TWM632520U - 處理裝置 - Google Patents
處理裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWM632520U TWM632520U TW110214420U TW110214420U TWM632520U TW M632520 U TWM632520 U TW M632520U TW 110214420 U TW110214420 U TW 110214420U TW 110214420 U TW110214420 U TW 110214420U TW M632520 U TWM632520 U TW M632520U
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- frame plate
- processing
- automatic
- closing door
- processing part
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
本創作涉及清潔裝置的技術領域,尤其涉及一種處理裝置,包括底座及平行設置的第一框架板、第二框架板、第一處理部及兩個第一自動開合門系統。所述底座位於第一框架板與第二框架板之間並分別與第一框架板的一端及第二框架板的一端固定連接。所述第一處理部設置在底座上靠近第一框架板及第二框架板的一端。兩個所述第一自動開合門系統分別設置在第一框架板、第二框架板之間並分別與第一框架板、第二框架板及底座連接。所述第一處理部位於兩第一自動開合門系統之間。所述第一自動開合門系統在檢測到外部設備時開啟,在未檢測到外部設備時閉合。
Description
本創作涉及清潔裝置的技術領域,尤其涉及一種處理裝置。
市面上的一些處理裝置,在對基板進行處理時由於不同處理部之間為開放狀態,導致上一處理部中的液體、氣體輕易進入至下一處理部,使得下一處理部的結構被腐蝕、污染,不利於後續工作人員的清潔及降低了整體的使用壽命。
因此,習知技術存在不足,需要改進。
為克服上述上一處理部中的液體、氣體輕易進入至下一處理部導致下一處理部被污染的技術問題,本創作提供了一種處理裝置。
本創作解決技術問題的方案是提供一種處理裝置,包括底座及平行設置的第一框架板、第二框架板、第一處理部及兩個第一自動開合門系統。所述底座位於第一框架板與第二框架板之間並分別與第一框架板的一端及第二框架板的一端固定連接。所述第一處理部設置在底座上靠近第一框架板及第二框架板的一端。兩個所述第一自動開合門系統分別設置在第一框架板、第二框架板之間並分別與第一框架板、第二框架板及底座連接。所述第一處理部位於兩第一自動開合門系統之間。所述第一自動開合門系統在檢測到外部設備時開啟,在未檢測到外部設備時閉合。
較佳地,所述第一自動開合門系統包括固定板、兩個檢測裝置及自動門。所述固定板分別與第一框架板、第二框架板及底座固定連接。
在所述固定板上開設有用於外部設備通過且與自動門的形狀、大小相匹配的通孔。所述自動門的一端樞接於通孔處。兩個所述檢測裝置分別設置在自動門的兩端。在兩所述檢測裝置中的一者在檢測到外部設備時控制自動門開啟,在兩所述檢測裝置均未檢測到外部設備時控制自動門閉合。
較佳地,所述處理裝置還包括第二處理部及第二自動開合門系統。所述第二自動開合門系統設置在第一框架板、第二框架板之間並分別與第一框架板、第二框架板及底座連接。所述第二處理部設置在第二自動開合門系統與第一處理部之間。所述第二自動開合門系統在檢測到外部設備時開啟,在未檢測到外部設備時閉合。
較佳地,所述處理裝置還包括第三處理部。所述第三處理部設置在第二自動開合門系統遠離第二處理部的一端。
較佳地,所述第一處理部為水洗部,其包括多個噴管組。多個所述噴管組呈對稱設置在底座上。
較佳地,所述噴管組包括第一噴管及第二噴管。所述第一噴管設置在第二噴管之間。
較佳地,所述第三處理部為風切部,其包括第一風切組及第二風切組。所述第一風切組設置在第二風切組的正上方或前上方。
較佳地,所述第一風切組和/或第二風切組傾斜設置。
較佳地,所述第三處理部還包括第三風切組。所述第三風切組設置在第二風切組的下方或設置在風切部與烘乾部之間的緩衝區的下方。
較佳地,所述處理裝置還包括第四處理部及第三自動開合門系統。所述第三自動開合門系統設置在第一框架板、第二框架板之間並分別與第一框架板、第二框架板及底座連接。所述第三自動開合門系統設置在第三處理部與第四處理部之間。所述第三自動開合門系統在檢測到外部設備時開啟,在未檢測到外部設備時閉合。
相對於習知技術,本創作的處理裝置具有如下優點:通過設置第一自動開合門系統,使得在外部設備未進入第一自動開合門系統感應區內時不會開啟,防止了在第一處理部內的液體、氣體輕易飛濺出去的情形的發生,有利於降低被污染、腐蝕的可能性、降低後續清潔難度,也有利於提升處理裝置的整體使用壽命。
10:處理裝置
11:底座
111:導槽
12:第一框架板
121:視窗
13:第二框架板
14:水洗部
141:噴管組
142:第一噴管
143:第二噴管
15:第一自動開合門系統
151:固定板
152:自動門
153:通孔
16:緩衝區
17:第二自動開合門系統
18:風切部
181:第一風切組
182:第二風切組
19:烘乾部
20:第三自動開合門系統
圖1是本創作的處理裝置一視角的立體結構示意圖。
圖2是圖1中A處的放大圖。
圖3是圖1中B處的放大圖。
圖4是本創作的處理裝置另一視角的立體結構示意圖。
圖5是圖4中C處的放大圖。
為了使本創作的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖及實施實例,對本創作進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅用於解釋本創作,並不用於限定本創作。
請參閱圖1-圖5。本創作提供一種處理裝置10,用於對經過的外部設備(包括基板及傳送基板的裝置)進行處理,包括底座11及平行設置的第一框架板12、第二框架板13、第一處理部14、兩個第一自動開合門系統15、第二處理部16、第二自動開合門系統17、第三處理部18、第四處理部19及第三自動開合門系統20。底座11位於第一框架板12與第二框架板13之間並分別與第一框架板12的一端及第二框架板13的一端固定連接。兩個第一自動開合門系統15分別設置在第一框架板12及第二框架板13之間並分別與第一框架板12、第二框架板13及底座11連接。第二自動開合門系統17設置在第一框架板12及第二框架板13之間並分別與第一框架板12、第二框架板13及底座11連接。第三自動開合門系統20設
置在第一框架板12及第二框架板13之間並分別與第一框架板12、第二框架板13及底座11連接。第一處理部14設置在底座11上靠近第一框架板12及第二框架板13的一端。其中第一處理部14位於兩第一自動開合門系統15之間。第二處理部16設置在第二自動開合門系統17與第一處理部14之間。第三處理部18及第四處理部19設置且位於底座11、第一框架板12與第二框架板13所形成的整體之間;其中第三處理部18設置在第二處理部16與第四處理部19之間且位於第二自動開合門系統17遠離第二處理部16的一端,第三自動開合門系統20設置在第三處理部18與第四處理部19之間。
具體地,第一框架板12與第二框架板13的設置用於阻止第一處理部14、第三處理部18及第四處理部19處產生的液體、氣體吹至外部,降低液體、氣體散出對外部機構的污染、損壞的概率;較佳地,第一處理部14為水洗部;較佳為呈對稱結構且分別設置在底座11上靠近第一框架板12及第二框架板13的一端,用於對外部設備進行水洗作業;較佳地,第二處理部16為緩衝部,用於位於外部設備上的一部分水漬的自然滴落,以減少外部設備上的水分,以降低水較多的外部設備從第一處理部14直接進入第三處理部18時液滴飛濺對第三處理部18造成污染;較佳地,第三處理部18為風切部,用於將外部設備上的水漬吹去;較佳地,第四處理部19為烘乾部,用於對外部設備進行烘乾以使外部設備保持乾燥狀態,以最終消除水漬對外部設備的影響。第二處理部16的設置也便於工作人員對相鄰的第一處理部14、第三處理部18進行維修及更換。第一自動開合門系統15、第二自動開合門系統17及第三自動開合門系統20在檢測到外部設備時開啟,在未檢測到外部設備時閉合。第一自動開合門系統15的設置可有效防止第一處理部14處的水漬飛濺至緩衝部,降低第二處理部16被飛濺的水漬污染的概率;第二自動開合門系統17設置可
有效防止第二處理部16處的水漬飛濺至第三處理部18,降低第三處理部18被污染的概率。
較佳地,在第一框架板12上開設有視窗121;視窗121便於工作人員對清潔過程進行觀察。在視窗121上安裝有透明觀察件(圖未示),透明觀察件的設置使得在不影響觀察的情形下有效阻止水漬、氣體從視窗121處漏出。
進一步地,在底座11上開設有導槽111;導槽111與外部設備的一端相匹配,導槽111用於部分外部設備的置入及對外部設備的運行路線進行引導,便於外部設備順利完成清潔作業。
較佳地,第一處理部14呈對稱結構且分別設置在底座11上靠近第一框架板12及第二框架板13的一端,如此,第一處理部14可對外部設備的兩面進行水洗,提高了水洗效率及水洗的潔淨程度;第三處理部18呈對稱結構且分別設置在底座11上靠近第一框架板12及第二框架板13的一端;如此,第三處理部18可對外部設備的兩面進行吹風風乾作業,提高了風切的效率及風切品質。
進一步地,第一處理部14包括多個噴管組141;多個噴管組141呈對稱設置在底座11上。具體地,噴管組141包括第一噴管142與第二噴管143;第一噴管142設置在第二噴管143之間。第一處理部14通過噴管組141連接外部水管實現噴水清潔作業。
較佳地,第一噴管142與第二噴管143為二流體型噴管、錐形噴管、扇形噴管、喇叭形噴管、鴨嘴型噴管中的任一種或多種。在本創作中,第一噴管142為二流體型噴管;第二噴管143為錐形噴管、扇形噴管、喇叭形噴管、鴨嘴型噴管中的任一種或多種。其中,錐形噴管為設置有錐形噴頭的噴管,扇形噴管為設置有扇形噴頭的噴管,喇叭形噴管為設置有喇叭形噴頭的噴管,鴨嘴型噴管為設置有鴨嘴型噴頭的噴管。由於二流體噴管的噴射範圍較窄,通過將第一噴管142設置在第二噴管143之
間有利於提升清潔程度,降低因二流體噴管設置在最後而導致清潔不完全的可能性。
進一步地,第一自動開合門系統15包括固定板151、自動門152及兩個檢測裝置(圖未示)。固定板151分別與第一框架板12、第二框架板13及底座11固定連接。在固定板151上開設有用於外部設備通過且與自動門152的形狀、大小相匹配的通孔153。自動門152的一端樞接於通孔153處。兩個檢測裝置分別設置在自動門152的兩端;在兩個檢測裝置中的一者在檢測到外部設備時控制自動門開啟,在兩個檢測裝置均未檢測到外部設備時控制自動門152閉合,實現了自動開合,有利於降低水漬飛濺至第二處理部16的概率。較佳地,檢測裝置為近接感應器,包括但不限於此,其也可以為其他測量距離的感測器,具體可根據實際設置。較佳地,第二自動開合門系統17、第三自動開合門系統20與第一自動開合門系統15具有相同的結構。
進一步地,第三處理部18包括第一風切組181及第二風切組182。第一風切組181設置在第二風切組182的正上方或設置在第二處理部16中且位於第二處理部16的頂端即第二風切組182的前上方。第一風切組181的設置主要用於在第二處理部16內對運送產品的裝置的頂端處進行風切作業,將產品上方的部分裝置進行風吹風乾作業,有利於降低運送產品的裝置的頂端殘留水滴的概率,有利於降低運送產品的裝置的頂端被水漬腐蝕的概率,同時也降低產品在被第二風切組182進行風吹風乾作業時位於產品上方的運送產品的裝置滴落水滴至產品上的可能性,也有利於降低產品上殘留水滴的概率。
其中,第一風切組181和/或第二風切組182傾斜設置。在本創作中第二風切組182傾斜設置;如此,傾斜的第二風切組182出風方向結合重力作用,有利於提升吹水的效率。較佳地,第二風切組182與豎直方向之間的夾角為15-30°,包括但不限於此,第一風切組181和第二風切組
182也可呈傾斜設置,或其中第一風切組181傾斜設置;如此,有利於提升第一風切組181吹水的效率,進一步降低位於產品上方的裝置的頂端處水滴殘留的概率,進一步降低運送產品的裝置的頂端被水漬腐蝕的概率。
可以理解,作為一種具體實施例,第三處理部18還包括第三風切組(圖未示)。第三風切組設置在第二風切組182的下方或設置在第三處理部18與第四處理部19之間的第二處理部16的下方,第三風切組用於對位於基板下方的運送基板的裝置進行風切作業,有利於降低運送產品的裝置的底端殘留水滴的概率,有利於降低運送產品的裝置的底端被水漬腐蝕的概率,有利於提升運送產品的裝置的使用壽命。
可以理解,本創作的第一處理部14、第二處理部16、第三處理部18、第四處理部19可以不為水洗部、緩衝部、風切部及烘乾部,具體可根據實際對基材處理的功能需要進行設置。
相對於習知技術,本創作的處理裝置具有如下優點:通過設置第一自動開合門系統,使得在外部設備未進入第一自動開合門系統感應區內時不會開啟,防止了在第一處理部內的液體、氣體輕易飛濺出去的情形的發生,有利於降低被污染、腐蝕的可能性、降低後續清潔難度,也有利於提升處理裝置的整體使用壽命。
以上所述僅為本創作的較佳實施例,並非因此限制本創作的專利範圍,凡是在本創作的構思之內所作的任何修改,等同替換和改進等均應包含在本創作的專利保護範圍內。
10:處理裝置
14:水洗部
16:緩衝區
17:第二自動開合門系統
18:風切部
182:第二風切組
19:烘乾部
20:第三自動開合門系統
Claims (10)
- 一種處理裝置,用於對經過的一外部設備進行處理,其中:該處理裝置包括一底座及平行設置的一第一框架板、一第二框架板、一第一處理部及兩個第一自動開合門系統,該底座位於該第一框架板與該第二框架板之間並分別與該第一框架板的一端及該第二框架板的一端固定連接,該第一處理部設置在該底座上靠近該第一框架板及該第二框架板的一端,兩個該第一自動開合門系統分別設置在該第一框架板、該第二框架板之間並分別與該第一框架板、該第二框架板及該底座連接,該第一處理部位於兩該第一自動開合門系統之間,該第一自動開合門系統在檢測到該外部設備時開啟,在未檢測到該外部設備時閉合。
- 如請求項1所述的處理裝置,其中:該第一自動開合門系統包括一固定板、兩個檢測裝置及一自動門,該固定板分別與該第一框架板、該第二框架板及該底座固定連接,在該固定板上開設有用於該外部設備通過且與該自動門的形狀、大小相匹配的一通孔,該自動門的一端樞接於該通孔處,兩個該檢測裝置分別設置在該自動門的兩端,在兩該檢測裝置中的一者在檢測到該外部設備時控制該自動門開啟,在兩該檢測裝置均未檢測到該外部設備時控制該自動門閉合。
- 如請求項1所述的處理裝置,其中:該處理裝置還包括一第二處理部及一第二自動開合門系統,該第二自動開合門系統設置在該第一框架板、該第二框架板之間並分別與該第一框架板、該第二框架板及該底座連接,該第二處理部設置在該第二自動開合門系統與該第一處理部之間,該第二自動開合門系統在檢測到該外部設備時開啟,在未檢測到該外部設備時閉合。
- 如請求項3所述的處理裝置,其中:該處理裝置還包括一第三處理部,該第三處理部設置在該第二自動開合門系統遠離該第二處理部的一端。
- 如請求項1所述的處理裝置,其中:該第一處理部為一水洗部,包括多個噴管組,多個該噴管組呈對稱設置在該底座上。
- 如請求項5所述的處理裝置,其中:該噴管組包括一第一噴管及一第二噴管,該第一噴管設置在該第二噴管之間。
- 如請求項4所述的處理裝置,其中:該第三處理部為一風切部,包括一第一風切組及一第二風切組,該第一風切組設置在該第二風切組的正上方或前上方。
- 如請求項7所述的處理裝置,其中:該第一風切組和/或該第二風切組傾斜設置。
- 如請求項7所述的處理裝置,其中:該第三處理部還包括一第三風切組,該第三風切組設置在該第二風切組的下方或設置在該風切部與一烘乾部之間的一緩衝區的下方。
- 如請求項4所述的處理裝置,其中:該處理裝置還包括一第四處理部及一第三自動開合門系統,該第三自動開合門系統設置在該第一框架板、該第二框架板之間並分別與該第一框架板、該第二框架板及該底座連接,該第三自動開合門系統設置在該第三處理部與該第四處理部之間,該第三自動開合門系統在檢測到該外部設備時開啟,在未檢測到該外部設備時閉合。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202121838004.9U CN215466488U (zh) | 2021-08-06 | 2021-08-06 | 处理装置 |
CN202121838004.9 | 2021-08-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWM632520U true TWM632520U (zh) | 2022-10-01 |
Family
ID=79756920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110214420U TWM632520U (zh) | 2021-08-06 | 2021-12-03 | 處理裝置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN215466488U (zh) |
TW (1) | TWM632520U (zh) |
-
2021
- 2021-08-06 CN CN202121838004.9U patent/CN215466488U/zh active Active
- 2021-12-03 TW TW110214420U patent/TWM632520U/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN215466488U (zh) | 2022-01-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4494269B2 (ja) | 基板処理装置 | |
CN104517870B (zh) | 液处理装置 | |
US20200096257A1 (en) | Drying device for display panel | |
JP2009148699A (ja) | 基板処理装置 | |
TW202019571A (zh) | 晶圓清潔設備及晶圓生產線 | |
CN106711062B (zh) | 一种工艺反应腔体气流场的实现装置及其实现方法 | |
KR20130011927A (ko) | 기판 처리 장치 | |
WO2020087833A1 (zh) | 风刀及采用该风刀的干燥装置 | |
JP6495986B2 (ja) | 基板処理装置 | |
TWM632520U (zh) | 處理裝置 | |
KR20200113115A (ko) | 기판의 수직 연속 처리시스템에서의 기판 세정 및 건조장치 | |
TW529102B (en) | Liquid processing apparatus | |
WO2022160570A1 (zh) | 半导体光刻设备 | |
KR101074957B1 (ko) | 기판 건조장치 및 기판 건조방법 | |
CN212732862U (zh) | 一种光学膜高效干燥装置 | |
JP6789026B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
CN109659261B (zh) | 基板蚀刻设备及其处理系统 | |
CN107990634A (zh) | 干燥设备 | |
CN112595773A (zh) | 一种降低棒材漏磁探伤检测误报的方法及其装置 | |
EP2796616B1 (en) | Pinhole camera and web monitoring beam comprising pinhole camera | |
CN113145577A (zh) | 玻管缺陷检测系统及其清洁装置 | |
CN106903116B (zh) | 一种表面清洁装置、温控台系统及表面清洁方法 | |
TWM628484U (zh) | 清潔裝置 | |
KR20210047360A (ko) | 유리 시트 가공 장치 및 방법 | |
JP2001358114A (ja) | 乾燥装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4K | Issue of patent certificate for granted utility model filed before june 30, 2004 |