KR20010037210A - 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법 - Google Patents
기판 세정 장치 및 기판 세정 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20010037210A KR20010037210A KR1019990044599A KR19990044599A KR20010037210A KR 20010037210 A KR20010037210 A KR 20010037210A KR 1019990044599 A KR1019990044599 A KR 1019990044599A KR 19990044599 A KR19990044599 A KR 19990044599A KR 20010037210 A KR20010037210 A KR 20010037210A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- cleaning
- contact
- lower surfaces
- side portion
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 100
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 208000031481 Pathologic Constriction Diseases 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000036262 stenosis Effects 0.000 description 1
- 208000037804 stenosis Diseases 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133302—Rigid substrates, e.g. inorganic substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
본 발명은 기판의 상부 및 하부면 뿐만이 아니라 측면부에 협착된 이물질까지도 제거할 수 있도록 한 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판의 상부 및 하부면에 접하게끔 배치된 상부 및 하부 세정 모듈과 기판의 측면부에 배치된 측면 세정 모듈을 구비한다.
이에 따라, 기판의 상부 및 하부면 뿐만이 아니라 기판 측면부에 달라붙은 이물질까지도 제거할 수 있게 되어 액정패널 제조시 수율이 향상된다.
Description
본 발명은 기판 세정 장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 기판의 상부 및 하부면 뿐만이 아니라 측면부에 협착된 이물질까지도 제거할 수 있는 기판 세정 장치 및 방법에 관한 것이다.
액정표시패널(Liquid Crystal Display Panel : ″LCD″)은 기판 상에 전극 물질, 반도체층 및 절연막의 도포와 에칭 작업을 통한 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor : ″TFT″)의 형성과 상/하 기판의 합착, 그리고 액정 주입 및 봉지 등의 여러 가지 공정을 거쳐 완성되게 된다. 이러한 액정표시패널의 여러 제조 과정에서는 여러 가지 이물질 및 기판 파편 등의 고착성 입자나 이물질 등이 기판에 달라붙어 기판을 오염시키는 경우가 종종 발생한다. 이러한 이물질에 의한 불량을 감소시키기 위하여 액정표시패널의 제조 공정 중에는 각 단계 별로 기판 세정 작업이 추가되게 된다. 기판의 세정 작업을 필요로 하는 각 제조 공정을 살펴보면, 먼저 기판 상에 TFT 어레이를 형성하는 단계의 전후와, 배향막을 형성하고 액정 배향을 위해 배향막을 러빙하는 과정 후와, 상/하 기판을 합착한 다음 넓은 기판에서 각 패널들을 절단해내는 스크라이브(Scribe) 과정 후에, 그리고 패널에 액정을 주입하고 주입부를 봉지하는 공정 후에 각각 기판의 세정 작업이 이루어지게 된다.
실제 기판의 세정 작업은 도 1에 도시된 바와 같은 기판 세정 모듈에 의해 이루어지게 된다. 도 1은 종래의 기판 세정 장치를 도시한 도면이다. 도 1을 참조하면, 종래의 기판 세정 장치는 기판(20)의 상부 및 하부면을 세정하기 위한 세정 브러쉬(Brush)(22)를 구비하고 있다. 세정 브러쉬(22)는 기판(20)의 상부 및 하부면에 접하게끔 기판(20)의 상/하에 쌍으로 마련되어진다. 실제 세정 작업은 도 1에 도시된 바와 같이 기판(20)이 상부 및 하부 세정 브러쉬(22)의 사이를 화살표 방향으로 관통해 진행하고, 이 때 세정 브러쉬(22)가 빠른 속도로 회전하면서 기판(20)의 상부 및 하부면에 달라붙은 고착성 입자 및 이물질들을 제거해내게 된다.
그런데, 종래의 기판 세정 장치에서의 문제점은 도 1에 도시된 바와 같이 세정 브러쉬(22)가 기판(20)의 상부 및 하부면에 접하게끔 형성되어 있기 때문에 기판(20)의 상부 및 하부면에 달라붙은 이물질만을 제거해 낼 수 있고, 기판(20)의 측면부에 달라붙은 이물질은 제거해내지 못한다는 데에 있다. 실제 액정 패널에 사용되는 유리기판(20)의 두께는 약 0.7㎜ 정도로서, 패널 제조시 여러 공정에서 발생하는 이물질들은 기판(20)의 상부 및 하부면에만 달라붙는 것이 아니라, 기판(20)의 측면부에도 협착되고 있다. 특히 TFT의 형성 및 상/하 기판의 합착이 이루어진 다음에 넓은 기판에서 컷팅 작업에 의해 각각의 패널을 분리해내는 스크라이브 공정이나 컷팅 작업에 의해 분리된 기판(20)의 거친 측면부를 연마하는 그라인더(Grinder) 공정에서는 기판의 미세한 입자나 파편들이 기판(20)의 측면부에 달라붙어 기판(20)을 오염시킨다. 이와 같이 기판(20)의 측면부에 달라붙은 이물질들은 패널 제조 시에 불량률을 높여 수율을 감소시키고, 또한 액정표시패널의 화질을 저하시키는 요인으로도 작용하고 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 기판의 상부 및 하부면 뿐만이 아니라 측면부에 협착된 이물질까지도 제거할 수 있는 기판 세정 장치 및 방법을 제공함에 있다.
도 1은 종래의 기판 세정 장치를 도시한 도면.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치를 도시한 도면.
〈 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 〉
20,30 : 기판 22,34,36 : 세정 브러쉬
32 : 측면 세정 브러쉬 38 : 화인 디아이 메가 소닉
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 기판 세정 장치는 기판의 상부 및 하부면에 접하게끔 배치된 상부 및 하부 세정 모듈 뿐만이 아니라 기판의 측면부에 접하게끔 배치된 측면 세정 모듈을 구비한다.
본 발명에 따른 기판 세정 방법은 기판의 측면부에 접하도록 배치된 측면 세정 브러쉬를 회전시켜 기판의 측면부에 협착된 이물질을 제거하는 단계와, 기판의 상부 및 하부면에 각각 접하도록 배치된 상부 및 하부 세정 브러쉬를 회전시켜 기판의 상부 및 하부면에 협착된 이물질을 제거하는 단계와, 초음파가 실린 세정수를 기판의 측면부에 고압으로 분사시켜 기판의 측면부를 세정하는 단계를 포함한다.
상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.
이하, 도 2를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치를 도시한 도면이다. 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판(30)의 상부 및 하부면을 세정하기 위한 상부 세정 브러쉬(34) 및 하부 세정 브러쉬(36) 뿐만이 아니라, 기판(30)의 측면부를 세정하기 위한 측면 세정 브러쉬(32)와 화인 디아이 메가 소닉(Fine DI Mega Sonic)(38)을 구비한다. 기판(30)의 측면부에 장착되는 측면 세정 브러쉬(32)는 회전하면서 기판(30)의 측면부에 달라붙은 이물질을 제거하는 기능을 갖는다. 또한 화인 디아이 메가 소닉(38)은 초음파가 실린 세정수를 기판(30) 측면부에 고압으로 분사하면서 기판(30)의 측면부에 달라붙은 이물질을 제거한다.
본 발명에 따른 기판 세정 장치의 실제 동작 과정을 설명하면 먼저, 기판(30)이 상부 및 하부 세정 브러쉬(34,36)의 사이를 관통하면서 도 2에 도시된 화살표 방향으로 진행한다. 이 때, 측면 세정 브러쉬(32)와 화인 디아이 메가 소닉(38)은 기판(30)의 측면부에 접하도록 세정 모듈 내에 장착되어 있다. 기판(30)이 화살표 방향으로 진행하면서 먼저 기판(30) 측면부에 접하는 측면 세정 브러쉬(32)가 빠른 속도로 회전하면서 기판(30)의 측면부에 달라붙은 이물질을 1차적으로 제거한다. 그 다음 기판(30)이 계속 진행하는 중에 상부 및 하부 세정 브러쉬(34,36)가 빠른 속도로 회전하면서 기판(30)의 상부 및 하부면에 달라붙은 이물질을 제거해내게 된다. 그리고 최종적으로 화인 디아이 메가 소닉(38)이 기판(30)의 측면부에 고압의 세정수를 분사하면서 2차적으로 기판(30) 측면부를 다시 한번 세정하게 된다. 이 때, 화인 디아이 메가 소닉(38)의 미세한 분사 노즐에서 분사되는 세정수는 이온이 제거된(De-Ionized) 세정수로서, 이 세정수에는 미세한 진동을 야기하는 초음파가 실려 있다. 이로써 기판(30)의 측면부에 달라붙은 이물질은 세정수의 고압과 초음파가 야기하는 진동에 의해 완전히 제거될 수 있게 된다.
이와 같이 측면 세정 모듈에 의한 세정 작업에 의해 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판의 상부 및 하부면 뿐만이 아니라 측면부에 달라붙은 고착성 입자나 이물질까지도 완전히 제거해 낼 수 있게 된다. 기판의 측면부에 달라붙은 이물질까지 완전히 제거되므로 액정패널 제조시 이물질에 의한 불량률을 현저하게 감소시킬 수 있게 되며, 수율을 향상시킬 수 있게 된다. 또한 이로써 기판 측면부의 이물질에 의해 종래에 야기되었던 화질 저하 문제도 해결되게 된다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 세정 장치 및 방법에서는 기판의 상부 및 하부면에 달라붙은 이물질 뿐만이 아니라 기판의 측면부에 접하는 측면 브러쉬와 초음파가 실린 세정수를 고압으로 분사하는 분사기를 이용하여 기판의 측면부에 달라붙은 이물질까지도 제거할 수 있는 장점이 있다. 이에 따라, 액정 패널 제조시 수율이 향상되고, 이물질에 의한 화질 저하 현상을 해결할 수 있게 된다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.
Claims (4)
- 기판의 상부 및 하부에 접하도록 배치된 세정 모듈에 의해 기판을 세정하는 기판 세정 장치에 있어서,상기 기판의 측면부에 배치된 측면 세정 모듈을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 측면 세정 모듈은 회전하면서 기판의 측면부를 세정하는 브러쉬 타입의 세정기인 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 측면 세정 모듈은 초음파가 실린 세정수를 상기 기판의 측면부에 고압으로 분사하는 세정수 분사기를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 기판의 측면부에 접하도록 배치된 측면 세정 브러쉬를 회전시켜 상기 기판의 측면부에 협착된 이물질을 제거하는 단계와,상기 기판의 상부 및 하부면에 각각 접하도록 배치된 상부 및 하부 세정 브러쉬를 회전시켜 상기 기판의 상부 및 하부면에 협착된 이물질을 제거하는 단계와,초음파가 실린 세정수를 상기 기판의 측면부에 고압으로 분사시켜 상기 기판의 측면부를 세정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 방법.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990044599A KR20010037210A (ko) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법 |
US09/689,839 US6625836B1 (en) | 1999-10-14 | 2000-10-13 | Apparatus and method for cleaning substrate |
US10/647,475 US20040035441A1 (en) | 1999-10-14 | 2003-08-26 | Apparatus and method for cleaning substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990044599A KR20010037210A (ko) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010037210A true KR20010037210A (ko) | 2001-05-07 |
Family
ID=19615391
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990044599A KR20010037210A (ko) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6625836B1 (ko) |
KR (1) | KR20010037210A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101006086B1 (ko) * | 2003-12-31 | 2011-01-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 기판의 에지비드제거장치 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7302727B2 (en) * | 2004-04-19 | 2007-12-04 | E-L Management Corporation | Pressed powder pan cleaning machine |
CN107030057A (zh) * | 2017-05-11 | 2017-08-11 | 惠科股份有限公司 | 一种振动式清洗装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR930001331A (ko) * | 1991-06-06 | 1993-01-16 | 엔야 료오조오 | 부착판 세정장치 |
KR960019552A (ko) * | 1994-11-04 | 1996-06-17 | 이헌조 | 기판 세정장치 |
KR970063586A (ko) * | 1996-02-13 | 1997-09-12 | 김광호 | 반도체 웨이퍼 세정장치 |
KR19980056129A (ko) * | 1996-12-28 | 1998-09-25 | 김광호 | 기판 에지 폴리싱 장치 |
KR19980087037A (ko) * | 1997-05-15 | 1998-12-05 | 니시무로 다이조 | 반도체 웨이퍼의 양면 세정 장치 및 반도체 웨이퍼의 폴리싱 방법 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4326553A (en) * | 1980-08-28 | 1982-04-27 | Rca Corporation | Megasonic jet cleaner apparatus |
JPS60143634A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-29 | Fujitsu Ltd | ウエ−ハ処理方法及び装置 |
TW316995B (ko) * | 1995-01-19 | 1997-10-01 | Tokyo Electron Co Ltd | |
JPH08238463A (ja) * | 1995-03-03 | 1996-09-17 | Ebara Corp | 洗浄方法及び洗浄装置 |
US5861066A (en) * | 1996-05-01 | 1999-01-19 | Ontrak Systems, Inc. | Method and apparatus for cleaning edges of contaminated substrates |
JP3278590B2 (ja) * | 1996-08-23 | 2002-04-30 | 株式会社東芝 | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 |
DE69737926T2 (de) * | 1996-10-21 | 2008-04-10 | Ebara Corp. | Reinigungsvorrichtung |
US5937469A (en) * | 1996-12-03 | 1999-08-17 | Intel Corporation | Apparatus for mechanically cleaning the edges of wafers |
US5901399A (en) * | 1996-12-30 | 1999-05-11 | Intel Corporation | Flexible-leaf substrate edge cleaning apparatus |
US5868857A (en) * | 1996-12-30 | 1999-02-09 | Intel Corporation | Rotating belt wafer edge cleaning apparatus |
JP3290910B2 (ja) * | 1997-02-19 | 2002-06-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置 |
US6079073A (en) * | 1997-04-01 | 2000-06-27 | Ebara Corporation | Washing installation including plural washers |
JP3320640B2 (ja) * | 1997-07-23 | 2002-09-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置 |
JP3333733B2 (ja) * | 1998-02-20 | 2002-10-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置 |
US6261378B1 (en) * | 1998-03-23 | 2001-07-17 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning unit and cleaning method |
TW392241B (en) * | 1998-09-15 | 2000-06-01 | Worldwild Semiconductor Mfg Co | Wafer cleaning device |
US6202658B1 (en) * | 1998-11-11 | 2001-03-20 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for cleaning the edge of a thin disc |
JP3990073B2 (ja) * | 1999-06-17 | 2007-10-10 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
-
1999
- 1999-10-14 KR KR1019990044599A patent/KR20010037210A/ko active Search and Examination
-
2000
- 2000-10-13 US US09/689,839 patent/US6625836B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-08-26 US US10/647,475 patent/US20040035441A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR930001331A (ko) * | 1991-06-06 | 1993-01-16 | 엔야 료오조오 | 부착판 세정장치 |
KR960019552A (ko) * | 1994-11-04 | 1996-06-17 | 이헌조 | 기판 세정장치 |
KR970063586A (ko) * | 1996-02-13 | 1997-09-12 | 김광호 | 반도체 웨이퍼 세정장치 |
KR19980056129A (ko) * | 1996-12-28 | 1998-09-25 | 김광호 | 기판 에지 폴리싱 장치 |
KR19980087037A (ko) * | 1997-05-15 | 1998-12-05 | 니시무로 다이조 | 반도체 웨이퍼의 양면 세정 장치 및 반도체 웨이퍼의 폴리싱 방법 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101006086B1 (ko) * | 2003-12-31 | 2011-01-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 기판의 에지비드제거장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040035441A1 (en) | 2004-02-26 |
US6625836B1 (en) | 2003-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7806986B2 (en) | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method using the same | |
KR100323502B1 (ko) | 액정표시패널의 제조방법 및 이것에 사용되는 세정장치 | |
JP3442930B2 (ja) | 液晶表示パネルの洗浄方法 | |
KR20010037210A (ko) | 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법 | |
JP2005238109A (ja) | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2001259541A (ja) | カラーフィルタの洗浄方法及び洗浄装置 | |
JP2007141922A (ja) | 基板洗浄装置及びそれを用いた基板洗浄方法 | |
JP2004105848A (ja) | 基板洗浄装置とその洗浄方法 | |
JPH0839014A (ja) | 洗浄装置 | |
US7725975B2 (en) | Device for cleaning LCD panel | |
JP2007047353A (ja) | 電気光学装置の製造方法、及び電気光学パネルの洗浄装置 | |
JP2005012238A (ja) | 基板洗浄方法及び装置 | |
JP2009059750A (ja) | 基板洗浄装置、及び基板洗浄方法 | |
JPH04213826A (ja) | 半導体製造用ウェーハ洗浄装置 | |
JP3462916B2 (ja) | 液晶パネルの製造方法 | |
JP4517805B2 (ja) | 電気光学装置の製造方法 | |
JP3198504B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
KR100542679B1 (ko) | 기판 세정 장치 | |
JPH0534652A (ja) | 液晶表示素子製造方法 | |
KR20000032038A (ko) | 액정 표시 장치 제조 방법 | |
JP2001334218A (ja) | 基板の洗浄方法 | |
KR20060000936A (ko) | 기판의 세정 장치 및 방법 | |
JP4200740B2 (ja) | 液晶表示装置における基板の洗浄装置及び洗浄方法 | |
JP2017078729A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JPH112833A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
B601 | Maintenance of original decision after re-examination before a trial | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20051025 Effective date: 20061013 |
|
J2X1 | Appeal (before the patent court) |
Free format text: APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL |
|
J302 | Written judgement (patent court) |
Free format text: JUDGMENT (PATENT COURT) FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20061117 Effective date: 20070503 |