JP2000058501A

JP2000058501A - 基板処理装置

Info

Publication number: JP2000058501A
Application number: JP10228855A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Taniguchi; 竹志谷口; Mitsuo Ogasawara; 光雄小笠原; Yoshifumi Nishikiuchi; 栄史錦内
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1998-08-13
Filing date: 1998-08-13
Publication date: 2000-02-25
Anticipated expiration: 2018-08-13
Also published as: JP3745903B2

Abstract

(57)【要約】【課題】処理チャンバーから他のチャンバーに処理液
が漏れ出た場合に、その処理液が乾燥してパーティクル
となることを抑える。【解決手段】基板処理装置は、エッチング処理チャン
バー３と、入口コンベアチャンバー２と、洗浄液供給パ
イプ２１とを備えている。エッチング処理チャンバー３
は、基板に薬液を供給して基板に処理を施すチャンバー
であって、基板が通過する基板搬入口３ａを有してい
る。入口コンベアチャンバー２は、エッチング処理チャ
ンバー３に隣接して設けられエッチング処理チャンバー
３へ基板を搬出するチャンバーであって、基板搬入口３
ａと連通する基板搬出口３ｂを有している。洗浄液供給
パイプ２１は、入口コンベアチャンバー２の内壁に純水
を供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、各種基板の処理装
置、特に、液晶表示器用基板等のＦＰＤ（ＦｌａｔＰ
ａｎｅｌＤｉｓｐｌａｙ）用基板、フォトマスク用基
板、プリント基板、半導体基板などに対して薬液処理チ
ャンバーにおいて薬液処理を施す基板処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に基板処理装置は、基板に処理液を
供給して処理を施したり、基板を乾燥させたりする複数
の処理チャンバーを有している。そして、これらの処理
チャンバーに基板を搬送して順に一連の処理を行わせ
る。図１０に基板処理装置の一例を示す。ここに示され
た基板処理装置１は、入口コンベアチャンバー２と、エ
ッチング処理チャンバー３と、水洗処理チャンバー４
と、乾燥搬出チャンバー５とから構成される。ここで
は、表面上に薄膜が形成された基板Ｗが基板処理装置１
に運ばれてくると、まず基板Ｗは入口コンベアチャンバ
ー２に搬入される。その後、基板Ｗは搬送ローラ６によ
ってエッチング処理チャンバー３に移動する。エッチン
グ処理チャンバー３では、エッチング用の薬液が基板Ｗ
に噴射され、基板表面上の薄膜が食刻される。このよう
にエッチングされた基板Ｗは、次に水洗処理チャンバー
４に送られて、基板Ｗに付着した薬液が洗い流される。
そして、水洗処理を終えた基板Ｗは、乾燥搬出チャンバ
ー５でエアー吹き付けによる乾燥処理が行われた後に搬
出される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記のエッチング処理
チャンバー３においては、基板Ｗに噴射される薬液とし
て強い酸性を有するものが用いられており、この薬液が
高温高圧で基板Ｗに吹き付けられている。このため、エ
ッチング処理中はもちろん、処理後においてもエッチン
グ処理チャンバー３内には薬液のミストが存在する。エ
ッチング処理チャンバー３の上部からは内部の雰囲気が
排気されてはいるが、図１１に示すように、エッチング
処理チャンバー３の基板搬入口３ａ及び入口コンベアチ
ャンバー２の基板搬出口２ａを通ってエッチング処理チ
ャンバー３内の薬液のミストｍが入口コンベアチャンバ
ー２に侵入することがある。このように薬液のミストｍ
が侵入してくると、これが入口コンベアチャンバー２の
内壁に付着し、その後乾燥して舞い上がりパーティクル
（汚染物質）となる。また、上記のように薬液が酸性を
有する場合は、付着した薬液が入口コンベアチャンバー
３内の金属を腐蝕させることもある。

【０００４】このエッチング処理チャンバーから入口コ
ンベアチャンバーへの薬液のミストの侵入を抑えるため
に、入口コンベアチャンバーの基板搬出口を開閉するシ
ャッターを設け、基板搬送中以外の間はシャッターを閉
めておくことも多く為されている。しかしながら、この
場合にも、シャッターの開閉動作により、わずかずつで
はあるが薬液がエッチング処理チャンバーから入口コン
ベアチャンバーへと持ち出され、基板搬出口付近に付着
する。そして、付着した液が乾燥して固形物が析出し、
装置が汚れることに加えこの固形物がパーティクルの原
因となる。

【０００５】本発明の課題は、複数のチャンバーからな
る基板処理装置において、処理チャンバーから他のチャ
ンバーに処理液が漏れ出た場合にも、漏れ出た処理液が
乾燥してパーティクルとなることを抑えることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る基板処理
装置は、第１チャンバーと、第２チャンバーと、洗浄液
供給手段とを備えている。第１チャンバーは、基板に処
理液を供給して基板に処理を施すチャンバーであって、
基板が通過する第１開口を有している。第２チャンバー
は、第１チャンバーに隣接して設けられ第１チャンバー
へ基板を搬出するチャンバーであって、第１開口と連通
する第２開口を有している。洗浄液供給手段は、第２チ
ャンバーの内壁に洗浄液を供給する手段である。なお、
第１チャンバーと第２チャンバーとが１つの仕切り壁で
仕切られている場合には、仕切り壁に設けられた開口が
第１及び第２開口となる。

【０００７】ここでは、基板は、第２チャンバーから第
１チャンバーへと搬送されて、第１チャンバーにおいて
処理液が供給されて処理が施される。両チャンバーは第
１及び第２開口により連通しているため、第１チャンバ
ー内の処理液が第２チャンバーに侵入することがある。
この処理液は第２チャンバー内に侵入して内壁に付着す
るが、これは洗浄液供給手段から第２チャンバーの内壁
に供給される洗浄液によって洗い流される。このため、
本装置においては、第１チャンバーから第２チャンバー
に処理液が漏れ出た場合にも、漏れ出た処理液が乾燥し
てパーティクルとなることが抑えられる。

【０００８】請求項２に係る基板処理装置は、請求項１
に記載の装置であって、洗浄液供給手段は、第２チャン
バー内に供給口を有している。そして、洗浄液供給手段
は、この供給口から、第２開口の下方に位置する第２チ
ャンバーの内壁に対して洗浄液を吹き付ける。ここで
は、第２チャンバーの内壁のうち、第１チャンバーから
第２チャンバーに侵入してくる処理液が付着しやすい第
２開口の下方の部分に洗浄液を吹き付けているため、効
果的に第１チャンバーから第２チャンバーに漏れ出た処
理液を洗い流すことができる。

【０００９】請求項３に係る基板処理装置は、請求項１
又は２に記載の装置であって、第２チャンバーは、拡散
防止壁を有している。この拡散防止壁は、第２開口を通
って第１チャンバー内から第２チャンバー内に入ってく
る処理液あるいは処理液のミストが第２チャンバーの内
部において拡散することを防ぐものである。また、洗浄
液供給手段は、第２チャンバーの内壁及び拡散防止壁に
洗浄液を供給する。

【００１０】ここでは、拡散防止壁を設けているため、
主として第１チャンバーから雰囲気に混じって第２チャ
ンバーに侵入してくる処理液が第２チャンバー内で拡散
することを抑えることができる。そして、第２チャンバ
ーの内壁に加えて、この拡散防止壁に対しても洗浄液を
供給して付着した処理液を洗い流している。このよう
に、ここでは第２チャンバー内において処理液が付着す
る範囲を狭め、そこを洗浄している。このため、第１チ
ャンバーから侵入してくる処理液が効果的に洗い流さ
れ、乾燥して発生するパーティクルがより少なくなる。

【００１１】請求項４に係る基板処理装置は、請求項３
に記載の装置であって、第２チャンバーの内壁及び拡散
防止壁で囲まれる空間に洗浄液が所定量だけ貯留され
る。ここでは、第１チャンバーから侵入してきた処理液
が落下して付着しやすい第２チャンバーの内壁及び拡散
防止壁で囲まれる空間に、所定量の洗浄液を貯留してい
る。このように洗浄液を貯留しているため、この液面に
落下した処理液はより確実に洗い流される。

【００１２】請求項５に係る基板処理装置は、請求項４
に記載の装置であって、第２チャンバーの内壁及び拡散
防止壁で囲まれる空間に貯留される洗浄液は、この空間
と洗浄液供給手段との間を循環する。第１チャンバーか
ら第２チャンバーへと漏れ出る処理液の量が少ない場合
には、洗浄液供給手段から供給される洗浄液は繰り返し
使用することが可能である。ここでは、第２チャンバー
の内壁及び拡散防止壁で囲まれる空間に貯留される洗浄
液を使って、これを洗浄液供給手段から供給し、再び第
２チャンバーの内壁及び拡散防止壁で囲まれる空間に貯
留されている洗浄液に戻している。このように洗浄液を
循環させて使用するため、装置のランニングコストを抑
えることができる。

【００１３】請求項６に係る基板処理装置は、請求項３
から６のいずれかに記載の装置であって、拡散防止壁
は、側面と、底面とを有している。この拡散防止壁の底
面は、水平面に対して傾斜している。そして、洗浄液供
給手段は、底面の上部、あるいは底面の上部側の側面か
ら洗浄液を供給する。ここでは、拡散防止壁の底面が傾
いているため、洗浄液供給手段がこの底面の上部あるい
は底面の上部側の側面に洗浄液を供給すれば、洗浄液が
底面を流れて底面全体を洗い流す。すなわち、拡散防止
壁の底面全体を洗浄するために、洗浄液供給手段が拡散
防止壁の底面全体に対して洗浄液を供給する必要はな
い。したがって、洗浄液供給手段の構造を簡易化するこ
とができるとともに、洗浄液の供給量も抑えることがで
きる。

【００１４】なお、この装置の場合には、洗浄液を排出
する排出部を拡散防止壁の底面の下部に設けることが望
ましい。請求項７に係る基板処理装置は、第１チャンバ
ーと、第２チャンバーと、拡散防止室とを備えている。
第１チャンバーは、基板に処理液を供給して処理を施す
チャンバーであって、基板が通過する第１開口を有して
いる。第２チャンバーは、第１チャンバーに隣接して設
けられ第１チャンバーへ基板を搬出するチャンバーであ
る。この第２チャンバーは、第１開口と連通する第２開
口を有している。拡散防止室は、第２チャンバー内に設
けられる室であって、第２開口近傍を覆う。この拡散防
止室は、基板が通る第３開口を有している。なお、第１
チャンバーと第２チャンバーとが１つの仕切り壁で仕切
られている場合には、仕切り壁に設けられた開口が第１
及び第２開口となる。

【００１５】ここでは、基板は、第２チャンバーから第
１チャンバーへと搬送されて、第１チャンバーにおいて
処理液が供給されて処理が施される。両チャンバーは第
１及び第２開口により連通しているため、第１チャンバ
ー内の処理液が第２チャンバーに侵入することがある。
しかし、本装置では、第２開口を通じて第２チャンバー
内に侵入してきた処理液は、拡散防止室に捕らえられ
る。これにより、第２チャンバー内で処理液が拡散され
ることが抑えられる。

【００１６】請求項８に係る基板処理装置は、請求項７
に記載の装置であって、洗浄液供給手段をさらに備えて
いる。この洗浄液供給手段は、拡散防止室の内壁に洗浄
液を供給する。ここでは、第１チャンバーから第２チャ
ンバーに侵入し拡散防止室に捕らえた処理液が、洗浄液
供給手段から供給される洗浄液によって洗い流される。

【００１７】請求項９に係る基板処理装置は、請求項８
に記載の装置であって、拡散防止室に洗浄液が所定量だ
け貯留される。ここでは、拡散防止室に所定量の洗浄液
を貯留しているため、この液面に落下した処理液はより
確実に洗い流される。請求項１０に係る基板処理装置
は、請求項９に記載の装置であって、拡散防止室に貯留
される洗浄液は、拡散防止室と洗浄液供給手段との間を
循環する。

【００１８】ここでは、洗浄液を循環させて使用するた
め、装置のランニングコストを抑えることができる。請
求項１１に係る基板処理装置は、請求項８から１０のい
ずれかに記載の装置であって、拡散防止室は、側面と、
底面とを有している。拡散防止室の底面は、水平面に対
して傾斜している。そして、洗浄液供給手段は、底面の
上部、あるいは底面の上部側の側面から洗浄液を供給す
る。

【００１９】ここでは、拡散防止室の底面が傾いている
ため、洗浄液供給手段がこの底面の上部あるいは底面の
上部側の側面に洗浄液を供給すれば、洗浄液が底面を流
れて底面全体を洗い流す。すなわち、拡散防止室の底面
全体を洗浄するために、洗浄液供給手段が拡散防止室の
底面全体に対して洗浄液を供給する必要はない。したが
って、洗浄液供給手段の構造を簡易化することができる
とともに、洗浄液の供給量も抑えることができる。

【００２０】請求項１２に係る基板処理装置は、請求項
７から１１のいずれかに記載の装置であって、拡散防止
室内の雰囲気を排気する排気手段をさらに備えている。
ここでは、排気手段により拡散防止室内の雰囲気を排気
することにより、主として第１チャンバーから雰囲気に
混じって第２チャンバーに侵入してくる処理液が拡散防
止室を出て第２チャンバー内に拡散することを抑えるこ
とができる。また、第１チャンバーから拡散防止室内に
侵入した処理液を含んだ雰囲気が排気手段によって排気
されるので、拡散防止室内に留まる処理液の量が少なく
なる。

【００２１】請求項１３に係る基板処理装置は、請求項
１２に記載の装置であって、シャッターと、制御部とを
さらに備えている。シャッターは、第２開口を開閉す
る。制御部は、シャッターが第２開口を開けているとき
に、排気手段による拡散防止室内からの雰囲気の排気を
停止あるいは抑制させる。ここでは、シャッターを開け
ているときに拡散防止室内から雰囲気を排気すると第１
チャンバー内の処理液を含んだ雰囲気を拡散防止室に招
き入れてしまうことになるので、シャッター開時に排気
を停止あるいは抑制させている。これにより、第１チャ
ンバーから処理液を含んだ雰囲気を第２チャンバー内に
引き寄せることを抑制することができる。

【００２２】請求項１４に係る基板処理装置は、請求項
１から１２のいずれかに記載の装置であって、第２開口
を開閉するシャッターをさらに備えている。ここでは、
第２チャンバーから第１チャンバーへ基板を搬出すると
き以外のときにシャッターにより第２開口を閉めておけ
ば、第１チャンバーから第２チャンバーに侵入する処理
液の量を抑えることができる。

【００２３】なお、第１チャンバーから第２チャンバー
に処理液が漏れ出てパーティクルが発生した場合、シャ
ッターが開閉することにより汚染物質であるパーティク
ルが拡散する恐れがあるが、拡散防止室が第２開口近傍
を覆っているため、シャッターの開閉に伴うパーティク
ルの拡散は概ね拡散防止室内でおさまる。

【００２４】

【発明の実施の形態】［第１実施形態］＜装置の構成＞図１に本発明の一実施形態である基板処
理装置１を示す。基板処理装置１は、液晶表示器用のガ
ラスの基板Ｗ上に形成された薄膜にエッチングを施す装
置であって、主として、入口コンベアチャンバー２、エ
ッチング処理チャンバー３、水洗処理チャンバー４，及
び乾燥搬出チャンバー５と、各チャンバー２〜５に配備
される搬送ローラ６とから構成されている。そして、基
板Ｗは搬送ローラ６によって入口コンベアチャンバー２
から乾燥搬出チャンバー５に向かう搬送方向Ｄ（図１及
び図２の１点鎖線に沿った方向であり、図１の矢印Ｄの
方向）に沿って搬送される。

【００２５】なお、搬送ローラ６は、その長手方向が基
板Ｗの搬送方向Ｄに直交するようにそれぞれ配置されて
おり、基板Ｗを水平状態に保持しながら搬送する。こう
して、搬送ローラ６の上方に基板Ｗが通過する搬送経路
Ｐ（図１及び図２において１点鎖線で表示）が形成され
る。また、図２に、入口コンベアチャンバー２内に設け
られる洗浄液供給パイプ２１，２２及びその近傍の拡大
図を示す。この図２は、図１において２点鎖線で囲まれ
た部分IIを拡大したものである。これらの構成について
は後述する。

【００２６】＜装置の動作＞表面上に薄膜が形成された
基板Ｗが基板処理装置１に運ばれてくると、まず基板Ｗ
は入口コンベアチャンバー２に搬入される。その後、基
板Ｗは搬送ローラ６によってエッチング処理チャンバー
３に移動する。エッチング処理チャンバー３では、エッ
チング用の薬液が基板Ｗに噴射され、基板表面上の薄膜
が食刻される。このようにエッチングされた基板Ｗは、
次に水洗処理チャンバー４に送られて、基板Ｗに付着し
た薬液が洗い流される。そして、水洗処理を終えた基板
Ｗは、乾燥搬出チャンバー５でエアー吹き付けによる乾
燥処理が行われた後に搬出される。なお、これらの基板
搬送及び基板処理は、図示しない制御部からの指令によ
って行われる。

【００２７】＜各チャンバーの構成及び動作＞エッチン
グ処理チャンバー３には、図１に示すように、主とし
て、基板Ｗに薬液を噴射するスプレー３１、基板Ｗを搬
送ローラ６によって搬送経路Ｐに沿って揺動させるとき
に使用する位置センサー３３，３４、及びエッチングの
終点を検出する光学式のＥＰＳ（エンド・ポイント・セ
ンサー）３５が配置されている。このエッチング処理チ
ャンバー３内では、ＥＰＳ３５によってエッチングの終
了が自動的に検出されるが、それまでの間、基板Ｗは両
位置センサー３３，３４の間を往復動することによって
揺動しながらスプレー３１から薬液の噴射を受ける。

【００２８】水洗処理チャンバー４には、主として、上
部洗浄スプレー４１、下部洗浄スプレー４２、及び位置
センサー４３，４４が配置されている。上部及び下部洗
浄スプレー４１，４２は、基板Ｗに対して水洗の処理液
である純水を噴射する。位置センサー４３，４４は、水
洗処理チャンバー４内における基板Ｗの基板搬送方向Ｄ
に沿った位置を検出するセンサーである。エッチング処
理チャンバー３において薬液によるエッチングが施され
薬液が付着した状態の基板Ｗが、搬送ローラ６によって
水洗処理チャンバー４に送られてくると、基板Ｗは所定
の時間だけ両位置センサー４３，４４の間を行ったり来
たりの揺動を繰り返すが、このときに上部及び下部洗浄
スプレー４１，４２から基板Ｗに対して純水が噴射され
る。この純水が基板Ｗに接触衝突して、基板Ｗに付着し
ている薬液を基板Ｗから洗い流す。基板Ｗを洗浄し薬液
と混じり合って汚染された純水は、水洗処理チャンバー
４の下部から排出される。

【００２９】乾燥搬出チャンバー５には、基板Ｗにドラ
イエアーを噴射する上下エアーナイフ５１，５２が設け
られている。この乾燥搬出チャンバー５内では、水洗処
理チャンバー４での水洗処理後に基板Ｗに残留した純水
を両エアーナイフ５１，５２から噴射されるドライエア
ーにより吹き飛ばし、基板Ｗを乾燥させる。入口コンベ
アチャンバー２は、エッチング処理チャンバー３に隣接
する垂直面である内壁後面２ｂと、内壁後面２ｂの下端
からエッチング処理チャンバー３側とは反対側に斜め下
方に延びる内壁底面後部２ｃと、基板をエッチング処理
チャンバー３に搬出するために内壁後面２ｂに開けられ
た基板搬出口２ａとを有している。基板搬出口２ａは、
エッチング処理チャンバー３の内壁前面３ｂに開けられ
た基板搬入口３ａと連通している。これら基板搬出口２
ａ及び基板搬入口３ａの内面には、基板が通る細長い穴
の開いた筒状のつなぎ部材８が固定される。また、入口
コンベアチャンバー２は、後部において、基板搬送経路
Ｐよりも下方の空間が拡散防止壁２５によって前後に分
離されている。この拡散防止壁２５は、内壁底面後部２
ｃから垂直に立ち上がり、先端が搬送ローラ６の間に位
置する。この拡散防止壁２５のすぐ後側（エッチング処
理チャンバー３側）には、内壁底面後部２ｃに開けられ
た洗浄液排出口２ｅが配置されており、この洗浄液排出
口２ｅには排水配管２７が接続されている。

【００３０】この入口コンベアチャンバー２内には、図
２に示すように、基板を搬送するための搬送ローラ６
と、洗浄液供給パイプ２１，２２と、シャッター７０と
が配備されている。洗浄液供給パイプ２１，２２は、内
壁後面２ｂと拡散防止壁２５との間であって、搬送ロー
ラ６よりも高さ位置が低い位置に、その長手方向が基板
の搬送方向に直交するように配置されている。これらの
洗浄液供給パイプ２１，２２には、図示しない洗浄液供
給源から純水が送られてくる。洗浄液供給パイプ２１に
は内壁後面２ｂに向けて複数の孔（供給口）が設けられ
ており、洗浄液供給パイプ２１はこれらの孔から斜め上
方に純水を吹き出す。洗浄液供給パイプ２２には拡散防
止壁２５に向けて複数の孔が設けられており、洗浄液供
給パイプ２２はこれらの孔から斜め上方に純水を吹き出
す。

【００３１】シャッター７０は、搬送ローラ６と内壁後
面２ｂとの間であって洗浄液供給パイプ２１の上方の基
板搬出口２ａの近傍に配置されるもので、丸軸７１及び
板状の蓋部材７２からなり、図示しない駆動手段によっ
て丸軸７１の回転中心軸を中心に回転する。丸軸７１
は、その長手方向が基板Ｗの搬送方向Ｄに対して直交す
るように設けられるもので、入口コンベアチャンバー２
の内壁側面２ｄ（図７参照）に回転自在に支持される。
この丸軸７１には、２ヶ所に固定部材７３が固定されて
いる。蓋部材７２は、固定部材７３を介して丸軸７１に
回転不能に固定される。このシャッター７０は、駆動手
段によって９０゜だけ回転させられて、基板搬出口２ａ
を開閉する。

【００３２】＜装置の特徴＞本基板処理装置１では、基
板は、入口コンベアチャンバー２からエッチング処理チ
ャンバー３へと搬送されて、エッチング処理チャンバー
３において薬液が供給されて処理が施される。両チャン
バー２，３はつなぎ部材８により連通しているため、エ
ッチング処理チャンバー３内の薬液や薬液のミストを含
んだ雰囲気が入口コンベアチャンバー２に侵入すること
がある。この処理液は入口コンベアチャンバー２内に侵
入して内壁後面２ｂ、内壁底面後部２ｃ、拡散防止壁２
５などに付着するが、これは洗浄液供給パイプ２１，２
２から吹き出される純水によって洗い流される。このた
め、本装置１においては、エッチング処理チャンバー３
から入口コンベアチャンバー２に薬液が漏れ出た場合に
も、漏れ出た薬液が乾燥してパーティクルとなることが
抑えられる。

【００３３】また、本基板処理装置１では、入口コンベ
アチャンバー２に拡散防止壁２５を設けているため、エ
ッチング処理チャンバー３から雰囲気に混じって入口コ
ンベアチャンバー２に侵入してくる薬液のミストが入口
コンベアチャンバー２内で拡散防止壁２５よりも前方に
拡散することを抑えることができる。このように、ここ
では入口コンベアチャンバー２内において薬液が付着す
る範囲を狭め、そこを純水により洗浄しており、エッチ
ング処理チャンバー３から侵入してくる薬液が効果的に
洗い流される。

【００３４】また、本基板処理装置１では、入口コンベ
アチャンバー２から基板Ｗを搬出しエッチング処理チャ
ンバー３に基板Ｗを搬入するときには、シャッター７０
により基板搬出口２ａを開け、エッチング処理チャンバ
ー３内において基板Ｗに薬液処理を施すときにはシャッ
ター７０で基板搬出口２ａを閉めるように制御が行われ
る。制御部によるこのような制御により、エッチング処
理チャンバー３内で基板Ｗに薬液処理を行っているとき
に、エッチング処理チャンバー３内の薬液を含んだ雰囲
気が入口コンベアチャンバー２に侵入することが抑えら
れている。

【００３５】なお、ここでは薬液を洗浄する媒体として
純水を洗浄液供給パイプ２１，２２から吹き出させてい
るが、他の洗浄液を使用することもできる。［第２実施形態］上記第１実施形態においては、図２に
示すような拡散防止壁２５を設けることによって、エッ
チング処理チャンバー３から雰囲気に混じって入口コン
ベアチャンバー２に侵入してくる薬液のミストが入口コ
ンベアチャンバー２内で拡散することを抑えているが、
図３に示すような樋１２５により入口コンベアチャンバ
ー２の基板搬出口２ａの下方の空間を囲っても良い。

【００３６】樋１２５は、搬送経路Ｐの下方にて、図３
の紙面垂直方向に延びて設けられている。そして、樋１
２５は、入口コンベアチャンバー２内で最後端にある搬
送ローラ６と洗浄液供給パイプ２２との間を垂直に延び
る垂直壁１２５ａと、垂直壁１２５ａの下端から搬送方
向下流に向かって下方に傾斜している第１傾斜壁１２５
ｂとを有し、第１傾斜壁１２５ｂの搬送方向下流側で洗
浄液供給パイプ２１の下方には搬送方向下流に向かって
上方に傾斜している第２傾斜壁１２５ｃを有している。

【００３７】また、第１傾斜壁１２５ｂと第２傾斜壁１
２５ｃとが形成する谷状部分の底部に洗浄液排出口２ｆ
が開けられており、この洗浄液排出口２ｆに排水配管１
２７が接続されている。ここで、エッチング処理チャン
バー３内の薬液や薬液のミストを含んだ雰囲気が入口コ
ンベアチャンバー２内に侵入すると、薬液が樋１２５の
内面や内壁後面２ｂに付着する。しかし、付着した薬液
は、洗浄液供給パイプ２１，２２から吹き出される純水
によって洗い流される。薬液を洗い流した純水は、第１
傾斜壁１２５ｂや第２傾斜壁１２５ｃを流れて、洗浄液
排出口２ｆを通って排水配管１２７に流れ込む。このた
め、本装置においては、エッチング処理チャンバー３か
ら入口コンベアチャンバー２に薬液が漏れ出た場合に
も、漏れ出た薬液が乾燥してパーティクルとなることが
抑えられる。

【００３８】また、本基板処理装置１では、入口コンベ
アチャンバー２に樋１２５を設けているため、エッチン
グ処理チャンバー３から雰囲気に混じって入口コンベア
チャンバー２に侵入してくる薬液のミストを樋１２５及
び内壁後面２ｂにより囲われた空間に概ね閉じこめるこ
とができ、この空間の外の入口コンベアチャンバー２内
の空間に拡散することを抑えることができる。このよう
に、ここでは入口コンベアチャンバー２内において薬液
が付着する範囲を狭め、そこを純水により洗浄してお
り、エッチング処理チャンバー３から侵入してくる薬液
が効果的に洗い流される。

【００３９】［第３実施形態］上記第１実施形態におい
ては、図２に示すような拡散防止壁２５を設けることに
よって、エッチング処理チャンバー３から雰囲気に混じ
って入口コンベアチャンバー２に侵入してくる薬液のミ
ストが入口コンベアチャンバー２内で拡散することを抑
えているが、図４及び図５に示すように、隔壁２２５を
設けて入口コンベアチャンバー２内の基板搬出口２ａ周
辺の空間に拡散防止室２ｇを形成させても良い。

【００４０】隔壁２２５は、内壁底面後部２ｃから垂直
に立ち上がる垂直部２２５ｃと、搬送経路Ｐの上方にお
いて垂直部２２５ｃの上端から水平方向に延びて端部が
内壁後面２ｂに固着されている水平部２２５ｄから構成
されている。この隔壁２２５の両側端部は、入口コンベ
アチャンバー２の内壁側面に固着されている。この隔壁
２２５を設けていることにより、隔壁２２５、内壁後面
２ｂ、及び内壁底面後部２ｃによって囲われる拡散防止
室２ｇが、入口コンベアチャンバー２内に形成される。
垂直部２２５ｃには、基板を通過させるための基板通過
口２２５ａが開けられている。水平部２２５ｄには、円
孔２２５ｂが開けられている。拡散防止室２ｇ内の雰囲
気は、この円孔２２５ｂに接続されている排気配管２２
８から排気される。排気配管２２８には、ダンパー２２
９が組み込まれている。

【００４１】また、隔壁２２５のすぐ後側（エッチング
処理チャンバー３側）には、内壁底面後部２ｃに開けら
れた洗浄液排出口２ｅが配置されており、この洗浄液排
出口２ｅには循環配管２２７が接続されている。そし
て、図４あるいは図５に示すように、拡散防止室２ｇの
搬送経路Ｐよりも下方の空間２ｈには、洗浄液供給パイ
プ２１，２２から供給された純水が所定量だけ貯留され
ている。この貯留されている純水は、図示しないポンプ
等の純水循環手段によって、洗浄液供給パイプ２１，２
２に供給される。すなわち、純水は、洗浄液供給パイプ
２１，２２から内壁後面２ｂ及び隔壁２２５の垂直部２
２５ｃに吹き付けられた後に空間２ｈに流れ込み、この
空間２ｈから循環配管２２７を通って再び洗浄液供給パ
イプ２１，２２に供給される。

【００４２】排気配管２２８に組み込まれたダンパー２
２９は、以下のようにシャッター７０と連動して作動さ
せられる。エッチング処理チャンバー３内において基板
Ｗに薬液処理を施しているときにはシャッター７０で基
板搬出口２ａが閉められるが、このときには、図４に示
すようにダンパー２２９は開の状態とされる。入口コン
ベアチャンバー２から基板Ｗを搬出しエッチング処理チ
ャンバー３に基板Ｗを搬入するときには、シャッター７
０により基板搬出口２ａが開けられるが、このときに
は、図５に示すようにダンパー２２９は閉の状態とされ
る。なお、排気配管２２８は、図示しない排気手段へと
つながっている。

【００４３】ここでは、エッチング処理チャンバー３内
の薬液や薬液のミストを含んだ雰囲気が入口コンベアチ
ャンバー２に侵入すると、この処理液は入口コンベアチ
ャンバー２内に侵入して内壁後面２ｂ、隔壁２２５等に
付着するが、これは洗浄液供給パイプ２１，２２から吹
き出される純水によって洗い流される。このため、本装
置においては、エッチング処理チャンバー３から入口コ
ンベアチャンバー２に薬液が漏れ出た場合にも、漏れ出
た薬液が乾燥してパーティクルとなることが抑えられ
る。

【００４４】また、ここでは隔壁２２５を設けているた
め、入口コンベアチャンバー２内に侵入してきた薬液の
ミストが拡散防止室２ｇ以外の入口コンベアチャンバー
２の搬送経路Ｐよりも上方の空間に拡散することも抑え
られる。また、ここでは拡散防止室２ｇの下部空間２ｈ
に所定量の純水を貯留しているため、この液面に落下し
た薬液は確実に洗い流される。

【００４５】また、ここでは純水を循環させて使用する
ため、ランニングコストが抑えられている。また、ここ
では、拡散防止室２ｇ内の雰囲気を排気配管２２８から
排気することにより、入口コンベアチャンバー２に侵入
してきたエッチング処理チャンバー３内の薬液のミスト
を含んだ雰囲気が排気される。この排気によって、図４
において白抜きの矢印Ｆ１で示すような、基板通過口２
２５ａを通って拡散防止室２ｇ内へと入口コンベアチャ
ンバー２内の他の空間から流入する雰囲気の流れが発生
する。この矢印Ｆ１の雰囲気の流れは、拡散防止室２ｇ
内の雰囲気が入口コンベアチャンバー２の隔壁２２５よ
りも前方の空間に拡散することを抑制する。さらに、拡
散防止室２ｇ内に侵入した薬液のミストを含んだ雰囲気
が排気されるので、拡散防止室２ｇ内に付着する薬液の
量が少なくなる。

【００４６】また、ここでは、エッチング処理チャンバ
ー３内において基板Ｗに薬液処理を施しているときに
は、図４に示すように、シャッター７０で基板搬出口２
ａを閉めるとともにダンパー２２９を開の状態として拡
散防止室２ｇ内の雰囲気を排気している。これにより、
上記のように矢印Ｆ１の雰囲気の流れが生じ、拡散防止
室２ｇ内の雰囲気が入口コンベアチャンバー２の隔壁２
２５よりも前方の空間に拡散することが抑制される。そ
して、入口コンベアチャンバー２から基板Ｗを搬出しエ
ッチング処理チャンバー３に基板Ｗを搬入するときに
は、図５に示すように、シャッター７０により基板搬出
口２ａを開けるとともにダンパー２２９は閉の状態とし
て拡散防止室２ｇ内からの雰囲気の排気を停止あるいは
抑制させている。これにより、エッチング処理チャンバ
ー３内の薬液を含んだ雰囲気が拡散防止室２ｇに流入す
ることが抑えられる。

【００４７】また、拡散防止室２ｇ内でパーティクルが
発生した場合にはシャッター７０が開閉することにより
汚染物質であるパーティクルが飛散する恐れがあるが、
拡散防止室２ｇを設けているため、このパーティクルが
入口コンベアチャンバー２内の隔壁２２５よりも前方の
空間に拡散することは殆どない。そして、パーティクル
が発生しても、このパーティクルは拡散防止室２ｇ内か
ら排気されるか純水により洗い流される。

【００４８】［第４実施形態］上記第３実施形態におい
ては、図４及び図５に示すような隔壁２２５によって入
口コンベアチャンバー２内に拡散防止室２ｇを形成して
いるが、図６から図８に示す隔壁３２５によって拡散防
止室２ｉを形成して更に洗浄液供給パイプ３２６を配備
しても良い。

【００４９】隔壁３２５は、垂直部３２５ｃと、水平部
３２５ｄと、底面部３２５ｅと、側面部３２５ｇとから
構成されている。垂直部３２５ｃは、入口コンベアチャ
ンバー２内で最後端にある搬送ローラ６とその前にある
搬送ローラ６との間を垂直に延びている。水平部３２５
ｄは、搬送経路Ｐの上方において垂直部３２５ｃの上端
から水平方向に延びて、端部が内壁後面２ｂに固着され
ている。この垂直部３２５ｃには、基板を通過させるた
めの基板通過口３２５ａが開けられている。この水平部
３２５ｄには、円孔３２５ｂが開けられている。拡散防
止室２ｉ内の雰囲気は、この円孔３２５ｂに接続されて
いる排気配管２２８から排気される。排気配管２２８に
は、ダンパー２２９が組み込まれている。

【００５０】底面部３２５ｅは、搬送経路Ｐの下方であ
って洗浄液供給パイプ２１，２２及び後述する洗浄液供
給パイプ３２６の下方において垂直部３２５ｃの下端か
ら基板搬送方向下流側（エッチング処理チャンバー３
側）に延びて、後端部が内壁後面２ｂに固着されてい
る。底面部３２５ｅは、図８に示すように、正面視にお
いて角度θだけ傾斜している。また、底面部３２５ｅの
下端近傍には、円筒状の窪み３２５ｆが形成されてい
る。この窪み３２５ｆの下端には排水チューブ３２７が
接続されている。

【００５１】側面部３２５ｇは、図７及び図８に示すよ
うに、垂直部３２５ｃ、水平部３２５ｄ、底面部３２５
ｅ、及び入口コンベアチャンバー２の内壁後面２ｂによ
り囲われる空間の側面を塞ぐ長方形の板部材であり、四
辺が、垂直部３２５ｃ、水平部３２５ｄ、底面部３２５
ｅ、及び入口コンベアチャンバー２の内壁後面２ｂに固
着されている。

【００５２】このような隔壁３２５を設けていることに
より、隔壁３２５及び内壁後面２ｂによって囲われる拡
散防止室２ｉが入口コンベアチャンバー２内に形成され
る。拡散防止室２ｉ内には、洗浄液供給パイプ２１，２
２に加えて、洗浄液供給パイプ３２６が配備されてい
る。この洗浄液供給パイプ３２６は、洗浄液供給パイプ
２１，２２の下方であって隔壁３２５の底面部３２５ｅ
の上部の上方に配置されており、基板搬送方向に沿って
延びている。洗浄液供給パイプ３２６には基板搬送方向
に沿って複数の小孔３２６ａが開けられており、洗浄液
供給パイプ３２６はこの小孔３２６ａから純水を隔壁３
２５の底面部３２５ｅに落下させる。底面部３２５ｅに
落下した純水は、底面部３２５ｅが傾いているため、図
７の白抜きの矢印Ｆ２のように流れて、最終的には窪み
３２５ｆから排水チューブ３２７に流れて排水される。
一方、洗浄液供給パイプ２１，２２から内壁後面２ｂ及
び隔壁３２５の垂直部３２５ｃに吹き付けられた純水
は、これらに付着した薬液を洗い流して、窪み３２５ｆ
から排水チューブ３２７に流れて排水される。

【００５３】ここでは、エッチング処理チャンバー３内
の薬液や薬液のミストを含んだ雰囲気が入口コンベアチ
ャンバー２に侵入すると、この処理液は入口コンベアチ
ャンバー２内に侵入して内壁後面２ｂ、隔壁３２５等に
付着するが、これは洗浄液供給パイプ２１，２２及び洗
浄液供給パイプ３２６から吐出される純水によって洗い
流される。そして、ここでは隔壁３２５の底面部３２５
ｅが傾いているため、洗浄液供給パイプ３２６からこの
底面部３２５ｅの上部に供給された純水は、傾斜に沿っ
て流れて底面部３２５ｅ全体を洗い流す。このように、
隔壁３２５の底面部３２５ｅを傾斜させているため、洗
浄液供給パイプ３２６から底面部３２５ｅの上部に純水
を吐出させるだけで、底面部３２５ｅの全面を洗い流す
ことができる。

【００５４】なお、ここでは洗浄液供給パイプ３２６は
純水を隔壁３２５の底面部３２５ｅに落下させている
が、側面部３２５ｇの底面部３２５ｅの上端とつながっ
ている部分に洗浄液供給パイプ３２６から純水を吹き出
させても良い。［第５実施形態］上記第４実施形態の隔壁３２５の底面
部３２５ｅに図９に示すような貯留壁３２５ｈを設け
て、拡散防止室２ｉの下部に所定量の純水を貯留させる
ようにしても良い。

【００５５】貯留壁３２５ｈは、隔壁３２５の底面部３
２５ｅから上方に延びる板部材であって、両端がそれぞ
れ入口コンベアチャンバー２の内壁後面２ｂ、隔壁３２
５の垂直部３２５ｃに固着されている。貯留壁３２５ｈ
は、底面部３２５ｅの傾斜に沿って複数設けられてお
り、その上端は上側に隣接する貯留壁３２５ｈの下端よ
りも高い位置にある。このため、洗浄液供給パイプ３２
６から供給された純水が貯留壁３２５ｈを超えてオーバ
ーフローしている状態にあれば、平面視において貯留壁
３２５ｈ間には必ず純水の液面が存在することになる
（図９参照）。

【００５６】ここでは拡散防止室２ｉの下部空間に所定
量の純水が貯留されるため、この液面に落下した薬液は
確実に洗い流される。なお、本実施形態では複数の貯留
壁３２５ｈを設けたが、底面部３２５ｅの傾斜方向の窪
み３２５ｆ直前に１つの貯留壁３２５ｈを設けるだけで
もよい。また、本実施形態の基板処理装置では基板Ｗを
水平状態に保持しながら搬送するが、基板を搬送方向を
軸にして傾斜させた状態で保持して搬送してもよい。

【００５７】

【発明の効果】本発明では、第１チャンバー内の処理液
が第２チャンバーに侵入して内壁に付着した場合にも、
洗浄液供給手段から第２チャンバーの内壁に洗浄液が供
給されてこれが洗い流される。また、別の本発明では、
第２開口を通じて第２チャンバー内に侵入してきた処理
液は拡散防止室に捕らえられるため、第２チャンバー内
で処理液が拡散されることが抑えられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態における基板処理装置の概
略図。

【図２】図１のII部拡大図。

【図３】第２実施形態の洗浄液供給パイプ周辺の縦断面
図。

【図４】第３実施形態の洗浄液供給パイプ周辺の縦断面
図。

【図５】第３実施形態の洗浄液供給パイプ周辺の縦断面
図。

【図６】第４実施形態の洗浄液供給パイプ周辺の縦断面
図。

【図７】図６のVII−VII矢視断面図。

【図８】図６のVIII−VIII矢視断面図。

【図９】第５実施形態の隔壁の横断面図。

【図１０】従来の基板処理装置の概略図。

【図１１】図１０のＡ部拡大図。

【符号の説明】

１基板処理装置２入口コンベアチャンバー（第２チャンバー）２ａ基板搬出口（第２開口）２ｂ内壁後面（内壁）２ｃ内壁底面後部（内壁）２ｇ拡散防止室２ｉ拡散防止室３エッチング処理チャンバー（第１チャンバー）３ａ基板搬入口（第１開口）２１，２２洗浄液供給パイプ（洗浄液供給手段）２５拡散防止壁７０シャッター１２５樋（拡散防止壁）３２５隔壁３２５ｅ底面部（拡散防止壁の底面）３２５ｇ側面部（拡散防止壁の側面）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者錦内栄史滋賀県彦根市高宮町480番地の１大日本スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内Ｆターム(参考） 5F043 BB27 DD13 DD23 DD24 EE28 EE36

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板が通過する第１開口を有し、基板に処
理液を供給して処理を施す第１チャンバーと、前記第１チャンバーと隣接し、前記第１開口と連通する
第２開口を有し、前記第１チャンバーへ基板を搬出する
第２チャンバーと、第２チャンバーの内壁に洗浄液を供給する洗浄液供給手
段と、を備えた基板処理装置。
【請求項２】前記洗浄液供給手段は、前記第２チャンバ
ー内に供給口を有しており、この供給口から前記第２開
口下方の第２チャンバーの内壁に対して洗浄液を吹き付
ける、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】前記第２チャンバーは、その内部において
前記第２開口を通って前記第１チャンバー内から入って
くる処理液あるいは処理液のミストが拡散することを防
ぐための拡散防止壁を有しており、前記洗浄液供給手段は、前記第２チャンバーの内壁及び
前記拡散防止壁に洗浄液を供給する、請求項１又は２に
記載の基板処理装置。
【請求項４】前記第２チャンバーの内壁及び前記拡散防
止壁で囲まれる空間に洗浄液が所定量だけ貯留される、
請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】前記第２チャンバーの内壁及び前記拡散防
止壁で囲まれる空間に貯留される洗浄液は、前記洗浄液
供給手段との間を循環する、請求項４に記載の基板処理
装置。
【請求項６】前記拡散防止壁は、側面と、水平面に対し
て傾斜した底面とを有しており、前記洗浄液供給手段は、前記底面の上部、あるいは前記
底面の上部側の側面から洗浄液を供給する、請求項３か
ら６のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項７】基板が通過する第１開口を有し、基板に処
理液を供給して処理を施す第１チャンバーと、前記第１チャンバーと隣接し、前記第１開口と連通する
第２開口を有し、前記第１チャンバーへ基板を搬出する
第２チャンバーと、前記第２チャンバー内に設けられ、基板が通る第３開口
を有し、前記第２開口近傍を覆う拡散防止室と、を備え
た基板処理装置。
【請求項８】前記拡散防止室の内壁に洗浄液を供給する
洗浄液供給手段をさらに備えた、請求項７に記載の基板
処理装置。
【請求項９】前記拡散防止室に洗浄液が所定量だけ貯留
される、請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】前記拡散防止室に貯留される洗浄液は、
前記洗浄液供給手段との間を循環する、請求項９に記載
の基板処理装置。
【請求項１１】前記拡散防止室は、側面と、水平面に対
して傾斜した底面とを有しており、前記洗浄液供給手段は、前記底面の上部、あるいは前記
底面の上部側の側面から洗浄液を供給する、請求項８か
ら１０のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１２】前記拡散防止室内の雰囲気を排気する排
気手段をさらに備えた、請求項７から１１のいずれかに
記載の基板処理装置。
【請求項１３】前記第２開口を開閉するシャッターと、
前記シャッターが前記第２開口を開けているときに前記
排気手段による前記拡散防止室内からの雰囲気の排気を
停止あるいは抑制させる制御部とをさらに備えた、請求
項１２に記載の基板処理装置。
【請求項１４】前記第２開口を開閉するシャッターをさ
らに備えた、請求項１から１２のいずれかに記載の基板
処理装置。