JP3290910B2 - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示器（ＬＣ
Ｄ）等の被処理基板を洗浄する洗浄装置に係り、特に被
処理基板の裏面を洗浄する洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から液晶表示器（ＬＣＤ）等の被処
理基板の製造工程においては、被処理基板の洗浄に洗浄
用ブラシを用いた基板洗浄装置いわゆるスクラバ−が用
いられている。
【０００３】ところで、近年では、被処理基板の表面洗
浄だけでなく、被処理基板の裏面も清浄に仕上げたいと
いう要望が高まってきている。そこで、このような要望
に応えるべく、例えば特開平６−４５３０３０号公報に
開示されているように、所定の基板搬送路を形成する如
く、複数のロ−ラーからなるロ−ラ搬送機構を設け、こ
れらのロ−ラ−の間に基板搬送路を挟んで複数の洗浄ブ
ラシを配列し、ロ−ラ搬送機構によってＬＣＤ用ガラス
基板等の被処理基板を一方向に搬送しつつ、洗浄ブラシ
で被処理基板の両面の洗浄を行うよう構成した基板洗浄
装置が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の洗浄装置では、トラック搬送装置等で被処理基
板を平面方向に搬送して洗浄を行っているため、装置が
大型化するという問題がある。特に、かかる洗浄装置は
一般的にはクリーンルーム内に配置されものであるか
ら、装置の大型化はクリーンルームの大型化を招き、由
々しき問題となる。本発明は、上記問題点に鑑みてなさ
れたもので、省スペース化が可能で、被処理基板の裏面
の洗浄を行うことができる洗浄装置を提供することを目
的とする。本発明のさらなる目的は、省スペース化が可
能で同一装置内で被処理基板の裏面と表面の洗浄を行う
ことのできる洗浄装置を提供することにある。
【０００５】本発明の別の目的は、被処理基板を保持す
る保持部材に設けたガイドピンと被処理基板との接触に
よって生じる被処理基板のクラック等の発生を防止し、
かつガイドピンに摩耗が生じることがなくてメンテナン
スフリーの洗浄装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下のように構成した。
【０００７】請求項１の発明は、被処理基板の外周付近
を裏面より保持すると共に、保持された被処理基板の裏
面洗浄面を底部側に露出させる開口部を有する枠状に形
成された保持部材と、対向する２つの立設部が上向きに
立設された上向きコの字状に形成され、前記２つの立設
部によって前記保持部材の対向する２辺の各略中央部を
支持する支持部材と、前記２つの立設部の間に挿入可能
な如く、当該２つの立設部の間の幅より狭くなるよう構
成され、前記露出された被処理基板の裏面洗浄面に対し
て前記底部側より接触する洗浄用ブラシと、前記洗浄用
ブラシを前記対向する２辺に沿って移送するブラシ駆動
機構と、前記支持部材と共に前記保持部材を回転駆動す
る回転駆動機構とを具備することを特徴とする洗浄装置
として構成した。
【０００８】請求項２の発明は、被処理基板の外周付近
を裏面より保持すると共に、保持された被処理基板の裏
面洗浄面を底部側に露出させる開口部が設けられた保持
部材と、前記保持部材の隣接する２辺の非保持領域を確
保しつつ前記保持部材を支持する支持部材と、前記露出
された被処理基板の裏面洗浄面に対して前記底部側より
接触する洗浄用ブラシと、前記洗浄用ブラシを前記保持
部材の非保持領域に属する１辺側より片持ち支持すると
共に、支持した洗浄用ブラシを該１辺に沿って移送する
ブラシ駆動機構と、前記支持部材と共に前記保持部材を
回転駆動する回転駆動機構とを具備することを特徴とす
る洗浄装置として構成した。
【０００９】請求項３の発明は、被処理基板の外周付近
を裏面より保持すると共に、保持された被処理基板の裏
面洗浄面を底部側に露出させる開口部が設けられ、かつ
両側に分割可能な第１の保持部材と、前記露出された被
処理基板の裏面洗浄面に対して前記底部側より接触する
洗浄用ブラシと、前記洗浄用ブラシを前記露出された被
処理基板の裏面洗浄面に沿って移送するブラシ駆動機構
と、前記第１の保持部材を両側に分割駆動する分割駆動
機構と、前記第１の保持部材の下方に配置され、前記被
処理基板を保持する第２の保持部材と、前記第１の保持
部材上の被処理基板を分割駆動によって広がった前記開
口部を介して受け取り、前記第２の保持部材上に受け渡
す受渡機構と、前記第２の保持部材を回転駆動する回転
駆動機構とを具備することを特徴とする洗浄装置として
構成した。
【００１０】請求項４の発明は、請求項１，２または３
に記載の洗浄装置であって、前記露出された被処理基板
の裏面洗浄面に対して前記底部側より乾燥用の気体を吹
き付ける気体吹付けノズルと、前記気体吹付けノズルを
前記露出された被処理基板の裏面洗浄面を走査させるノ
ズル駆動機構とを具備することを特徴とする洗浄装置と
して構成した。
【００１１】請求項５の発明は、請求項１〜３または４
に記載の洗浄装置であって、前記洗浄用ブラシがローラ
ブラシであり、このローラブラシを回転駆動するローラ
回転駆動機構をさらに有することを特徴とする洗浄装置
として構成した。
【００１２】請求項６の発明は、請求項１〜４または５
に記載の洗浄装置であって、前記保持部材上に保持され
た被処理基板を介して前記洗浄用ブラシと対向し、かつ
この洗浄用ブラシと同期して移送され、前記被処理基板
表面を押さえる浮き上がり防止部材をさらに有すること
を特徴とする洗浄装置として構成した。
【００１３】請求項７の発明は、請求項１〜４または５
に記載の洗浄装置であって、前記保持部材上に保持され
た被処理基板を介して前記洗浄用ブラシと対向し、かつ
この洗浄用ブラシと同期して移送され、前記被処理基板
表面を洗浄する表面洗浄用ブラシをさらに有することを
特徴とする洗浄装置として構成した。
【００１４】請求項８の発明は、請求項１〜６または７
に記載の洗浄装置であって、前記保持部材が、被処理基
板保持位置の外側に沿って被処理基板の横ずれを規制す
る複数のガイドピンを有し、かつこれらガイドピンがガ
イドピン本体を弾性体で囲繞し、さらにこの表面を剛体
で囲繞したことを特徴とする洗浄装置として構成した。
【００１５】請求項１記載の本発明の洗浄装置によれ
ば、被処理基板を保持部材上に保持し、被処理基板の裏
面洗浄面を移送する洗浄用ブラシによって洗浄する。洗
浄の際には、例えば被処理基板の裏面洗浄面に対して直
接洗浄液を噴霧し、あるいは洗浄用ブラシに対して洗浄
液を供給する。ところで、この洗浄では、移送される洗
浄用ブラシが支持部材の干渉を受けて被処理基板の裏面
洗浄面のほぼ半分の面しか洗浄できない。そこで、上記
洗浄の後に、回転駆動機構によって保持部材を約１８０
゜回転させ、洗浄用ブラシによって被処理基板の裏面洗
浄面の残り半分の面を上記と同様に洗浄する。その後、
回転駆動機構によって保持部材を回転させて被処理基板
を振り切り乾燥する。従って、本発明では、洗浄用ブラ
シを移送させることによって洗浄を行っているので、つ
まり洗浄の際に被処理基板を搬送する必要がないので、
非常に限られたスペースで被処理基板の裏面洗浄を実現
することができる。しかも、保持部材を回転させて被処
理基板を振り切り乾燥しているので、同じスペースで乾
燥処理を実現できる。すなわち、本発明の洗浄装置は、
非常に限られたスペースで被処理基板の裏面洗浄と乾燥
処理を実現することができる。
【００１６】請求項２記載の本発明の洗浄装置によれ
ば、被処理基板を保持部材上に保持し、被処理基板の裏
面洗浄面を移送する洗浄用ブラシによって洗浄する。洗
浄の際には、例えば被処理基板の裏面洗浄面に対して直
接洗浄液を噴霧し、あるいは洗浄用ブラシに対して洗浄
液を供給する。ここで、本発明の洗浄装置では、支持部
材が非保持領域を確保しつつ保持部材を支持し、この非
保持領域を使って片持ち支持された洗浄用ブラシを移送
させているので、つまり洗浄用ブラシが支持部材の干渉
を受けることなく移送できるように構成したので、１ス
トロークで被処理基板の裏面洗浄面の全面を洗浄するこ
とができる。そしてその後、回転駆動機構によって保持
部材を回転させて被処理基板を振り切り乾燥する。従っ
て、本発明では、洗浄用ブラシを移送させることによっ
て洗浄を行っているので、つまり洗浄の際に被処理基板
を搬送する必要がないので、非常に限られたスペースで
被処理基板の裏面洗浄を実現することができる。しか
も、保持部材を回転させて被処理基板を振り切り乾燥し
ているので、同じスペースで乾燥処理を実現できる。す
なわち、本発明の洗浄装置は、非常に限られたスペース
で被処理基板の裏面洗浄と乾燥処理を実現することがで
きる。さらに、本発明では、１ストロークで被処理基板
の裏面洗浄面の全面を洗浄することができるので、洗浄
時間を短縮化することができる。
【００１７】請求項３記載の本発明の洗浄装置によれ
ば、被処理基板を第１の保持部材上に保持し、被処理基
板の裏面洗浄面を移送する洗浄用ブラシによって洗浄す
る。洗浄の際には、例えば被処理基板の裏面洗浄面に対
して直接洗浄液を噴霧し、あるいは洗浄用ブラシに対し
て洗浄液を供給する。従って、本発明では、洗浄用ブラ
シを移送させることによって洗浄を行っているので、つ
まり洗浄の際に被処理基板を搬送する必要がないので、
非常に限られたスペースで被処理基板の裏面洗浄を実現
することができる。しかも、第１の保持部材の下方に配
置された第２の保持部材に被処理基板を移送し、この第
２の保持部材を回転させ、かつ例えば乾燥用の気体を吹
き付けて被処理基板を振り切り乾燥しているので、同じ
面積内で乾燥処理を実現できる。すなわち、本発明の洗
浄装置は、非常に限られたスペースで被処理基板の裏面
洗浄と乾燥処理を実現することができる。
【００１８】請求項４記載の本発明の洗浄装置によれ
ば、気体吹付けノズルより乾燥用の気体を吹き付けて被
処理基板を乾燥しているので、同じスペースで乾燥処理
を実現できる。すなわち、本発明の洗浄装置は、非常に
限られたスペースで被処理基板の裏面洗浄と乾燥処理を
実現することができる。さらに、保持部材を回転させな
がら気体吹付けノズルによって乾燥処理を行うことも可
能である。これにより、乾燥処理時間の短縮を図ること
ができる。
【００１９】請求項５記載の洗浄装置では、洗浄用ブラ
シをローラブラシにすることによって同時に洗浄できる
範囲を広げることができ、しかも被処理基板の浮き上が
りをより小さくすることができ、さらに洗浄部をより平
面的で小形化することが可能である。
【００２０】請求項６記載の洗浄装置では、浮き上がり
防止部材によって洗浄の際に被処理基板の浮き上がりを
防止することができるので、均一な洗浄が可能となり、
また被処理基板に対して機械的な悪影響を及ぼすことは
なくなる。
【００２１】請求項７記載の洗浄装置では、被処理基板
の表裏両面を同時に洗浄することができるので、さらに
効率よく洗浄を行うことができる。さらに、洗浄の際に
被処理基板の浮き上がりを防止することができるので、
表裏両面に対し均一な洗浄が可能となり、また被処理基
板に対して機械的な悪影響を及ぼすことはなくなる。要
するに、請求項１ないし請求項７に記載の発明によれ
ば、被処理基板を保持部材上に保持し、被処理基板の裏
面洗浄面を移送する洗浄用ブラシによって洗浄する。洗
浄の際には、例えば被処理基板の裏面洗浄面に対して直
接洗浄液を噴霧し、あるいは洗浄用ブラシに対して洗浄
液を供給する。従って、本発明では、洗浄用ブラシを移
送させることによって洗浄を行っているので、つまり洗
浄の際に被処理基板を搬送する必要がないので、非常に
限られたスペースで被処理基板の裏面洗浄を実現するこ
とができる。しかも、保持部材を回転させて被処理基板
を振り切り乾燥を行っているので、同じスペースで乾燥
処理を実現できる。また、乾燥用の気体を基板の裏面洗
浄面に吹き付けることにより、被処理基板を所定回転速
度で回転させて振り切り乾燥を行う必要がなくなり、さ
らに装置を小型化することができる。すなわち、本発明
の洗浄装置は、非常に限られたスペースで被処理基板の
裏面洗浄と乾燥処理を実現することができる。
【００２２】請求項８記載の洗浄装置では、保持部材に
設けたガイドピンが基板の平面内での移動を規制する。
この場合、例えば被処理基板を保持部材上へまたは保持
部材上から移送する際、あるいは保持部材を回転する
際、被処理基板がガイドピンに接触して衝撃を受け、被
処理基板にクラック等を誘発する恐れがあるため、ガイ
ドピンをＰＰＳやＰＥＥＫ、ウルモラ等の樹脂で囲繞し
ている。しかし、このような樹脂では摩耗するため、定
期的に交換することが要求される。そこで、ガイドピン
本体を弾性体で囲繞し、さらにこの表面を剛体で囲繞す
ることでこのような問題点を解決している。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を図面に従って説明する。
【００２４】図１は、この発明の洗浄装置が適用される
装置の全体構成の説明図、図２ないし図４は表面の洗浄
を行う表面洗浄装置の構成の説明図、図５ないし図７は
本発明の裏面洗浄装置の第１の実施形態にかかり、その
構成の説明図、図８は本発明の第１の実施形態の要部の
斜視図、図９はガイドピンの説明図、図１０および図１
１は本発明の第１の実施形態の作用の説明図である。
【００２５】図１に示すレジスト処理システム１は、そ
の一端側にカセットステーション８を備えている。この
カセットステーション８にはＬＣＤ用基板等の基板Ｇを
収容した複数のカセット７が載置されている。カセット
ステーション８のカセット７の正面側には、被処理基板
である基板Ｇの搬送及び位置決めを行うとともに、基板
Ｇを保持してメインアーム４との間で受け渡しを行うた
めの補助アーム４ａが設けられている。メインアーム４
は、処理システム１の中央部を長手方向に移動可能に、
二基直列に配置されており、その搬送路の両側には現像
装置６その他の各種処理ユニットが配置されている。
【００２６】図示の処理システム１にあっては、カセッ
トステーション８の側方に基板Ｇの表面を洗浄する２基
の表面洗浄ユニット２と基板Ｇの裏面を洗浄する裏面洗
浄ユニット５が並設されている。また、メインアーム４
の搬送路を挟んで表面洗浄ユニット２および裏面洗浄ユ
ニット５の反対側には現像ユニット６が２基並設され、
その隣りに２基の加熱ユニット９が積み重ねて設けられ
ている。
【００２７】これら各ユニットの側方には、接続用イン
ターフェースユニット１０を介して、基板Ｇにレジスト
膜を塗布する前に基板Ｇを疎水処理するアドヒージョン
ユニット１１が設けられ、このアドヒージョンユニット
１１の下方には冷却用クーリングユニット１２が配置さ
れている。また、これらアドヒージョンユニット１１及
びクーリングユニット１２の側方には加熱ユニット１３
が２列に２個づつ積み重ねて配置されている。
【００２８】また、アドヒージョンユニット１１，冷却
用クーリングユニット１２および加熱ユニット１３のメ
インアーム４の搬送路を挟んで反対側には、基板Ｇにレ
ジスト液を塗布することによって基板Ｇの表面にレジス
ト膜（感光膜）を形成するレジスト膜塗布ユニット１４
が２台並設されている。図示はしないが、これらレジス
ト膜塗布ユニット１４の側部には、基板Ｇ上に形成され
たレジスト膜に所定の微細パターンを露光するための露
光ユニット等が設けられる。
【００２９】メインアーム４は、Ｘ軸駆動機構，Ｙ軸駆
動機構およびＺ軸駆動機構を備えており（Ｘ軸，Ｙ軸，
Ｚ紬の各方向は図１に示す）、更に、Ｚ軸を中心に回転
する回転駆動機構をそれぞれ備えている。このメインア
ーム４がレジスト処理システム１の中央通路に沿って適
宜走行して、各処理ユニット６，９，１１〜１３と処理
ユニット２，５，１４の間で基坂Ｇを搬送する。そし
て、メインアーム４は、各処理ユニット２，５，６，
９，１１〜１４内に処理前の基板Ｇを搬入し、また、各
処理ユニット２，５，６，９，１１〜１４内から処理済
の基板Ｇを搬出する。 基板Ｇの表面の洗浄を行う表面
洗浄ユニット２には、図２ないし図４に示すように、基
板Ｇの表面のブラシ洗浄を行うブラシ洗浄装置（スクラ
バー）４０と、高圧ジェット水流および超音波水流によ
り基板Ｇの表面の洗浄を行う高圧・超音波洗浄装置４５
と、基板Ｇを保持して水平方向に回転可能なメカチャッ
ク２８と、このメカチャック２８および基板Ｇの周囲を
包囲するカップ３０とが設けられている。そして、これ
らブラシ洗浄装置４０，高圧・超音波洗浄装置４５，メ
カチャック２８およびカップ３０は、上部容器２１ａと
下部容器２１ｂとからなる長方形の容器２１内に収容さ
れている。
【００３０】ブラシ洗浄装置４０は、図２および図４に
示すように、容器２１内で基板Ｇの一辺と平行方向に進
退移動自在なブラシ支持体４４と、このブラシ支持体４
４に基板Ｇの前記一辺に隣接する他の一辺の幅よりも広
幅に設けられたアーム４４ａ，４４ａと、このアーム４
４ａ，４４ａの先端に回転自在に、かつ、水平に支持さ
れた回転軸４１ａ（図４参照）と、この回転軸４１ａと
ともに回転自在で、基板Ｇの前記他の一辺の幅とほぼ同
じ幅を有する洗浄用ブラシ４１と、洗浄用ブラシ４１に
洗浄液（リンス液）を供給する洗浄液供給機構４２と、
洗浄用ブラシ４１を回転軸４１ａとともに回転させるブ
ラシ回転機構４３とからなっている。
【００３１】洗浄液供給機構４２は、図２に示すよう
に、容器２０の外に配設された洗浄液タンクＴ1 と、こ
の洗浄液タンクＴ1 に貯溜された洗浄液を洗浄液供給管
４２ａに圧送する加圧ポンプＰ1 と、洗浄液供給管４２
ａの途中に設けられたバルブ４２ｄと、加圧ポンプＰ1
により供給された洗浄液を洗浄用ブラシ４１に向けて噴
射するべく、洗浄用ブラシ４１の長手方向に沿って均等
間隔で配置された複数の洗浄液噴射ノズル４２ｃと、ブ
ラシ支持体４４に設けられ、洗浄液供給管４２ａを流れ
てきた洗浄液を洗浄液噴射ノズル４２ｃの各々に分配す
る分岐管４２ｂとからなっている。洗浄用ブラシ４１で
基板Ｇの表面を洗浄する際には、バルブ４２ｄを開いて
洗浄液が洗浄液噴射ノズル４２ｃに流れるようにし、洗
浄液噴射ノズル４２ｃから洗浄用ブラシ４１に洗浄液を
噴射する。
【００３２】また、ブラシ回転機構４３は、図４に示す
ように、支持体４４に設けられた駆動体であるモータ４
３ａと、このモータ４３ａの駆動軸および回転軸４１ａ
に取り付けられたプーリ４３ｂ，４３ｃと、このプーリ
４３ｂ，４３ｃに巻き掛けられたベルト４３ｄとからな
っている。モータ４３ａの駆動によるプーリ４３ｂの回
転は、ベルト４３ｄを介してプーリ４３ｃに伝達され、
回転軸４１ａを回転させる。
【００３３】高圧・超音波洗浄装置４５は、図２および
図３に示すように、容器２０内のブラシ洗浄装置４０と
は対峙した位置に設けられていて、ブラシ洗浄装置４０
と同方向に進退移動自在なノズル支持体４８と、このノ
ズル支持体４８に設けられたスプレノズル４６ａと、洗
浄液を超音波水流として噴射する超音波洗浄液噴射ノズ
ル４６ｂと、スプレノズル４６ａおよび超音波洗浄液噴
射ノズル４６ｂに洗浄液を供給する洗浄液供給機構４７
とからなっている。
【００３４】なお、スプレノズル４６ａに代えてジェッ
トノズル４６ａとしてもよい。その場合、ジェットノズ
ルは、洗浄液供給機構４７により供給された洗浄液をさ
らに加圧して１００〜１５０kgf/cm2 とした高圧ジェッ
ト水を基板Ｇに向けて噴射するものを用いることができ
る。
【００３５】超音波洗浄液噴射ノズル４６ｂは、１．５
ＭＨｚ前後の超音波を発生させる振動子を内蔵してい
て、この振動子の振動により洗浄液を超音波水流として
基板Ｇに噴射するものである。
【００３６】これらスプレノズル４６ａと超音波洗浄液
噴射ノズル４６ｂは、支持体４８の長手方向に沿って複
数配置されているとともに、基板Ｇの中心を境に一方の
側にスプレノズル４６ａ、他方の側に超音波洗浄液噴射
ノズル４６ｂと区分けして設けられている。
【００３７】洗浄液供給機構４７は、図３に示すように
容器２０の外に配置された洗浄液タンクＴ3 と、この洗
浄液タンクＴ3 に貯溜された洗浄液を洗浄液供給管４７
ａに圧送する加圧ポンプＰ3 と、洗浄液供給管４２ａの
途中に設けられたバルブ４７ｄと、ノズル支持体４８に
設けられ、洗浄液供給管４７ａ内の洗浄液の流れを分岐
させて各ノズル４６ａ，４６ｂに分配する分岐管（図に
は表れない）とからなっている。
【００３８】長方形の容器２０の長辺側の面の外側に
は、基板Ｇの一辺と平行な一対のガイド２２ａ，２２ｂ
が設けられている。図３および図４に示すように、ブラ
シ洗浄装置４０および高圧・超音波洗浄装置４５のブラ
シ支持体４４およびノズル支持体４８は、このガイド２
２ａ，２２ｂに案内されながら進退移動する。一方のガ
イド２２ｂを設けた容器２０の一面の下方には、図示し
ないモータ等の駆動体およびこのモータの駆動により回
転されるプーリ機構等からなるブラシ駆動機構１００，
１０１が設けられている。
【００３９】ブラシ支持体４４はブラシ駆動機構１００
によって、また、ノズル支持体４８はノズル駆動機構１
０１によってガイド２２ａ，２２ｂに沿って進退移動さ
れる。これらブラシ駆動機構１００およびノズル駆動機
構１０１は、一方のガイド２２ｂの両端に配置されたプ
ーリ１０２，１０３（他端のものは図に表れない）と、
これらプーリ１０２，１０３の各々に巻き掛けられたベ
ルト１０５，１０６と、このプーリ１０２，１０３を回
転させてベルト１０５，１０６を各々走行させる図示し
ない駆動体としてのモータとからなっている。そして、
ブラシ支持体４４およびノズル支持体４８の一端に取り
付けられ、容器２０の一面に沿って垂下する連結部材１
０７，１０８がベルト１０５，１０６とそれぞれ係合
し、ベルト１０５，１０６の走行とともにブラシ支持体
４４およびノズル支持体４８をガイド２２ａ，２２ｂに
沿って移動させることができるようになっている。な
お、このブラシ駆動機構１００およびノズル駆動機構１
０１の前記したモータの駆動は、図示しない制御装置か
らの指令信号により各々制御される。
【００４０】メカチャック２８は、下部容器２１ｂの中
央に鉛直に設けられた中空状の昇降軸２５の上端に取り
付けられている。下部容器２１ｂのほぼ中央には、軸受
を介して筒状体２３が回転自在に設けられ、この筒状体
２３の貫通穴内に昇降軸２５が挿入されている。筒状体
２３の穴内周面およひ昇降軸２５の外周面にはそれぞれ
スプライン溝が形成されていて、両スプライン溝が係合
することにより筒状体２３の回転を昇降軸２５に伝える
ことができるとともに、スプライン溝に沿った方向に昇
降軸２５が昇降可能である。
【００４１】筒状体２３の下端には、図２に示すよう
に、プーリ２３ａが取り付けられている。筒状体２３を
回転させる回転駆動体としてのモータ２６は、筒状体２
３から偏心した位置に設けられ、その駆動軸にはプーリ
２６ａが取り付けられている。そして、プーリ２３ａ，
２６ａにはベルト２６ｂが巻き掛けられていて、モータ
２６の駆動がプーリ２６ａ，ベルト２６ｂ，プーリ２３
ａを介して筒状体２３に伝達されるようになっている。
また、昇降軸２５の下方には昇降駆動体としてのシリン
ダ２７が配置され、シリンダ２７が昇降自在なピストン
ロッド２７ａの先端が昇降軸２５の下端に軸受を介して
連結されている。
【００４２】昇降軸２５の中空穴２５ａには、メカチャ
ック２８を上端に取り付けるとともに、スピンチャック
プから吸入した空気を流通させる吸気管として役割を兼
ねる管状のロッド２４が上下に挿通している。ロッド２
４の下端は昇降軸２５の下方まで延出していて、その下
端にはロータリバルブ２９を介して吸気手段としての吸
気ポンプ２９ｂに接続された吸気管２９ａが接続されて
いる。
【００４３】メカチャック２８および基板Ｇの周囲を包
囲するカップ３０は、下部容器２１ｂの底部に固定され
た外カップ３０ａと、この外カップ３０ａの内周面に沿
って昇降する内カップ３０ｂとからなっている。符号３
１は、外カップ３０ａの周縁に沿って設けられた排水溝
である。カップ３０の中には、昇降軸２５側から周縁部
に向けて下方に傾斜するベース３２が設けられている。
このベース３２は、基板Ｇに供給された洗浄液をカップ
３０の周縁まで流して、排水溝３１に洗浄液を回収しや
すくするものである。また、ベース３２の上面には、メ
カチャック２８に保持された基板Ｇの裏面に洗浄液を噴
射する洗浄液噴射ノズル３４が設けられている。この洗
浄液噴射ノズル３４は、同一円周上に間隔および向きを
違えて複数配置されている。そして、基板Ｇを回転させ
ながら超音波洗浄装置４５により基板Ｇに洗浄液を噴射
して表面の洗浄を行う際に、この洗浄液噴射ノズル３４
から噴射された洗浄液が基板Ｇの裏面を洗浄する。図２
において符号３５は、この洗浄液噴射ノズル３４に洗浄
液を供給する洗浄液供給機構で、洗浄液タンクＴ2に貯
溜された洗浄液が加圧ポンプＰ2 によって洗浄液供給管
３５ａを圧送され、洗浄液供給管３５ａの先端に取り付
けられた洗浄液噴射ノズル３４から基板Ｇの裏面に向け
て噴射される。
【００４４】 外カップ３０ａの内周面に設けられた内
カップ３０ｂは、外カップ３０ａの外側に設けられた昇
降駆動機構３３によって昇降される。この昇降駆動機構
３３は、図２に示すように、昇降駆動体であるシリンダ
３３ａと、このシリンダ３３ａのピストンロッドの昇降
方向と平行に立設されたガイド３３ｂと、このガイド３
３ｂに沿って昇降するスライダ３３ｃとから構成され、
スライダ３３ｃに内カップ３０ｂが取り付けられてい
る。昇降駆動機構３３は、基板Ｇを回転させながら各ノ
ズル３４，４６ａ，４６ｂから洗浄液を噴射して基板Ｇ
の表面及び裏面を洗浄する際、および基板Ｇを回転させ
て洗浄液の振り切り乾燥を行う際に、内カップ３０ｂを
所定高さ位置まで持ち上げて洗浄液が容器２１内で飛散
しないように防止するためのものである。なお、この実
施形態では、円形のカップ３０が長方形の容器２１内に
内接状態で設けられているから、容器２１の長手方向の
両側には、図２で示すようにカップ３０との間に隙間、
つまりブラシ洗浄装置４０および超音波洗浄装置４５の
待機位置３９ａ，３９ｂが形成される。そして、洗浄液
を噴射して基板Ｇの表面および裏面を洗浄する際、およ
び基板Ｇの振り切り乾燥を行う際には、ブラシ洗浄装置
４０が一方の待機位置３９ａで待機し、洗浄用ブラシ４
１で表面洗浄を行う際には、超音波洗浄装置４５が他方
の待機位置３９ｂで待機する。
【００４５】ブラシ洗浄装置４０および超音波洗浄装置
４５には、図３および図４で示すように、各々昇降駆動
機構１４０ａ，１４０ｂが設けられていて、洗浄用ブラ
シ４１および超音波洗浄装置４５のスプレノズル４６
ａ，超音波洗浄液噴射ノズル４６ｂを昇降させることが
できるようになっている。これら昇降駆動機構１４０
ａ，１４０ｂは、ブラシ洗浄装置４０および超音波洗浄
装置４５を待機位置３９ａ，３９ｂから基板Ｇに向けて
移動させる際に、上昇状態にある内カップ３０ｂと洗浄
用ブラシ４１および各ノズル４６ａ，４６ｂとが干渉し
ない高さ位置まで持ち上げるものである。
【００４６】洗浄用ブラシ４１の昇降駆動機構１４０ａ
は、図４に示すように、ブラシ支持体４４を構成する本
体１４１に設けられた駆動体としてのシリンダ１４２
と、本体１４１の両側に立設されたガイド１４４，１４
４と、このガイド１４４，１４４間に架け渡され、ガイ
ド１４４，１４４に案内されながら昇降自在であるとと
もに、アーム４４ａ，４４ａおよびブラシ回転機構４３
を取り付けるビーム状のアーム取付部材１４３とからな
っている。アーム取付部材１４３はシリンダ１４２の昇
降自在なピストンロッドと係合していて、シリンダ１４
２の駆動により前記ピストンロッドが伸縮すると、アー
ム取付部材１４３およびこれに取り付けられたアーム４
４ａ，４４ａ，洗浄用ブラシ４１およびブラシ回転機構
４３が一体となって昇降する。
【００４７】また、超音波洗浄装置４５の昇降駆動機構
１４０ｂは、図３に示すように、支持体４８を構成する
ビーム状の本体１４５の中央に設けられたシリンダ１４
６と、分岐管およびノズル４６ａ，４６ｂを一体に取り
付ける取付部材１４７と、本体１４５に立設されたガイ
ド１４８とから構成されていて、シリンダ１４６の駆動
によって分岐管４７ｂおよびノズル４６ａ，４６ｂが取
付部材１４７と一体になって昇降する。
【００４８】次に、上記の表面洗浄ユニット２による表
面洗浄に引き続いて基板Ｇの裏面の洗浄を行う裏面洗浄
ユニット５について説明する。
【００４９】裏面洗浄ユニット５は、図５に示すよう
に、基板Ｇの裏面をブラシ洗浄するブラシ洗浄装置６０
と、基板Ｇを保持する保持部材７０と、基板Ｇと保持部
材７０の周囲を囲むカップ５３とを有している。これら
ブラシ洗浄装置６０、保持部材７０およびカップ５３
は、上部容器５１ａと下部容器５１ｂからなる長方形状
の容器５１内に収容されている。
【００５０】保持部材７０は、図７および図８に示すよ
うに、中央に開口部７０ａを有する枠状に形成され、基
板Ｇの裏面洗浄面を保持部材７０の底部側に露出するよ
うになっている。つまり、基板Ｇは、保持部材７０によ
って裏面の周縁部を保持され、周縁部以外の裏面（裏面
洗浄面）が前記開口部から底部側に露出するようになっ
ている。保持部材７０の上には、保持部材７０を振り切
り乾燥等のために回転させたとき等に基板Ｇが平面内で
移動しないように規制するガイドピン７３が立設されて
いる。このガイドピン７３は、図７および図８に示すよ
うに、枠状の保持部材７０の４隅に各２本ずつ設けら
れ、基板Ｇの４隅の隣接する２辺と当接するようになっ
ている。
【００５１】保持部材７０は、上向きコの字状の支持部
材７１によって対向する二辺のほぼ中央を支持されてい
る。この支持部材７１は、下部容器５１ｂのほぼ中央に
回転自在に支持された中空状の回転軸５５の上端に取り
付けられていて、回転軸５５の回転とともに回転が可能
である。
【００５２】また、支持部材７１の底部７１ａの中央に
は、回転軸５５の中空穴５５ｂに連通する貫通穴７１ｂ
が形成され、この穴７１ｂを通ってリフタ７２が昇降自
在に設けられている。このリフタ７２は、基板Ｇを真空
吸着によって吸着して保持部材７０から上昇または保持
部材７０に向けて下降させるものである。
【００５３】図５に示すように、回転軸５５の下端には
プーリ５５ａが取り付けられている。回転軸５５を回転
させる回転駆動体としてのモータ５６は、回転軸５５か
ら偏心した位置に設けられ、その駆動軸にはプーリ５６
ａが取り付けられている。そして、プーリ５５ａ，５６
ａにはベルト５６ｂが巻き掛けられていて、モータ５６
の駆動がプーリ５６ａ，ベルト５６ｂ，プーリ５５ａを
介して回転軸５５に伝達されるようになっている。ま
た、回転軸５５の中空穴５５ｂには、リフタ７２を上端
に取り付けるとともに、リフタ７２から吸入した空気を
流通させる吸気管として役割を兼ねる管状のロッド７２
ａが上下に挿通している。ロッド７２ａの下端は、回転
軸５５の下方まで延出し、回転軸５５の下方に配置され
た昇降駆動体としてのシリンダ５７のピストンロッド５
７ａの先端に連結されている。また、ロッド７２ａの下
端には、吸気手段としての吸気ポンプ７５ｂに接続され
た吸気管７５ａが接続されている。
【００５４】ブラシ洗浄装置６０は、容器５１内で保持
部材７０により保持された基板Ｇの一辺と平行方向に進
退移動自在なブラシ支持体６４と、このブラシ支持体６
４の両側に取り付けられたアーム６４ａ，６４ａと、こ
のアーム６４ａ，６４ａによって両端を回転自在に支持
された回転軸６１ａと、この回転軸６１ａとともに回転
する洗浄用ブラシ６１と、この洗浄用ブラシ６１を回転
軸６１ａとともに回転させるブラシ回転機構６３と、回
転軸６１ａと平行に設けられ、回転軸６１ａよりも下方
側から洗浄用ブラシ６１に洗浄液を供給する洗浄液供給
機構６２とからなっている。
【００５５】アーム６４ａ，６４ａは、基板Ｇの一辺の
幅よりも広く、かつ、支持部材７１の対向する両立設部
７１ｃ，７１ｃの幅よりも狭くなるように配設されてい
る。また、洗浄用ブラシ６１は、アーム６４ａ，６４ａ
によって水平に支持され、かつ、保持部材７０の開口部
７０ａの幅と同じ幅を有していて、開口部７０ａから底
部側に露出する基板Ｇの裏面洗浄面の全面を洗浄できる
ようになっている。また、図８に示すように、ブラシ支
持体６４には、裏面洗浄の際にブラシ支持体６４が進退
移動したときにブラシ支持体６４と保持部材７０が干渉
しないようにするための開口部６４ｂが形成されてい
る。
【００５６】洗浄液供給機構６２は、図５に示すように
容器５１の外に配置された洗浄液タンクＴ4 と、この洗
浄液タンクＴ4 に貯溜された洗浄液を洗浄液供給管６２
ｂに圧送する加圧ポンプＰ4 と、洗浄液供給管６２ｂの
途中に設けられたバルブ６２ｄと、加圧ポンプＰ4 によ
り供給された洗浄液を洗浄用ブラシ６１に向けて噴射す
るべく、洗浄用ブラシ６１の長手方向に沿って均等間隔
で配置された複数の洗浄液噴射ノズル６２ａと、ブラシ
支持体６４に設けられ、洗浄液供給管６２ｂを流れてき
た洗浄液を洗浄液噴射ノズル６２ａの各々に分配する分
岐管６２ｃとからなっている。洗浄用ブラシ６１で基板
Ｇの表面を洗浄する際には、バルブ６２ｄを開いて洗浄
液が洗浄液噴射ノズル６２ａに流れるようにし、洗浄液
噴射ノズル６２ａから洗浄用ブラシ６１に洗浄液を噴射
する。なお、洗浄液噴射ノズル６２ａから基板Ｇに直接
洗浄液を噴射するように構成してもよい。
【００５７】洗浄用ブラシ６１を回転させるブラシ回転
機構６３は、図８に示すように、支持体６４に設けられ
た駆動体としてのモータ６３ａと、このモータ６３ａの
駆動軸に取り付けられたプーリ６３ｂと、支持体６４お
よび回転軸６１ａに取り付けられたプーリ６３ｃ，６３
ｄと、これらプーリ６３ｂ，６３ｃ，６３ｄ間に掛け渡
されたベルト６３ｅ，６３ｆとからなっている。モータ
６３ａが駆動すると、モータ６３ａの駆動軸の回転はプ
ーリ６３ｂ，ベルト６３ｅ，プーリ６３ｃ，ベルト６３
ｆおよびプーリ６３ｄを介して回転軸６１ａに伝達さ
れ、洗浄用ブラシ６１を回転させる。
【００５８】長方形の容器５１の長辺側の面の外側に
は、図６に示すように、基板Ｇの一辺と平行な一対のガ
イド６５ａ，６５ｂが設けられている。ブラシ支持体６
４は、このガイド６５ａ，６５ｂに案内されながら進退
移動する。一方のガイド６５ｂを設けた容器５１の一面
の下方にはブラシ駆動機構６７が設けられている。ブラ
シ支持体６４は、このブラシ駆動機構６７よってガイド
６５ａ，６５ｂに沿って進退移動される。このブラシ駆
動機構６７は、図示しない制御装置からの指令信号によ
り駆動されてブラシ洗浄装置６０を基板Ｇの一辺と平行
方向に進退移動させるものである。ブラシ駆動機構６７
は、一方のガイド６５ｂの両端に配置されたプーリ６７
ｃ（他端のものは図に表れない）と、このプーリ６７ｃ
を回転させる駆動体としてのモータ６７ａと、このモー
タ６７ａの駆動軸に取り付けられたプーリ６７ｄと、プ
ーリ６７ｃ，６７ｄに巻き掛けられたベルト６７ｂとか
らなっている。このベルト６７ｂには、ブラシ支持体６
４の一端に取り付けられ、容器５１の一面に沿って垂下
する連結部材６６が係合していて、モータ６７ａの駆動
によるベルト６７ｂの走行によってブラシ支持体６４が
ガイド６５ａ，６５ｂに沿って移動する。なお、このブ
ラシ駆動機構６７の前記したモータの駆動は、図示しな
い制御装置からの指令信号により制御される。
【００５９】保持部材７０および基板Ｇを囲撓するカッ
プ５３は、表面洗浄ユニット２の場合と同様、基板Ｇを
回転させたときに洗浄液が飛散しないようにするととも
に、洗浄液を図示しない排水溝に回収するためのもの
で、下部容器５１ｂに取り付けられた外カップ５３ａ
と、この外カップ５３ａに対して昇降自在に設けられた
内カップ５３ｂとからなっている。
【００６０】内カップ５３ｂを昇降させる昇降駆動機構
５８は、図５および図７に示すように、ブラシ洗浄装置
６０と干渉しない位置に設けられていて、駆動体として
のシリンダ５８ａと、このシリンダ５８ａの両側に立設
されたガイド５８ｂと、シリンダ５８ａの駆動によりガ
イド５８ｂに沿って昇降するスライダ５８ｃとから構成
されている。スライダ５８ｃは内カップ５３ｂに取り付
けられていて、シリンダ５８ａの駆動によるスライダ５
８ｃの昇降とともに内カップ５３ｂが昇降する。なお、
この裏面洗浄ユニット５においても、先に説明した表面
洗浄ユニット２と同様、円形のカップ５３が長方形の容
器５１内に内接状態で設けられており、長手方向に形成
される隙間部分がブラシ洗浄装置６０の待機位置５９と
して構成されている。基板Ｇを回転させて振り切り乾燥
を行う際には、ブラシ洗浄装置６０は待機位置５９で待
機する。
【００６１】次に、保持部材７０の４隅に立設されたガ
イドピン７３について説明する。ガイドピン７３は、保
持部材７０に載置された基板Ｇの周縁と当接して基板Ｇ
が位置ずれしないように規制するものである。
【００６２】この実施形態においてガイドピン７３は、
図９に示すように、保持部材７０に螺着されたピン本体
７３ａと、このピン本体７３ａの周囲を囲撓して設けら
れたＰＰＳやＰＥＥＫ等の樹脂で形成された弾性体７３
ｂと、この弾性体７３ｂの表面を囲撓して設けられた剛
性のカバー７３ｃとから構成されている。弾性体７３ｂ
を剛性のカバー７３ｃで囲撓しているのは、このような
弾性体７３ｂでは摩耗が早く、定期的に交換する必要が
生じるためである。
【００６３】 ガイドピン７３を上記のように構成する
ことにより、例えば基板Ｇを保持部材７０上へまたは保
持部材７０上から移送する際、あるいは保持部材７０を
回転する際、基板Ｇがガイドピン７３に接触することに
よる衝撃を弾性体７３ｂが和らげ、基板Ｇにクラック等
が生じないようにすることができる。
【００６４】次に、上記構成の本発明の作用を説明す
る。
【００６５】基板Ｇは、図１に示すメインアーム４によ
り保持されて表面洗浄ユニット２に搬送され、メインア
ーム４のＸ，Ｙ，Ｚ軸方向の移動および回転によって表
面洗浄ユニット２に受け渡される。
【００６６】すなわち、メインアーム４との間で基板Ｇ
の授受を行う際には、シリンダ２７の駆動によって保持
部材７０は上昇した状態にあり、上面に基板Ｇを真空吸
着により吸着して保持する。この後、保持部材７０が所
定高さ位置まで下降して表面洗浄が行われる。
【００６７】基板Ｇの表面を洗浄するときには、洗浄液
供給機構４２を駆動して洗浄液噴射ノズル４２ｃから洗
浄液を洗浄用ブラシ４１に供給するとともに、ブラシ回
転機構４３を駆動して洗浄用ブラシ４１を回転させ、ブ
ラシ駆動機構１００を駆動してブラシ支持体４４を基板
Ｇの一辺と平行に移動させる。洗浄用ブラシ４１を回転
させながら基板Ｇの一方の周縁部から他方の周縁部まで
移動させ、他方の周縁部まで移動させたところで移動方
向を反転させ、前記一方の周縁部に向けて戻す。なお、
このとき、内カップ３０ｂは昇降駆動機構３３の駆動に
より上昇し、かつ、超音波洗浄装置４５は、内カップ３
０ｂ後方の待機位置３９ｂで待機していて、ブラシ洗浄
装置４０が基板Ｇの表面を洗浄する際に、飛散した洗浄
液が超音波洗浄装置４５にかからないようになってい
る。
【００６８】ブラシ洗浄装置４０は、一方の周縁部まで
戻ったところでブラシ回転機構４３の駆動を停止して洗
浄用ブラシ４１の回転を停止させるとともに、洗浄液供
給機構４２のバルブ４２ｄを閉じて洗浄液噴射ノズル４
２ｃへの洗浄液の供給を停止し、洗浄用ブラシ４１への
洗浄液の供給を停止する。次いで、昇降駆動機構１４０
ａを駆動して洗浄用ブラシ４１を持ち上げ、上昇状態に
ある内カップ３０ｂを乗り越えさせて内カップ３０ｂの
後方の待機位置３９ａに移動する。超音波洗浄装置４５
は、昇降駆動機構１４０ｂおよびノズル駆動機構１０１
の駆動により、内カップ３０ｂを乗り越えながら基板Ｇ
側に移動する。基板Ｇは、モータ２６の駆動によって所
定速度で回転する。そして、スプレノズル４６ａおよび
超音波洗浄水噴射ノズル４６ｂから洗浄液を噴射させ、
ジェット水流および超音波洗浄水により基板Ｇの表面を
洗浄する。スプレノズル４６ａからは高圧の洗浄液がジ
ェット水流となって基板Ｇに噴射され、超音波洗浄水噴
射ノズル４６ｂからは超音波により微細な振動をともな
った洗浄液が噴射される。なお、このとき、ベース３２
に設けられたノズル３４からも基板Ｇの裏面に向けて洗
浄液が噴射され、基板Ｇの裏面の簡単な洗浄が行われ
る。
【００６９】所定時間洗浄液を基板Ｇの表面に噴射して
洗浄をした後は、洗浄液供給機構４７のバルブ４７ｄを
閉じて各ノズル４６ａ，４６ｂへの洗浄液の供給を停止
する。超音波洗浄装置４５は、昇降駆動機構１４０ｂお
よびノズル駆動機構１０１の駆動によって持ち上げられ
ながら内カップ３０ｂを乗り越えて内カップ３０ｂの背
後の待機位置３９ｂまで移動する。この後、基板Ｇの回
転数を振り切り乾燥の回転速度まで増速して基板Ｇの振
り切り乾燥を行う。
【００７０】基板Ｇの振り切り乾燥が終了した後は、基
板Ｇの回転を停止させ、メカチャック２８を上昇させて
メインアーム４に受渡し、表面洗浄ユニット２から搬出
する。
【００７１】なお、この実施形態においては、図１に示
すように表面洗浄ユニット２が２基並設されており、同
時に２枚の基板Ｇの表面洗浄が行われる。これは、表面
洗浄に対する裏面洗浄の時間が半分程度であり、二つの
表面洗浄ユニット２から交互に裏面洗浄ユニット５に基
板Ｇを供給することにより、裏面洗浄ユニット５の待機
時間をできるだけ短くするためである。
【００７２】以下、裏面洗浄ユニット５における裏面洗
浄の手順を、図１０および図１１に従って説明する。
【００７３】表面洗浄ユニット２による表面の洗浄を終
えた基板Ｇは、メインアーム４（図１参照）により裏面
洗浄ユニット５まで搬送され、裏面洗浄ユニット５に受
け渡される。裏面洗浄ユニット５では、シリンダ５７の
駆動によりリフタ７２が上昇し、真空吸着によって基板
Ｇを吸着し、メインアーム４から基板Ｇを受け取る。こ
の後、リフタ７２が下降して保持部材７０に基板Ｇを受
け渡す（図１０(a) の状態）。基板Ｇは、保持部材７０
のガイドピン７３によって周囲を保持されて平面内で移
動しないように規制される。
【００７４】保持部材７０上に保持された基板Ｇの裏面
を、ブラシ洗浄装置６０の洗浄用ブラシ６１で洗浄する
には、ブラシ回転機構６３を駆動させて洗浄用ブラシ６
１を回転させるとともに、洗浄液供給機構６２を駆動し
て洗浄用ブラシ６１に洗浄液を噴射する。洗浄液は直接
基板Ｇの裏面洗浄面に向けて噴射するようにしてもよ
い。そして、ブラシ駆動機構６７を駆動して回転する洗
浄用ブラシ６１を基板Ｇの周縁部から中央部に向けて移
動させる。これによって、基板Ｇの裏面は洗浄される。
このブラシ洗浄装置６０では、洗浄用ブラシ６１が基板
Ｇの中央を僅かに超えたところでブラシ支持体６４が支
持部材７１に干渉し、それ以上の洗浄を行うことができ
ない。そこで、基板Ｇの半分を洗浄したところで洗浄用
ブラシ６１を一旦戻し（図１０(b) の状態）、回転駆動
機構のモータ５６を駆動して回転軸５５とともに保持部
材７０を反転させた後（図１０(c) の状態）、上記と同
様の手順によって基板Ｇの残り半分の洗浄を行う（図１
１(a) の状態）。その後、モータ５６を駆動して保持部
材７０を所定回転速度で回転させ、基板Ｇの振り切り乾
燥を行う（図１１(b) の状態）。この場合、ピン本体７
３ａの周囲を弾性体７３ｂで囲撓し、さらにこの弾性体
７３ｂの表面を剛性のカバー７３ｃで囲撓しているの
で、基板Ｇがガイドピン７３に接触することによる衝撃
を弾性体７３ｂが和らげ、基板Ｇにクラック等が生じる
ことがない。
【００７５】なお、基板Ｇの振り切り乾燥を行う場合に
は、ブラシ洗浄装置６０を待機位置５９に待機させ、昇
降駆動機構５８を駆動して内カップ５３ｂを上昇させ
る。振り切り乾燥を終了した後は、リフタ７２によって
基板Ｇを所定高さ位置まで持ち上げ、メインアーム４に
受渡す（図１１(c) ）。
【００７６】このように、本発明では、洗浄用ブラシ６
１を移送させることによって裏面洗浄面の洗浄を行って
いるので、つまり洗浄の際に基板Ｇを平面内で搬送する
必要がないので、非常に限られたスペースで基板Ｇの裏
面洗浄を行うことができる。しかも、保持部材７０を回
転させて基板Ｇを振り切り乾燥しているので、同じスペ
ースで乾燥処理を実現できる。
【００７７】以上の手順により裏面洗浄を終えた基板Ｇ
は、上記と逆の手順により裏面洗浄ユニット５から搬出
され、図１に示す接続用インターフェースユニット１０
を経て次のアドヒージョンユニット１１，冷却用クーリ
ングユニット１２，加熱ユニット１３へと送られ処理が
行われる。
【００７８】次に本発明の第２の実施形態を説明する。
【００７９】この実施形態では、図１２に示すように、
基板Ｇの外周付近を裏面より保持する保持部材８０は、
上記第１の実施形態と同様、基板Ｇよりも若干小さい開
口部８０ａを有する枠状に形成され、第１の実施形態と
同一の部位に同一本数のガイドピン８３が立設されてい
る。この保持部材８０は、上向きコの字状の支持部材８
１によって、対角線上に対向して位置する二つの隅部を
支持されている。支持部材８１は回転自在な回転軸（図
示せず）に取り付けられ、その底部８１ａの中央には貫
通穴８１ｂが形成されている。そして、図示しない中空
状の回転軸の中空穴および貫通穴８１ｂを挿通して、真
空吸着によって基板Ｇを保持するリフタ８２が昇降自在
に設けられている。
【００８０】なお、リフタ８２を昇降させる昇降駆動機
構および回転軸を回転させる回転駆動機構の構成につい
ては、上記第１の実施形態と同様であるので、詳しい説
明は省略する。
【００８１】保持部材８０に保持された基板Ｇの裏面洗
浄面を回転する洗浄用ブラシ８５によって洗浄するブラ
シ洗浄装置８４は、洗浄用ブラシ８５がブラシ支持体８
７に一本のアーム８７ａによって支持された片持ち形に
なっている。また、洗浄用ブラシ８５は第１の実施形態
と同様、保持部材８０の開口部８０ａの幅と同じ幅を有
していて、開口部８０ａから底部側に露出する基板Ｇの
裏面洗浄面の全面を洗浄できるようになっている。
【００８２】ブラシ支持体８７は第１の実施形態と同様
の構造としてもよいが、この実施形態では、図１２に示
すように、洗浄用ブラシ８５を下方側から支持する構造
になっている。アーム８７ａは、保持部材８０と支持部
材８１の底部８１ａとの間の間隙よりも狭小に形成され
ていて、ブラシ支持体８７が基板Ｇの一端側から他端側
まで移動しても、アーム８７ａと支持部材８１とが干渉
することがない。なお、図１６に示すように、ブラシ支
持体８７にオフセット部８７ｂを設ければ、支持部材８
１における支持体８１ａをブラシ支持体８７側に設ける
ことも可能である。 ブラシ支持体８７を基板Ｇの一辺
と平行に進退移動させるブラシ駆動機構８９は、基板Ｇ
の下方に前記一辺と平行に敷設されたガイド８９ｂと、
このガイド８９の一端に配置された駆動体としてのモー
タ８９ａと、ガイド８９ｂの両端に配設されたプーリ８
９ｄ，８９ｅと、モータ８９ａ，プーリ８９ｄ，８９ｅ
間に張設されたベルト８９ｃとから概略構成されてい
る。ベルト８９ｃは支持体８７と係合している。この態
様により、モータ８９ａが駆動するとベルト８９ｃがプ
ーリ８９ｄ，８９ｅ間を走行し、ベルト８９ｃに係合す
るブラシ支持体８７がガイド８９ｂに沿って移動する。
【００８３】なお、この実施形態においても、第１の実
施形態と同様の洗浄液噴射ノズルを設け、この洗浄液噴
射ノズルから噴射させた洗浄液を洗浄用ブラシ８５また
は基板Ｇの裏面洗浄面に直接噴射させることが可能であ
る。
【００８４】この第２の実施形態の裏面洗浄装置は以下
のように作用する。
【００８５】基板Ｇを保持部材８０上に保持し、基板Ｇ
の裏面洗浄面をブラシ支持体８７の移動とともに移動す
る洗浄用ブラシ８５によって洗浄する。洗浄の際には、
基板Ｇの裏面洗浄面に対して直接洗浄液を噴射し、ある
いは洗浄用ブラシ８５に対して洗浄液を供給してもよ
い。洗浄用ブラシ８５は支持部材８１の干渉を受けるこ
となく移動できるので、１ストロークで基板Ｇの裏面洗
浄面の全面を洗浄することができる。洗浄用ブラシ８５
による裏面洗浄面の洗浄を終了した後は、回転駆動機構
を駆動させて保持部材８０を回転させ、洗浄液を振り切
り乾燥する。
【００８６】このように、この実施形態における裏面洗
浄装置では、洗浄用ブラシ８５を移動させるだけで基板
Ｇの裏面洗浄面の洗浄を行うことができるので、基板Ｇ
を平面内で搬送する必要がなく、非常に限られたスペー
スで基板Ｇの裏面洗浄を実現することができる。また、
保持部材８０を回転させて基板Ｇを振り切り乾燥してい
るので、同じスペースで乾燥処理を実現できる。さら
に、この実施形態では１ストロークで基板Ｇの裏面洗浄
面の全面を洗浄することができるので、洗浄時間を短縮
化することができる。
【００８７】上記第１および第２の実施形態において、
基板Ｇの裏面に乾燥用の気体（エアまたは窒素ガス等の
不活性ガス）を吹き付ける気体吹付けノズルを設け、こ
の気体吹付けノズルを露出された基板Ｇの裏面を走査さ
せることにより、同じスペースで乾燥処理を実現できる
ようになり、前記したような保持部材７０，８０を振り
切り乾燥させるための回転駆動機構は不要になる。
【００８８】図１３は、基板Ｇの裏面に乾燥用の気体
（エアまたは窒素ガス等の不活性ガス）を吹き付ける気
体吹付けノズルを設けた裏面洗浄装置の一例である。
【００８９】枠状の保持部材１１０に保持された基板Ｇ
の裏面を洗浄する洗浄用ブラシ１１１の対向位置には、
基板Ｇの表裏両面側に気体（エアまたは窒素ガス等の不
活性ガス）を吹き付ける気体吹付けノズル１１２が配置
されている。この気体吹付けノズル１１２は、図示しな
い駆動機構によって基板Ｇの一辺と平行方向に進退移動
自在である。前記駆動機構は、第２実施形態で示したブ
ラシ駆動機構８９と同様の駆動機構であってもよい。符
号１１５は、基板Ｇを真空吸着によって吸着して上昇ま
たは下降させるリフタである。
【００９０】気体吹付けノズル１１２は、基板Ｇの幅と
略同一の幅を有し、内部に気体の流通穴が形成された一
対のノズル本体１１２ａ，１１２ｂを、基板Ｇを挟んで
上下に対向配置して構成されている。両ノズル本体１１
２ａ，１１２ｂの基板Ｇに面する部分は、図１３に示す
ように先細状に形成され、この部分にノズル本体１１２
ａ，１１２ｂの長手方向に沿って均等間隔で複数の気体
吹出し穴１１４が穿設されている。この気体吹付けノズ
ル１１２には、図示しない気体供給機構から乾燥用の気
体が供給され、気体吹出し穴１１４から基板Ｇに向けて
気体を吹き付ける。
【００９１】なお、気体吹付けノズル１１２のノズル本
体１１２ａ，１１２ｂは、裏面または表面のいずれか一
方に設けるものとしてもよい。つまり、裏面洗浄を行う
場合には基板Ｇの裏面側にのみノズル本体１１２ｂを設
けてもよく、表面洗浄を行う場合には基板Ｇの表面側に
のみ気体吹付けノズル１１２ａを設ければよい。
【００９２】上記構成の気体吹付けノズル１１２は、洗
浄用ブラシ１１１で基板Ｇの裏面の洗浄を行った後に、
基板Ｇの一辺と平行方向に移動させながら基板Ｇに乾燥
用の気体を吹き付け、基板Ｇの表裏面の乾燥を行う。
【００９３】次にこの発明の第３の実施形態について説
明する。
【００９４】この第３の実施形態では、基板Ｇを裏面側
から保持する保持部材は、図１４に示すように二つの枠
体９０ａ，９０ｂからなる枠状の第１の保持部材９０
と、この第１の保持部材９０の下方に配置され、基板Ｇ
を保持する枠状の第２の保持部材９１とから構成されて
いる。第１の保持部材９０には、枠体９０ａ，９０ｂを
分割する方向に移動させる分割駆動機構９２が設けられ
ている。この分割駆動機構９２は、駆動体としてのモー
タ９２ａと、途中から逆ねじが形成され回転によって両
側に螺入されたナット９２ｃ，９２ｃが相反する方向に
移動するボールねじ９２ｂと、枠体９０ａ，９０ｂの移
動を案内するガイド９２ｄとから概略構成される。ナッ
ト９２ｃ，９２ｃは各々枠体９０ａ，９０ｂに取り付け
られていて、モータ９２ａの駆動によって枠体９０ａ，
９０ｂがガイド９２ｄに案内されながら開閉方向に移動
する。
【００９５】第２の保持部材９１は、第１の保持部材９
０が開放（離間）されることにより保持が解除された基
板Ｇを受け取るもので、図示しない回転軸の上端に設け
られ、前記回転軸を回転させる回転駆動機構の駆動によ
って保持した基板Ｇとともに回転されるものである。第
２の保持部材９１の下方には、真空吸着により基板Ｇを
保持し、図示しない昇降駆動機構の駆動によりメインア
ーム４（図１参照）より受け取った基板Ｇを第１の保持
部材９０まで下降させ、または、第１の保持部材９０の
枠体９０ａ，９０ｂを開放することにより保持が解除さ
れた基板Ｇを第２の保持部材９１まで下降させ、あるい
は、第２の保持部材９１により振り切り乾燥を終えた基
板Ｇを、メインアーム４との基板受渡し位置まで上昇さ
せる受渡機構としてのリフタ９６が設けられている。
【００９６】第１の保持部材９０および第２の保持部材
９１にはそれぞれ第１および第２の実施形態と同様のガ
イドピン９３が、同一位置に同一本数設けられている。
【００９７】保持部材９４に保持された基板Ｇの裏面洗
浄面を回転する洗浄用ブラシ９５によって洗浄するブラ
シ洗浄装置９４は、洗浄用ブラシ９５がブラシ支持体９
８に一本のアーム９８ａによって支持された片持ち形に
なっている。また、洗浄用ブラシ９５は、第１および第
２の実施形態と同様、保持部材９０の開口部の幅と同じ
幅を有していて、この開口部から底部側に露出する基板
Ｇの裏面洗浄面の全面を洗浄できるようになっている。
【００９８】ブラシ支持体９８は、第１の実施形態と同
様の支持体としてもよいが、この実施形態では、第２の
実施形態と同様、図１４に示すように洗浄用ブラシ９５
を下方側から支持する構造になっている。第１の保持部
材９０と第２の保持部材９１との間の間隙は、洗浄用ブ
ラシ９５の通過を妨げない程度に設けられている。ブラ
シ支持体９８を基板Ｇの一辺と平行に進退移動させるブ
ラシ駆動機構９７は、基板Ｇの下方に基板Ｇの一辺と平
行に敷設されたガイド９７ｂと、このガイド９７ｂの一
端に配置された駆動体としてのモータ９７ａと、ガイド
９７ｂの両端に配設されたプーリ９７ｄ，９７ｅと、モ
ータ９７ａ，プーリ９７ｄ，９７ｅ間に張設されたベル
ト９７ｃとから概略構成されている。ベルト９７ｃはブ
ラシ支持体９８と係合している。この態様により、モー
タ９７ａが駆動するとベルト９７ｃがプーリ９７ｄ，９
７ｅ間を走行し、ベルト９７ｃに係合するブラシ支持体
９８がガイド９７ｂに沿って基板Ｇの一辺と平行方向に
移動する。
【００９９】なお、図示しない回転軸とともに第２の保
持部材９１を回転させる回転駆動機構の構成について
は、上記第１および第２の実施形態と同様であるので、
詳しい説明は省略する。また、リフタ９６を昇降させる
昇降駆動機構の構成についても、段階的に高さ位置を変
えてリフタ９６を昇降させることができる点を除き上記
第１および第２の実施形態と同様であるので、詳しい説
明は省略する。
【０１００】この実施形態においては、第１の保持部材
９０は枠体９０ａ，９０ｂの両端で容器内に支持され、
洗浄用ブラシ９４が進退移動する経路上には第１の保持
部材９０を支持する支持部材が存在しないので、１スト
ロークで基板Ｇの裏面洗浄面の全面を洗浄することがで
きる。
【０１０１】この第３の実施形態では以下のように作用
する。
【０１０２】この実施形態の裏面洗浄装置によれば、基
板Ｇを第１の保持部材９０上に保持させ、基板Ｇの裏面
を洗浄用ブラシ９５を進退移動させながら洗浄する。洗
浄の際には、基板Ｇの裏面洗浄面に対して直接洗浄液を
噴射してもよいし、洗浄用ブラシ９５に対して洗浄液を
供給するようにしてもよい。洗浄用ブラシ９５は支持部
材の干渉を受けることなく移動できるので、１ストロー
クで基板Ｇの裏面洗浄面の全面を洗浄することができ
る。洗浄用ブラシ９５による裏面洗浄面の洗浄を終了し
た後は、分割駆動機構９２を駆動して枠体９０ａ，９０
ｂを開き、リフタ９６に基板Ｇを受け渡す。リフタ９６
は図示しない昇降駆動機構の駆動により下降し、第２の
保持部材９１に基板Ｇを受け渡す。第２の保持部材９１
に保持された基板Ｇは、前記回転駆動機構の駆動により
第２の保持部材９１とともに回転されて振り切り乾燥さ
れる。
【０１０３】従って、本発明では、洗浄用ブラシ９５を
移送させることによって洗浄を行っているので、つまり
洗浄の際に基板Ｇを搬送する必要がないので、非常に限
られたスペースで基板Ｇの裏面洗浄を実現することがで
きる。しかも、第１の保持部材９０の下方に配置された
第２の保持部材９１に基板Ｇを移送し、この第２の保持
部材９１に保持させて基板Ｇを振り切り乾燥することも
可能である。
【０１０４】この実施形態によれば、第１および第２の
実施形態と同様に非常に限られたスペースで被処理基板
の裏面洗浄と乾燥処理を実現することができる。
【０１０５】この第３の実施形態でも、第１および第２
の実施形態と同様、図１３に示すような乾燥用の気体
（エアまたは窒素ガス等の不活性ガス）を吹き付ける気
体吹付けノズルを設け、この気体吹付けノズルを露出さ
れた基板Ｇの裏面を走査させることにより、基板Ｇの乾
燥を行うようにすることが可能である。この場合、基板
Ｇを回転させて振り切り乾燥を行う必要がないので、第
２の保持部材９１を設ける必要は特にない。従って、第
３の実施形態においてもさらなる省スペース化を図るこ
とができ、かつ、装置の構成を簡素なものにすることが
できる。
【０１０６】次に、本発明の第４の実施形態を図１５に
従って説明する。
【０１０７】この実施形態におけるブラシ洗浄装置は、
第１の実施形態のブラシ洗浄装置６０とほぼ同様である
ので、同一部位，同一部材には同一の符号を付して詳し
い説明は省略する。
【０１０８】この実施形態では、裏面洗浄用の洗浄用ブ
ラシ６１の他に、洗浄用ブラシ６１の上方に浮き上がり
防止部材としての洗浄用ブラシ６８を設けている。この
洗浄用ブラシ６８は基板Ｇの表面側に設けられ、図示し
ないブラシ回転機構によって回転して基板Ｇの表面の洗
浄を行う。この洗浄用ブラシ６８は、支持体６４に設け
られたアーム６８ａ，６８ａの先端に回転自在に支持さ
れた回転軸６８ｂに取り付けられている。アーム６８
ａ，６８ａは支持体６４に回動自在に軸支され、ばね６
９等の付勢手段によって常時下方に付勢されている。図
示はしないが、表面洗浄用の洗浄用ブラシ６８または基
板Ｇの表面に直接洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノズルを
設けてもよい。なお、表面洗浄用の洗浄用ブラシ６８の
ブラシ回転機構については、裏面洗浄用の洗浄用ブラシ
６１のブラシ回転機構６３と同様であるので、詳しい説
明は省略する。
【０１０９】この実施形態によれば、基板Ｇの表裏両面
を同時に洗浄することができるようになるとともに、表
面洗浄用の洗浄用ブラシ６８が洗浄の際に基板Ｇの浮き
上がりを防止するので、表裏両面の均一な洗浄が可能に
なる。つまり、この実施形態では、表面洗浄用の洗浄用
ブラシ６８が裏面洗浄用の洗浄用ブラシ６１と同期して
移送され、基板Ｇの表面を押さえて浮き上がりを防止す
る浮き上がり防止部材を構成する。
【０１１０】また、いずれかの洗浄用ブラシ６１，６８
を支持体６４に回動自在に軸支し、付勢手段で基板Ｇに
洗浄用ブラシ６１，６８を押しつける方向に付勢するこ
とにより、適度な力で基板Ｇに洗浄用ブラシ６１，６８
を押し付けて基板Ｇの両面を洗浄することができる。ま
た、洗浄用ブラシをローラブラシとすることにより、同
時に洗浄できる範囲を広げることができ、しかも被処理
基板の浮き上がりをより小さくすることができ、さらに
洗浄部をより平面的で小形化することが可能になる。
【０１１１】
【発明の効果】本発明の洗浄装置によれば、洗浄用ブラ
シを移送させることによって洗浄を行っているので、つ
まり洗浄の際に被処理基板を搬送する必要がないので、
非常に限られたスペースで被処理基板の裏面洗浄を実現
することができる。しかも、保持部材を回転させて被処
理基板を振り切り乾燥しているので、同じスペースで乾
燥処理を実現できる。すなわち、本発明の洗浄装置は、
非常に限られたスペースで被処理基板の裏面洗浄と乾燥
処理を実現することができる。
【０１１２】また、請求項２の発明によれば、１ストロ
ークで被処理基板の裏面洗浄面の全面を洗浄することが
できるので、洗浄時間を短縮化することができる。
【０１１３】また、請求項３記載の本発明の洗浄装置に
よれば、第１の保持部材の下方に配置された第２の保持
部材に被処理基板を移送し、この第２の保持部材を回転
させて被処理基板を振り切り乾燥しているので、同じ面
積内で乾燥処理を実現できる。
【０１１４】請求項４の発明によれば、気体吹付けノズ
ルより乾燥用の気体を吹き付けて被処理基板を乾燥して
いるので、同じスペースで乾燥処理を実現できる。
【０１１５】請求項５記載の洗浄装置では、洗浄用ブラ
シをローラブラシにすることによって同時に洗浄できる
範囲を広げることができ、しかも被処理基板の浮き上が
りをより小さくすることができ、さらに洗浄部をより平
面的で小形化することが可能である。
【０１１６】請求項６記載の洗浄装置では、浮き上がり
防止部材によって洗浄の際に被処理基板の浮き上がりを
防止することができるので、均一な洗浄が可能となり、
また被処理基板に対して機械的な悪影響を及ぼすことは
なくなる。
【０１１７】請求項７記載の洗浄装置では、被処理基板
の表裏両面を同時に洗浄することができるので、さらに
効率よく洗浄を行うことができる。
【０１１８】さらに、洗浄の際に被処理基板の浮き上が
りを防止することができるので、表裏両面に対し均一な
洗浄が可能となり、また被処理基板に対して機械的な悪
影響を及ぼすことはなくなる。
【０１１９】請求項８記載の洗浄装置では、例えば被処
理基板を保持部材上へまたは保持部材上から移送する
際、あるいは保持部材を回転する際、被処理基板がガイ
ドピンに接触することによる衝撃を和らげ、被処理基板
にクラック等が生じることを防止できる。また、弾性体
の表面を剛体で囲繞しているので、弾性体が早期に磨耗
するということも防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の洗浄装置が適用される装置の全体構成
の説明図である。
【図２】表面洗浄装置の構成の説明図に係り、その正面
図である。
【図３】表面洗浄装置の構成の説明図に係り、その右側
面図である。
【図４】表面洗浄装置の構成の説明図に係り、その左側
面図である。
【図５】本発明の裏面洗浄装置の第１の実施形態に係
り、その構成を説明する正面図である。
【図６】本発明の裏面洗浄装置の第１の実施形態に係
り、その構成を説明する側面図である。
【図７】本発明の裏面洗浄装置の第１の実施形態に係
り、その構成を説明する平面図である。
【図８】本発明の裏面洗浄装置の第１の実施形態に係
り、その要部の構成を説明する斜視図である。
【図９】ガイドピンの断面図である。
【図１０】第１の実施形態における裏面洗浄装置の作用
の説明図である。
【図１１】図１０に連続する第１の実施形態における裏
面洗浄装置の作用の説明図である。
【図１２】本発明の第２の実施形態に係り、その要部の
構成を説明する斜視図である。
【図１３】気体吹付けノズルを設けた実施例に係り、そ
の要部の構成を説明する斜視図である。
【図１４】本発明の第３の実施形態に係り、その要部の
構成を説明する斜視図である。
【図１５】洗浄用ブラシを基板の表面側にも設けた本発
明の第４の実施形態に係り、その要部の構成を説明する
斜視図である。
【図１６】第２の実施例の変形例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１ レジスト処理システム ２ 表面洗浄ユニット ５ 裏面洗浄ユニット ４０ ブラシ洗浄装置 ４３ ブラシ回転機構 ４４ ブラシ支持体 ４５ 超音波洗浄装置 ５０ 裏面洗浄装置 ５５ 回転軸 ５６ 回転駆動体 ６１，８５，９５ 洗浄用ブラシ ６２ 洗浄液供給機構 ６３ ブラシ回転機構 ６７ ブラシ駆動機構 ６８ 洗浄用ブラシ（浮き上がり防止部材） ７０，８０，９０ 保持部材 ７１，８１ 支持部材 ７３，８３，９３ ガイドピン ７３ａ ピン本体 ７３ 弾性体 ７３ｃ カバー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内平 則夫 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の４ 東京エレクトロン九州株 式会社大津事業所内 (72)発明者 立山 清久 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の４ 東京エレクトロン九州株 式会社大津事業所内 (56)参考文献 特開 平１−304732（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−89910（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−36660（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−52226（ＪＰ，Ａ) 実開 平５−41182（ＪＰ，Ｕ) 実開 平３−25234（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B08B 1/04 B08B 3/04 G02F 1/13 101 H01L 21/304 644

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 被処理基板の外周付近を裏面より保持す
    ると共に、保持された被処理基板の裏面洗浄面を底部側
    に露出させる開口部を有する枠状に形成された保持部材
    と、対向する２つの立設部が上向きに立設された上向きコの
    字状に形成され、前記２つの立設部によって 前記保持部
    材の対向する２辺の各略中央部を支持する支持部材と、前記２つの立設部の間に挿入可能な如く、当該２つの立
    設部の間の幅より狭くなるよう構成され、 前記露出され
    た被処理基板の裏面洗浄面に対して前記底部側より接触
    する洗浄用ブラシと、 前記洗浄用ブラシを前記対向する２辺に沿って移送する
    ブラシ駆動機構と、 前記支持部材と共に前記保持部材を回転駆動する回転駆
    動機構とを具備することを特徴とする洗浄装置。
  2. 【請求項２】 被処理基板の外周付近を裏面より保持す
    ると共に、保持された被処理基板の裏面洗浄面を底部側
    に露出させる開口部が設けられた保持部材と、 前記保持部材の隣接する２辺の非保持領域を確保しつつ
    前記保持部材を支持する支持部材と、 前記露出された被処理基板の裏面洗浄面に対して前記底
    部側より接触する洗浄用ブラシと、 前記洗浄用ブラシを前記保持部材の非保持領域に属する
    １辺側より片持ち支持すると共に、支持した洗浄用ブラ
    シを該１辺に沿って移送するブラシ駆動機構と、 前記支持部材と共に前記保持部材を回転駆動する回転駆
    動機構とを具備することを特徴とする洗浄装置。
  3. 【請求項３】 被処理基板の外周付近を裏面より保持す
    ると共に、保持された被処理基板の裏面洗浄面を底部側
    に露出させる開口部が設けられ、かつ両側に分割可能な
    第１の保持部材と、 前記露出された被処理基板の裏面洗浄面に対して前記底
    部側より接触する洗浄用ブラシと、 前記洗浄用ブラシを前記露出された被処理基板の裏面洗
    浄面に沿って移送するブラシ駆動機構と、 前記第１の保持部材を両側に分割駆動する分割駆動機構
    と、 前記第１の保持部材の下方に配置され、前記被処理基板
    を保持する第２の保持部材と、 前記第１の保持部材上の被処理基板を分割駆動によって
    広がった前記開口部を介して受け取り、前記第２の保持
    部材上に受け渡す受渡機構と、前記第２の保持部材を回
    転駆動する回転駆動機構とを具備することを特徴とする
    洗浄装置。
  4. 【請求項４】 請求項１，２または３に記載の洗浄装置
    であって、 前記露出された被処理基板の裏面洗浄面に対して前記底
    部側より乾燥用の気体を吹き付ける気体吹付けノズル
    と、 前記気体吹付けノズルを前記露出された被処理基板の裏
    面洗浄面を走査させるノズル駆動機構とを具備すること
    を特徴とする洗浄装置。
  5. 【請求項５】 請求項１〜３または４に記載の洗浄装置
    であって、 前記洗浄用ブラシがローラブラシであり、このローラブ
    ラシを回転駆動するローラ回転機構をさらに有すること
    を特徴とする洗浄装置。
  6. 【請求項６】 請求項１〜４または５に記載の洗浄装置
    であって、 前記保持部材上に保持された被処理基板を介して前記洗
    浄用ブラシと対向し、かつこの洗浄用ブラシと同期して
    移送され、前記被処理基板表面を押さえる浮き上がり防
    止部材をさらに有することを特徴とする洗浄装置。
  7. 【請求項７】 請求項１〜４または５に記載の洗浄装置
    であって、 前記保持部材上に保持された被処理基板を介して前記洗
    浄用ブラシと対向し、かつこの洗浄用ブラシと同期して
    移送され、前記被処理基板表面を洗浄する表面洗浄用ブ
    ラシをさらに有することを特徴とする洗浄装置。
  8. 【請求項８】 請求項１〜６または７に記載の洗浄装置
    であって、 前記保持部材が、被処理基板保持位置の外側に沿って被
    処理基板の横ずれを規制する複数のガイドピンを有し、
    かつこれらガイドピンがガイドピン本体を弾性体で囲繞
    し、さらにこの表面を剛体で囲繞したことを特徴とする
    洗浄装置。
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