JP2922087B2

JP2922087B2 - 基板洗浄装置

Info

Publication number: JP2922087B2
Application number: JP12569093A
Authority: JP
Inventors: 公一田上; 晋治北村; 徳行穴井; 尊三佐藤; 隆之友枝; 達也岩崎; 健吾溝崎
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1992-05-28
Filing date: 1993-05-27
Publication date: 1999-07-19
Anticipated expiration: 2014-07-19
Also published as: JPH0645303A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板洗浄装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来から液晶表示器（ＬＣＤ）の製造工
程においては、ＬＣＤ用ガラス基板等の洗浄に、洗浄ブ
ラシを用いた基板洗浄装置いわゆるスクラバーが用いら
れている。

【０００３】このような従来の基板洗浄装置では、所定
の基板搬送路を形成する如く、複数のローラーからなる
ローラ搬送機構が設けられており、これらのローラーの
間に基板搬送路を挟んで複数の洗浄ブラシが配列されて
いる。そして、ローラ搬送機構によってＬＣＤ用ガラス
基板等を一方向に搬送しつつ、洗浄ブラシで基板面を擦
り、洗浄を行うよう構成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の基板洗
浄装置では、洗浄時間を長くするためには、搬送速度を
遅くする必要があるが、このような最低搬送速度にも限
界があり、このため、多数の洗浄ブラシを搬送路に沿っ
て配列し、ブラシ洗浄部分の長さを長くして洗浄時間を
長くすることが行われており、このような場合、基板洗
浄装置が大形化するという問題があった。

【０００５】本発明は、かかる従来の事情に対処してな
されたもので、装置の大形化を招くことなく、所望時間
の洗浄を実施することができ、スペースファクターの向
上と洗浄処理のフレキシビィリティーの向上を図ること
のできる基板洗浄装置を提供しようとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち、請求項１記載
の基板洗浄装置は、被洗浄基板の両面を洗浄する如く洗
浄ブラシが配列されたブラシ洗浄機構と、前記被洗浄基
板を保持して基板搬送路に沿って搬送するとともに、該
被洗浄基板を搬送方向前後に移動させつつ前記ブラシ洗
浄機構で所望時間洗浄を実施可能に構成された基板搬送
機構と、前記被洗浄基板を保持して回転させるステージ
と、前記基板搬送機構から前記被洗浄基板を受け取り、
前記ステージに載置する上下動可能とされた基板保持機
構とを具備したことを特徴とする。

【０００７】また、請求項２の基板洗浄装置は、被洗浄
基板の両面を洗浄する如く洗浄ブラシが配列されたブラ
シ洗浄機構と、前記被洗浄基板を保持して基板搬送路に
沿って搬送するとともに、該被洗浄基板を搬送方向前後
に移動させつつ前記ブラシ洗浄機構で所望時間洗浄を実
施可能に構成された基板搬送機構と、洗浄水を供給して
該洗浄ブラシの洗浄を行う機構と、前記被洗浄基板を保
持して回転させるステージと、前記基板搬送機構から前
記被洗浄基板を受け取り、前記ステージに載置する上下
動可能とされた基板保持機構とを備えたことを特徴とす
る。また、請求項３の基板洗浄装置は、請求項１又は２
の基板洗浄装置において、前記ステージが、前記被洗浄
基板の周縁部を保持する手段を具備したことを特徴とす
る。また、請求項４の基板洗浄装置は、請求項１乃至３
いずれか１項記載の基板洗浄装置において、さらに、前
記被洗浄基板に高圧ジェット水流を供給する手段を具備
したことを特徴とする。また、請求項５の基板洗浄装置
は、被洗浄基板の両面を洗浄する如く洗浄ブラシが配列
されたブラシ洗浄機構と、前記被洗浄基板を保持して基
板搬送路に沿って搬送するとともに、該被洗浄基板を搬
送方向前後に移動させつつ前記ブラシ洗浄機構で所望時
間洗浄を実施可能に構成された基板搬送機構とを具備し
た第１の洗浄部と、前記被洗浄基板を保持して回転させ
るステージと、前記基板搬送機構から前記被洗浄基板を
受け取り前記ステージに載置する上下動可能とされた基
板保持機構と、前記被洗浄基板に高圧ジェット水流を供
給する手段とを具備した第２の洗浄部とが、並べて配列
されたことを特徴とする。また、請求項６の基板洗浄装
置は、請求項４又は５の基板洗浄装置において、前記高
圧ジェット水流の圧力が１００〜１５０Ｋｇ／ｃｍ ² と
されたことを特徴とする。また、請求項７の基板洗浄装
置は、請求項１乃至６いずれか１項記載の基板洗浄装置
において、さらに、前記被洗浄基板に超音波水流を供給
する手段を具備したことを特徴とする。また、請求項８
の基板洗浄装置は、請求項７の基板洗浄装置において、
前記超音波水流の超音波の周波数が１±０．２ＭＨｚと
されたことを特徴とする。また、請求項９の基板洗浄装
置は、請求項１乃至８いずれか１項記載の基板洗浄装置
において、さらに、前記被洗浄基板に、リンス液を供給
する手段を具備したことを特徴とする基板洗浄装置。ま
た、請求項１０の基板洗浄装置は、請求項１乃至９いず
れか１項記載の基板洗浄装置において、前記基板搬送機
構が、前記被洗浄基板の両端を保持する一対のアームを
具備したことを特徴とする。また、請求項１１の基板洗
浄装置は、請求項１乃至９いずれか１項記載の基板洗浄
装置において、前記基板搬送機構が、前記被洗浄基板を
挟んで上下に配置された複数のローラによって前記被洗
浄基板を搬送するよう構成されたことを特徴とする。ま
た、請求項１２の基板処理システムは、搬入位置に設け
られ，被洗浄基板を保持して上下動自在とされた第１の
基板保持機構と、被洗浄基板の両面を洗浄する如く洗浄
ブラシが配列されたブラシ洗浄機構と、前記第１の基板
保持機構から受け取った前記被洗浄基板を保持して基板
搬送路に沿って搬送するとともに、該被洗浄基板を搬送
方向前後に移動させつつ前記ブラシ洗浄機構で所望時間
洗浄を実施可能に構成された基板搬送機構とを具備した
第１の洗浄部と、前記被洗浄基板を保持して回転させる
ステージと、前記基板搬送機構から前記被洗浄基板を受
け取り前記ステージに載置する上下動可能とされた第２
の基板保持機構と、前記被洗浄基板に高圧ジェット水流
を供給する手段とを具備した第２の洗浄部とが、並べて
配列された洗浄装置を有し、前記洗浄装置外に設けられ
たメインアームによって前記第１の基板保持機構に前記
被洗浄基板を搬入するよう構成されたことを特徴とす
る。また、請求項１３の基板処理システムは、請求項１
２の基板処理システムにおいて、前記ステージが、前記
被洗浄基板の周縁部を保持する手段を具備したことを特
徴とする基板処理。また、請求項１４の基板処理システ
ムは、請求項１２又は１３の基板処理システムにおい
て、前記高圧ジェット水流の圧力が１００〜１５０Ｋｇ
／ｃｍ ² とされたことを特徴とする。また、請求項１５
の基板処理システムは、請求項１２乃至１４いずれか１
項記載の基板処理システムにおいて、さらに、前記被洗
浄基板に超音波水流を供給する手段を具備したことを特
徴とする。また、請求項１６の基板処理システムは、請
求項１５の基板処理システムにおいて、前記超音波水流
の超音波の周波数が１±０．２ＭＨｚとされたことを特
徴とする。また、請求項１７の基板処理システムは、請
求項１２乃至１５いずれか１項記載の基板処理システム
において、さらに、前記被洗浄基板に、リンス液を供給
する手段を具備したことを特徴とする。また、請求項１
８の基板処理システムは、請求項１２乃至１７いずれか
１項記載の基板処理システムにおいて、前記基板搬送機
構が、前記被洗浄基板の両端を保持する一対のアームを
具備したことを特徴とする。また、請求項１９の基板処
理システムは、請求項１２乃至１７いずれか１項記載の
基板処理システムにおいて、前記基板搬送機構が、前記
被洗浄基板を挟んで上下に配置された複数のローラによ
って前記被洗浄基板を搬送するよう構成されたことを特
徴とする。

【０００８】

【作用】上記構成の本発明の基板洗浄装置では、基板搬
送機構によって被洗浄基板を搬送方向前後に往復させる
ように移動させながら、ブラシ洗浄機構で所望時間洗浄
を実施することができる。したがって、装置の長さを長
くすることなく、長時間の洗浄を行うことができ、スペ
ースファクターの向上と洗浄処理のフレキシビィリティ
ーの向上を図ることができる。

【０００９】また、請求項２記載の基板洗浄装置では、
上記機構に加えて、非洗浄時に、洗浄ブラシのほぼ中央
部から水を供給して該洗浄ブラシの洗浄を行う機構を備
えている。したがって、基板洗浄用のリンスノズル等か
ら純水を供給することなく洗浄ブラシの洗浄を実施する
ことができ、基板洗浄用のリンスノズル等からの高圧の
純水の水圧による洗浄ブラシの変形を防止することがで
きる。これにより、ランニングコストの低減およびメン
テナンス頻度の低減を図ることができる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明をＬＣＤ用ガラス基板の洗浄を
行う基板洗浄装置に適用した一実施例を、図面を参照し
て説明する。

【００１１】図１および図２に示すように、基板洗浄ユ
ニット１には、ブラシ洗浄を行うブラシ洗浄装置（スク
ラバー）２と、高圧ジェット水流および超音波によって
洗浄を行う高圧・超音波洗浄装置３が一体的に設けられ
ている。

【００１２】ブラシ洗浄装置２には、ＬＣＤ用ガラス基
板４を係止して直線的（図中左右方向）に搬送する基板
搬送アーム５が設けられており、この基板搬送アーム５
によるＬＣＤ用ガラス基板４の搬送路を挟む如く上下に
多数の表面洗浄ブラシ６および裏面洗浄ブラシ７と、図
示しないリンス液供給ノズルが設けられている。また、
ＬＣＤ用ガラス基板４の搬入位置には、ＬＣＤ用ガラス
基板４を真空チャックにより吸着保持して上下動および
９０度回転可能に構成された基板保持機構８が設けられ
ている。

【００１３】上記基板搬送アーム５は、図３に示すよう
に、ＬＣＤ用ガラス基板４下面の両側端部を保持する如
く２つ設けられており、これらの基板搬送アーム５は、
リニアガイド１０によってガイドされ、タイミングベル
ト１１、プーリー１２、シャフト１３等によって伝達さ
れるアーム駆動モータ１４の駆動力によって図示矢印方
向に移動可能に構成されている。基板搬送アーム５とタ
イミングベルト１１とは、締結部材１１ａによって締結
されている。また、アーム駆動モータ１４は、ＣＰＵ等
から構成された制御装置１００によって制御され、所望
により搬送方向に往復運動を繰り返して、所定時間ＬＣ
Ｄ用ガラス基板４の洗浄を実施することができるよう構
成されている。

【００１４】図４に示すように、ブラシ洗浄装置２の床
２ａの上には、二重の側壁２ｂ，２ｃが建てられ、二重
側壁２ｂ，２ｃの相互間にタイミングベルト１１、プー
リー１２等が収容されている。リニアガイド１０及びア
ーム駆動モータ１４は、内側壁２ｃに固定されている。
基板搬送アーム５は、支持スライダ１０ａによって支持
され、支持スライダ１０ａは内側壁２ｃの開口２ｄを通
って、リニアガイド１０に摺動可能に取り付けられてい
る。シャフト１３が一対の内側壁２ｃを貫通し、一方端
部に大小プーリー１２ａ、１２ｂが取り付けられてい
る。シャフト１３の軸受１３ａは内側壁２ｃに取り付け
られている。

【００１５】図５、図６に示すように、小プーリー１２
ｂとプーリー１２との間にタイミングベルト１１が掛け
渡されている。大プーリー１２ａと駆動用プーリー１４
ａとの間にもタイミングベルト１１が掛け渡されてい
る。リニアガイド１０及び開口２ｄは側壁２ｅから側壁
２ｆまで設けられている。

【００１６】図５に示すように、基板搬送アーム５の先
端及び基端部には内方に延びだす保持突起部５ａ、５ｂ
が設けられ、ＬＣＤ用ガラス基板４の四隅を押さえるた
めの凹所５ｃが形成されている。

【００１７】次に、表面洗浄ブラシ６および裏面洗浄ブ
ラシ７について説明する。

【００１８】図２に示すように、表面洗浄ブラシ６およ
び裏面洗浄ブラシ７はそれぞれ２列に配列されたブラシ
群から構成され、表面洗浄ブラシ６のグループと裏面洗
浄ブラシ７のグループは互い違いに配列されている。各
ブラシはナイロン又はモヘヤの繊維でできている。図７
に示すように、表面洗浄ブラシ６および裏面洗浄ブラシ
７の基体３０には、それぞれタイミングベルト２０が巻
回されており、モータ（図示せず）の駆動軸２１によっ
てタイミングベルト２０を動かすと、表面洗浄ブラシ６
および裏面洗浄ブラシ７のそれぞれが軸まわりに回転す
るようになっている。なお、表面洗浄ブラシ６および裏
面洗浄ブラシ７は昇降機構（図示せず）によってそれぞ
れ支持されている。

【００１９】これらの表面洗浄ブラシ６および裏面洗浄
ブラシ７は、外形円筒状に構成されており、図８に示す
ように、表面洗浄ブラシ６には、基体３０内の中央部に
リンス液流路３１及びノズル孔３１ａが形成されてい
る。また、基体３０には環状にブラシ３２が植設されて
いる。リンス液流路３１は、加圧ポンプを経由してリン
ス液供給源に連通している。なお、各ノズル孔３１ａの
吐出口がブラシ３２に向かって開口しているので、ブラ
シ３２それ自身を洗浄することができ、またブラシ３２
の乾燥を防止することができる。

【００２０】また、加圧ポンプによってリンス液流路３
１に供給されるリンス液は１０〜２０Ｋｇ／ｃｍ²の圧
力（比較的低圧）であることが望ましい。なぜなら、リ
ンス液の供給圧力が高すぎると、ブラシ３２が変形する
からである。このようなリンス液としては純水を用いる
ことが望ましい。

【００２１】なお、裏面洗浄ブラシ７も同様に構成され
ている。また、裏面洗浄ブラシ７は上向きに配置されて
いるため、裏面洗浄ブラシ７に対しては、上側（表面洗
浄ブラシ６側）に設けられた図示しない供給ノズルから
純水等を供給することができるよう構成してもよい。こ
のような供給ノズルは、ＬＣＤ用ガラス基板４洗浄用の
リンス液供給ノズルとは別途に設けられ、ＬＣＤ用ガラ
ス基板４洗浄用のリンス液供給ノズルより低圧で純水等
を供給する。これにより、水圧で表面洗浄ブラシ６およ
び裏面洗浄ブラシ７が変形することを防止することがで
きる。

【００２２】次に高圧・超音波洗浄装置３について説明
する。

【００２３】図９に示すように、高圧・超音波洗浄装置
３の下部は、容器２００によって取り囲まれており、容
器２００内の廃液がドレン２０１を介して排水されるよ
うになっている。容器２００の中央開口を介して、ＬＣ
Ｄ用ガラス基板４を保持する基板保持機構２０２が設け
られている。基板保持機構２０２の軸２０３は軸受２０
４によってブロック２０５に回転可能に支持されてい
る。軸２０３の下端部はモータ２０６の駆動軸に連結さ
れている。さらに、モータ２０６のボディには、エアシ
リンダ２０７のロッド２０８が連結され、これによって
基板保持機構２０２が位置Ｌまたは位置Ｈまでリフトさ
れるようになっている。

【００２４】ディスクステージ２１０の上には、複数本
のポスト２１１が立設している。ポスト２１１はＬＣＤ
用ガラス基板４の四隅の端面に当接される部材である。
ディスクステージ２１０は、一対の軸受２１２を介して
固定ブロック２１３に回転可能に取り付けられている。
ディスクステージ２１０の下部には駆動装置２１４の駆
動力伝達部材２１５が連結され、ディスクステージ２１
０が約３０００ｒｐｍ程度で回転可能に構成されてい
る。

【００２５】図１０に示すように、基板保持機構２０２
の上部は円板状であり、この上に３本の突起２２０が立
設している。図１１に示すように、各突起２２０には上
部に開口する排気通路２２１が設けられている。図９に
示すように、排気通路２２１はモータ２０６を経由して
排気装置２２２に連通している。排気通路２２１を排気
すると、ＬＣＤ用ガラス基板４は突起２２０に吸着保持
される。突起２２０は耐蝕性樹脂（例えばデルリン）又
はセラミックスでつくられている。なお、ブラシ洗浄装
置２の基板保持機構８もこの基板保持機構２０２と同様
に構成されている。

【００２６】次に、リンス液供給機構および高圧水／超
音波洗浄機構について説明する。

【００２７】図２および図９に示すように、高圧・超音
波洗浄装置３の両側には、リンス液供給機構のノズルユ
ニット２３０および高圧水／超音波洗浄機構のノズルユ
ニット２３１が設けられている。２つのノズルユニット
２３０、２３１は、駆動機構２３２によってＹ軸方向に
移動されるようになっており、側部開口２３３を通って
それぞれのノズルユニット２３０、２３１がリンス室２
３４内に出入りするように設けられている。なお、ノズ
ルユニット２３０、２３１はＸ軸方向に延びている。

【００２８】ノズルユニット２３０は、２系統のノズル
２３５を有している。各系統のノズル２３５は、導管２
３６を介して加圧ポンプ２３７にそれぞれ連通し、さら
に２つの加圧ポンプ２３７はリンス液供給源２３８に連
通している。リンス液供給源２３８にはリンス液として
純水が収容されている。

【００２９】ノズルユニット２３１は、２系統のノズル
２３９、２４０を有している。ノズル２３９は、導管２
４１を介して高圧ジェット装置２４２に連通し、ノズル
２４０は導管２４３を介して超音波水流供給装置２４４
に連通している。高圧ジェット装置２４２は１００〜１
５０Ｋｇ／ｃｍ²の高圧ジェット水の供給源を内蔵して
いる。また、超音波水流供給装置２４４は、周波数１Ｍ
Ｈｚの超音波を発生させる振動子と、純水を供給する水
供給源とを内蔵している。なお、超音波の周波数は１Ｍ
Ｈｚであることが好ましいが、１±０．２ＭＨｚの範囲
内であれば使用可能である。

【００３０】なお、リンス液供給源２３８、加圧ポンプ
２３７、高圧ジェット装置２４２、および超音波水流供
給装置２４４は、それぞれ所定のレシピに基づき制御装
置１００によって制御されるようになっている。

【００３１】図１２は、上記構成の基板洗浄ユニット１
が配置された基板処理システムの構成を示すものであ
る。この基板処理システムでは、一方の端部にＬＣＤ用
ガラス基板４を収容する複数のカセット４ａを載置可能
に構成されたカセットステーション６０が設けられてお
り、このカセットステーション６０の側方には、中央に
ＬＣＤ用ガラス基板４を搬送するためのメインアーム６
１、このメインアーム６１の両側に各処理装置が位置す
るよう配列されている。

【００３２】処理装置としては、カセットステーション
６０側方に位置するように、上記ブラシ洗浄装置２と高
圧・超音波洗浄装置３からなる基板洗浄ユニット１が、
メインアーム６１を挟むように2 組設けられており、こ
のうち一方の基板洗浄ユニット１の側方に、2 台の加熱
装置６２が積み重ねるようにして配置されている。

【００３３】さらに、これらの機器の側方には、接続用
ユニット６３を介して、ＬＣＤ用ガラス基板４にフォト
レジストを塗布する前にこれを疎水化処理するアドヒー
ジョン処理装置６４、このアドヒージョン処理装置６４
の下方に配置されたクーリング装置６５、ＬＣＤ用ガラ
ス基板４にフォトレジストを塗布するレジスト塗布装置
６６、それぞれ2 台ずつ積み重ねるようにして配置され
た合計4 台の加熱装置６２、および現像装置６７が配列
されている。

【００３４】以上のように構成された基板処理システム
においては、次のようにしてＬＣＤ用ガラス基板４の処
理を行う。

【００３５】前工程から搬送され、カセットステーショ
ン６０に載置されたカセット４ａ内のＬＣＤ用ガラス基
板４は、まず、図示しない搬送ピンセットにより取り出
された後、移し替え部６０Ａを経由してメインアーム６
１により保持されて基板洗浄ユニット１のブラシ洗浄装
置２に搬送される。

【００３６】ブラシ洗浄装置２では、図１に示すよう
に、メインアーム６１によって搬入位置に保持されてい
るＬＣＤ用ガラス基板４を、基板保持機構８で吸着保持
して持ち上げ、この状態でメインアーム６１を退避させ
る。次に、基板保持機構８を回転させつつ下降させて、
ＬＣＤ用ガラス基板４を９０度回転させ例えばその長辺
を基板搬送アーム５側にした状態で基板搬送アーム５に
受け渡す。

【００３７】この後、基板搬送アーム５により、ＬＣＤ
用ガラス基板４を、表面洗浄ブラシ６と裏面洗浄ブラシ
７との間に搬送し、これらのブラシを回転させつつリン
ス液例えば純水等を噴出させる。そして、モータ１４を
交互に正転および逆転させ、例えば０．０５ｍ／分〜
０．１５ｍ／分程度の速度でゆっくり前後に移動させて
ＬＣＤ用ガラス基板４の洗浄（スクラビング）を行う。
この時、予め設定されている洗浄時間に応じ、洗浄時間
が長い場合は、ＬＣＤ用ガラス基板４を何回も往復させ
て洗浄を実施する。なお、表面洗浄ブラシ６、裏面洗浄
ブラシ７をＬＣＤ用ガラス基板４から離した後において
も、洗浄液を流し続けてＬＣＤ用ガラス基板４をリンシ
ングしてもよい。

【００３８】このようにして、所定時間表面洗浄ブラシ
６と裏面洗浄ブラシ７による洗浄を実施した後、基板搬
送アーム５により、ＬＣＤ用ガラス基板４を高圧・超音
波洗浄装置３のリンス室２３４内に搬送する。

【００３９】高圧・超音波洗浄装置３では、図９に示す
ように、搬入高さＬに位置するＬＣＤ用ガラス基板４
を、基板保持機構２０２をＨの高さまで上昇させ持ち上
げつつ吸着保持し、この状態で基板搬送アーム５を退避
させる。そして、基板保持機構２０２を下降させて、Ｌ
ＣＤ用ガラス基板４をディスクステージ２１０に受け渡
す。

【００４０】この後、ノズルユニット２３１をＬＣＤ用
ガラス基板４上方に移動させ、高圧ジェット水流および
超音波水流のどちらかあるいは両方をＬＣＤ用ガラス基
板４に供給し、洗浄処理を行う。この時、ＬＣＤ用ガラ
ス基板４を低速回転させながら処理を行う。なお、高圧
ジェット水流の圧力は１００〜１５０Ｋｇ／ｃｍ²であ
り、その最大流量は０．５リットル／分である。さら
に、超音波の発振を停止して、水圧１０〜２０Ｋｇ／ｃ
ｍ²、流量２〜１０リットル／分の条件でＬＣＤ用ガラ
ス基板４をリンスしてもよい。

【００４１】次に、ノズルユニット２３１をリンス室２
３４から退去させ、ノズルユニット２３０をリンス室２
３４内に搬入する。そして、水圧１０〜２０Ｋｇ／ｃｍ
²、流量２〜１０リットル／分の条件でＬＣＤ用ガラス
基板４に純水をかけてリンスする。なお、このリンシン
グ処理の場合は水圧を１〜２Ｋｇ／ｃｍ²の低圧として
もよい。

【００４２】上記洗浄処理が終了すると、ＬＣＤ用ガラ
ス基板４を高速回転させ、乾燥を実施するとともに、ノ
ズルユニット２３１を待機位置に戻す。そして、乾燥が
終了すると、基板保持機構２０２によってＬＣＤ用ガラ
ス基板４をＨの位置まで持ち上げ、メインアーム６１を
ＬＣＤ用ガラス基板４の下に挿入した後、基板保持機構
２０２を下降させることによってＬＣＤ用ガラス基板４
をメインアーム６１に受け渡す。

【００４３】この後、ＬＣＤ用ガラス基板４は、加熱装
置６４に搬送され、ここで乾燥された後、アドヒージョ
ン処理装置６６による疎水化処理、クーリング装置６７
による冷却、フォトレジスト塗布装置６８によるレジス
ト塗布、加熱装置６４によるベーキング処理を順次施さ
れる。そして、この後図示しない露光装置に搬送され、
ここで露光された後、現像装置６７による現像処理が行
われ、メインアーム６１によってカセットステーション
６０に搬送される。

【００４４】上記第１実施例によれば、基板搬送アーム
５上にＬＣＤ用ガラス基板４を支持して搬送し、表面洗
浄ブラシ６と裏面洗浄ブラシ７との間を往復動作させて
このＬＣＤ用ガラス基板４の洗浄を実施するので、装置
の大形化を招くことなく、所望時間の洗浄を実施するこ
とができ、スペースファクターの向上と洗浄処理のフレ
キシビィリティーの向上を図ることができる。

【００４５】さらに、表面洗浄ブラシ６および裏面洗浄
ブラシ７にＬＣＤ用ガラス基板４の洗浄に用いる高圧純
水等を当てることなく、その洗浄および乾燥防止を行う
ことができるので、水圧による表面洗浄ブラシ６および
裏面洗浄ブラシ７の変形等を防止することができ、ブラ
シ寿命の長期化によるメンテナンス頻度の低減およびラ
ンニングコストの低減を図ることができる。

【００４６】次に、図１３〜図１８を参照しながら第２
の実施例について説明する。第２実施例が第１実施例と
共通する部分の説明は省略する。

【００４７】図１３に示すように、第２の実施例の基板
搬送機構は、上下ローラ７１、７２を有するものであ
る。複数本の上下ローラ７１、７２は、スクラバー室７
０に水平かつ交互に配列されている。上下ローラ７１、
７２からなる基板搬送路の上流側には基板保持機構７９
が設けられ、基板搬送路の下流側にはリフトホルダ７７
が設けられている。基板保持機構７９は上述の基板保持
機構８、２０２と同じ構成である。リフトホルダ７７
は、駆動機構８０によってＸ軸方向及びＺ軸方向に移動
され、さらに図１７および図１８に示す吸着部である溝
８７が排気されるようになっている。

【００４８】図１４に示すように、下ローラ７１と上ロ
ーラ７２との相互間には、上ブラシ７３及び下ブラシ７
４がそれぞれ設けられている。上ブラシ７３及び下ブラ
シ７４は、それぞれ横２列に並び、上ブラシ７３は下ロ
ーラ７１と対面し、下ブラシ７４は上ローラ７２と対面
している。また、上ブラシ７３及び下ブラシ７４のそれ
ぞれは、垂直軸まわりに回転されうるようになってい
る。

【００４９】図１５に示すように、上下ローラ７１、７
２の周面に１対のＯリング７５がそれぞれ嵌め込まれ、
Ｏリング７５が基板４の両面周縁部に直接接触するよう
になっている。Ｏリング７５は、フッ素系ゴム、ＦＰ
Ｍ、六弗化プロピレン、または弗化ビニリデン共重合体
でできている。さらに、下ローラ７１の両端には、ガイ
ド７６がそれぞれ取り付けられ、両ガイド７６によって
基板４が搬送路中央に案内されるようになっている。な
お、下ローラ７１の軸は駆動モータ（図示せず）に連結
されているが、上ローラ７２は空回りするように支持さ
れている。この場合に上ローラ７２も回転駆動しうるよ
うにしてもよい。

【００５０】図１６に示すように、リフトホルダ７７
は、部材８１、８２、８３、８４によって駆動機構８０
の可動部材（図示せず）に連結されている。リフトホル
ダ７７の下面には１対の保持部材８５が取り付けられ、
各保持部材８５の凹所に基板４の周縁部が挿入されるよ
うになっている。この場合に、基板４の周縁部は端面か
ら１００ｍｍ程度がそれぞれ保持部材８５の凹所に挿入
される。なお、リフトホルダ７７は、下ローラ７１のレ
ベルより少し上に位置し、この位置で基板４を搬送する
ようになっている。

【００５１】図１７、図１８に示すように、保持部材８
５の凹所の保持面８６には、溝８７が形成され、この溝
８７にて内部通路８８の開口８８ａが開口している。な
お、内部通路８８は接続部材８９及びホース（図示せ
ず）を介して排気装置（図示せず）に連通している。

【００５２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の基板洗浄
装置によれば、装置の大形化を招くことなく、所望時間
の洗浄を実施することができ、スペースファクターの向
上と洗浄処理のフレキシビィリティーの向上を図ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の基板洗浄ユニットの構成を
示す図。

【図２】図１の基板洗浄ユニットの上面構成を示す図。

【図３】図１の基板洗浄ユニットの要部構成を示す図。

【図４】図１の基板洗浄ユニットの要部構成を示す図。

【図５】図１の基板洗浄ユニットの要部構成を示す図。

【図６】図１の基板洗浄ユニットの要部構成を示す図。

【図７】図１の基板洗浄ユニットの要部構成を示す図。

【図８】図１の基板洗浄ユニットの要部構成を示す図。

【図９】図１の基板洗浄ユニットの要部構成を示す図。

【図１０】図１の基板洗浄ユニットの要部構成を示す
図。

【図１１】図１の基板洗浄ユニットの要部構成を示す
図。

【図１２】図１の基板洗浄ユニットが配置された基板処
理システムの構成を示す図。

【図１３】他の実施例の基板洗浄ユニットの上面構成を
示す図。

【図１４】図１３の基板洗浄ユニットの要部構成を示す
図。

【図１５】図１３の基板洗浄ユニットの要部構成を示す
図。

【図１６】図１３の基板洗浄ユニットの要部構成を示す
図。

【図１７】図１３の基板洗浄ユニットの要部構成を示す
図。

【図１８】図１３の基板洗浄ユニットの要部構成を示す
図。

【符号の説明】

１基板洗浄ユニット２ブラシ洗浄装置３高圧・超音波洗浄装置４ＬＣＤ用ガラス基板５基板搬送アーム６表面洗浄ブラシ７裏面洗浄ブラシ８基板保持機構

フロントページの続き (72)発明者穴井徳行熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン佐賀株式会社熊本事業所内 (72)発明者佐藤尊三熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン佐賀株式会社熊本事業所内 (72)発明者友枝隆之熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン佐賀株式会社熊本事業所内 (72)発明者岩崎達也熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン佐賀株式会社熊本事業所内 (72)発明者溝崎健吾熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地東京エレクトロン佐賀株式会社熊本事業所内 (56)参考文献特開昭63−234536（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−279857（ＪＰ，Ａ) 特開平３−70133（ＪＰ，Ａ) 特開平１−105376（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) B08B 1/00 - 13/00 H01L 21/304

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】被洗浄基板の両面を洗浄する如く洗浄ブ
ラシが配列されたブラシ洗浄機構と、前記被洗浄基板を保持して基板搬送路に沿って搬送する
とともに、該被洗浄基板を搬送方向前後に移動させつつ
前記ブラシ洗浄機構で所望時間洗浄を実施可能に構成さ
れた基板搬送機構と、前記被洗浄基板を保持して回転させるステージと、前記基板搬送機構から前記被洗浄基板を受け取り、前記
ステージに載置する上下動可能とされた基板保持機構と
を具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】被洗浄基板の両面を洗浄する如く洗浄ブ
ラシが配列されたブラシ洗浄機構と、前記被洗浄基板を保持して基板搬送路に沿って搬送する
とともに、該被洗浄基板を搬送方向前後に移動させつつ
前記ブラシ洗浄機構で所望時間洗浄を実施可能に構成さ
れた基板搬送機構と、洗浄水を供給して該洗浄ブラシの洗浄を行う機構と、前記被洗浄基板を保持して回転させるステージと、前記基板搬送機構から前記被洗浄基板を受け取り、前記
ステージに載置する上下動可能とされた基板保持機構と
を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】請求項１又は２の基板洗浄装置におい
て、前記ステージが、前記被洗浄基板の周縁部を保持する手
段を具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項４】請求項１乃至３いずれか１項記載の基板
洗浄装置において、さらに、前記被洗浄基板に高圧ジェット水流を供給する
手段を具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項５】被洗浄基板の両面を洗浄する如く洗浄ブ
ラシが配列されたブラシ洗浄機構と、前記被洗浄基板を
保持して基板搬送路に沿って搬送するとともに、該被洗
浄基板を搬送方向前後に移動させつつ前記ブラシ洗浄機
構で所望時間洗浄を実施可能に構成された基板搬送機構
とを具備した第１の洗浄部と、前記被洗浄基板を保持して回転させるステージと、前記
基板搬送機構から前記被洗浄基板を受け取り前記ステー
ジに載置する上下動可能とされた基板保持機構と、前記
被洗浄基板に高圧ジェット水流を供給する手段とを具備
した第２の洗浄部とが、並べて配列されたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項６】請求項４又は５の基板洗浄装置におい
て、前記高圧ジェット水流の圧力が１００〜１５０Ｋｇ／ｃ
ｍ ² とされたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項７】請求項１乃至６いずれか１項記載の基板
洗浄装置において、さらに、前記被洗浄基板に超音波水流を供給する手段を
具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項８】請求項７の基板洗浄装置において、前記超音波水流の超音波の周波数が１±０．２ＭＨｚと
されたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項９】請求項１乃至８いずれか１項記載の基板
洗浄装置において、さらに、前記被洗浄基板に、リンス液を供給する手段を
具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１０】請求項１乃至９いずれか１項記載の基
板洗浄装置において、前記基板搬送機構が、前記被洗浄基板の両端を保持する
一対のアームを具備したことを特徴とする基板洗浄装
置。
【請求項１１】請求項１乃至９いずれか１項記載の基
板洗浄装置において、前記基板搬送機構が、前記被洗浄基板を挟んで上下に配
置された複数のローラによって前記被洗浄基板を搬送す
るよう構成されたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１２】搬入位置に設けられ，被洗浄基板を保
持して上下動自在とされた第１の基板保持機構と、被洗
浄基板の両面を洗浄する如く洗浄ブラシが配列されたブ
ラシ洗浄機構と、前記第１の基板保持機構から受け取っ
た前記被洗浄基板を保持して基板搬送路に沿って搬送す
るとともに、該被洗浄基板を搬送方向前後に移動させつ
つ前記ブラシ洗浄機構で所望時間洗浄を実施可能に構成
された基板搬送機構とを具備した第１の洗浄部と、前記被洗浄基板を保持して回転させるステージと、前記
基板搬送機構から前記被洗浄基板を受け取り前記ステー
ジに載置する上下動可能とされた第２の基板保持機構
と、前記被洗浄基板に高圧ジェット水流を供給する手段
とを具備した第２の洗浄部とが、並べて配列された洗浄装置を有し、前記洗浄装置外に設けられたメインアームによって前記
第１の基板保持機構に前記被洗浄基板を搬入するよう構
成されたことを特徴とする基板処理システム。
【請求項１３】請求項１２の基板処理システムにおい
て、前記ステージが、前記被洗浄基板の周縁部を保持する手
段を具備したことを特徴とする基板処理システム。
【請求項１４】請求項１２又は１３の基板処理システ
ムにおいて、前記高圧ジェット水流の圧力が１００〜１５０Ｋｇ／ｃ
ｍ ² とされたことを特徴とする基板処理システム。
【請求項１５】請求項１２乃至１４いずれか１項記載
の基板処理システムにおいて、さらに、前記被洗浄基板に超音波水流を供給する手段を
具備したことを特徴とする基板処理システム。
【請求項１６】請求項１５の基板処理システムにおい
て、前記超音波水流の超音波の周波数が１±０．２ＭＨｚと
されたことを特徴とする基板処理システム。
【請求項１７】請求項１２乃至１５いずれか１項記載
の基板処理システムにおいて、さらに、前記被洗浄基板に、リンス液を供給する手段を
具備したことを特徴とする基板処理システム。
【請求項１８】請求項１２乃至１７いずれか１項記載
の基板処理システムにおいて、前記基板搬送機構が、前記被洗浄基板の両端を保持する
一対のアームを具備したことを特徴とする基板処理シス
テム。
【請求項１９】請求項１２乃至１７いずれか１項記載
の基板処理システムにおいて、前記基板搬送機構が、前記被洗浄基板を挟んで上下に配
置された複数のローラによって前記被洗浄基板を搬送す
るよう構成されたことを特徴とする基板処理システム。