CN201561627U - 硅片吹干系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种硅片吹干系统，包括在吹干槽上开设的进片口与出片口，在吹干槽的内壁转动架设有下辊轴与上辊轴，下辊轴上设有下辊轮，在上辊轴上设有上辊轮，下辊轮与上辊轮之间形成输送辊道，在上辊轮的上方固定架设有上吹干风刀管，上吹干风刀管上开设有上部出气孔，所述上吹干风刀管与上压缩空气输入管相接，在上压缩空气输入管上安装有上压力调节阀，在下辊轮的下方固定架设有下吹干风刀管，下吹干风刀管上开设有下部出气孔，所述下吹干风刀管与下压缩空气输入管相接，在下压缩空气输入管上安装有下压力调节阀。本实用新型工作时，去掉了吹干风刀管的扰动，实现每把风刀单独可控，最终达到减少碎片的目的。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种应用在硅片电池生产线刻蚀岗位对硅片表面吹干的硅片吹干系统。
背景技术
目前，在硅片电池生产的线刻蚀岗位一般使用RENA水平去磷硅玻璃清洗机，该机器的吹干槽内的风刀是由两套共四把金属风刀构成，四把风刀配有电动机进行前后扰动，四把风刀用两个流量计控制。
由于在吹干时风刀带有前后的扰动，且四把风刀不可独立控制，且风刀吹风量大，使硅片受力复杂，容易产生走歪、爬坡，是碎片最集中的地方。并且下辊轴上设置有用于分隔相邻硅片的导向轮，在爬坡时易造成碎片。
发明内容
本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种去掉扰动、实现每把风刀单独可控、最终达到减少碎片目的的硅片吹干系统。
按照本实用新型提供的技术方案，所述硅片吹干系统，包括在吹干槽上开设的进片口与出片口，在吹干槽的内壁转动架设有下辊轴与上辊轴，下辊轴上设有下辊轮，在上辊轴上设有上辊轮，下辊轮与上辊轮之间形成输送辊道，所述上辊轮的上方固定架设有可单独控制流量的多个上吹干风刀管，所述下辊轮的下方固定架设有可单独控制流量的多个下吹干风刀管。
在进一步的技术方案中，在上辊轮的上方固定架设有上吹干风刀管，上吹干风刀管上开设有上部出气孔，所述上吹干风刀管与上压缩空气输入管相接，在上压缩空气输入管上安装有上压力调节阀，在下辊轮的下方固定架设有下吹干风刀管，下吹干风刀管上开设有下部出气孔，所述下吹干风刀管与下压缩空气输入管相接，在下压缩空气输入管上安装有下压力调节阀，从而实现每个上吹干风刀管和下吹干风刀管实现单独控制。
作为优选，所述上吹干风刀管与上辊轴平行设置，且上吹干风刀管设置在相邻两个上辊轮之间的上方位置。
作为优选，所述下吹干风刀管与上辊轴平行设置，且下吹干风刀管设置在相邻两个下辊轴之间的下方位置，且每根下吹干风刀管设置在对应上吹干风刀管的正下方位置。
作为优选，下辊轴与上辊轴呈平行设置，且上辊轴的轴线垂直于进片口与出片口的连线。
与现有技术相比，本实用新型的优点是：由于上吹干风刀管和下吹干风刀管均固定设置，使得本实用新型工作时去掉了对吹干风刀管的扰动，并且实现了每把风刀单独可控，减小了没把风刀内的出风量，使上下风刀压力大小均衡，解决了上下风刀压力不均而导致的硅片翘头或抖动的问题，最终达到减少硅片碎片的目的。
附图说明
图1是本实用新型的整体结构示意图。
图2是本实用新型中的上吹干风刀管的结构示意放大图。
图3是本实用新型中的下吹干风刀管的结构示意放大图。
具体实施方式
下面结合具体附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
如图所示：所述硅片吹干系统，包括在吹干槽1上开设的进片口2与出片口3，在吹干槽1的内壁转动架设有下辊轴4与上辊轴5，下辊轴4上设有下辊轮6，在上辊轴5上设有上辊轮7，下辊轮6与上辊轮7之间形成输送辊道，所述上辊轮7的上方固定架设有可单独控制流量的多个上吹干风刀管8，所述下辊轮6的下方固定架设有可单独控制流量的多个下吹干风刀管12。
具体地说，在上辊轮7的上方固定架设有上吹干风刀管8，上吹干风刀管8上开设有上部出气孔9，所述上吹干风刀管8与上压缩空气输入管10相接，在上压缩空气输入管10上安装有上压力调节阀11，在下辊轮6的下方固定架设有下吹干风刀管12，下吹干风刀管12上开设有下部出气孔13，所述下吹干风刀管12与下压缩空气输入管14相接，在下压缩空气输入管14上安装有下压力调节阀15，工作人员可通过由单独控制上下风刀管的调压表单独控制上下风刀管的出风量大小，从而保证上下风刀管受到的压力大小均衡，解决了上下风刀压力不均而导致的硅片翘头或抖动的问题，防止碎片的产生。
所述上吹干风刀管8与上辊轴5平行设置，且上吹干风刀管8设置在相邻两个上辊轮7之间的上方位置。
所述下吹干风刀管12与上辊轴5平行设置，且下吹干风刀管12设置在相邻两个下辊轴4之间的下方位置，且每根下吹干风刀管12设置在对应上吹干风刀管8的正下方位置。
下辊轴4与上辊轴5呈平行设置，且上辊轴5的轴线垂直于进片口2与出片口3的连线。
本实用新型运用了静止的上吹干风刀管8与下吹干风刀管12，去掉了前后扰动带来的硅片走歪等一系列的影响，使硅片前进的状态更加平稳；每根上吹干风刀管8由上压力调节阀11单独控制，每根下吹干风刀管12由下压力调节阀15单独控制，可以保证上吹干风刀管8与下吹干风刀管12吹出压力大小均衡，解决了上下风刀压力不均而导致的硅片翘头或抖动的问题。
下滚轴4一律采用没有导向轮的设计，防止硅片爬坡时由于导向轮的挤压导致硅片产生碎片。本实用新型的吹干系统可以让硅片在吹干槽1内行进的更加平稳，减少走歪，抖动，爬坡等现象，有效的减少了碎片。
本实用新型可使刻蚀岗位的机碎率由08年年初的2‰降低至现在的0.6‰。
以上实施例仅为本实用新型的示例性实施例，不用于限制本实用新型，本实用新型的保护范围由权利要求书限定。本领域技术人员可以在本实用新型的实质和保护范围内，对本实用新型做出各种修改或等同替换，这种修改或等同替换也应视为落在本实用新型的保护范围内。
Claims (5)
1.一种硅片吹干系统，包括在吹干槽(1)上开设的进片口(2)与出片口(3)，在吹干槽(1)的内壁转动架设有下辊轴(4)与上辊轴(5)，下辊轴(4)上设有下辊轮(6)，在上辊轴(5)上设有上辊轮(7)，下辊轮(6)与上辊轮(7)之间形成输送辊道，其特征是：所述上辊轮(7)的上方固定架设有可单独控制流量的多个上吹干风刀管(8)，所述下辊轮(6)的下方固定架设有可单独控制流量的多个下吹干风刀管(12)。
2.如权利要求1所述的硅片吹干系统，其特征是：所述上吹干风刀管(8)上开设有上部出气孔(9)，所述上吹干风刀管(8)与上压缩空气输入管(10)相接，在上压缩空气输入管(10)上安装有上压力调节阀(11)，所述下吹干风刀管(12)上开设有下部出气孔(13)，所述下吹干风刀管(12)与下压缩空气输入管(14)相接，在下压缩空气输入管(14)上安装有下压力调节阀(15)。
3.如权利要求1所述的硅片吹干系统，其特征是：所述上吹干风刀管(8)与上辊轴(5)平行设置，且上吹干风刀管(8)设置在相邻两个上辊轮(7)之间的上方位置。
4.如权利要求1所述的硅片吹干系统，其特征是：所述下吹干风刀管(12)与上辊轴(5)平行设置，且下吹干风刀管(12)设置在相邻两个下辊轴(4)之间的下方位置，且每根下吹干风刀管(12)设置在对应上吹干风刀管(8)的正下方位置。
5.如权利要求1所述的硅片吹干系统，其特征是：所述下辊轴(4)与上辊轴(5)呈平行设置，且上辊轴(5)的轴线垂直于进片口(2)与出片口(3)的连线。
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Assignee: Yangzhou Rongde New Energy Technology Co., Ltd. Assignor: Wuxi Shangde Solar Electric Power Co., Ltd. Contract record no.: 2011990000369 Denomination of utility model: Silicon wafer blow-drying system Granted publication date: 20100825 License type: Exclusive License Record date: 20110516 |
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