JP2003017463A - 基板乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は基板４の乾燥処理により生じたミ
ストが乾燥処理後の基板に再付着するのを防止すること
ができる基板乾燥装置を提供することにある。 【解決手段】 乾燥処理槽２を有し、この乾燥処理槽内
に設けられた搬送ローラ３によって搬送される基板に、
エアーナイフ７から気体を噴射して基板を乾燥させる基
板乾燥装置において、上記乾燥処理槽側壁の上記気体の
噴射により生じる気体の流れ方向に、この気流の流れに
よって生じるミストを収容するトラップチャンバ１０を
設けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明はたとえば洗浄処理
された基板を乾燥処理する基板乾燥装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、液晶表示装置や半導体装置の
製造工程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの
基板に回路パタ−ンを形成するための成膜プロセスやフ
ォトプロセスがある。これらのプロセスにおいては、上
記基板を所定の薬液で処理した後、純水などの洗浄液で
洗浄処理するということが行われる。基板の洗浄処理と
しては、たとえば超音波振動を与えた洗浄液によって洗
浄するメガソニック洗浄などが行われる。

【０００３】上記基板を洗浄液で洗浄処理したならば、
この基板にエアーナイフによって気体を噴射し、基板に
付着した洗浄液を乾燥除去する乾燥処理が行われる。

【０００４】エアーナイフは、基板の乾燥効率を向上さ
せるために、基板に対して所定角度で気体を噴射するよ
うに設けられている。つまり、エアーナイフは噴射され
る気体によって基板に付着した洗浄液を基板の搬送方向
後端側に押し流し、その後端側の一方の角部から排出さ
せるように設けられている。

【０００５】上記基板に対して行うフォトプロセスでの
薬液処理、洗浄液による洗浄処理及びエアーナイフによ
る乾燥処理は上記基板の各処理を行う処理槽内部に設け
られた搬送ローラなどの搬送手段で上記基板を搬送しな
がら順次連続的に行うことになる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板に付着
した洗浄液の一部は、気体の噴射によって基板から除去
される際、ミストとなって飛散する。基板から飛散した
ミストは気体の噴射方向に位置する乾燥処理槽の側壁内
面に付着したり、その内面で反射することがある。側壁
内面に付着したミストの一部は乾燥処理槽内部に生じる
気流により再浮遊することがある。また、上記乾燥処理
槽側壁内面で反射したミストは乾燥処理槽内で浮遊する
ことがある。

【０００７】その結果、乾燥処理槽内を浮遊するミスト
が乾燥処理された基板に再付着し、汚れの原因となる。

【０００８】この発明は、基板の乾燥処理によって発生
したミストが基板に再付着するのを防止することができ
る基板乾燥装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、洗浄
処理した基板を乾燥処理する基板乾燥装置において、乾
燥処理槽と、この乾燥処理槽の内部に設けられ、上記基
板を所定の方向に搬送する搬送手段と、上記乾燥処理槽
の内部に設けられ、上記基板の搬送方向に対して所定の
角度で傾斜するとともに上記搬送方向と逆方向に気体を
噴射するエアーナイフと、上記乾燥処理槽の一側に設け
られ上記エアーナイフから上記基板に向けて噴射された
気体が流入するトラップチャンバとを具備したことを特
徴とする基板乾燥装置にある。

【００１０】請求項２の発明は、上記トラップチャンバ
には、エアーナイフから噴射された気体を排出する排気
手段を設けたことを特徴とする請求項１記載の基板乾燥
装置にある。

【００１１】請求項３の発明は、上記排気手段は、上記
エアーナイフから噴射されて上記トラップチャンバに流
入する気体の流れ方向とほぼ同じ方向に設けられている
ことを特徴とする請求項１記載の基板乾燥装置にある。

【００１２】この発明によれば、エアーナイフから噴射
された気体が流入するトラップチャンバを乾燥処理槽に
設けたため、気体の噴射により発生したミストは上記気
体とともにこのトラップチャンバに流入するため、乾燥
処理された基板に付着するのを防止することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながらこの発
明の一実施の形態を説明する。

【００１４】図１と図２は基板の処理装置を示し、この
処理装置は隣接して設けられた洗浄処理槽１と基板乾燥
装置を構成する乾燥処理槽２を備えている。洗浄処理槽
１、乾燥処理槽２の内部及びこれら処理槽１、２の前後
には搬送手段を構成する複数の搬送ローラ３が所定間隔
で回転可能に配設されている。

【００１５】各搬送ローラ３は図示しない駆動手段によ
って回転駆動されるようになっており、それによって半
導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板などの基板４
を図１、２に矢印で示すようにその長手方向に搬送する
ようになっている。

【００１６】上記洗浄処理槽１内には、搬送ローラ３に
よって搬送される基板４の上方と下方にそれぞれ第１の
超音波洗浄器５と第２の超音波洗浄器６とが基板４の搬
送方向に沿って所定の間隔で配設されている。

【００１７】各超音波洗浄器５、６の長さ寸法は基板４
の幅寸法の半分よりも長く設定され、長さ方向一端部を
基板４の幅方向に対して重合させており、それによって
各一対の超音波洗浄器５、６は基板４の上面と下面との
幅方向全長にわたって超音波振動が与えられた純水など
の処理液によって洗浄処理されるようになっている。

【００１８】なお、洗浄処理槽１内には、一対の超音波
洗浄器５、６を設ける代わりに、基板４の幅寸法と同等
若しくはそれ以上の長さの１つの超音波洗浄器を設ける
ようにしてもよい。

【００１９】洗浄処理槽１内の超音波洗浄器５、６より
も基板４の搬送方向下流側、つまり乾燥処理槽２には、
図２に示すように、搬送される基板４の上面と下面とに
対向して一対のエアーナイフ７が配設されている。

【００２０】図１に示すように、エアーナイフ７は、搬
送される基板４の上方と下方に、その長手方向を基板４
の搬送方向に対して所定の角度で傾斜して配置されてい
る。この傾斜角度を図１に角度θ_１ で示す。このエア
ーナイフ７は、角度θ_１ で傾斜した状態で基板４の幅
方向全長にわたる長さを有し、上記基板４の上面と下面
に対向するそれぞれの端面には長手方向のほぼ全長にわ
たるスリット８が開口形成されている。このスリット８
は図２に示すように基板４の搬送方向と逆方向に所定の
角度θ_２ で傾斜している。

【００２１】つまり、各エアーナイフ７のスリット８か
らは、上記基板４の上面と下面とに、所定の圧力に加圧
された空気や不活性ガスなどの気体が基板４の搬送方向
と逆方向にθ_２ の角度で、しかも搬送方向に対してθ
_１ の角度で噴射されるようになっている。

【００２２】図１に示すように、一対のエアーナイフ７
から噴射される気体の流れ方向に位置する上記乾燥処理
槽２の一側壁には、矩形状の第１の排気孔９が、高さ方
向中心を搬送ローラ３とほぼ同じ高さにして形成されて
いる。そして、上記乾燥処理槽２の一側壁の外面には、
上記第１の排気孔９を覆うようにトラップチャンバ１０
が設けられている。このトラップチャンバ１０はエアー
ナイフ７から基板４の上下面に噴射された気体が流れる
方向Ｘと平行に形成された第１の側壁１０ａと、この第
１の側壁１０ａに対してほぼ直角な第２の側壁１０ｂを
有する。なお、上記第１の排気孔９の形状は矩形状に限
定されるものではなく、たとえば円形であってもよい。

【００２３】上記トラップチャンバ１０の第２の側壁１
０ｂには、第２の排気孔１１が形成されている。この第
２の排気孔１１に対向する第２の側壁１０ｂの外面には
排気手段を構成する排気ファン１２が設けられている。
この排気ファン１２には排気管１３が接続されている。
したがって、排気ファン１２が作動すれば、トラップチ
ャンバ１０を通じて乾燥処理槽２内が排気されるように
なっている。

【００２４】なお、洗浄処理槽１には搬入口１５、乾燥
処理槽２には搬出口１６、これらの槽１、２を区画する
仕切り壁１７には図示しない通口が形成されていて、こ
れら搬入口１５、搬出口１６及び通口はそれぞれ図示し
ないゲート弁によって開閉されるようになっている。

【００２５】つぎに、上記構成の乾燥処理装置によって
基板４を乾燥処理する際の作用について説明する。

【００２６】洗浄処理槽１の上流側で薬液などによって
所定の処理が行われた基板４は、搬送ローラ３によって
洗浄処理槽１に搬入される。洗浄処理槽１内では、第
１、第２の超音波洗浄器５、６から基板４の上下面に向
けて超音波振動が与えられた洗浄液が噴射される。それ
によって、基板４の上下面は洗浄液によって超音波洗浄
されることになる。

【００２７】超音波洗浄器５、６で洗浄処理された基板
４は、乾燥処理槽２内に搬入され、一対のエアーナイフ
７間を通過する。エアーナイフ７からは基板４の上面と
下面とに所定の圧力に加圧された気体が基板４の搬送方
向と逆方向の角度θ_２ で、しかも搬送方向に対して角
度θ_１ で傾斜して噴射される。

【００２８】噴射された気体は基板４の上面と下面に衝
突し、上記基板４の上面と下面に沿って図１に示す矢印
Ｘ方向に流れることになる。

【００２９】それによって、基板４の上面と下面に付着
した上記超音波洗浄器５、６からの洗浄液は、基板４の
上面と下面を押し流され、基板４の搬送方向後端側の一
方の角部から排出除去される。

【００３０】基板４の上面と下面から除去された洗浄液
の一部はミストとなり、上記気体の流れ方向に勢いよく
飛ばされる。つまり、基板４から発生するミストは上記
気体とともに矢印Ｘ方向に流れ、上記トラップチャンバ
１０に流入することになる。上記トラップチャンバ１０
は上記気体の流れ方向に沿うように設けられているの
で、気体が上記トラップチャンバ１０に流入する際に乱
流は発生しづらい。そのため、上記ミストは上記トラッ
プチャンバ１０に円滑に流入することになる。

【００３１】上記トラップチャンバ１０に流入したミス
トは矢印Ｘ方向に流れ、トラップチャンバ１０の第２の
側壁１０ｂに設けられた排気ファン１２によって外部に
排出される。上記排気ファン１２は、トラップチャンバ
１０から排出される気体の流れ方向Ｘに対してほぼ直角
な第２の側壁１０ｂに設けられているのでトラップチャ
ンバ１０から排気ファン１２によって排出される気体に
も乱流が発生しづらい。そのため、乾燥処理槽２からト
ラップチャンバ１０に基体とともに流入したミストは排
気ファン１２によって円滑に排出される。

【００３２】さらに、乾燥処理槽２とトラップチャンバ
１０とを連通する第１の排気孔９は、その高さ方向中心
が搬送ローラ３とほぼ同じ高さに形成されている。その
ため、エアーナイフ７から基板４の上下面に角度
θ_１ 、θ_２ で噴射され、この基板４の上下面に沿っ
て矢印Ｘ方向に流れる気体は上記第１の排気孔９からト
ラップチャンバ１０内へ円滑に流入する。

【００３３】その結果、エアーナイフ７から噴射する気
体がその基体の流れ方向に位置する乾燥処理槽２の一側
壁内面に衝突しにくいから、そのことによっても乾燥処
理時に発生するミストが乾燥処理槽２内で浮遊して基板
４に再付着するのを防止できる。

【００３４】

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、乾燥処
理槽内で発生したミストが基板の板面に再付着するのを
防止することができるので、基板を汚染させることなく
乾燥処理することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施の形態に係る基板乾燥装置の
構成を示す概略図。

【図２】基板乾燥装置の構成を示す側面断面図。

【符号の説明】

２…乾燥処理槽 ３…搬送ローラ ４…基板 ７…エアーナイフ ８…スリット ９…第１の排気孔 １０…トラップチャンバ １１…第２の排気孔 １４…排気手段

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄処理した基板を乾燥処理する基板乾
   燥装置において、 乾燥処理槽と、 この乾燥処理槽の内部に設けられ、上記基板を所定の方
   向に搬送する搬送手段と、 上記乾燥処理槽の内部に設けられ、上記基板の搬送方向
   に対して所定の角度で傾斜するとともに上記搬送方向と
   逆方向に気体を噴射するエアーナイフと、 上記乾燥処理槽の一側に設けられ上記エアーナイフから
   上記基板に向けて噴射された気体が流入するトラップチ
   ャンバとを具備したことを特徴とする基板乾燥装置。
2. 【請求項２】 上記トラップチャンバには、エアーナイ
   フから噴射された気体を排出する排気手段を設けたこと
   を特徴とする請求項１記載の基板乾燥装置。
3. 【請求項３】 上記排気手段は、上記エアーナイフから
   噴射されて上記トラップチャンバに流入する気体の流れ
   方向とほぼ同じ方向に設けられていることを特徴とする
   請求項１記載の基板乾燥装置。