KR100922521B1 - 브러시 어셈블리 및 이를 갖는 기판 세정 장치 - Google Patents

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    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Abstract

브러시 어셈블리는 회전 가능하게 설치되는 샤프트와, 샤프트의 중앙 부위에 설치되고, 기판을 세정하기 위한 세정액을 제공받으며 기판의 표면에 직접 접촉하여 기판의 세정을 수행하는 브러시, 그리고 샤프트의 단부에 설치되고, 기판의 세정을 수행할 때 브러시로 제공되는 세정액이 샤프트를 타고 단부 방향으로 누설되는 것을 방지하도록 샤프트 주변에 기류를 형성하기 위한 누설 방지부를 포함한다. 따라서, 샤프트를 타고 세정액이 누설되는 것을 방지할 수 있다.

Description

브러시 어셈블리 및 이를 갖는 기판 세정 장치{Brush assembly and apparatus for cleaning a substrate having the same}
본 발명은 기판을 세정하기 위한 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 물리적 접촉 방식으로 기판을 세정하기 위한 브러시 어셈블리 및 이를 갖는 기판 세정 장치에 관한 것이다.
일반적으로 사용되는 정보 처리 기기는 처리된 정보를 표시하기 위한 디스플레이 장치를 구비한다. 이러한 디스플레이 장치로 최근에는 가볍고, 공간을 적게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대되고 있는 추세이다. 상기 평판 디스플레이 장치의 대표적인 예로 액정 디스플레이 장치(Liquid Crystal Display)가 널리 사용되고 있다.
상기 액정 디스플레이 장치를 제조하기 위해 기판 상에 다양한 공정들이 반복적으로 수행되며, 이들 공정 중에는 기판 상에 부착되는 먼지나 유기물 등을 제거하기 위한 세정 공정을 포함한다. 상시 세정 공정 중에는 브러시를 이용한 물리적 접촉으로 기판을 세정하는 방식이 있다.
상기 브러시는 롤(Roll) 구조로 회전 가능한 샤프트(Shaft)에 설치되고, 상 기 샤프트의 회전에 의해 일정 속도로 회전하면서 기판의 표면에 직접 접촉하여 상기 기판의 세정을 수행한다. 상기 브러시는 통상 나일론 재질로 이루어진 다수의 모로 이루어지는데 상기 모가 건조한 상태로 기판에 빈번하게 접촉하게 되면 손상되어 기판에 스크래치 등과 같은 손상을 입히는 문제점이 있다. 이러한 문제 해결을 위해 상기 브러시로 세정액을 공급함으로써, 상기 세정액이 윤활유로 작용하여 상기 모의 손상에 의한 기판 손상을 예방한다.
하지만, 상기 브러시로 제공되는 세정액이 샤프트를 타고 외부로 누설되는 현상이 나타나며, 이와 같은 세정액의 누설로 인해 상기 샤프트를 회전시키기 위하여 상기 샤프트를 지지하는 베어링 및 외부 구조물을 오염시키며, 더욱 심하게는 손상시키는 문제점이 있다.
본 발명의 실시예들을 통해 해결하고자 하는 일 과제는 세정액 등이 샤프트를 타고 누설되는 것을 방지할 수 있는 브러시 어셈블리를 제공하는 것이다.
본 발명의 실시예들을 통해 해결하고자 하는 다른 과제는 상기 브러시 어셈블리를 갖는 기판 세정 장치를 제공하는 것이다.
상기 본 발명의 일 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 브러시 어셈블리는 샤프트, 브러시 및 누설 방지부를 포함하여 이루어진다. 상기 샤프트는 회전 가능하게 설치된다. 상기 브러시는 상기 샤프트의 중앙 부위에 설치되고, 기판을 세정하기 위한 세정액을 제공받으며, 기판의 표면에 직접 접촉하여 상기 기판의 세정을 수행한다. 상기 누설 방지부는 상기 샤프트의 단부에 설치되고, 상기 기판의 세정을 수행할 때 상기 브러시로 제공되는 세정액이 상기 샤프트를 타고 단부 방향으로 누설되는 것을 방지하도록 상기 샤프트 주변에 기류를 형성한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 누설 방지부는 상기 기류를 형성하기 위한 나선형 구조를 갖는 복수의 블레이드로 이루어질 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 누설 방지부는 중심부로 상기 샤프트가 관통하는 깔때기 구조의 몸체부를 더 포함하고, 상기 몸체부의 외부에 상기 복수의 블레이드가 설치됨에 의해 기류를 상기 샤프트의 회전축과 교차되는 방향으로 형성한다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 상기 누설 방지부는 상기 브러시의 일측 및 반대편에 위치하는 상기 브러시의 타측에 각각 설치될 수 있다.
상기 본 발명의 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 공정 용기, 브러시 어셈블리 및 브러시 구동부를 포함하여 이루어진다. 상기 공정 용기는 기판 세정을 위한 세정 공간을 제공한다. 상기 브러시 어셈블리는 상기 공정 용기의 내부에 회전 가능하게 설치되고, 적어도 일단부가 상기 공정 용기의 측벽을 관통하여 외부로 연장되는 샤프트와, 상기 샤프트의 중앙 부위에 설치되고, 기판을 세정하기 위한 세정액을 제공받으며, 기판의 표면에 직접 접촉하여 세정을 수행하는 브러시, 그리고 상기 샤프트의 단부에 설치되고, 상기 기판의 세정을 수행할 때 상기 브러시로 제공되는 세정액이 상기 샤프트를 타고 단부 방향으로 누설되는 것을 방지하도록 상기 샤프트 주변에 기류를 형성하기 위한 누설 방지부를 갖는다. 상기 브러시 구동부는 상기 공정 용기의 외부에 위치하고, 상기 브러시 어셈블리의 샤프트의 일단에 연결되며, 기판을 세정할 때 상기 샤프트를 회전시킴에 의해 상기 브러시를 회전시킨다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 공정 용기는 상기 브러시 어셈블리의 샤프트가 관통하는 부위에 위치하고, 상기 브러시 어셈블리의 누설 방지부를 수용하며, 상기 누설 방지부에 의해 차단되어 상기 샤프트로부터 떨어지는 세정액을 회수하기 위한 회수부를 가질 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 브러시 어셈블리는 상하로 대향 설치되고, 하부에 설치되는 브러시 어셈블리의 누설 방지부는 상부에 설치되는 브러시 어셈블리의 누설 방지부보다 바깥쪽에 위치한다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 브러시 어셈블리 및 이를 갖는 기판 세정 장치는 세정액이 샤프트를 타고 단부 방향으로 누설되는 것을 방지하도록 상기 샤프트의 단부 주변에 기류를 형성함으로써, 세정액의 누설을 방지하여 브러시 어셈블리에 연결되는 베어링 및 외부 구조물의 오염이나 손상을 예방한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 브러시 어셈블리 및 이를 갖는 기판 세정 장치에 대하여 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
브러시 어셈블리
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 브러시 어셈블리를 나타내는 개략적인 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 브러시 어셈블리(100)는 실리콘 웨이퍼와 같은 반도체 기판 또는 평판 디스플레이 장치의 기판 등을 세정하기 위하여 사용될 수 있 다. 예컨대, 언급한 기판을 세정하기 위한 장치에서 기판에 물리적으로 접촉(브러싱)함에 의해 상기 기판을 세정하기 위하여 사용될 수 있다.
상기 브러시 어셈블리(100)는 샤프트(110), 브러시(120) 및 누설 방지부(130)를 포함하여 이루어진다.
상기 샤프트(110)는 길이가 긴 원기둥 구조(혹은 원통 구조)를 갖고, 세정 공간을 제공하는 공정 용기 등에 회전 가능하게 설치된다. 예를 들어, 상기 샤프트(110)는 기판의 세정을 수행할 때 회전 가능하도록 베어링(미도시) 등에 의해 지지되고, 적어도 일단은 모터 등과 같이 상기 샤프트(110)를 회전시키기 위한 구동 수단(미도시)에 연결된다.
상기 브러시(120)는 상기 샤프트(110)의 중앙 부위에 설치되고, 기판의 표면에 직접 접촉하여 상기 기판의 세정을 수행한다. 즉, 상기 브러시(120)는 상기 샤프트(110)의 중앙 부위의 외주면을 따라서 설치되고, 상기 샤프트(110)의 회전에 의해 함께 회전하면서 기판의 표면에 직접 접촉하여 브러싱 효과로 기판 표면의 이물질을 제거한다. 여기서, 상기 브러시(120)는 기판을 세정할 때 건조한 상태로 기판에 빈번하게 접촉함에 의해 손상되어 기판에 스크래치 등의 손상을 입히게 되는데, 이를 개선하기 위하여 세정액 공급부(미도시)로부터 세정액을 제공받아 웨팅(예컨대 젖은)된 상태로 기판의 세정을 수행한다. 상기 세정액은 상기 브러시(120)와 기판 사이에서 윤활유 역할을 하고, 기판의 세정 효율을 향상시키는 역할을 한다.
상기 브러시(120)는 나일론과 같은 합성수지로 형성되는 다수의 모로 이루어 질 수 있다. 이와 달리, 스펀지와 같은 합성 수지 또는 천연 재질로 이루어지거나, PVA 스펀지 등 다양한 재질로 이루어질 수 있다. 또한, 그 형태에 있어서도 언급한 다수의 모 형태와 달리 상기 샤프트(110)의 둘레를 따라 일체로 이루어진 원통형 구조를 갖거나, 다수개가 연속적으로 배치되어 원통형 구조를 가질 수 있다.
상기 누설 방지부(130)는 상기 샤프트(110)의 단부에 상기 샤프트(110)의 회전축과 동일 회전축을 갖도록 설치되고, 상기 샤프트(110)가 회전함에 따라 회전하면서 상기 샤프트(110) 주변에 기류를 형성한다. 즉, 상기 샤프트(110) 주변에 단부로부터 중앙 부위로 향하는 기류를 형성한다. 상기 누설 방지부(130)는 상기 기류를 형성하여 상기 브러시(120)로 제공되는 세정액이 상기 샤프트(110)를 타고 단부 방향으로 누설되는 것을 방지하는 역할을 한다.
상기 누설 방지부(130)는 세정액의 누설을 방지하기 위한 기류를 형성하기 위해 나선형 구조를 갖는 복수의 블레이드(132)를 포함한다. 상기 각 블레이드(132)는 도면에서와 같이 직선형 플레이트로 이루어질 수 있으며, 이와 달리 곡선형 플레이트로 이루어질 수도 있다. 여기서, 상기 샤프트(110)를 타고 누설되는 세정액의 효과적인 차단을 위해서 상기 누설 방지부(130)에 의해 형성되는 기류의 방향이 상기 샤프트(110)의 회전축과 교차되면서 상기 샤프트(110)의 중앙 부위를 향하는 것이 바람직하다. 이를 위해, 중심부를 상기 샤프트(110)가 관통하고, 선단의 반경이 후단의 반경보다 작은 깔때기 구조의 몸체부(134)에 설치될 수 있다. 즉, 상기 누설 방지부(130)는 깔때기 구조의 몸체부(134)와, 상기 몸체부(134)의 외주면에 회전축에 비스듬한 방향으로 배치되는 나선형 구조를 갖는 복수의 블레이 드(132)로 이루어질 수 있다.
한편, 상기 누설 방지부(130)의 구조는 언급한 나선형 블레이드(132)를 갖는 구조 이외에 상기 샤프트(110)의 회전에 의해 상기 샤프트(110)의 주변에 기류를 형성할 수 있는 다양한 형태의 블레이드 또는 그에 상응하는 구조를 가질 수 있다.
언급한 바와 같은 구성에 의한 상기 브러시 어셈블리(100)는 상기 누설 방지부(130)에 의해 상기 샤프트(110)의 주변에 기류를 형성함으로써, 상기 브러시(120)로 제공되는 세정액이 상기 샤프트(110)를 타고 단부 방향으로 누설되는 것을 방지한다. 또한, 기판의 세정을 수행할 때 사용되거나 발생할 수 있는 기타 유체 및 이물질 등이 상기 브러시 어셈블리(100)가 설치되는 부위를 통해 배출되는 것을 방지하는 역할을 한다.
기판 세정 장치
이하, 언급한 브러시 어셈블리를 포함하는 기판 세정 장치에 대하여 설명하기로 한다.
도 3은 언급한 브러시 어셈블리를 갖는 기판 세정 장치를 나타내는 개략적인 도면이다.
여기서, 도 3에 도시된 브러시 어셈블리는 언급한 도 1 및 도 2의 브러시 어셈블리와 동일하므로 동일 부재에 대해서는 동일한 부호를 사용하고, 중복되는 부분은 그 상세한 설명을 생략하기로 한다.
도 3을 참조하면, 기판 세정 장치는 공정 용기(200), 브러시 어셈블리(100), 세정액 공급부(300) 및 브러시 구동부(400)를 포함하여 이루어진다.
상기 공정 용기(200)는 기판(G)을 세정하기 위한 세정 공간을 제공한다. 예컨대, 상기 공정 용기(200)는 긴 터널형의 세정 공간을 제공하는 구조를 갖는다. 상기 공정 용기(200)의 내부에는 기판(G)의 세정을 수행하기 위하여 상기 브러시 어셈블리(100)가 배치된다. 또한, 도시하진 않았지만 상기 공정 용기(200)의 내부에는 이송 롤러와 같이 세정을 위해 용기 내로 유입되는 기판(G)을 이송하여 상기 브러시 어셈블리(100)에 접촉시키고, 세정이 완료된 후 용기 외부로 유출되도록 기판(G)을 이송하기 위한 이송 수단이 구비될 수 있다.
여기서, 상기 공정 용기(200)는 측벽에 형성되어 이하 설명하게 될 브러시 어셈블리(100)의 누설 방지부(130)를 수용하고, 상기 누설 방지부(130)에 의해 상기 브러시 어셈블리(100)로부터 떨어지는 세정액을 회수하기 위한 회수부(220)를 더 포함한다. 즉, 상기 회수부(220)는 상기 브러시 어셈블리(100)가 관통하는 상기 공정 용기(200)의 측벽 부위에 위치하고, 상기 누설 방지부(130)를 수용 가능한 별도의 공간을 갖도록 형성된다.
상기 브러시 어셈블리(100)는 상기 공정 용기(200)에 회전 가능하게 설치되는 샤프트(110)와, 상기 샤프트(110)의 중앙 부위에 설치되고, 기판(G)의 표면에 직접 접촉하여 상기 기판(G)의 세정을 수행하는 브러시(120), 그리고 상기 샤프트(110)의 단부에 설치되고, 기판(G)의 세정을 수행할 때 상기 브러시(120)로 제공되는 세정액이 상기 샤프트(110)를 타고 단부 방향으로 누설되는 것을 방지하도록 상기 샤프트(110) 주변에 기류를 형성하기 위한 누설 방지부(130)를 포함한다.
여기서, 상기 브러시 어셈블리(100)는 상하로 대향 설치될 수 있다. 즉, 이송되는 기판(G)의 상부면 및 하부면을 동시에 세정하기 위하여 상기 공정 용기(200) 내에서 이송되는 기판(G)의 상부 및 하부에 위치하도록 상기 브러시 어셈블리(100)가 설치될 수 있다. 이 때, 상부에 설치되는 브러시 어셈블리(100)의 누설 방지부(130)와 하부에 설치되는 브러시 어셈블리(100)의 누설 방지부(130)는 서로 다른 위치에 설치될 수 있다. 예컨대, 하부에 설치되는 브러시 어셈블리(100)의 누설 방지부(130)가 더 바깥쪽(예컨대 단부쪽)에 설치됨에 따라 상기 누설 방지부(130)에 의해 차단되어 하부에 설치되는 브러시 어셈블리(100)로 떨어지는 세정액이 샤프트(110)를 타고 누설되는 것까지도 방지할 수 있다.
상기 세정액 공급부(300)는 상기 공정 용기(200)의 내부에 형성되고, 상기 브러시 어셈블리(100)의 브러시(120)로 제공되도록 세정액을 분사한다. 상기 세정액 공급부(300)는 상기 브러시 어셈블리(100)가 상하로 대향 설치되는 경우에는 각 브러시 어셈블리(100)별로 각각 구비될 수 있다. 여기서, 상기 세정액의 일 예로는 탈이온수(DeIonized Water : DIW)를 포함한다.
상기 브러시 구동부(400)는 상기 공정 용기(200)의 외부에 위치하고, 상기 공정 용기(200)의 측벽을 관통하여 외부로 연장되는 상기 브러시 어셈블리(100)의 일단에 연결된다. 즉, 상기 공정 용기(200)의 외부로 연장되는 상기 샤프트(110)의 타단에 연결되고, 기판(G)의 세정을 수행할 때 상기 샤프트(110)를 회전시킴에 의해 상기 기판(G)의 세정을 수행한다. 상기 브러시 구동부(400)는 상기 샤프트(100)를 회전시킬 수 있는 모터 등으로 이루어질 수 있다.
여기서, 기판(G)의 세정 효율 개선하기 위해서 상기 브러시 어셈블리(100)의 회전 방향이 이송되는 기판(G)의 진행 방향과 반대 방향이 되도록 회전시키는 것이 바람직하다. 예컨대, 상기 브러시 어셈블리(100)가 상하로 대향 설치되는 경우에 서로 다른 방향으로 회전시킨다.
언급한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 브러시 어셈블리 및 이를 갖는 기판 세정 장치는 세정액이 샤프트를 타고 단부 방향으로 누설되는 것을 방지하기 위하여 상기 샤프트 주변에 단부로부터 중앙 부위로 향하는 기류를 형성함으로써, 샤프트를 통한 세정액의 누설을 방지하여 이에 연결되는 베어링 및 외부 구도불의 오염이나 손상을 예방한다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 브러시 어셈블리를 나타내는 개략적인 도면이다.
도 3은 언급한 브러시 어셈블리를 갖는 기판 세정 장치를 나타내는 개략적인 도면이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100: 브러시 어셈블리 110: 샤프트
120: 브러시 130: 누설 방지부
132: 블레이드 134: 몸체부
200: 공정 용기 210: 베어링
220: 회수부 300: 세정액 공급부
400: 브러시 구동부 G: 기판

Claims (7)

  1. 회전 가능하게 설치되는 샤프트;
    상기 샤프트의 중앙 부위에 설치되고, 기판을 세정하기 위한 세정액을 제공받으며, 기판의 표면에 직접 접촉하여 상기 기판의 세정을 수행하는 브러시; 및
    상기 샤프트의 단부에 설치되고, 상기 기판의 세정을 수행할 때 상기 브러시로 제공되는 세정액이 상기 샤프트를 타고 단부 방향으로 누설되는 것을 방지하도록 상기 샤프트 주변에 기류를 형성하기 위한 누설 방지부를 포함하며,
    상기 누설 방지부는 상기 기류를 형성하기 위한 나선형 구조를 갖는 복수의 블레이드로 이루어진 것을 특징으로 하는 브러시 어셈블리.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 누설 방지부는 중심부로 상기 샤프트가 관통하는 깔때기 구조의 몸체부를 더 포함하고, 상기 몸체부의 외부에 상기 복수의 블레이드가 설치됨에 의해 기류를 상기 샤프트의 회전축과 교차되는 방향으로 형성하는 것을 특징으로 하는 브러시 어셈블리.
  4. 제1항에 있어서, 상기 누설 방지부는 상기 브러시의 일측 및 반대편에 위치하는 상기 브러시의 타측에 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 브러시 어셈블리.
  5. 기판 세정을 위한 세정 공간을 제공하는 공정 용기;
    상기 공정 용기의 내부에 회전 가능하게 설치되고, 적어도 일단부가 상기 공정 용기의 측벽을 관통하여 외부로 연장되는 샤프트와, 상기 샤프트의 중앙 부위에 설치되고, 기판을 세정하기 위한 세정액을 제공받으며, 기판의 표면에 직접 접촉하여 세정을 수행하는 브러시, 그리고 상기 샤프트의 단부에 설치되고, 상기 기판의 세정을 수행할 때 상기 브러시로 제공되는 세정액이 상기 샤프트를 타고 단부 방향으로 누설되는 것을 방지하기 위하여 나선형 구조를 갖는 복수의 블레이드로 이루어져 상기 샤프트 주변에 기류를 형성하기 위한 누설 방지부를 갖는 브러시 어셈블리; 및
    상기 공정 용기의 외부에 위치하고, 상기 브러시 어셈블리의 샤프트의 일단에 연결되며, 기판을 세정할 때 상기 샤프트를 회전시킴에 의해 상기 브러시를 회전시키는 브러시 구동부를 포함하는 기판 세정 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 공정 용기는 상기 브러시 어셈블리의 샤프트가 관통하는 부위에 위치하고, 상기 브러시 어셈블리의 누설 방지부를 수용하며, 상기 누설 방지부에 의해 차단되어 상기 샤프트로부터 떨어지는 세정액을 회수하기 위한 회수부를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치
  7. 제5항에 있어서, 상기 브러시 어셈블리는 상하로 대향 설치되고, 하부에 설치되는 브러시 어셈블리의 누설 방지부는 상부에 설치되는 브러시 어셈블리의 누설 방지부보다 바깥쪽에 위치하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
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