JP5681628B2 - ガラス鉛直処理装置 - Google Patents

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Description

関連出願の説明
本出願は、その内容が引用されその全体が参照により本書に組み込まれる、２００８年７月３１日に出願された「ガラス鉛直処理装置（Devices for Vertical Treatment of Glass）」と題する、米国仮特許出願第６１／０８５，１０３号の優先権の利益を主張するものである。
本発明は、一般にガラスの処理に関し、より具体的にはＬＣＤガラスを鉛直向きで洗浄、すすぎ、および乾燥する装置に関する。
ガラスの切断、研削、および研磨は、ディスプレイガラスの仕上げの中で最も重要な作業である。粒子や小片状のガラスの破片は、これらの全ての工程段階で生成される。この破片は、ガラスの表面を保護するためにガラスに適用される種々のコーティングと同様、販売用の液晶ディスプレイ（「ＬＣＤ」）の製造に必要な次のステップを実行可能にするために除去しなければならない。典型的には、ＬＣＤガラス専用に設計された、ガラス洗浄装置が用いられる。この洗浄装置の多くは、バッチまたはインラインの２種類に分類される。
インラインタイプの洗浄装置は一般に、ガラスをベルトまたは他種の駆動系の上に平坦に置く水平型、またはガラスシートが洗浄機段階を通るときにガラスシートを１つのエッジまたは１つのエッジと犠牲面とによって支持する鉛直型の、２つに分類することができる。鉛直タイプは、前後の工程段階で鉛直向きを使用する機会が与えられるため、必要な床面積を減少させるとともにより清浄なガラスを製造できることから、より好まれるようになりつつある。さらに、この鉛直向きは、ガラスシートに実際に付着する破片の量を減少させる。一般に、微粒子は下方へ落下するものであり、そしてガラスシートの向きを変えることによって、有効表面積が減少し、浮遊している破片がガラスシートに付着するのを減少させることになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【特許文献１】特開平１０−１１８５８３号公報
【特許文献２】特開２００６−１４０５０９号公報
従来の鉛直型インライン洗浄装置は、ほとんどが窓ガラス産業のために製造されたものであり、概して、ＬＣＤ装置の製造に用いられるような極薄いガラスシートの横方向の低剛性は考慮されていない。例えば、ブラシは典型的にはガラスシートから破片を揺り動かして除去するために用いられる。しかしながら、ガラスシートをブラシ区域に通して運搬するときに、２つの問題が生じる。第１に、ブラシの力に勝るよう、適切な駆動力がガラスシートに加えられなければならない。第２に、ガラスを破損させないよう、さらにはＬＣＤの顧客が許容できないような例えば傷などの欠陥を生じさせ得るガラスシートとの接触面積が大きくならないよう、ガラスシートを適切に支持する必要がある。
さらに、すすぎおよび乾燥区域では、ガラスシートがすすぎまたは乾燥区域の一部と望ましくない接触をし得るような、過剰な振動をガラスシートに与えないよう、ガラスシートを適切に支持しなければならない。この望ましくない接触により、ガラスシートが実質的に鉛直の向きで傷ついたり、あるいは破損したりする可能性がある。
本開示は、実質的に平面のガラスシートを実質的に鉛直の向きで洗浄、すすぎ、および乾燥を含めて処理する装置に関する。
一実施の形態において、洗浄区域が提供される。洗浄区域において、ガラスシートの表面から破片を揺り動かし除去するためにブラシが用いられる。洗浄区域内でガラスシートをブラシに通して搬送するために、駆動ローラが用いられる。駆動ローラのサイズおよび材料は、洗浄区域内でガラスシートを搬送するための適切な力をガラスシートに提供するように、そしてガラスシートを破損させずに適切な支持を提供するように、さらに例えば傷などの欠陥を防ぐためガラスシートとの接触面積を最小にするように、規定される。
第２の実施形態において、すすぎ区域が提供される。すすぎ区域において、すすぎノズルおよび軸受の位置は、ガラスシートに過剰な振動を招くことなく適切にガラスシートを支持するように設計される。特に、すすぎノズルはガラスシートの一方の側に設置され、かつ軸受は、ガラスシートの他方の側のすすぎノズルの真向かいに配置される。
第３の実施形態において、ガラスシートを乾燥させるためのエアナイフを備えた乾燥区域が提供される。ガラスシートが乾燥区域を通って搬送されるとき、流体軸受がガラスシートを支持する。第１組の軸受が、ガラスシートの搬送方向においてエアナイフの上流に提供され、一方第２組の軸受がエアナイフの下流に提供される。エアナイフはガラスシートの両側に設置され、それぞれが規定された圧力で空気流を供給する。さらに、第１軸受および第２軸受の間の距離は、ガラスシートが支持されていない範囲を残している。エアナイフによって加えられる圧力の差、および、第１軸受と第２軸受との間の距離は、ガラスシートの過剰な振動を防ぐように設計される。
３つの実施形態を別々に説明したが、任意のこれらの組合せを一緒に使用してもよい。すなわち、洗浄区域、すすぎ区域、および乾燥区域を、分離された独立したユニットとして、種々の他の工程および／または装置を間に設けて使用してもよい。あるいは、洗浄、すすぎ、および乾燥区域を図示のように連続させて使用してもよい。さらに、任意の２つの区域を連続させて使用してもよく、その２つの区域と第３の区域とを、他の工程および／または装置で分離してもよい。
本発明の好適な実施形態に関するこれらおよび他の特徴は、添付の図面を参照した詳細な説明の中でより明らかになるであろう。
ガラス処理装置の一実施の形態の前面斜視図 図１のガラス処理装置の背面斜視図 洗浄区域、すすぎ区域、および乾燥区域を示す、図１のガラス処理装置の背面平面図 図１のガラス処理装置の上正面図 図１の左側から見たガラス処理装置の平面図 図１のガラス処理装置の前面平面図 図６の線７−７に沿った、ガラス処理装置の断面図 図６の線８−８に沿った、ガラス処理装置の断面図 図１のガラス処理装置の洗浄区域における２つの駆動ローラを示す拡大図 図９に示した駆動ローラの側面平面図
本発明は、以下の詳細な説明、例、図面、および請求項と、これらに関する前述および後述の説明とを参照することにより、より容易に理解することができる。しかしながら、本発明の装置、システム、および／または方法を開示および説明する前に、他に特に規定がなければ、本発明は特定の装置、システム、および／または方法に限定されるものではなく、それ自体当然変化し得るものと理解されたい。また、本書で用いられる専門用語は、特定の態様を説明するためのみのものであり、限定することを意図しているものではないことも理解されたい。
以下の説明は、本発明の実現可能な教示として、現在知られているその最良の実施形態で提供される。このため、関連技術の当業者は、本発明の有益な成果を依然として得ながら、本書で説明する本発明の種々の態様に多くの変更を加えることができることを認識および理解するであろう。また、本発明のいくつかの所望の利益は、ここで開示されるいくつかの特徴を選択することによって、他の特徴を利用することなく得られることも明らかであろう。したがって、当業者は、本発明の多くの改変および改作が可能であり、特定の状況では望ましくさえあり得、さらに本発明の一部であることを認識するであろう。すなわち、以下の説明は本発明の原理を示すものとして提供され、これを限定するものではない。
本書通じて、文脈が明らかに他に指示していなければ、単数形は複数の指示対象を含むものとする。すなわち、例えば「ガラスシート」に言及したときには、文脈が他に指示していなければ、２以上のこのガラスシートを含み得る。
本書では、範囲を「約」ある特定の値から、および／または、「約」別の特定の値までと表現することがある。範囲がこのように表現されるとき、その特定の値からおよび／またはもう一方の特定の値までは、別の態様に含まれる。同様に、値が先行詞「約」を用いて近似値で表されるとき、その特定の値は別の態様を形成することを理解されたい。さらに、各範囲の端点は、他方の端点との関連で、かつ他方の端点とは無関係に、重要であることも理解されたい。
本書で用いられる「随意的な」または「随意的に」という用語は、続いて説明される事象または状況が、起こる可能性もあるし、または起こらない可能性もあることを意味し、かつ、その説明は、その事象または状況が起こる場合と起こらない場合とを含む。
実質的に平面のガラスシート３０を処理する、ガラス処理装置１０について説明する。このガラス処理装置１０は、洗浄区域２００、すすぎ区域３００、および乾燥区域４００を含み得る。ガラスシート３０は一般に、図４に見られるように、第１面３２と反対側の第２面３４とを有する。ガラスシート３０は、例えばＬＣＤディスプレイに使用されるものでもよい。
１つの例示的な態様において、ガラスシート３０は、搬送路１００に沿って搬送方向１０２に、洗浄区域２００、すすぎ区域３００、および乾燥区域４００を通って搬送される。図４を参照されたい。ガラスシート３０は実質的に鉛直の形で搬送路１００に沿って搬送される。ガラスシートは、搬送路１００の下部に設置された複数の下部ローラ５１０を用いて搬送される。下部ローラ５１０は、ガラスシート３０を搬送路１００に沿ってかつ洗浄区域２００、すすぎ区域３００、および乾燥区域４００に通して搬送するよう、１以上の下部ローラ５１０に回転力を与える下部ローラ駆動部５２０と連結させてもよい。洗浄２００、すすぎ３００、および乾燥４００の各区域では、その区域の下部ローラ５１０用に、その区域自体のローラ駆動部５２０を備えてもよい。この配置は、各区域が独立したユニットとして別々に用いられる場合に有利である。あるいは、１つのローラ駆動部５２０を２以上の区域用に用いることもできる。図では、１つのローラ駆動部５２０が洗浄２００およびすすぎ３００の両区域用に用いられ、一方別のローラ駆動部５２０が乾燥区域４００用に用いられている。ローラ駆動部５２０は、通常の当業者には理解できるであろうが、任意の既知の種類の駆動系によって下部ローラ５１０に接続させることができる。
洗浄区域
一態様において、ガラス処理装置１０は、洗浄ハウジング２０とその中を通る搬送路１００とを含む洗浄区域２００を備える。ガラスシート３０は、ガラスシート３０が搬送路１００に沿って搬送方向１０２に移動するとき、実質的に鉛直向きに配向される。
洗浄区域２００は少なくとも１つの第１ブラシ２１０を含み、この第１ブラシ２１０は、搬送路１００に隣接して設置され、かつ第１面３２の破片を洗浄して取り除くためにガラスシート３０の第１面３２の少なくとも一部に接触するよう構成される。加えて、洗浄区域２００は少なくとも１つの第２ブラシ２２０をさらに含み、この第２ブラシ２２０は、搬送路１００に隣接して設置され、かつガラスシート３０の第２面３４の少なくとも一部に接触するよう構成される。洗浄区域２００は、少なくとも１つの第１ブラシ２１０が少なくとも１つの第２ブラシ２２０に対向して設置されるように構成される。明確に言うと、第１ブラシ２１０および第２ブラシ２２０の軸２１２、２２２が、搬送路１００の両側に設置される。ただし、ブラシの直径は、ガラスシート３０から不要な粒子を揺り動かすため、ブラシ２１０、２２０の間にガラスシートが存在しているときにブラシがガラスシート３０との接触面積を十分にとることができるよう、ブラシ２１０、２２０の間にガラスシートが存在していない状態で各ブラシが延びているときには各ブラシが搬送路１００を横切って延在するほどの直径である。洗浄区域２００は複数のブラシ２１０、２２０対を備えてもよく、これらのブラシ対は搬送路に沿って配置され、このとき各対のブラシ２１０、２２０の軸２１２、２２２は搬送路１００の両側に位置している。この手法において、第１ブラシ２１０の１つによってガラスシート３０の第１面３２に加えられる任意の垂直力は、第２ブラシ２２０の１つによってガラスシート３０の第２面３４に加えられる任意の垂直力に、実質的に等しくかつ反対向きのものとすることができる。
洗浄を助けるため、ブラシ２１０、２２０は回転させることができる。例えば、限定することを意味するものではないが、第１ブラシ軸２１２はガラスシート３０に実質的に平行である。同様に、第２ブラシ軸２２２はガラスシート３０に実質的に平行である。モータ２５０が、適切な駆動系（簡単のため図示しないが、当業者には容易に理解できるであろう）を介して第１ブラシ軸２１２および第２ブラシ軸２２２に接続され、これらの軸を一緒に回転させる。ブラシ２１０、２２０は、ガラスシート３０が搬送路１００に沿って移動する搬送方向１０２に反する方となる方向に回転させる。図４に示すように、例えば、第１ブラシ２１０は時計回りに回転し、一方第２ブラシ２２０は反時計回りに回転することになる。破片を適切に揺り動かして除去できるようにする他、駆動ローラ５３０、５４０（後述する）が搬送路１００に沿ったガラスシート３０の搬送速度を制御できるようにするため、ブラシの回転速度を、表面速度約２００フィート／ｍｉｎ〜約１０００フィート／ｍｉｎ（ｓｆｐｍ）（表面速度６０〜３０５ｍ／ｍｉｎ）、例えば、２５０、３００、３５０、４００、４５０、５００、５５０、６００、６５０、７００、７５０、８００、８５０、９００、または９５０ｓｆｐｍ（表面速度７５、９０、１０５、１２０、１３５、１５０、１６５、１８０、１９５、２１０、２２５、２４０、２６０、２７５、２９０ｍ／ｍｉｎ）としてもよい。２対の第１ブラシ２１０および第２ブラシ２２０が図示されているが、任意の適切な数のブラシ対を用いてもよい。
ガラスシート３０の搬送を容易にするのを助けるため、ガラス処理装置１０は、下部搬送ローラ５１０に加え、搬送路１００に隣接しかつその一方の側に設置された複数の第１駆動ローラ５３０と、搬送路１００に隣接しかつその他方の側に設置された複数の第２駆動ローラ５４０とをさらに含む。一態様において、複数の第１駆動ローラ５３０の夫々は対応する第２駆動ローラ５４０に実質的に対向し、かつ複数の第２駆動ローラ５４０の夫々は対応する第１駆動ローラ５３０に実質的に対向する。ガラスシートを搬送するために、複数の第１駆動ローラ５３０の夫々はガラスシート３０の第１面３２の一部に接触するように構成され、そして複数の第２駆動ローラ５４０の夫々はガラスシート３０の第２面３４の一部に接触するように構成される。
複数の第１駆動ローラ５３０は、ガラスシート３０を鉛直方向に支持するようにしてシャフト５３４上に配置される。各シャフト５３４上の第１駆動ローラ５３０の数はガラスシートのサイズ次第であり、それに応じて変化し得る。同様に、複数の第２駆動ローラ５４０は各シャフト５４４上に配置される。複数の第１シャフト５３４と複数の第２シャフト５４４が搬送路に沿って対で配置され、このとき第１シャフト５３４は搬送路１００の片側に配置され、そして第２シャフト５４４は搬送路１００の反対側に配置される。モータ５５０が、適切な駆動系（簡単のため図示しないが、当業者には容易に理解できるであろう）によって第１シャフト５３４および第２シャフト５４４に接続される。図４に示すように、モータ５５０および駆動系は、ガラスシート３０を搬送路１００に沿って搬送方向１０２に移動させるために、第１駆動ローラ５３０を反時計回り方向に回転させ、一方第２駆動ローラ５４０を時計回り方向に回転させる。３対の第１シャフト５３４および第２シャフト５４４が図示されているが、任意の適切な数の対を用いてもよい。
さらに、駆動ローラのサイズおよび材料は、ガラスシート３０をブラシ２１０、２００から加えられる力に逆らって洗浄区域２００内で搬送するための適切な駆動力を提供できるように、またガラスシート３０を破損させずに適切な支持を提供できるように、さらに例えば傷などの欠陥を防ぐためガラスシート３０との接触面積を最小にするように、設計される。
駆動ローラ５３０は、ガラスシートと接触する部分の厚さ５３６を含み、かつ直径５３８を有する。ある駆動ローラ５３０の直径および厚さを示している図１０を参照されたい。他の駆動ローラ５３０および５４０の夫々は、同様の厚さおよび直径を有している。厚さ５３６は、約０．５インチから約２インチ（１．２７ｃｍから約５．０８ｃｍ）の範囲でもよい。厚さ５３６が増加するとガラスシート３０との接触面積が大きくなり、ガラスシートを損傷させる危険が増加する。さらに、厚さ５３６が増加すると、ガラスシート３０を搬送方向１０２に搬送路１００に沿って動かすようガラスシート３０を押圧している駆動ローラ５３０、５４０からの反力を受けて、シャフト５３４、５４４に生じる偏心のバランスをとるのが難しくなる。シャフトの偏心が増加すると、ガラスシート３０を移動させるための駆動ローラ５３０、５４０間の受容空間を維持することがさらに難しくなる。一方、厚さ５３６が小さすぎると、ガラスシート３０を洗浄区域２００に通して移動させるための十分な量の駆動力が得られないであろう。駆動ローラ５３０の直径５３８は、最大で約４インチ（１０．１６ｃｍ）としてもよい。第１駆動ローラ５３０および第２駆動ローラ５４０の直径や、シャフト５３４、５４４の配置は、ローラ５３０、５４０が、搬送されるガラスシート３０の厚さ３６よりも小さい間隙５６０だけ互いに間隔を空けるように選定される。図９および１０を参照されたい。別の言い方をすれば、各シャフト対のシャフト５３４、５４４は、第１駆動ローラ５３０の半径と第２駆動ローラ５４０の半径とを加えた合計に、搬送されるガラスシート３０の厚さ３６をさらに加えたものよりも少ない距離だけ互いに間隔が空いている。第１および第２駆動ローラ５３０、５４０の材料は、駆動ローラ５３０、５４０がコンプライアンスを有するように選定される。一般に、１０分の数ミリのコンプライアンスを許容できる。すなわち、ガラスシート３０が駆動ローラ５３０、５４０の間隙５６０を通って搬送されるとき、駆動ローラ５３０、５４０は（そのコンプライアンスにより）圧縮されてガラスシート３０の厚さ３６を受け入れる。例えば、ガラスシート３０の厚さ３６は約１ｍｍ以下、例えば、約０．８ｍｍ、約０．７ｍｍ、約０．６ｍｍ、約０．５ｍｍ、または約０．４ｍｍでもよい。
駆動ローラの材料は、さらにガラスシートの搬送にも影響を及ぼす。その材料は、ガラスシートを汚染したりあるいは傷を付けたりしないものであり、かつ、ガラスシート３０の搬送中に駆動ローラ５３０、５４０とガラスシート３０との間で滑ることのないように、ガラスシート３０との間で許容できる摩擦係数を有するものである。これまで述べたことを考慮すると、少なくとも駆動ローラ５３０、５４０の外側部分５３２、５４２は重合ゴムを含み、例えばエチレンプロピレンジエンモノマー（ＥＰＤＭ）や、例としてサントプレーンゴムが含まれる。図９を参照されたい。重合ゴムの硬度は、約３０ショアＡから約６０ショアＡの間、例えば、３５、４０、４５、５０、または５５ショアＡでもよい。
上述したように、第１駆動ローラ５３０および第２駆動ローラ５４０は実質的に互いに対向して設置される。この構造の理由の１つは、垂直力のバランスをとるためである。一態様において、複数の第１ローラ５３０の夫々はガラスシート３０の第１面３２に第１垂直力を与え、そして対応する第２ローラ５４０の夫々はガラスシート３０の第２面３４に第２垂直力を与える。別の態様において、第１垂直力は第２垂直力に実質的に等しい。対向する垂直力を略同等に維持すると、ガラスシート３０に与えられる任意の振動を大幅に減少させることができる。
洗浄区域２００は複数のノズル２３０をさらに含み、このノズル２３０は搬送路１００の両側に配置される。ノズル２３０は、搬送方向１０２に沿って連続的に設置されている駆動ローラ５３０、５４０対とブラシ２１０、２２０対の夫々の間に配置される。ノズル２３０は、洗浄工程を助けるため、任意の種類の流体を駆動ローラ５３０、５４０、ブラシ２１０、２２０、およびガラスシート３０に向けて噴霧してもよい。この流体は任意の種類の例えば洗浄用流体でもよいが、典型的には液体である。
すすぎ区域
すすぎ区域３００は、搬送路１００の互いに反対側に配置された第１すすぎノズル３１０および第２すすぎノズル３２０を含み、さらに搬送路１００の互いに反対側に配置された第１液体軸受３４０および第２液体軸受３３０を含む。図４を参照されたい。第１すすぎノズル３１０および第２すすぎノズル３２０は、ガラスシート３０を損傷させることになり得るような過剰な振動を生じさせずにガラスシート３０を支持するような位置に、互いに対してかつ第１液体軸受３４０および第２液体軸受３３０に対して設置される。
第１すすぎノズル３１０は、パイプ３１２上に配置され、かつガラス搬送路１００に実質的に隣接して設置される。第１すすぎノズル３１０は、パイプ３１２を通して液体源と連通している。搬送されるガラスシート３０のサイズに応じて、任意の適切な数のすすぎノズル３１０をパイプ３１２上に配置することができる。さらに、すすぎ区域３００内には第１すすぎノズル３１０を備えた２つのパイプ３１２が図示されているが、任意の適切な数のパイプ３１２を第１すすぎノズル３１０用に使用してもよい。一態様において、液体は水を含むが、洗剤の他、すすぎに適した他の液体も意図されている。第１すすぎノズル３１０は、液体をガラスシート３０の第１面３２に向けるよう構成されている。
第２すすぎノズル３２０が、搬送路１００に隣接して、搬送路１００の第１すすぎノズル３１０の反対側に設置される。さらに、図４に示すように、第１すすぎノズル３１０および第２すすぎノズル３２０は、その水平位置において、搬送路１００に沿ってずれた状態で配置される。この配置は、ガラスシート３０の振動を減少させるのを助ける。第２すすぎノズル３２０はまた、パイプ３１２を介して液体源と連通しており、かつ液体をガラスシートの第２面３４に向けるよう構成されている。第１すすぎノズル３１０と同様に、任意の数の第２すすぎノズル３２０を各パイプ３１２上に用いてもよく、さらに第２すすぎノズル３２０を備えた任意の適切な数のパイプ３１２をすすぎ区域内で用いてもよい。
第１液体軸受３４０の夫々は、上部３４２および下部３４４を有し、かつガラスシート３０の第２面３４と面するように配置される。図４および６を参照されたい。第１液体軸受（および第２液体軸受３３０）は、その表面上に水の薄い膜を保持し、ガラスが液体軸受と接触するのを防ぐ。この液体軸受はガラスが薄いとき極めて高い剛性を呈し、確実にガラスシート３０と接触しないようにする。第１液体軸受３４０は、搬送路１００の、第１すすぎノズル３１０の反対側に位置し、かつ水平および鉛直の両方向で第１すすぎノズル３１０と実質的に対向するように設置される。水平方向では、第１すすぎノズル３１０と第１液体軸受３４０の両方が、搬送路１００に沿った同等の位置の両側に設置される。図４を参照されたい。さらに鉛直方向では、少なくともノズル３１０のいくつかは、第１液体軸受３４０の上部３４２と下部３４４との間に配置される。図６を参照されたい。すすぎノズル３１０のほとんどが、このように配置されることが好ましい。この形では、第１液体軸受３４０はガラスシート３０の第２面３４に面し、かつ第１すすぎノズル３１０からの液体により加えられた垂直力と正反対の非接触性支持をガラスシート３０に提供する。第１液体軸受３４０は水平列に配置され、ここでは４つの列が図示されている。図６を参照されたい。搬送されるガラスシート３０のサイズに応じて、任意の適切な数の列を用いてもよい。第１液体軸受３４０の列は、搬送方向１０２に平行な方向に沿ってすすぎ区域３００の範囲に亘り延在する。ただし、第１液体軸受３４０の各列の範囲内には、ガラスシート３０の第２面３４へと向けた第２ノズル３２０の噴霧を受け入れる間隙３４８が存在している。この間隙３４８により、第２液体軸受３３０がガラスシート３０の第１面３２を依然支持している位置で、第２すすぎノズル３２０からの流体を第２面３４が直接受けるように第２面３４の一部を配置することができる。
第２液体軸受３３０は、搬送路１００の、第２すすぎノズル３２０の反対側に位置し、かつ第２すすぎノズル３２０と実質的に対向するように、搬送路１００に隣接して設置される。第２液体軸受３３０の数および配置は、第１液体軸受３４０に関連して上述したものと同様とすることができる。さらに、第２液体軸受３３０の、第１すすぎノズル３１０および第２すすぎノズル３２０と第１液体軸受３４０とに対する関係は、上述した、第１液体軸受３４０の、第２すすぎノズル３２０および第１すすぎノズル３１０と第２液体軸受３３０とに対する関係と同様とすることができる。
第１すすぎノズル３１０および第２すすぎノズル３２０は、液体を、幅広い範囲の許容できる容積流量および圧力でガラスシート３０の第１面３２および第２面３４に向けてもよい。したがって、一態様において、液体は約０．２から約２ＧＰＭ（約０．７５７１Ｌ／分から約７．５７１Ｌ／分）の流量でガラスシート３０の第１面３２および第２面３４に向けられる。別の態様において、液体は約１０から約５０ｐｓｉ（約６８９５０Ｎ／ｍ2から約３４４７３８Ｎ／ｍ2）の圧力でガラスシート３０の第１面３２および第２面３４に向けられる。上述したような位置関係で、容積流量および圧力がこの範囲内である場合、液体がガラスシート３０に生じさせる振動は約５０μｍ以下であり、これは典型的なＬＣＤ装置に採用されるガラスシート３０において過剰ではない。
乾燥区域
乾燥区域４００は、ガラスシート３０の面３２、３４から液体を除去するように設計されている。一態様において、乾燥区域４００は、少なくとも１つの、第１エアナイフ４１０、第２エアナイフ４２０、ノズルパイプ４３０、流体軸受４４０、４５０、およびガイドローラ４７０を含む。エアナイフ４１０、４２０により適用される空気の圧力、および、流体軸受４４０、４５０間の距離は、ガラスシートの望ましくない振動を防ぐように設計される。
第１エアナイフ４１０は、搬送路１００に隣接しかつガス源と連通して設置される。第１エアナイフ４１０は、ガラスシート３０が搬送路１００に沿って搬送方向１０２に通過するとき、液体をガラスシート３０の第１面３２から除去するガスカーテンを形成するために、ガスをガラスシート３０の第１面３２に向けるよう構成される。
同様に、この態様において、少なくとも１つの第２エアナイフ４２０が搬送路１００に隣接しガス源と連通して設置され、この第２エアナイフ４２０は、ガラスシート３０が搬送路１００に沿って搬送方向１０２に移動するとき、ガスをガラスシート３０の第２面３４に向けるよう構成される。第２エアナイフ４２０は第１エアナイフ４１０に実質的に対向して設置される。シート３０両側の空気流は正確に制御され、圧力の不均衡によってガラスシート３０に生じる振動を、許容できるレベルまで低減する。圧力の不均衡は、ガラスシート３０の一方の側のエアナイフがガラスシート３０の反対側に配置された別のエアナイフと異なる圧力を加えたときに生じる。過剰な振動は傷を生じさせるだけでなく、効率的な乾燥を妨げる。数百パスカルの圧力不均衡は、望ましくない振動を生じさせ、乾燥に影響を及ぼす可能性がある。各エアナイフ４１０、４２０がガラスシート３０に向けるガスの流量は、約１５００Ｌ／ｍｉｎから２８００Ｌ／ｍｉｎの間であるが、例えば、１６００、１７００、１８００、１９００、２０００、２１００、２２００、２３００、２４００、２５００、２６００、および２７００Ｌ／ｍｉｎなど、他の範囲も意図されている。このガスは圧縮空気でもよい。さらに、限定するものではないが送風空気や窒素を含め、他のガスも意図されている。
乾燥区域４００は、ガラスシート３０がエアナイフ４１０、４２０を過ぎて搬送されるときにガラスシート３０を支持する、第１および第２流体軸受４４０、４５０を含む。第１流体軸受４４０は、ガラスシート３０の搬送方向１０２において、エアナイフ４１０、４２０の上流に位置している。第１流体軸受４４０は、ガラスシート３０の両面３２、３４を支持するように位置付けられる。第１流体軸受４４０は、ガラスシート３０を支持する水または液体の軸受を含んでもよい。第２流体軸受４５０は、搬送方向１０２において、エアナイフ４１０、４２０の下流に位置している。第２流体軸受４５０は、ガラスシート３０の両面３２、３４を支持するように位置付けられ、また空気軸受を含んでもよい。ガラスシートの搬送方向１０２に平行な、第１および第２流体軸受４４０、４５０の間の距離４６０は、ガラスシート３０が支持されていない範囲を残す。図６を参照されたい。一般に、距離４６０が大きすぎると、ガラスシート３０がエアナイフ４１０、４２０間の搬送路１００の中心部から大きく変化しすぎる可能性があり、望ましくない乾燥差、すなわちガラスシート３０の両側で異なる乾燥条件を、生み出す可能性がある。さらに、ガラスシート３０の過剰な振動を防ぐため、エアナイフ４１０、４２０の間の圧力差とともに距離４６０を制御してもよい。振動が過剰になると、望ましくないことであるがガラスシート３０がエアナイフ４１０、４２０に付着したり、周囲の構造物と不要に接触したり、および／または破損したりする可能性がある。例えば、第１軸受４４０および第２軸受４５０間の距離４６０は約７５ｍｍ以下とすることができ、好適には約４０ｍｍ以下であり、さらに好適には約２５ｍｍ以下である。一般に、距離４６０を短くすると、エアナイフ４１０、４２０間の圧力差が大きくなっても、ガラスシート３０に過剰な振動を生じさせないようにすることができる。同様に、距離４６０を長くすると、エアナイフ４１０、４２０間の圧力差が小さい状態で、ガラスシート３０に過剰な振動を生じさせないようにすることができる。より具体的には、その範囲の一方の、距離４６０が約７５ｍｍである場合には、圧力差を最大約３００Ｐａとすることができる。その対極の、距離４６０が約２５ｍｍまたは約４０ｍｍである場合には、圧力差を最大約１５００Ｐａ、例えば、４００、５００、６００、７００、８００、９００、１０００、１１００、１２００、１３００、または１４００Ｐａとすることができる。一実施の形態において、距離４６０を約４０ｍｍとすることができ、かつエアナイフ４１０、４２０間の圧力差を約３００Ｐａとしてもよい。別の実施形態において、距離４６０を約２５ｍｍとすることができ、かつエアナイフ４１０、４２０間の圧力差を約３００Ｐａとしてもよい。
さらに、乾燥区域４００において、ノズルをその上に備えているパイプ４３０が提供される。このパイプ４３０を流体と接続し、ガラスシート３０がエアナイフ４１０、４２０を過ぎて搬送される手前で、流体をガラスシート３０に向けてもよい。
さらに、乾燥区域において、ガラスシートの上部を支持するガイドローラ４７０が提供される。ガイドローラ４７０はアイドリングローラであり、かつガラスシート３０の上部、すなわちガラスシート３０の第１および第２軸受４４０、４５０よりも上方の部分に追加の支持を提供する。ガイドローラ４７０の位置は、ガラスシート３０の品質領域の任意の損傷を防ぐために、そしてガラスシート３０の効果的な搬送を維持するために重要である。したがって、ガイドローラ４７０はガラスシート３０の非品質領域のみに接触するように設置され、この非品質領域は、ガラスシート３０の各エッジから典型的には約５〜１０ｍｍの範囲に延在している外周部分である。
乾燥区域４００は、すすぎ区域３００の出口と接続しているように図示されているが、乾燥区域４００は独立したユニットとして使用することができる。さらに、他の装置および／または工程を、すすぎ区域３００および乾燥区域４００の間に配置してもよい。同様に、洗浄区域２００およびすすぎ区域３００を互いに分離させて独立したユニットとして使用してもよく、他の装置および／または工程をこれらの間に配置してもよい。
本発明のいくつかの実施形態を本明細書においてこれまで開示してきたが、当業者には理解し得るように、前述の説明や関連する図面の中で示された教示の利益を得て、本発明が関連する多くの改変や本発明の他の実施形態が考えられるであろう。すなわち、本発明は本書でこれまでに開示された具体的な実施形態に限られるものではなく、多くの改変および他の実施形態が添付の請求項の範囲内に含まれると意図されていることを理解されたい。さらに、本書や以下の請求項では具体的な用語が採用されているが、これらは単に包括的かつ説明的な意味で用いられているものであり、本発明や以下の請求項を限定するためのものではない。
１０ ガラス処理装置
３０ ガラスシート
３２ 第１面
３４ 第２面
１００ 搬送路
１０２ 搬送方向
２００ 洗浄区域
２１０、２２０ ブラシ
２３０ ノズル
３００ すすぎ区域
３１０、３２０ すすぎノズル
３３０、３４０ 液体軸受
４００ 乾燥区域
４１０、４２０ エアナイフ
４３０ ノズルパイプ
４４０、４５０ 流体軸受
４７０ ガイドローラ
５３０、５４０ 駆動ローラ

Claims (5)

  1. 第１面と、反対側の第２面とを有する平面のガラスシートを処理するためのガラス処理装置であって、該ガラス処理装置が、前記ガラスシートが鉛直平面でその中を移動することができる搬送路と、洗浄区域、すすぎ区域、および乾燥区域とを備え、
    前記洗浄区域が、
    前記ガラスシートの前記第１面の一部に接触することができるように前記搬送路に隣接して設置された、厚さおよび直径を有する第１駆動ローラと、さらに、
    前記ガラスシートの前記第２面の一部に接触することができるように前記搬送路に隣接して設置された、厚さおよび直径を有する第２駆動ローラと、を備え、
    前記第１および第２駆動ローラの夫々の前記厚さが１．２７ｃｍから５．０８ｃｍの範囲であり、かつ前記第１および第２駆動ローラの夫々の前記直径が１０．１６ｃｍ以下であり、
    前記すすぎ区域が、
    液体を前記ガラスシートの前記第１面に向けることができるように、前記搬送路に隣接してかつ液体源と連通して設置された、第１すすぎノズルと、
    前記ガラスシートの前記第２面に面することができるように、かつ水平および鉛直の両方向で前記第１すすぎノズルと直接対向するように前記搬送路に隣接して設置された、第１液体軸受であって、水平方向では前記第１すすぎノズルと前記第１液体軸受の両方が、前記搬送路に沿った同等の位置の両側に設置され、鉛直方向では、少なくとも前記第１すすぎノズルのいくつかは、前記第１液体軸受の上部と下部との間に配置される、第１液体軸受と、
    液体を前記ガラスシートの前記第２面に向けることができるように、前記搬送路に隣接してかつ液体源と連通して設置された、第２すすぎノズルと、さらに、
    前記ガラスシートの前記第１面に面することができるように、かつ水平および鉛直の両方向で前記第２すすぎノズルと直接対向するように前記搬送路に隣接して設置された、第２液体軸受であって、水平方向では前記第２すすぎノズルと前記第２液体軸受の両方が、前記搬送路に沿った同等の位置の両側に設置され、鉛直方向では、少なくとも前記第２すすぎノズルのいくつかは、前記第２液体軸受の上部と下部との間に配置される、第２液体軸受とを備え、
    前記乾燥区域が、
    前記搬送路に隣接し、ガス源と連通して設置され、かつガスを第１圧力で前記ガラスシートの前記第１面に向けるよう構成された、第１エアナイフと、
    前記搬送路に隣接し、ガス源と連通して設置され、かつガスを第２圧力で前記ガラスシートの前記第２面に向けるよう構成された、前記第１エアナイフに対向して設置されている第２エアナイフと、
    前記搬送方向において前記第１および第２エアナイフの上流に設置され、かつ前記平面のガラスシートの前記第１面を支持するよう構成および配置された、第１軸受と、さらに、
    前記搬送方向において前記第１および第２エアナイフの下流に設置され、かつ前記平面のガラスシートの前記第１面を支持するよう構成および配置された、第２軸受と、を備え、
    前記第１軸受および前記第２軸受が、前記搬送方向において、７５ｍｍ以下の距離だけ互いに間隔を空けて位置し、
    さらに前記第１圧力および前記第２圧力の差の絶対値が１５００Ｐａ以下であることを特徴とする装置。
  2. 前記第１および第２すすぎノズルが、液体を前記ガラスシートの前記第１および第２面にノズル毎に７５７〜７５７１ｃｃｍ（７５７〜７５７１ｃｍ3／ｍｉｎ）の流量で向けるように液体供給源に接続され、かつ前記液体が、前記ガラスシートの前記第１および第２面に６８９５０〜３４４７３８Ｎ／ｍ2の圧力で向けられることを特徴とする請求項１記載の装置。
  3. 前記距離が４０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の装置。
  4. 前記距離が２５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の装置。
  5. 前記第１圧力および前記第２圧力の差の前記絶対値が、３００Ｐａ以下であることを特徴とする請求項１、３、または４記載の装置。
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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ITMI20131027A1 (it) * 2013-06-20 2014-12-21 Gianluca Carini Apparato e metodo per la pulizia di elementi a pannello
CN104043628B (zh) * 2014-06-17 2016-06-08 中国科学院上海光学精密机械研究所 大口径光学玻璃固定清洗架和清洗方法
DE102016115297A1 (de) * 2016-08-17 2018-02-22 Schott Ag Dünnes Glasprodukt und Verfahren zu seiner Herstellung
CN106824874B (zh) * 2017-01-25 2023-01-10 广东光耀玻璃科技股份有限公司 一种玻璃垂直清洗装置
CN107042226A (zh) * 2017-06-02 2017-08-15 河源市璐悦自动化设备有限公司 一种吸塑盒清洗机
CN107520159A (zh) * 2017-08-21 2017-12-29 深圳市欣裕达机械设备有限公司 一种新型高效率直立通过式Tray清洗机
CN107413737B (zh) * 2017-09-11 2023-08-18 济南华远数控设备有限公司 平面玻璃和曲面玻璃清洗一体机
CN107597647A (zh) * 2017-09-14 2018-01-19 玖玖智能（深圳）有限公司 一种附着物清洗分离装置
KR102640254B1 (ko) * 2017-10-06 2024-02-27 코닝 인코포레이티드 유리 시트의 처리를 위한 장치 및 방법
CN108273789A (zh) * 2017-12-04 2018-07-13 共同科技开发有限公司 一种立式板材高效清洗烘干装置
CN109127622B (zh) * 2018-07-26 2020-07-07 六安市国泰玻璃制品有限公司 一种便于玻璃清洗干燥的精密清洗架
CN108861594A (zh) * 2018-09-06 2018-11-23 深圳孔雀科技开发有限公司 一种玻璃生产用过渡段台
CN109668389B (zh) * 2018-12-24 2020-09-04 睢宁县胜利木业有限公司 一种结构紧凑的板材除尘干燥设备
CN109668390B (zh) * 2018-12-24 2021-05-07 柳城县鼎森木业有限公司 一种板材除尘干燥设备
CN109969786A (zh) * 2019-04-17 2019-07-05 昆山瑞鸿诚自动化设备科技有限公司 一种托盘清洗机
CN110510359B (zh) * 2019-07-15 2024-05-03 深圳市泰利创斯科技有限公司 一种产品直立传输清洗设备用的直立输送轴
CN110711753A (zh) * 2019-09-02 2020-01-21 安徽福瑞斯特玻璃制品有限公司 一种玻璃清洗装置
CN111692869B (zh) * 2020-06-10 2022-03-01 李永红 一种建筑材料干燥装置
CN112845292A (zh) * 2020-12-31 2021-05-28 南京领英创光电科技有限公司 一种超微光学镜片制造工艺
CN113245300A (zh) * 2021-05-13 2021-08-13 山东和乐门业有限公司 一种板材除尘设备
CN113369187B (zh) * 2021-05-27 2023-03-28 安徽宏康特种金属材料有限公司 一种合金热电偶护套生产用原料除尘装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8524540U1 (de) * 1985-08-28 1985-10-17 Lenhardt, Karl, 7531 Neuhausen Glastafelwaschmaschine
US4883526A (en) * 1989-03-30 1989-11-28 Libbey-Owens-Ford Co. Method and apparatus for shaping and conveying glass sheets
US5743931A (en) * 1995-08-14 1998-04-28 Libbey-Owens-Ford Co. Glass sheet conveying and bending apparatus
JPH10118583A (ja) * 1996-10-24 1998-05-12 Nippon Electric Glass Co Ltd 板状物の洗浄装置
JP2002308423A (ja) * 2001-04-18 2002-10-23 Corning Japan Kk 板材搬送方法および板材搬送装置
KR200295409Y1 (ko) * 2002-08-19 2002-11-18 인창실업 (주) 수직유리세척기건조부이송장치
JP2004174308A (ja) * 2002-11-25 2004-06-24 Kawaju Plant Kk 板材の洗浄設備
JP2005150266A (ja) * 2003-11-13 2005-06-09 Pioneer Plasma Display Corp プラズマディスプレイパネル製造方法，プラズマ表示装置製造方法，及び表示パネル処理装置
US7891066B2 (en) * 2004-02-18 2011-02-22 Kawasaki Plant Systems Kabushiki Kaisha Plate material vertical processing line
WO2005077553A1 (ja) * 2004-02-18 2005-08-25 Kawasaki Plant Systems Kabushiki Kaisha 板材の洗浄設備
JP4504839B2 (ja) * 2005-03-01 2010-07-14 芝浦メカトロニクス株式会社 基板の処理装置
JP4620573B2 (ja) * 2005-11-28 2011-01-26 カワサキプラントシステムズ株式会社 板材の洗浄設備およびその高圧液スプレー洗浄装置
KR100732519B1 (ko) * 2006-03-31 2007-06-28 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
KR20080054124A (ko) * 2006-12-12 2008-06-17 엘지디스플레이 주식회사 평판 표시 소자용 기판 건조 장치 및 방법

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