JP4381949B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置用ガラス基板及びＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板などの各被処理基板を搬送する装置に関する。

従来、例えば下記特許文献１に示されるように、基板に処理を施す基板処理装置において、基板処理装置の設置面積（フットプリント）を小さくすることを目的として、複数の処理部を上下二段に積載配置し、基板を（水平状態で）上下に移動させる受け渡し手段（エレベータ）を備えるものがある。

また、処理液の置換効率を上げるために、搬送途中で基板を傾斜させ、基板を傾斜姿勢で搬送しつつ処理（例えば水洗処理）を施す基板処理装置がある。
特開平１０−１３５３０４号公報

しかしながら、基板処理装置内で基板を傾斜させると、そのための領域が必要となり、基板処理装置の設置面積（フットプリント）が大きくなってしまうという問題があった。

本発明は、上記問題点に鑑みて成されたもので、基板を傾斜させる機構を備えつつ、このために基板処理装置の設置面積（フットプリント）が大きくなることのない基板処理装置を提供することを目的とする。

請求項１に係る基板処理装置は、基板を搬送しつつ基板に処理を施す処理部が複数段に配置された基板処理装置において、前記複数段に配置された処理部間で基板を上又は下に搬送するエレベータ部と、前記エベレータ部から基板を搬出する搬出コンベア部と、前記エベレータ部に基板を搬入する搬入コンベア部とを備え、前記エレベータ部は、基板を支持する基板支持手段と、前記基板支持手段を昇降させる昇降手段とを備え、前記搬出コンベア部は、前記基板支持手段が支持する基板の姿勢とは異なる傾斜姿勢で基板を支持し、前記エレベータ部の基板支持手段から基板を乗り移させる搬出基板支持手段を備え、前記基板支持手段と前記搬出基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記基板支持手段から前記搬出基板支持手段へ基板を乗り移させるものであり、前記搬入コンベア部は、前記基板支持手段が支持する基板の姿勢と同じ姿勢で基板を支持し、前記エレベータ部の基板支持手段に基板を乗り移させる搬入基板支持手段を備え、前記基板支持手段と前記搬入基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記搬入基板支持手段から前記基板支持手段へ基板を乗り移させ、前記搬入基板支持手段を、前記基板支持手段に基板を乗り移させた後に、基板の昇降に影響しない位置に退避させる退避手段を更に備えるものである。

この構成によれば、基板は、基板支持手段からこれとは傾斜の異なる搬出基板支持手段に乗り移されることにより、基板の傾斜姿勢が変化させられるので、基板を傾斜させるための新たなスペースを基板処理装置に設ける必要がなく、基板を傾斜させる機構を備えても基板処理装置の設置面積（フットプリント）が大きくならない。

さらに、この構成によれば、エレベータ部は、基板を搬入コンベア部から受け取る際に、基板支持手段が搬入コンベア部と同じ高さに留まって基板の搬入が完了することを待つ必要がないので、基板の搬送間隔がより短くなり、基板処理装置への基板の投入間隔をより短くすることができる。

請求項２に係る基板処理装置は、基板を搬送しつつ基板に処理を施す処理部が複数段に配置された基板処理装置において、前記複数段に配置された処理部間で基板を上又は下に搬送するエレベータ部と、前記エレベータ部との間で基板を搬送する搬送コンベア部とを備え、前記エレベータ部は、基板を支持する基板支持手段と、前記基板支持手段を昇降させる昇降手段とを備え、前記搬送コンベア部は、前記基板支持手段が支持する基板の姿勢とは異なる傾斜姿勢で基板を支持し、前記エレベータ部の基板支持手段との間で基板を乗り移させる搬送基板支持手段を備え、前記基板支持手段と前記搬送基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記基板支持手段と前記搬送基板支持手段との間で基板を乗り移させるものであり、前記エレベータ部内の基板の主面に向けて処理液を供給する処理液供給手段を更に備えるものである。

この構成によれば、エレベータ部に、基板の昇降に加えて水洗処理を行わせるので、水洗処理を行うユニットを処理部に設ける必要がなく、基板処理装置の設置面積（フットプリント）をより小さくすることができる。

請求項３に係る基板処理装置は、請求項２に記載の基板処理装置であって、前記基板支持手段は、基板を予め定められた傾斜姿勢で支持するものである。

この構成によれば、エレベータ部で水洗処理を行う場合に、基板の水切れを良くし、処理液の置換効率を上げることができる。

請求項４に係る基板処理装置は、請求項３に記載の基板処理装置であって、前記搬入基板支持手段は、基板を予め定められた傾斜姿勢で支持するように基板を上面に乗せる載置台であって、基板の乗る側の面が凸になるように緩やかに湾曲しているものである。

この構成によれば、搬入基板支持手段は緩やかに湾曲しているので、基板が搬入基板支持手段に搬入される際に基板の局部に極端な圧力がかかることがなく、基板の損傷が防げられる。

請求項５に係る基板処理装置は、基板を搬送しつつ基板に処理を施す処理部が上段と下段とに配置された基板処理装置において、上段の処理部は、基板を水平姿勢で搬送する上段搬送手段を備え、基板を上段の処理部から下段の処理部に搬送するエレベータ部は、前記上段搬送手段の搬送方向に対して前傾した予め定められた姿勢で前記基板を支持する基板支持手段と、前記基板支持手段を昇降させる昇降手段と、当該エレベータ部内に搬送された基板の主面に向けて処理液を供給する処理液供給手段とを備え、下段の処理部は、前記エレベータ部の基板支持手段から基板を乗り移させて、下段の処理部における基板の搬送方向に対する横方向に傾斜した予め定められた姿勢で基板を支持する搬出基板支持手段と、前記搬出基板支持手段が支持する基板の傾斜姿勢のままで基板を搬送する下段搬送手段とを備え、前記基板支持手段と前記搬出基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記基板支持手段から前記搬出基板支持手段へ基板を乗り移させるものである。

この構成によれば、請求項１，２及び３に記載の発明と同様の作用を奏する。

請求項６に係る基板処理装置は、請求項５に記載の基板処理装置であって、前記上段の処理部は、前記上段搬送手段の搬送路に滑らかに隣接されて、これにより搬入されてきた基板を前記基板支持手段が支持する基板の姿勢と同じ姿勢で支持し、前記エレベータ部の基板支持手段に基板を乗り移させる搬入基板支持手段を備え、前記基板支持手段と前記搬入基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記搬入基板支持手段から前記基板支持手段へ基板を乗り移させ、前記搬入基板支持手段を、前記基板支持手段に基板を乗り移させた後に、基板の昇降に影響しない位置に退避させる退避手段を更に備えるものである。

この構成によれば、請求項１に記載の発明と同様の作用を奏する。

請求項１記載の発明によれば、基板は、傾斜の異なる基板支持手段と搬送基板支持手段との間で乗り移されることにより、基板の傾斜姿勢が変化させられるので、基板を傾斜させるための新たなスペースを基板処理装置に設ける必要がなく、基板を傾斜させる機構を備えても基板処理装置の設置面積（フットプリント）が大きくならない。

請求項１又は６に記載の発明によれば、エレベータ部は、基板を搬入コンベア部から受け取る際に、基板支持手段が搬入コンベア部と同じ高さに留まって基板の搬入が完了することを待つ必要がないので、基板の搬送間隔がより短くなり、基板処理装置への基板の投入間隔をより短くすることができる。

請求項２に記載の発明によれば、エレベータ部に、基板の昇降に加えて水洗処理を行わせるので、水洗処理を行うユニットを処理部に設ける必要がなく、基板処理装置の設置面積（フットプリント）をより小さくすることができる。

請求項３に記載の発明によれば、エレベータ部で水洗処理を行う場合に、基板の水切れを良くし、処理液の置換効率を上げることができる。

請求項４に記載の発明によれば、搬入基板支持手段は緩やかに湾曲しているので、基板が搬入基板支持手段に搬入される際に基板の局部に極端な圧力がかかることがなく、基板の損傷が防げられる。

請求項５に記載の発明によれば、請求項１，２及び３に記載の発明と同様の効果を奏する。

以下、本発明の一実施形態における基板処理装置について図面を参照しながら説明する。図１は、基板処理装置１の全体構成を示す側面図である。基板処理装置１は上下二段に処理部を備える二階建ての基板処理装置である。ローダユニット１１は、基板Ｗを基板処理装置１の上段の処理部に、所定の時間間隔（この時間間隔をタクトという。）で１枚ずつ投入するものである。アンローダユニット１７は、基板処理装置１による全処理行程を終了した基板Ｗを基板処理装置１の下段の処理部から１枚ずつ取り出すものである。エレベータユニット１４は、基板Ｗを１枚ずつ降下させて、基板処理装置１の上段の処理部から下段の処理部に基板Ｗを搬送するものである。

ＵＶ洗浄ユニット１２は、基板Ｗに紫外線（ＵＶ）を照射させて洗浄するものである。ブラシ洗浄ユニット１３は、ロールブラシを回転させて基板Ｗの表面を擦ることにより基板Ｗを洗浄するユニットである。ジェット洗浄ユニット１５は、高圧且つ超音波の水流により基板Ｗを水洗するユニットである。乾燥エアナイフユニット１６は、エアを基板Ｗに吹き付けて水分を吹き飛ばし乾燥させるユニットである。これらの処理ユニット（ＵＶ洗浄ユニット１２、ブラシ洗浄ユニット１３、ジェット洗浄ユニット１５、乾燥エアナイフユニット１６）は、基板Ｗを搬送しながら処理を行う。そのため、ローダユニット１１によって処理部に投入された基板ＷはＵＶ洗浄ユニット１２及びブラシ洗浄ユニット１３を通ってエレベータユニット１４まで搬送され、エレベータユニット１４により下段に搬送された基板Ｗは、ジェット洗浄ユニット１５及び乾燥エアナイフ１６を通ってアンローダユニット１７に搬送される。

次に、上段の処理部（ブラシ洗浄ユニット１３）からエレベータユニット１４に基板Ｗを渡す機構、及びエレベータユニット１４から下段の処理部（ジェット洗浄ユニット１５）に基板Ｗを渡す機構を説明する。図２は、エレベータユニット１４、ブラシ洗浄ユニット１３及びジェット洗浄ユニット１５の基板Ｗの受け渡しに係る機構を説明するための側面図である。上段の処理部（ブラシ洗浄ユニット１３）の搬送路及び搬入基板支持台１４１に備えられるローラ群は基板Ｗをエレベータユニット１４内まで搬入する搬入コンベア機構１３１のローラで、矢印方向に回転することにより基板Ｗをエレベータユニット１４内まで搬入する。搬入基板支持台１４１は、エレベータユニット１４内で基板Ｗを上段位置（上段の処理部のコンベア機構と同じ高さ）で支えるものである。搬入基板支持台１４１は、搬送方向の端に向かって徐々に降下するように曲線的（上に向けて緩やかに凸形状とされる）な傾斜が付けられている。これにより基板Ｗはほぼ所定の角度（例えば水平方向に対して５度）で搬入方向の先端が下に傾斜した姿勢で支持される。これは、処理液により洗浄されて基板Ｗに付いた処理液の切れを良くし、処理液の置換効率を上げるためである。また、基板Ｗが割れる等の基板Ｗへのダメージを減少するために、搬入基板支持台１４１の傾斜を上記のように曲線的にし、基板Ｗが搬入基板支持台１４１に搬入されると
きにおける水平姿勢から上記傾斜姿勢への移行に際して基板Ｗに極端な力が加わることのないようにしている。下段の処理部（ジェット洗浄ユニット１５）の搬送路及び搬出基板支持台１４３に備えられるローラ群は基板Ｗをエレベータユニット１４から搬出する搬出コンベア機構１５１のローラで、矢印方向に回転することにより基板Ｗをエレベータユニット１４内から搬出する。搬出基板支持台１４３は、エレベータユニット１４内で基板Ｗを下段位置（下段の処理部のコンベア機構と同じ高さ）で支えるものである。図２においては図示されていないが、下段の処理部の搬送路及び搬出基板支持台１４３は、基板Ｗの搬送方向に直交する基板Ｗの幅方向に所定の角度（例えば水平方向に対して５度）で、基板Ｗの一方端と他方端の上下位置を異ならせるように傾斜されており、基板Ｗは、ジェット洗浄ユニット１５及び乾燥エアナイフユニット１６内をこの傾斜姿勢で通過する。これは、処理液により洗浄されて基板Ｗに付いた処理液の切れを良くし、処理液の置換効率を上げるためである。

また、降下基板支持台１４２は、エレベータユニット１４において基板Ｗを支えて降下するものである。降下基板支持台１４２には、搬入基板支持台１４１と同じ傾斜が付けられている。これも、処理液により洗浄されて基板Ｗに付いた処理液の切れを良くし、処理液の置換効率を上げるためである。降下基板支持台１４２は、エレベータユニット１４の搬送方向奥の壁部に備えられた昇降機構部１４４に接続され、モータ等の駆動源を備える昇降機構部１４４により上下に移動可能に支持されている。降下基板支持台１４２は、図略の駆動機構により上下に移動され、基板Ｗを上段（搬入基板支持台１４１）から下段（搬出基板支持台１４３）に移動させる。

搬入基板支持台１４１は、搬入基板支持台１４１に載置された基板Ｗを降下基板支持台１４２に乗り移すと共に基板Ｗの降下を阻害しないようにするために、降下基板支持台１４２が搬入基板支持位置（搬入基板支持台１４１の位置で、基板Ｗを搬入基板支持台１４１から降下基板支持台１４２に乗り移させる位置）まで上昇した後に、退避時における搬入基板支持台１４１’の位置に退避される。降下基板支持台１４２が（搬入基板支持台１４１が移動しても搬入基板支持台１４１が降下基板支持台１４２に接触しない程度に）降下した後、退避位置の搬入基板支持台１４１’は搬入基板支持位置に戻され、次に搬入されてきた基板Ｗをこの位置で支持して降下基板支持台１４２が再び上昇してくるのを待つ。搬入基板支持台１４１の搬入基板支持位置と退避位置との間での移動は、空圧シリンダ１４６ａ及びアーム１４６ｂを備える退避機構１４６により行われる。空圧シリンダ１４６ａは退避機構１４６の駆動源である。所定数、例えば４本の空圧シリンダ１４６ａはこれと同数のアーム１４６ｂ（搬入基板支持台１４１の側面に２本ずつ合計４本）にそれぞれ接続され、アーム１４６ｂを動かす。アーム１４６ｂそれぞれの一方端は搬入基板支持台１４１の各側面の２つの異なる位置（図２参照）に基板Ｗの搬送方向に回動可能に接続されている。また、各アーム１４６ｂそれぞれの他方端は例えばブラシ洗浄ユニット１３の搬送路の両側の側面の２つの異なる位置（図２参照）に基板Ｗの搬送方向に回動可能に接続されている。ブラシ洗浄ユニット１３の側面に接続された方の端を中心に各アーム１４６ｂは空圧シリンダ１４６ａにより回動され、これにより搬入基板支持台１４１は基板搬入位置と退避位置との間を移動する。搬入基板支持台１４１を退避させるこの機構は退避機構の一例を示すものであって、基板搬入位置と退避位置との間で搬入基板支持台１４１を移動可能な機構であれば必ずしも上記の機構である必要はない。

エレベータユニット１４には、エレベータユニット１４内の基板Ｗを水洗するためのシャワーノズル１４５が両サイドの壁面に備えられている。これにより、エレベータユニット１４１においては、基板Ｗを降下させるだけでなく、水洗処理も行われる。

図３は、搬入基板支持位置の搬入基板支持台１４１、降下基板支持台１４２及び搬出基板支持台１４３を上から見た図である。搬出基板支持台１４３は、この図においては、搬
入基板支持台１４１と同じ位置に位置する（つまり、この図においては搬出基板支持台１４３は搬入基板支持台１４１に隠れる）。搬入基板支持台１４１（又は搬出基板支持台１４３）は、ローラ軸支持部１４１１及びローラ軸１４１２を備える。ローラ軸支持部１４１１は、基板Ｗの搬送方向に垂直な幅方向の両側部からローラ軸１４１２を支持するものである。ローラ軸支持部１４１１は、アーム１４６ｂ（図２参照）により支持されている。ローラ軸１４１２は、搬送ローラ１４１３を備え、ローラ軸支持部１４１１に支持されるものである。ローラ軸１４１２は、ローラ軸支持部１４１１内に備えられた図略の駆動機構による自身の回転により搬送ローラ１４１３を回転させて、搬入コンベア機構１３１（又は搬出コンベア機構１５１）として基板Ｗを搬入（又は搬出）する。

降下基板支持台１４２は、ローラ軸支持部１４２１及びローラ軸１４２２を備える。ローラ軸支持部１４２１は、基板Ｗの搬送方向に垂直な幅方向の中心部からローラ軸１４２２を支持するものである。ローラ軸支持部１４２１は、昇降機構１４４（図２参照）により支持されている。ローラ軸１４２２は、搬送ローラ１４２３を備え、ローラ軸支持部１４２１に支持されるものである。搬入基板支持台１４１と降下基板支持台１４２、又は搬出基板支持台１４３と降下基板支持台１４２は、同じ高さに来た場合にも互いに通り抜けて接触しないために、上述する形状を有している。

図４は、搬出基板支持台１４３と降下基板支持台１４２とを下段処理部における基板搬送方向から見た図である。図４は降下基板支持台１４２が降下する様子を示すもので、（ａ），（ｂ），（ｃ）の順に降下基板支持台１４２が下降する様子を示す。搬出基板支持台１４３は、上述したように基板搬送方向に垂直な幅方向に所定の角度（例えば水平方向に対して５度）で基板Ｗの幅方向の一方端が他方端より低くなるように傾斜された姿勢で固定されている。上記幅方向に水平な（ただし、搬送方向には傾斜されている（図略））降下基板支持台１４２は、図４（ａ），（ｂ），（ｃ）の順に示すように、降下しながら搬出基板支持台１４３をすり抜け、降下基板支持台１４２に載置されている基板Ｗ（図４（ａ）参照）はこれにより搬出基板支持台１４３に乗り移らされ基板Ｗの傾斜姿勢が変えられる（図４（ｂ），（ｃ）参照）。

次に、基板処理装置１における基板Ｗの搬送動作を説明する。ローダユニット１１から処理部（ＵＶ洗浄ユニット１２）に投入された基板ＷはＵＶ洗浄ユニット１２及びブラシ洗浄ユニット１３において処理を行われつつ搬入基板支持台１４１まで搬送される。このとき基板Ｗは搬入基板支持台１４１の傾斜に従い上記傾斜姿勢をとる。エレベータユニット１４内では、シャワーノズル１４５から処理液が基板Ｗに供給され、基板Ｗが水洗される。基板Ｗには上記傾斜が付けられているため、液が基板Ｗ上に貯まることがない。降下基板支持台１４２は、搬入基板支持位置まで上昇し、これと入れ替わりに搬入基板支持台１４１は退避位置（図２における搬入基板支持台１４１’の位置）に退避する。これにより基板Ｗは搬入基板支持台１４１から降下基板支持台１４２に移し替えられる。降下基板支持台１４２は、搬入基板支持台１４１の退避動作に少し（搬入基板支持台１４１が基板Ｗの降下に邪魔にならない程度に）遅れて、降下を開始する。搬入基板支持台１４１は、降下基板支持台１４２が降下した後に搬入基板支持位置に戻り、次の基板Ｗが搬入されてくるのを待つ。これにより降下基板支持台１４２が下がっている間に、搬入基板支持位置の搬入基板支持台１４１に次の基板Ｗが搬入されるので、降下基板支持台１４２が上段に上がった後その位置で留まって基板Ｗが搬入されるのを待つ必要がないので、基板Ｗの搬入間隔をより短くでき、基板処理装置への基板投入間隔（タクト）をより短くすることができる。降下基板支持台１４２は、搬出基板支持台１４３の少し下まで降下する。これにより基板Ｗは降下基板支持台１４２から搬出基板支持台１４３に移し替えられ、それまでとは別の傾斜姿勢に変えられる。基板Ｗはこの別の傾斜姿勢のまま、搬出基板支持台１４３から下段の処理部（ジェット洗浄ユニット１５）に搬出され、ジェット洗浄ユニット１５及び乾燥エアナイフユニット１６により処理を行われつつアンローダユニット１７まで
搬送され、基板処理装置１から払い出される。

このように本実施形態によれば、エレベータユニット１４の上段で、基板Ｗが搬入基板支持台１４１上に搬入されることにより、基板Ｗに第１の傾斜が付けられ、基板Ｗは第１の傾斜が付けられたままエレベータユニット１４の下段まで降下され、基板Ｗが降下基板支持台１４２から搬出基板支持台１４３に乗り移されることにより基板Ｗに第２の傾斜が付けられる。基板Ｗはこの第２の傾斜のまま下段の処理部の処理が行われつつ搬送される。したがって、基板Ｗを傾斜姿勢にするためのユニット（スペース）を新たに設けることなく、基板Ｗを傾斜姿勢にすることができる。また、降下基板支持台１４２が下がっている間に、搬入基板支持位置の搬入基板支持台１４１に次の基板Ｗが搬入されるので、基板処理装置への基板投入間隔（タクト）をより短くすることができる。また、エレベータユニット１４内で水洗処理を行うので、水洗処理を行うスペースをエレベータユニット１４外の処理部に設ける必要がなく、基板処理装置の設置面積（フットプリント）をより小さくすることができる。

次に、本発明の実施形態とは別の形態における基板処理装置について図面を参照しながら説明する。図５は、基板処理装置２の全体構成を示す側面図である。基板処理装置２は上下二段に処理部を備える二階建ての基板処理装置である。ローダユニット２１は、基板Ｗを基板処理装置２の上段の処理部（ＵＶ洗浄ユニット２２）に投入するものである。アンローダユニット２８は、基板Ｗを基板処理装置２の下段の処理部（乾燥エアナイフユニット２７）から取り出すものである。エレベータユニット２４は、基板Ｗを降下させて、基板処理装置２の上段の処理部から下段の処理部に搬送するものである。

ＵＶ洗浄ユニット２２は、基板Ｗに紫外線（ＵＶ）を照射させて洗浄するものである。基板立替ユニット２３は、水平姿勢で搬送されてきた基板Ｗを、基板Ｗの搬送方向に垂直な幅方向に所定の角度（例えば水平方向に対して５度）傾いた、基板Ｗの上記幅方向の一方端より他方端が低い傾斜姿勢に立て替えるものである。例えば基板立替ユニット２３のコンベア機構のローラ群（の一部或いは全部）の上記幅方向の一方端のみを上昇させる機構（図略）を設けることにより基板Ｗ（及び搬送路）を水平姿勢から傾斜姿勢にするものである。この立替機構は必ずしもこれと同じ機構である必要はなく、例えば、前記の本発明の実施形態における基板Ｗの立替機構（搬入基板支持台１４１と降下基板支持台１４２との間、又は降下基板支持台１４２と搬出基板支持台１４３との間での基板Ｗの乗せ換えによるもの）であってもよい。ブラシ洗浄ユニット２５は、ロールブラシで基板Ｗを擦ることにより基板Ｗを洗浄するユニットである。ジェット洗浄ユニット２６は、高圧且つ超音波の水流により基板Ｗを水洗するユニットである。乾燥エアナイフユニット２７は、エアを基板Ｗに吹き付けて水分を吹き飛ばし乾燥させるものである。基板処理装置２において、上段はドライ処理ゾーンで、基板Ｗを濡らさないで行う（処理液が用いられない）処理（ドライ処理）が行われる。基板処理装置２において、下段はウェット処理ゾーンで、基板Ｗを濡らして行う（処理液が用いられる）処理（ウェット処理）が行われる。これらの処理ユニット（ＵＶ洗浄ユニット２２、基板立替ユニット２３、ブラシ洗浄ユニット２５、ジェット洗浄ユニット２６、乾燥エアナイフユニット２７）は、基板Ｗを搬送しながら処理を行う。そのため、ローダユニット２１によって処理部に投入された基板ＷはＵＶ洗浄ユニット２２及び基板立替ユニット２３を通ってエレベータユニット２４まで搬送され、エレベータユニット２４により下段に持ってこられた基板Ｗは、ブラシ洗浄ユニット２５、ジェット洗浄ユニット２６及び乾燥エアナイフユニット２７を通ってアンローダユニット２８に払い下げられる。基板立替ユニット２３は、基板立替を行わないタイプの基板洗浄装置においては、上段の処理部の長さを下段の処理部の長さに合わすため、単なる水平搬送のコンベアのみを有するユニット（ニュートラルゾーン）として設けられる。ここで、下段の処理部はウェット処理を行うので、上段のドライ処理ゾーンにもって来ることはできない。したがって、基板立替を行わないタイプの基板洗浄装置であっても、基板処理装置の設置面積（フットプリント）はこれ以上小さくならない。

降下基板支持台２４１は、上段のコンベア（搬送路）と同じ高さの位置と下段のコンベア（搬送路）と同じ高さの位置との間で昇降する。下段のコンベア（搬送路）は上段において傾斜された後の傾斜度と同じ傾斜度（例えば水平方向に対して５度）を有する。また、降下基板支持台もこれと同じ傾斜度（例えば水平方向に対して５度）を有する。これにより、基板立替ユニット２３により傾斜姿勢にされた基板Ｗはその後、その傾斜姿勢を変えずにアンローダユニット２８まで搬送される。

このように本実施形態によれば、基板立替を行わないタイプの基板洗浄装置において、空いているスペースを用いて基板Ｗの立替を行うようにしたので、基板処理装置の設置面積（フットプリント）を大きくすることなく、基板Ｗの立替を行うことができる。

なお、本発明は、上記実施形態のものに限定されるものではなく、以下に述べる態様を採用することができる。図１〜図４に示した実施形態においては、エレベータユニット１４の上段において基板Ｗを第１の傾斜姿勢にし、エレベータユニット１４の下段において基板Ｗを第２の傾斜姿勢にしたが、エレベータユニット１４の上段において、搬入基板支持台１４１から降下基板支持台１４２に基板Ｗを乗り移させることにより基板Ｗの傾斜姿勢を搬送路の幅方向に傾斜させるような傾斜姿勢にし、後はこの傾斜姿勢のままアンローダユニット１７まで搬送するようにしても良い。これによっても、前記実施形態と同様の効果を得られる。

前記の本発明の実施形態においては、基板処理装置は処理部が上下二段に載置されたものであったが、本発明が適用される基板処理装置は処理部が三段以上に載置されたものであっても良い。

前記の本発明の実施形態においては、搬入基板支持台１４１の退避機構を設け、基板処理装置１への基板Ｗの投入間隔（タクト）がより短くするようにしたが、必ずしもこの退避機構を設ける必要はない。退避機構を設けない場合には、例えば、搬入基板支持台１４１自体を設けないようにし、基板Ｗをエレベータ部１４に搬入する際に、降下基板支持台１４２を、上段の基板搬送路と滑らかに隣接するように停止させ、コンベア機構により基板Ｗをコンベア機構１３１から降下基板支持台１４２上に直接渡すように搬入すればよい。この場合には、降下基板支持台１４２は、基板Ｗの搬入の開始から終了までの間、上段の基板搬送路に隣接された状態で、停止していなければならないため（退避機構を備えた場合には、この停止時間を短くできる。）、基板Ｗの搬送間隔がより長くなり、ひいては基板処理装置１への基板Ｗの投入間隔（タクト）がより長くなる。

本発明の一実施形態における基板処理装置の構成の概略を示す側面図である。 本発明の一実施形態における基板処理装置の特にエレベータユニット周辺の構成を示す側面図である。 本発明の一実施形態における降下基板支持台及び搬入基板支持台を示す上面図である。 本発明の一実施形態における降下基板支持台と搬出基板支持台との間での基板の乗せ換えを示す背面図で、（ａ）は降下基板支持台が搬出基板支持台より上にある場合、（ｂ）は降下基板支持台と搬出基板支持台がほぼ同じ高さにある場合、（ｃ）は降下基板支持台が搬出基板支持台より下に移動した場合を示す。 本発明の実施形態とは別の形態における基板処理装置の構成の概略を示す側面図である。

１，２ 基板処理装置
１４，２４ エレベータユニット（エレベータ部）
１４２，２４１ 降下基板支持台（基板支持手段）
１４４ 昇降機構部（昇降手段）
１３１ 搬出コンベア機構（搬送コンベア部、搬出コンベア部）
１４３ 搬出基板支持台（搬送基板支持手段、搬出基板支持手段）
１５１ 搬入コンベア機構（搬入コンベア部）
１４１ 搬入基板支持台（搬入基板支持手段）
１４６ 退避機構（退避手段）
１４５ シャワーノズル（処理液供給手段）
Ｗ 基板

Claims (6)

1. 基板を搬送しつつ基板に処理を施す処理部が複数段に配置された基板処理装置において、
   前記複数段に配置された処理部間で基板を上又は下に搬送するエレベータ部と、
   前記エベレータ部から基板を搬出する搬出コンベア部と、
   前記エベレータ部に基板を搬入する搬入コンベア部とを備え、
   前記エレベータ部は、
   基板を支持する基板支持手段と、
   前記基板支持手段を昇降させる昇降手段とを備え、
   前記搬出コンベア部は、
   前記基板支持手段が支持する基板の姿勢とは異なる傾斜姿勢で基板を支持し、前記エレベータ部の基板支持手段から基板を乗り移させる搬出基板支持手段を備え、
   前記基板支持手段と前記搬出基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記基板支持手段から前記搬出基板支持手段へ基板を乗り移させるものであり、
   前記搬入コンベア部は、
   前記基板支持手段が支持する基板の姿勢と同じ姿勢で基板を支持し、前記エレベータ部の基板支持手段に基板を乗り移させる搬入基板支持手段を備え、
   前記基板支持手段と前記搬入基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記搬入基板支持手段から前記基板支持手段へ基板を乗り移させ、
   前記搬入基板支持手段を、前記基板支持手段に基板を乗り移させた後に、基板の昇降に影響しない位置に退避させる退避手段を更に備える基板処理装置。
2. 基板を搬送しつつ基板に処理を施す処理部が複数段に配置された基板処理装置において、
   前記複数段に配置された処理部間で基板を上又は下に搬送するエレベータ部と、
   前記エレベータ部との間で基板を搬送する搬送コンベア部とを備え、
   前記エレベータ部は、
   基板を支持する基板支持手段と、
   前記基板支持手段を昇降させる昇降手段とを備え、
   前記搬送コンベア部は、
   前記基板支持手段が支持する基板の姿勢とは異なる傾斜姿勢で基板を支持し、前記エレベータ部の基板支持手段との間で基板を乗り移させる搬送基板支持手段を備え、
   前記基板支持手段と前記搬送基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記基板支持手段と前記搬送基板支持手段との間で基板を乗り移させるものであり、
   前記エレベータ部内の基板の主面に向けて処理液を供給する処理液供給手段を更に備える基板処理装置。
3. 前記基板支持手段は、基板を予め定められた傾斜姿勢で支持する請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記搬入基板支持手段は、基板を予め定められた傾斜姿勢で支持するように基板を上面に乗せる載置台であって、基板の乗る側の面が凸になるように緩やかに湾曲している請求項３に記載の基板処理装置。
5. 基板を搬送しつつ基板に処理を施す処理部が上段と下段とに配置された基板処理装置において、
   上段の処理部は、
   基板を水平姿勢で搬送する上段搬送手段を備え、
   基板を上段の処理部から下段の処理部に搬送するエレベータ部は、
   前記上段搬送手段の搬送方向に対して前傾した予め定められた姿勢で前記基板を支持する基板支持手段と、
   前記基板支持手段を昇降させる昇降手段と、
   当該エレベータ部内に搬送された基板の主面に向けて処理液を供給する処理液供給手段とを備え、
   下段の処理部は、
   前記エレベータ部の基板支持手段から基板を乗り移させて、下段の処理部における基板の搬送方向に対する横方向に傾斜した予め定められた姿勢で基板を支持する搬出基板支持手段と、
   前記搬出基板支持手段が支持する基板の傾斜姿勢のままで基板を搬送する下段搬送手段とを備え、
   前記基板支持手段と前記搬出基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記基板支持手段から前記搬出基板支持手段へ基板を乗り移させる基板処理装置。
6. 前記上段の処理部は、
   前記上段搬送手段の搬送路に滑らかに隣接されて、これにより搬入されてきた基板を、前記基板支持手段が支持する基板の姿勢と同じ姿勢で支持し、前記エレベータ部の基板支持手段に基板を乗り移させる搬入基板支持手段を備え、
   前記基板支持手段と前記搬入基板支持手段とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより前記搬入基板支持手段から前記基板支持手段へ基板を乗り移させ、
   前記搬入基板支持手段を、前記基板支持手段に基板を乗り移させた後に、基板の昇降に影響しない位置に退避させる退避手段を更に備える請求項５に記載の基板処理装置。
   

Images