JP2012074614A

JP2012074614A - 基板の処理装置及び搬送装置

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Publication number: JP2012074614A
Application number: JP2010219631A
Authority: JP
Inventors: Hidekazu Ueda; 英和植田; Hiroshi Itakura; 寛板倉
Original assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 2010-09-29
Filing date: 2010-09-29
Publication date: 2012-04-12
Anticipated expiration: 2030-09-29
Also published as: JP5667827B2

Abstract

【課題】傾斜して基板を搬送する搬送装置に上乗せローラ機構を設けても、処理液の飛散を防止することが可能な基板の処理装置及び搬送装置を提供すること。
【解決手段】傾斜して搬送される基板１００の上面を処理液によって処理する処理装置１であって、搬入口１０及び搬出口１１を有する処理槽３と、搬入口１０から搬出口１１まで複数設けられ、所定の角度で傾斜して回転する搬送軸２１及びこれら搬送軸２１にそれぞれ複数設けられた支持ローラ２２を有する搬送ローラ機構１３、及び、複数の搬送軸２１の少なくともいずれか一と対向して設けられた回転軸２７、回転軸２７に設けられ基板１００の両端部の上面と当接するローラ３１及び傾斜する基板１００の下方の端部と当接するローラ３１の上斜面に設けられた整流部材３２を有する上乗せローラ機構１５を具備する搬送装置４と、処理液を基板１００に供給する供給装置５と、を備える構成とする。
【選択図】図２

Description

この発明は基板を処理液で処理しながら搬送する基板の処理装置及び搬送装置に関する。

例えば、液晶表示パネルに用いられるガラス製の基板には、リソグラフィープロセス等が採用され、その表面に回路パターンが形成される。基板は、連続して並設された処理装置内を順次通過することで、処理液によって基板を処理する工程、処理液による処理後に洗浄液によって洗浄する工程、基板表面にエアーを噴射して乾燥させる工程等の回路パターンを形成する処理が行われる。

具体的には、これらの工程を行う処理装置は、処理槽と、それぞれの工程で処理を行うための処理手段と、基板の搬送装置とを有し、工程順に並設してなる。また、処理装置は、処理槽の壁面に基板の搬入口及び搬出口を有し、隣り合う処理装置の搬出口と搬入口とが隣接する。

搬送装置は、これら搬入口及び搬出口を介して順次処理槽内へ基板を搬送することで、各処理装置内で基板が処理される。なお、搬送装置は、例えば進行方向に向って回転する複数の搬送軸及び搬送軸にそれぞれ複数設けられた支持ローラを備え、この支持ローラにより基板の下面を支持し、且つ、搬送軸の回転駆動により基板を搬送する搬送ローラ機構を備える。

基板は、このような構成の処理装置や搬送装置により、各工程において設けられた複数の処理装置の処理槽内に順次搬送されながら各処理手段により処理がなされる。このように、基板は、各工程の処理装置の処理槽内に移動し、各工程で処理を行いながら、次工程への移動を繰り返すことで複数の処理装置により処理がなされ、回路パターンが形成されることとなる。

ところで、最近では液晶表示装置に用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。そのため、基板を水平搬送すると、基板に供給された処理液の重量によって基板の撓みが大きくなり、基板の搬送が円滑に行なえなくなるということがある。しかも、基板の上面に多量の処理液が残留した状態で、基板が処理部から搬出されることになるから、処理液を回収して再利用する場合、処理液の消費量が多くなり、ランニングコストの上昇を招く一因になる。

このような問題を解決するため、最近では基板を所定の角度で傾斜させて搬送する処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。このような処理装置を用いることで、基板の板面に供給された処理液を円滑に流出させ、基板の撓みを少なくすることが可能となる。

また、基板の大型化に伴い、基板の下面を支持する搬送ローラ機構だけでは、基板を搬送する駆動力が不足することもある。そこで、基板の上面に所謂上乗せローラ機構を設け、基板を確実に搬送させる技術も知られている。

特開２００５−２８６００１号公報

上述した基板の処理装置では、以下の問題があった。即ち、基板を傾斜して搬送する処理装置においては、上乗せローラ機構は、基板の上面に設けられる構成である。このため、基板に噴射した処理液が、傾斜方向に勢い良く流れ、上乗せローラ機構のローラの上面側に傾斜して位置する主面に衝突する。当該衝突した処理液は、ローラの主面方向、換言すると、基板の搬送方向に飛散することとなる。このため、主として、隣接する処理装置の処理槽へと、処理液が浸入することとなる。

例えば、洗浄工程として、基板を純水（処理液）で洗浄する処理装置においては、その一次側は、基板上を例えばブラシ室と呼ばれるブラシ及び洗剤で基板を洗浄するブラシ工程を行う処理装置が配置される。しかし、洗浄工程で用いる純水がブラシ工程を行う処理槽内に浸入すると、当該処理装置で循環して使用する洗剤に純水が混じり、洗剤の濃度が低減する。このため、当該洗剤の使用回数の低減や洗浄効果の減少等となり、製造コストが増大する虞がある。

他方、水の飛散を防止するために上乗せローラ機構を用いない場合には、搬送できる基板に制限が発生する等の弊害がある。また、例えば、水の飛散を防止するために、上乗せローラ機構や処理手段の配置を変更すると、処理装置自体の大型化となる虞もある。

これらのことから、基板の処理装置は、大型化を防止するとともに、製造コストの低減が求められている。

そこで本発明は、傾斜して基板を搬送する搬送装置に上乗せローラ機構を設けても、処理液の飛散を防止することが可能な基板の処理装置及び搬送装置を提供することを目的としている。

前記課題を解決し目的を達成するために、次のように構成された基板の処理装置及び搬送装置が提供される。

本発明の一態様として、所定の角度で傾斜させ、その傾斜方向と交差する方向に搬送される基板の上面を処理液によって処理する基板の処理装置であって、前記基板を搬入する搬入口及び前記基板を搬出する搬出口を有する処理槽と、前記搬入口から前記搬出口まで複数設けられ、前記所定の角度で傾斜して回転する搬送軸及びこれら搬送軸にそれぞれ複数設けられた前記基板を支持する支持ローラを有する搬送ローラ機構、及び、前記複数の搬送軸の少なくともいずれか一と対向して設けられた回転軸、前記回転軸に設けられ前記基板の両端部の上面と当接するローラ及び前記傾斜する前記基板の下方の端部と当接する前記ローラの上斜面に設けられた円錐台形状又は円錐状の整流部材を有する上乗せローラ機構を具備する搬送装置と、前記処理液を前記搬送装置により搬送された前記基板に供給する供給装置と、を備えることを特徴とする基板の処理装置が提供される。

本発明の一態様として、前記供給装置から供給される処理液によって処理する基板を、所定の角度で傾斜させ、その傾斜方向と交差する方向に前記基板を搬送する搬送装置であって、前記搬入口から前記搬出口まで複数設けられ、前記所定の角度で傾斜して回転する搬送軸、及び、これら搬送軸にそれぞれ複数設けられた前記基板を支持する支持ローラを有する搬送ローラ機構と、前記複数の搬送軸の少なくともいずれか一と対向して設けられた回転軸、前記回転軸に設けられ前記基板の両端部の上面と当接するローラ、及び、前記傾斜する前記基板の下方の端部と当接する前記ローラの上斜面に設けられた円錐台形状又は円錐状の整流部材を有する上乗せローラ機構と、を備えることを特徴とする搬送装置が提供される。

この発明によれば、傾斜して基板を搬送する搬送装置に上乗せローラを設けても、処理液の飛散を防止することが可能な基板の処理装置及び搬送装置を提供することが可能となる。

本発明の一実施の形態に係る基板の処理装置の構成を模式的に示す説明図。同処理装置の構成を模式的に示す断面図。同処理装置に用いられる搬送装置の要部構成を模式的に示す上面図。同搬送装置の要部構成を示す側面図。同搬送装置の要部構成の一部を示す側面図。同搬送装置の要部構成の一部を示す側面図。同搬送装置の要部構成の一部を示す側面図。本発明の変形例に係る基板の処理装置の傾斜ローラの構成を模式的に示す説明図。

以下、本発明の一実施の形態に係る基板１００の処理装置１を、図１乃至図７を用いて説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板１００の処理装置１の構成を模式的に示す説明図、図２は処理装置１の構成、特に搬送装置４の構成を示す正面図、図３は搬送装置４の上乗せローラ機構１５の要部構成を模式的に示す上面図、図４は同上乗せローラ機構１５のキャップ３２を示す側面図、図５は上乗せローラ機構１５のローラ３１の構成を一部断面で示す側面図、図６は同上乗せローラ機構１５のキャップ３２の構成を示す側面図、図７は上乗せローラ機構１５のスペーサ３４の構成を示す側面図である。なお、図１中、Ｆは基板１００の搬送方向を示す。

図１に示すように、基板１００の処理装置１は、基板１００の処理工程の一である洗浄工程又は基板１００の純水等の洗浄液による洗浄工程等に用いられる。なお、処理装置１の一次側には、基板１００をブラシ１１３及び洗剤等の薬液により洗浄する洗浄工程に用いられる処理装置１１０が設けられる。また、処理装置１の二次側には、洗浄した基板１００を乾燥させる乾燥工程に用いられる処理装置１２０が設けられる。

なお、処理装置１１０は、処理槽１１１と、搬送装置１１２と、ブラシ１１３と、エアーナイフ１１４と、処理手段である薬液の供給装置（不図示）と、を備えている。処理槽１１１は、基板１００の搬入口（不図示）と、搬出口１１６と、を備えている。搬送装置１１２は、基板１００を、搬入口から搬出口１１６まで搬送する搬送ローラ機構１１７を複数有している。

ブラシ１１３は、基板１００の処理手段であり、供給装置により供給された薬液とともに、基板１００の上下面を洗浄可能に形成されている。エアーナイフ１１４は、処理装置１１０で処理した基板１００の上下面にエアーを噴射し、基板１００に付着した薬液を飛散させることが可能に形成されている。

エアーナイフ１１４は、搬出口１１６の付近に配置される。なお、処理装置１１０で用いられる薬液は、基板１００を洗浄する洗剤である。このような洗剤は、処理装置１１０内に設けられた循環装置で、所定回数繰り返し使用される。

処理装置１２０は、処理槽１２１と、搬送装置１２２と、処理手段である乾燥装置（不図示）と、を備えている。処理槽１２１は、基板１００の搬入口１２３と、搬出口と、を備えている。

図１に示すように、搬送装置１２２は、複数の搬送ローラ１２４と、上乗せローラ機構１２５と、を備えている。乾燥装置は、例えば、複数のエアーナイフであり、基板１００の上下面に空気を噴射し、基板１００表面を乾燥可能に形成されている。

なお、これら処理装置１１０，１２０は、一例であって、他の処理を行う装置であってもよい。

処理装置１は、基板１００を所定の角度で傾斜させるとともにこの傾斜方向と交差する方向に搬送し、且つ、基板１００上に純水等の流体（処理液）を噴射することで、基板１００を洗浄処理が可能に形成されている。具体的に説明すると、処理装置１は、処理槽３と、搬送装置４と、処理手段５と、エアーナイフ６を備えている。

処理槽３は、箱型状に形成され、その内部に搬送装置４、処理手段５及びエアーナイフ６を配置可能に形成されている。処理槽３は、その側面であって、所定の方向の一端面に搬入口１０が、他端面に搬出口１１が、形成されている。なお、所定の方向とは、基板１００の搬送方向であり、図１中矢印Ｆで示す。これら搬入口１０及び搬出口１１は、基板１００を処理槽３内に搬入及び搬出可能な形状に形成されている。

搬送装置４は、図１中矢印Ｆで示す所定の方向に沿って一定間隔に配置された複数の搬送ローラ機構１３と、搬送ローラ機構１３を駆動させる駆動手段１４と、搬送ローラ機構１３の一部と対向して設けられた上乗せローラ機構１５と、を備えている。搬送装置４は、駆動手段１４により駆動された搬送ローラ機構１３の回転により、搬送ローラ機構１３上の基板１００を搬送可能に形成されている。

また、搬送装置４は、図２に示すように、矩形枠状のフレーム１６を有する。このフレーム１６は、処理槽３内の幅方向一端と他端とに設けられた受け部材１７によって支持されている。一方の受け部材１７には高さ調整部材１８が設けられている。それによって、フレーム１６は処理槽３の幅方向に対して所定の角度、例えば５度の角度で傾斜している。

搬送ローラ機構１３は、フレーム１６に設けられ、その軸線を処理槽３の幅方向に沿わせた複数の搬送軸２１と、複数の支持ローラ２２と、を備えている。搬送ローラ機構１３は、搬入口１０から搬出口１１まで基板１００を搬送可能に搬送軸２１が複数配置されている。搬送軸２１は、処理槽３の長手方向に対して所定間隔で複数設けられている。また、搬送軸２１は、受け部材１７及び調整部材１８により傾斜するフレーム１６に設けられることで、当該フレーム１６と同様に所定の角度で傾斜して設けられる。

支持ローラ２２は、搬送軸２１に、その長手方向に沿って所定間隔で複数設けられている。支持ローラ２２は、円板状に形成されるとともに、その外周面にＯリング（図２中、不図示）を有し、このＯリングが基板１００と当接することで、基板１００を支持可能に形成されている。

駆動手段１４は、搬送軸２１及び後述する回転軸２７の両端を回転可能に支持するフレーム１６の幅方向両端に設けられた軸受２３と、搬送軸２１及び回転軸２７を回転駆動させる駆動源２４と、この駆動源２４の駆動力を搬送軸２１に伝達する歯車機構等の伝達手段２５と、を備えている。なお、駆動手段１４は、搬送軸２１及び回転軸２７を回転駆動させる構成であれば、適宜設定可能である。

上乗せローラ機構１５は、フレーム１６に設けられ、その軸線を処理槽３の幅方向に沿わせた回転軸２７と、複数、例えば回転軸２７の両端側に２つ設けられた押圧ローラ２８と、を備えている。回転軸２７は、駆動手段１４により回転駆動する。回転軸２７は、搬入口１０に近接して配置された搬送軸２１と対向して設けられる。

図３乃至図７に示すように、押圧ローラ２８は、基板１００の両端部の上面と当接し、且つ、基板１００を押圧するローラ３１を備えている。また、傾斜した回転軸２７の下方の端側に位置する押圧ローラ２８は、ローラ３１に設けられたキャップ３２をさらに備えている。

図５に示すように、ローラ３１は、円盤状に形成され、回転軸２７に固定されている。また、ローラ３１は、その一部が基板１００と接触するＯリング３１ａと、Ｏリング３１ａが挿入される挿入溝３１ｂと、その側面に設けられた溝部３１ｃと、を備えている。ローラ３１は、Ｏリング３１ａが基板１００に接触することで、所定の力で基板１００を搬送ローラ機構１３へ押圧可能、且つ、基板１００の上面に駆動力を伝達可能に形成されている。

キャップ３２は、ローラ３１の少なくとも一方の主面に設けられた、円錐台形状に形成された整流部材である。具体的には、キャップ３２は、傾斜する基板１００の下方の端部と当接するローラ３１の上斜面に設けられる。尚、上斜面とは、ローラ３１の、上方に向って傾斜する主面である。

例えば、キャップ３２は、図４及び図６に示すように、キャップ３２が半分に分割された半円錐台形状の組立部材３３と、これら組立部材３３間に介在される一対のスペーサ３４と、を備えている。

組立部材３３は、その中心に回転軸２７が挿入される溝３３ａが形成されている。組立部材３３は、円筒状の材料を、例えば切削等により円錐台形状に形成するとともに、分割することで形成されている。

スペーサ３４は、組立部材３３の断面の一と略同一形状に形成されている。このスペーサ３４は、組立部材３３の分割により発生する、回転軸２７へ組立部材３３を組み立てた際の組立部材３３間の隙間に介在される。なお、組立部材３３を回転軸２７へ固定した際に、組立部材３３間に隙間が発生しない場合には、スペーサ３４を用いなくてもよい。

組立部材３３及びスペーサ３４は、溝部３１ｃに挿入され、位置合わせされる突起部３５を備えている。組立部材３３及びスペーサ３４は、接着剤等により、回転軸２７及びローラ３１に固定される。

なお、搬送軸２１は処理液が搬送手段１４の軸受２３へ侵入することを防止するカバー３６が取り付けられている。

処理手段５は、処理槽３内に設けられ、搬送ローラ機構１３よって搬送された基板１００に、純水等の処理液を噴射（供給）可能に形成された処理液の供給装置である。このような処理手段５は、高圧で処理液を基板１００に噴射可能なシャワーや、処理液又は処理液と気体を混合させて基板１００に噴射するナイフ等である。なお、処理手段５は、図１、２中、搬送装置４の上方にのみ記載し、一部省略した概略図により示すが、基板１００の下面に処理液を噴射する処理装置をさらに有していてもよい。

エアーナイフ６は、搬入口１０に隣接して設けられ、処理槽３内で処理手段５から噴射される処理液が搬入口１０から処理装置１１０の処理槽１１１に流入することを防止可能に形成されている。

なお、エアーナイフ６は、互いに対向して一対設けられ、搬送される基板１００の上下面とそれぞれ対向することで、基板１００の両面に、処理槽３内側に向ってエアー（気体）を噴射可能に形成されている。

このように構成された処理装置１は、基板１００の洗浄工程において、先ず、処理装置１内に搬送された基板１００に対して、エアーナイフ６によりエアーを噴射する。

次に、搬送装置４により基板１００を搬送しながら、処理手段５から、高圧、且つ、大量の処理液（純水）を噴射し、基板１００表面に付着した前工程の処理液を除去する。このような基板１００の洗浄を、処理槽３内を基板１００が搬送される間行い、その後基板１００が搬出口１１から、次工程の処理槽１２１へと搬送される。

このように構成された処理装置１によれば、基板１００は、搬送装置４により、傾斜されながら搬送される。このため、基板１００上に噴射された大量の処理液は、基板１００の傾斜方向に沿って、基板１００の搬送方向と交差する方向へと勢いよく流れる。

このとき、基板１００上を、その傾斜方向に沿って流れる処理液は、上乗せローラ機構１５に衝突することとなる。衝突した処理液は、図３に実線で示す処理液の流れＭように、傾斜面に沿って移動し、キャップ３２の外面に沿って、移動することとなる。

即ち、図３中、二点鎖線Ｎで示すように、キャップ３２を有さない場合には、処理液は、ローラ３１の側面に衝突し、回転軸２７と交差する方向に飛散することとなる。しかし、上乗せローラ機構１５は、搬入口１０の近傍に設けられるため、飛散した処理液は、搬入口１０から、隣接する処理装置１１０の搬出口１１６を介して、処理槽１１１内へと侵入する。このため、処理装置１１０に侵入した処理液が、処理装置１１０内の処理液と混合することとなる。

処理装置１１０に処理液が侵入することを防止するために、エアーナイフ６の流量を増加させると、エアーの使用量の増加だけでなく、排気流量も増加することとなり、製造コストの増加となる。

しかし、上乗せローラ機構１５は、ローラ３１の側面を覆うように、キャップ３２を設けることで、ローラ３１に向かって流れた処理液は、キャップ３２に衝突するが、キャップ３２の円錐台形状の傾斜面により、衝突した処理液の飛散を防止することが可能となる。換言すると、キャップ３２は、基板１００の傾斜に沿って移動した処理液の流れを整流することで、処理液の飛散を防止し、隣り合う処理装置１１０への処理液の侵入を防止することが可能となる。

また、処理装置１は、上乗せローラ機構１５を設けることで、エアーナイフ６の流量を増加させることなく処理装置１１０に処理液が侵入することを防止可能となり、基板１００の製造コストを抑えることが可能となる。

上述したように、処理装置１は、傾斜する搬送ローラ機構１３の一部と対向して基板を押圧する上乗せローラ機構１５に、ローラ３１の側面を覆う円錐台形状のキャップ３２を設けることで、その傾斜面（側面）により処理液の流れを整流することが可能となる。これにより、上乗せローラ機構１５に向かって移動した処理液の飛散を防止することが可能となる。

なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではない。例えば、上述した例では、ローラ３１は、溝部３１ｃを有し、組立部材３３及びスペーサ３４は、この溝部３１ｃに挿入される突起部３５を有する構成としたが、これに限定されない。例えば、溝部３１ｃ及び突起部３５を有さなくてもよい。

また、上述した例では、キャップ３２は、組立部材３３及びスペーサ３４を組み立てる構成を説明したが、これに限定されない。キャップ３２は、一体に形成されていてもよい。ただし、ローラ３１が回転軸２７に設けられた状態で、キャップ３２を着脱自在とする場合には、組立部材３３及びスペーサ３４のように、分解可能な構成のほうが望ましい。また、ローラ３１及びキャップ３２が一体に形成されている構成であってもよい。

さらに、上述した例では、図２に示すように、上乗せローラ機構１５の回転軸２７は、基板１００の幅方向に沿って一本用いられる構成を示したが、これに限定されない。例えば、図８に示す、処理装置１の変形例に係わる上乗せローラ機構１５Ａを示す側面図を用いて、上乗せローラ機構１５Ａの説明を行う。

なお、図８中、上述した実施形態に係わる処理装置１の構成と同様の構成には同一符号を付し、その説明は省略する。また、図８において、図２で図示していない支持ローラ２２の外周面に設けられるＯリングを図示する。

図８に示すように、変形例に係わる処理装置１に用いられる上乗せローラ機構１５Ａは、回転軸２７Ａと、回転軸２７Ａに固定される押圧ローラ２８Ａと、を備える。押圧ローラ２８Ａは、ローラ３１と、このローラ３１に設けられるキャップ３２Ａと、を備える。

回転軸２７Ａは、例えば、カバー３６と隣接するローラ３１までの長さに形成されている。キャップ３２Ａは、ローラ３１に一体に形成され、その先端が、曲面に形成された円錐台形状に形成されている。

このように構成された上乗せローラ機構１５Ａを用いる処理装置１は、上述した実施形態に係わる処理装置１と同様の効果を得ることが可能となる。なお、キャップ３２Ａは、ローラ３１と別体に設けられていてもよい。また、キャップ３２Ａは、円錐台形状でなく円錐形状に形成されていてもよい。この他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能である。

１…処理装置、３…処理槽、４…搬送装置、５…処理手段（供給装置）、６…エアーナイフ、１０…搬入口、１１…搬出口、１３…搬送ローラ機構、１４…駆動手段、１５…上乗せローラ機構、１６…フレーム、１７…受け部材、１８…調整部材、２１…搬送軸、２２…支持ローラ、２３…軸受、２４…駆動源、２５…伝達手段、２７…回転軸、２８…押圧ローラ、３１…ローラ、３１ａ…Ｏリング、３１ｂ…挿入溝、３１ｃ…溝部、３２…キャップ（整流部材）、３３…組立部材、３３ａ…溝、３４…スペーサ、３５…突起部、３６…カバー、１００…基板。

Claims

所定の角度で傾斜させ、その傾斜方向と交差する方向に搬送される基板の上面を処理液によって処理する基板の処理装置であって、
前記基板を搬入する搬入口及び前記基板を搬出する搬出口を有する処理槽と、
前記搬入口から前記搬出口まで複数設けられ、前記所定の角度で傾斜して回転する搬送軸及びこれら搬送軸にそれぞれ複数設けられた前記基板を支持する支持ローラを有する搬送ローラ機構、及び、前記複数の搬送軸の少なくともいずれか一と対向して設けられた回転軸、前記回転軸に設けられ前記基板の両端部の上面と当接するローラ及び前記傾斜する前記基板の下方の端部と当接する前記ローラの上斜面に設けられた円錐台形状又は円錐状の整流部材を有する上乗せローラ機構を具備する搬送装置と、
前記処理液を前記搬送装置により搬送された前記基板に供給する供給装置と、
を備えることを特徴とする基板の処理装置。
前記上乗せローラ機構は、前記搬入口に近接して設けられた前記支持ローラ軸と対向して設けられることを特徴とする請求項１に記載の基板の処理装置。
前記整流部材は、前記ローラと着脱自在に形成されることを特徴とする請求項１に記載の基板の処理装置。
前記整流部材は、前記ローラと一体に形成されることを特徴とする請求項１に記載の基板の処理装置。
前記供給装置から供給される処理液によって処理する基板を、所定の角度で傾斜させ、その傾斜方向と交差する方向に前記基板を搬送する搬送装置であって、
前記搬入口から前記搬出口まで複数設けられ、前記所定の角度で傾斜して回転する搬送軸、及び、これら搬送軸にそれぞれ複数設けられた前記基板を支持する支持ローラを有する搬送ローラ機構と、
前記複数の搬送軸の少なくともいずれか一と対向して設けられた回転軸、前記回転軸に設けられ前記基板の両端部の上面と当接するローラ、及び、前記傾斜する前記基板の下方の端部と当接する前記ローラの上斜面に設けられた円錐台形状又は円錐状の整流部材を有する上乗せローラ機構と、
を備えることを特徴とする搬送装置。
前記整流部材は、前記ローラと着脱自在に形成されることを特徴とする請求項５に記載の搬送装置。
前記整流部材は、前記ローラと一体に形成されることを特徴とする請求項５に記載の搬送装置。