JP6495986B2 - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6495986B2 JP6495986B2 JP2017173697A JP2017173697A JP6495986B2 JP 6495986 B2 JP6495986 B2 JP 6495986B2 JP 2017173697 A JP2017173697 A JP 2017173697A JP 2017173697 A JP2017173697 A JP 2017173697A JP 6495986 B2 JP6495986 B2 JP 6495986B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- gas
- processing chamber
- gas supply
- supply unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
Description
処理室と、
前記処理室内に設けられ、基板を搬送する搬送部と、
前記処理室内に前記基板が搬送される搬送路を挟むように前記搬送路の上下に個別に設けられ、それぞれ前記搬送路に向けて気体を吹き付ける第1の気体供給部及び第2の気体供給部と、
前記処理室内に設けられ、気体の流れを整える複数の整流板と、
を備え、
前記第1の気体供給部及び前記第2の気体供給部は、それぞれ、前記気体を吹き出す長尺の吹出口を有し、前記吹出口の長手方向が水平面内で前記基板の搬送方向に直交する方向に対して同じ方向に傾けられ、前記吹出口が前記基板の搬送方向の上流側に前記気体を吹き出すように設けられており、
前記複数の整流板のそれぞれは、
前記基板の搬送方向に水平面内で直交する方向における長さが、搬送される前記基板の同方向における長さより短く、
前記搬送路の下方において、前記基板の搬送方向に水平面内で直交する方向に、かつ前記第1の気体供給部または前記第2の気体供給部の前記吹出口の長手方向に沿うように前記基板の搬送方向にずらされて並べられ、
前記基板の搬送方向に対向する第1面及びその第1面の反対面である第2面を有し、
前記基板の搬送方向の下流側に倒されることで前記第2面が前記処理室の底面に対向するように配置され、前記気体の流れを前記第1面に沿う流れと前記第2面に沿う流れにわけるように設けられることを特徴とする。
第1の実施形態について図1乃至図3を参照して説明する。
第2の実施形態について図4を参照して説明する。なお、第2の実施形態では、第1の実施形態との相違点(抑制板6及び液回収板7)について説明し、その他の説明は省略する。
第3の実施形態について図5を参照して説明する。なお、第3の実施形態では、第1の実施形態および第2の実施形態との差異点について説明し、その他の説明は省略する。
前述の実施形態においては、排気口2bは処理室2の底面にのみある例を説明したが、これに限られない。図6は、処理室2内における搬送部3よりも上方の壁面に排気口20を有する基板処理装置1の断面図である。図6に示すように排気口20は、搬送方向Haの上流側の壁面に開口しており、図示しない排気装置によって排気されるようになっている。しかしながら、上述のとおり、基板Wが処理室2内に搬入され搬送が始まり、気体供給位置に達するまでの間は、搬送路Hの下方からの気体が処理室2の上方へ向かうのを妨げる必要がある。したがって、排気口20の排気装置によって排気を行うようにすると、処理室2内の気体の流れを底面に集めることができなくなるため、このときには排気口20の排気装置を停止させておく。基板Wが気体供給位置に達し、乾燥処理が始まると、排気口20の排気装置を作動させる。これによって第1のエアーナイフ4aから吹き出されて基板W上で反射した気体を排気する。
2 処理室
2a 底室
2b 排気口
3 搬送部
4a 第1の気体供給部
4b 第2の気体供給部
5 整流板
5a 第1面
5b 第2面
6 抑制板
7 液回収板
13 吹出口
H 搬送路
Ha 搬送方向
M1 底面
W 基板
Claims (9)
- 処理室と、
前記処理室内に設けられ、基板を搬送する搬送部と、
前記処理室内に前記基板が搬送される搬送路を挟むように前記搬送路の上下に個別に設けられ、それぞれ前記搬送路に向けて気体を吹き付ける第1の気体供給部及び第2の気体供給部と、
前記処理室内に設けられ、気体の流れを整える複数の整流板と、
を備え、
前記第1の気体供給部及び前記第2の気体供給部は、それぞれ、前記気体を吹き出す長尺の吹出口を有し、前記吹出口の長手方向が水平面内で前記基板の搬送方向に直交する方向に対して同じ方向に傾けられ、前記吹出口が前記基板の搬送方向の上流側に前記気体を吹き出すように設けられており、
前記複数の整流板のそれぞれは、
前記基板の搬送方向に水平面内で直交する方向における長さが、搬送される前記基板の同方向における長さより短く、
前記搬送路の下方において、前記基板の搬送方向に水平面内で直交する方向に、かつ前記第1の気体供給部または前記第2の気体供給部の前記吹出口の長手方向に沿うように前記基板の搬送方向にずらされて並べられ、
前記基板の搬送方向に対向する第1面及びその第1面の反対面である第2面を有し、
前記基板の搬送方向の下流側に倒されることで前記第2面が前記処理室の底面に対向するように配置され、前記気体の流れを前記第1面に沿う流れと前記第2面に沿う流れにわけるように設けられることを特徴とする基板処理装置。 - 前記複数の整流板は、前記処理室の前記底面に、この底面との間に隙間が存在しない状態で設けられることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記第1の気体供給部は、前記搬送路の上方に位置しており、
前記処理室は、
前記複数の整流板より前記基板の搬送方向の上流側に位置付けられ、前記処理室の前記底面であって前記第1の気体供給部の前記吹出口に対向する箇所に形成され、前記複数の整流板により整流された前記気体を排出する複数の排気口を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記第1の気体供給部は、前記搬送路の上方に位置しており、
前記処理室は、
前記複数の整流板より前記基板の搬送方向の上流側に位置付けられ、前記処理室の前記底面であって前記第1の気体供給部の前記吹出口に対向する箇所に形成され、前記複数の整流板により整流された前記気体が溜まる空間を形成する底室を有することを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記処理室は、
前記底室に設けられ、前記複数の整流板により整流された前記気体を排出する複数の排気口を有することを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記底室に設けられ、前記底室内の気体が上方に戻ることを抑える抑制板を有することを特徴とする請求項4または請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記底室の上方に設けられ、前記底室に向かって飛散した液を受け止める液回収板を有することを特徴とする請求項4ないし請求項6のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記複数の整流板のそれぞれは、長方形の板形状に形成され、水平面内で前記基板の搬送方向に直交するように個別に設けられることを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記複数の整流板のそれぞれは、各整流板の中心をつなぐ仮想線が前記吹出口の長手方向と平行になるように並べられていることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015014155 | 2015-01-28 | ||
JP2015014155 | 2015-01-28 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015184630A Division JP6209572B2 (ja) | 2015-01-28 | 2015-09-18 | 基板処理装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017211178A JP2017211178A (ja) | 2017-11-30 |
JP2017211178A5 JP2017211178A5 (ja) | 2018-02-15 |
JP6495986B2 true JP6495986B2 (ja) | 2019-04-03 |
Family
ID=56686152
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015184630A Active JP6209572B2 (ja) | 2015-01-28 | 2015-09-18 | 基板処理装置 |
JP2017173697A Active JP6495986B2 (ja) | 2015-01-28 | 2017-09-11 | 基板処理装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015184630A Active JP6209572B2 (ja) | 2015-01-28 | 2015-09-18 | 基板処理装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6209572B2 (ja) |
CN (1) | CN105826168B (ja) |
TW (1) | TWI618905B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108807215B (zh) * | 2017-04-28 | 2021-01-29 | 苏州均晟豪智能科技有限公司 | 处理装置 |
CN107065433B (zh) * | 2017-05-08 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 干燥装置 |
JP7031831B1 (ja) | 2021-03-16 | 2022-03-08 | 株式会社アルフテクノ | 乾燥装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5919273Y2 (ja) * | 1979-10-03 | 1984-06-04 | 株式会社阪田商会 | 乾燥装置 |
JP3070511B2 (ja) * | 1997-03-31 | 2000-07-31 | 日本電気株式会社 | 基板乾燥装置 |
JP2002022359A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板の乾燥装置 |
JP4382306B2 (ja) * | 2001-07-05 | 2009-12-09 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | 薬液塗布方法及びその塗布装置 |
JP3754905B2 (ja) * | 2001-09-10 | 2006-03-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板乾燥装置 |
JP4229670B2 (ja) * | 2002-09-30 | 2009-02-25 | 株式会社日本設計工業 | 薄板状材の搬送方法及び装置 |
JP3865717B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2007-01-10 | 東京応化工業株式会社 | 基板乾燥装置および基板乾燥方法 |
JP4494269B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2010-06-30 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP4829710B2 (ja) * | 2006-07-26 | 2011-12-07 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板の処理装置 |
JP4272230B2 (ja) * | 2006-12-22 | 2009-06-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 減圧乾燥装置 |
CN201561627U (zh) * | 2009-12-17 | 2010-08-25 | 无锡尚德太阳能电力有限公司 | 硅片吹干系统 |
JP2013045877A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-04 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
CN203672080U (zh) * | 2014-01-06 | 2014-06-25 | 宇宙电路板设备(深圳)有限公司 | 触控面板用烘干装置 |
-
2015
- 2015-09-18 JP JP2015184630A patent/JP6209572B2/ja active Active
- 2015-11-26 TW TW104139421A patent/TWI618905B/zh active
-
2016
- 2016-01-25 CN CN201610046871.6A patent/CN105826168B/zh active Active
-
2017
- 2017-09-11 JP JP2017173697A patent/JP6495986B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016145702A (ja) | 2016-08-12 |
JP2017211178A (ja) | 2017-11-30 |
TW201706548A (zh) | 2017-02-16 |
CN105826168B (zh) | 2018-10-26 |
TWI618905B (zh) | 2018-03-21 |
JP6209572B2 (ja) | 2017-10-04 |
CN105826168A (zh) | 2016-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4494269B2 (ja) | 基板処理装置 | |
US7614722B2 (en) | Inkjet recording apparatus | |
JP6495986B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6420967B2 (ja) | 異物除去装置 | |
JPWO2006046317A1 (ja) | 連続搬送式フリーザ | |
WO2011099222A1 (ja) | 基板処理装置 | |
JP3865717B2 (ja) | 基板乾燥装置および基板乾燥方法 | |
TWI446480B (zh) | 基板冷卻裝置 | |
JP3629411B2 (ja) | エアーナイフ乾燥装置 | |
JP2007153542A (ja) | 基板搬送装置及び基板乾燥装置 | |
JP2008029950A (ja) | 液体除去方法および液体除去装置およびウェブ処理装置 | |
JP4509613B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2020173091A (ja) | 基板処理装置 | |
KR102497947B1 (ko) | 유리판의 제조 방법 및 그 제조 장치 | |
JP2001358114A (ja) | 乾燥装置 | |
WO2018092556A1 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP6146664B2 (ja) | 対向型エアブロー | |
JP2011202837A (ja) | フイルム搬送装置及び方法、フイルム製造装置及び方法 | |
JP7429216B2 (ja) | 基板処理装置 | |
TWM632520U (zh) | 處理裝置 | |
JP2010190568A (ja) | 連続搬送式フリーザ | |
JP6731197B2 (ja) | 基板処理装置 | |
WO2020095594A1 (ja) | 検査装置 | |
JP6110111B2 (ja) | 除塵装置 | |
JP2008298320A (ja) | クリーンブース及びクリーンブースの換気方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171228 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171228 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181011 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181030 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190307 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6495986 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |