路の勾配と同一の勾配が形成され、基板収納カセットから基板を出し入れする基板搬送ロボットとの間で基板を受け渡し、前記第１処理部又は第２処理部に基板を載置する基板受け渡し機構が設けられている請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置。

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