JP4517805B2

JP4517805B2 - 電気光学装置の製造方法

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Publication number: JP4517805B2
Application number: JP2004283622A
Authority: JP
Inventors: 清一松島
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2004-09-29
Filing date: 2004-09-29
Publication date: 2010-08-04
Anticipated expiration: 2024-09-29
Also published as: JP2006098636A

Description

本発明は、第１大型基板と第２大型基板との貼り合せ面の少なくとも一方に切断用溝を形成した際に発生する異物を、製造過程で除去する電気光学装置の製造方法に関する。

電子機器の代表である投射型表示装置では、電気光学装置の代表である液晶パネルをライトバルブとして使用する場合、その表面付近に異物が付着すると、それが投射レンズ等により拡大されてスクリーン上に投射され、表示品質を著しく低下させてしまうため、液晶パネルの外表面に防塵機能を有する透明なガラス基板（以下「防塵ガラス基板」と称する）を貼り合わせて、液晶パネルの外表面を保護している。

又、液晶パネルの入射光側の外面に、多数の微少なマイクロレンズを有する層（マイクロレンズ層）を形成し、各マイクロレンズを用いて、入射光を各画素の開口部分に集光させることで、画素毎の光の利用効率を高めるようにしたものが知られている。このような場合においてもマイクロレンズ層の表面は防塵ガラス基板で保護する必要がある。

このように液晶パネルを投射型表示装置に用いた場合、素子基板と、これに対向する対向基板の外面には、防塵ガラス基板が直接貼り合わされる。或いはマイクロレンズ層を有する場合は、入射光側の外面にマイクロレンズ層を介して防塵ガラス基板が貼り合わされる。

又、素子基板と対向基板とは別々に製造された後、互いに重ね合わされ、その後、両者間の空隙部に液晶等の電気光学物質が注入・封止される。

液晶パネルが比較的小型の場合、その製造工程においては１枚の大型基板上に多数の基板を製造する、いわゆる多数個取り製造方法が多く採用されている。多数個取り製造方法では、大型基板をチップ状に切り出す工程が必要となる。

大型基板をチップ状の基板に切り出す方法としては、主なものとしてスクライブ法、レーザ法、ダイシング法、サンドブラスト法、エッチング法等が知られている。その中でも、スクライブ法は最も短時間での処理が可能であるため、多く採用されている。

又、多数個取り製造方法においては、大型の防塵ガラス基板を大型基板に貼り合わせた後、この両基板を同時に切り出す方法も種々提案されている。例えば特許文献１（特開２００１−１４７４２３号公報）には、大型基板にマイクロレンズ層を挟んで大型のガラス基板を貼り合わせる技術が開示されている。

すなわち、当該文献に開示されている技術では、先ず、個々に切り出した際に、入射光側に面する基板（対向基板）を多数形成する大型基板の外面に、切断用溝を形成し、この外面にマイクロレンズ層となる接着剤を挟んで、多数の凹型レンズ面を有する大型の防塵ガラス基板を貼り合わせる。次いで、大型基板の内面側を、切断用溝が露呈する程度の予め設定された厚さまで研磨し、大型基板を液晶パネルとなる基板毎に分割する。このとき、防塵ガラス基板は切断されていないため、分割された各基板は分離されず、１枚の基板として取り扱いことができる。そして、分割された各基板毎に透明電極を形成し、その最上層に、液晶を所定に配向させるための配向膜を形成する。

その後、出遮光側の基板（素子基板）を多数形成する大型基板を、入射光側の基板に対設し、シール材を介して重ね合わせた後、個々の液晶表示素子毎に切断する。

このように、２枚の大型基板を貼り合わせるに際しては、両大型基板の一方の貼り合せ面に切断用溝を予め形成して、分割し易い状態にすることにより、両大型基板を貼り合わせた後の分断が容易になる。
特開２００１−１４７４２３号公報

ところで、両大型基板の接合面の一方に切断用溝をスクライブ法により形成した場合、ガラスカレット等の切削粉が発生する。この切削粉が切断用溝や大型基板の表面に付着したままの状態で他方の大型基板を貼り合わせた場合、この貼り合わせ面に切削粉が異物として残留し、表示品質の低下を起因する問題がある。

これに対処するに、大型基板の貼り合わせ面に対して切断用溝を形成した後、ブラシで大型基板の表面を払拭することで切削粉を除去することも考えられるが、ブラシを使用した場合、このブラシにより基板表面を傷付けてしまう可能性がある。又、ブラシでは切断用溝に残留する切削粉を確実に除去することができず、切削粉を除去する作業に手間取り、工数が嵩む問題がある。

本発明は、上記事情に鑑み、大型基板の表面を傷付けることなく、切断用溝を形成する際に発生する切削粉を、少ない作業工数で完全に除去することができ、高い表示品質を保証することのできる電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明の電気光学装置の製造方法は、第１基板と第２基板とが少なくとも貼り合わされてなる電気光学装置の製造方法において、前記第１基板を複数切り出すことができる第１大型基板の該第１基板となる領域に対向するように複数のチップ状の前記第２基板をそれぞれ貼り合わせる工程と、前記第１大型基板の前記複数のチップ状の第２基板が貼り合わされた面と反対側の面にチップ状の第３基板に複数切り出すことができる第２大型基板を貼り合わせる工程とを備え、前記第２大型基板を前記第１大型基板に貼り合わせる前に、隣り合う前記チップ状の第２基板間において、前記第１大型基板の前記複数のチップ状の第２基板との貼り合せ面及び前記第２大型基板の前記第１大型基板との貼り合せ面にそれぞれ切断用溝を形成する工程と、前記第２大型基板の切断用溝が形成された面をスクラブ洗浄する第１洗浄工程と、前記第２大型基板を前記第１大型基板に貼り合わせた後に、前記第２大型基板の貼り合せ面と反対側の面に前記切断用溝に沿って圧力を印加し、前記第１及び第３基板をそれぞれ切り出す切り出し工程とを有することを特徴とする。
また、前記第１洗浄工程の前に、前記第２大型基板の切断用溝が形成された面に洗浄液を供給して洗浄液膜を生成する洗浄液膜生成工程を有する。

このような構成では、大型基板の貼り合せ面に切断用溝を形成した後、この切断用溝が形成された面をスクラブ洗浄するに際し、洗浄液を供給して洗浄液膜を生成するようにしたので、大型基板の表面を傷付けることなく、切断用溝を形成する際に発生する切削粉を、洗浄液膜に取り込むことができ、その結果、少ない作業工数で完全に除去することができ、高い表示品質を保証することができる。

また、前記第１洗浄工程が終了した後、前記第２大型基板の切断用溝が形成された面に別の洗浄液を供給して前記第１洗浄工程にて前記第２大型基板の切断用溝が形成された面から前記洗浄液膜に取り込まれた異物及び前記洗浄液膜を除去する第２洗浄工程を備える。

このような構成では、第１洗浄工程が終了した後、別の洗浄液を供給して第２洗浄工程を行うようにしたので、第１洗浄工程の際に上記切断用溝が形成された面から洗浄液膜に取り込まれた異物を第２洗浄工程によって除去することができる。

また、前記第２洗浄工程が終了した後、前記第２大型基板の切断用溝が形成された面に、前記第２洗浄工程で除去しれ切れなかった前記洗浄液を除去するためのリンス液を供給して、リンス液膜を生成するリンス液膜生成工程を備える。

このような構成では、第２洗浄工程が終了した後、第２洗浄工程で除去しれ切れなかった洗浄液を除去するためのリンス液を供給して切断用溝が形成された面にリンス液膜を生成するようにしたので、第２洗浄工程において供給した洗浄液によって表面に形成される洗浄液シミ等の発生を未然に防止することができる。

また、前記リンス液膜生成工程が終了した後、前記第２大型基板の切断用溝が形成された面を乾燥させて前記リンス液を除去する乾燥工程を備える。

このような構成では、リンス液膜生成工程が終了した後、切断用溝が形成された面を乾燥させてリンス液を除去するようにしたので、この面に付着されている異物を完全に辞去することができるばかりでなく、洗浄液シミの発生も未然に防止することができる。

本件の参考発明に係る電気光学装置の製造方法は、前記乾燥工程は、前記切断用溝が形成された面に高圧エアーを吹きかけて前記リンス液を除去することを特徴とする。

このような構成では、切断用溝が形成された面に高圧エアーを吹きかけてリンス液を除去するようにしたので、大型基板を傷付けることなく効率よく乾燥させることができる。

本件の参考発明に係る電気光学装置の製造方法は、前記乾燥工程は、前記切断用溝が形成された基板を高速回転させて前記リンス液を除去することを特徴とする。

このような構成では、切断用溝が形成された基板を高速回転させてリンス液を除去するるようにしたので、大型基板を傷付けることなく効率よく乾燥させることができる。

また、前記第１洗浄工程では洗浄ブラシを用いてスクラブ洗浄を行うと共に該洗浄ブラシのブラシ部に対して洗浄液を供給する。

このような構成では、第１洗浄工程において洗浄ブラシのブラシ部に洗浄液を供給するようにしたので、スクラブ洗浄の際に大型基板がブラシ部によって傷付けられることがなく、大型基板を損傷から有効に保護することができる。

また、前記洗浄ブラシは、前記第２大型基板の切断用溝が形成されている面に対設する平盤状に形成され、その底面に前記ブラシ部が設けられており、該ブラシ部が回転すると共に前記第２大型基板の切断用溝が形成されている面に沿って相対移動自在にされている。

このような構成では、ブラシ部は回転しながら、切断用溝が形成されている面に沿って相対移動することでスクラブ洗浄するようにしたので、切断用溝内に付着する異物も完全に浮かすことができる。

また、前記洗浄ブラシは、前記第２大型基板の切断用溝が形成されている面と略平行に延出するロール状に形成され、その外周に前記ブラシ部が設けられており、該ブラシ部が回転すると共に前記第２大型基板の切断用溝が形成されている面に沿って相対移動自在にされている。

以下、図面に基づいて本発明の一形態を説明する。図１〜図５に本発明の第１形態を示す。ここで、図１は液晶装置の概略断面図、図２は液晶パネルの外表面に大型防塵ガラス基板を貼り合わせる工程を示す工程図、図３は大型基板の外表面に防塵ガラス基板を貼り合わせる状態を示す斜視図である。

先ず、図１を参照して液晶装置の全体構成について簡単に説明する。尚、図１には駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置が示されている。

図１の符号１は、電気光学装置の代表である液晶装置であり、石英ガラス基板等からなる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）基板１０と、これに対向配置される石英ガラス基板等からなる対向基板２０とがシール材５２を介して貼り合わされて液晶パネル１２０が形成されており、シール材５２によって形成された両基板１０，２０の対向面間に、電気光学物質としての液晶５０が封入されている。

ＴＦＴ基板１０上には画素を構成する画素電極（ＩＴＯ）９ａ等がマトリクス状に配置され、又、対向基板２０上には全面に対向電極（ＩＴＯ）２１が設けられている。更に、ＴＦＴ基板１０の画素電極９ａ上、及び対向基板２０上の全面に渡って、ラビング処理が施された配向膜１６，２２が各々形成されている。尚、各配向膜１６，２２は、ポリイミド膜等の透明な有機膜で構成されている。

又、ＴＦＴ基板１０のシール材５２が形成された領域の外側の一辺に、データ線駆動回路１０１、及び外部接続端子１０２が形成されている。尚、図示しないが、この一辺に隣接する２辺に沿って走査線駆動回路が設けられ、更に、残る一辺に、走査線駆動回路間をつなぐ配線パターンが形成されている。

更に、液晶パネル１２０の両面に、防塵機能を有する透明なガラス基板（以下「防塵ガラス基板」と称する）３０，３１が貼設されている。防塵ガラス基板３０，３１は、塵埃等が液晶パネル１２０の表面に付着することを防止すると共に、塵埃等を液晶表示面から離間させてデフォーカスすることで、塵埃等の像を目立たなくさせる機能を有する。

このような機能を実現するために、防塵ガラス基板３０，３１は、板厚が1〜３ｍｍ程度と比較的厚く形成されており、その材質は、ＴＦＴ基板１０や対向基板２０と同一のものが使用されている。又、防塵ガラス基板３０，３１は、液晶パネル１２０の表面に対し、ＴＦＴ基板１０や対向基板２０（及び防塵ガラス基板３０，３１）と同じ屈折率に調整されたシリコン系接着剤やアクリル系接着剤等からなる熱硬化型透明接着剤を用いて、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０の外表面に対し気泡を除去した状態で接着されている。

ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とは、異なる工程を経て個別に製造された後、貼り合わされる。図２に示すように、貼り合わせに際しては、多数のＴＦＴ基板１０が形成されている第１大型基板としての大型基板１１０に対して、チップ状に形成された対向基板２０を貼り合わせ、その後、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間に液晶を注入し、封入する。この場合、対向基板２０も多数の対向基板が形成されている大型基板の状態で、大型基板１１０に対し、所定にアライメントを行った状態で貼り合わせる態様もある。

尚、本形態による大型基板１１０は円板状に形成されているが、形状はこれに限定されるものではなく、例えば矩形状に形成されていても良い。又、図３においては、１つの大型基板１１０に、１２個のチップ状基板であるＴＦＴ基板１０が形成されているが、１つの大型基板１１０に形成されるＴＦＴ基板１０の数は、これに限定されるものではない。

又、防塵ガラス基板３０，３１は、図２に示すような大型基板１１０に、複数の液晶パネル１２０が形成されている状態で貼り合わされる。図２に、液晶パネル１２０に防塵ガラス基板３０，３１を実装する工程を示す。尚、この作業はクリーンルーム内で行われる。

工程（ａ）：先ず、大型基板１１０に複数の液晶パネル１２０を所定に形成した後、洗浄し、動作状態等の検査を行う。

工程（ｂ）：大型基板１１０の、対向基板２０が貼り合わされている面と反対側の面である外表面（図２の下面）に、大型基板１１０とほぼ同一かやや小さい形状の第２大型基板としての大型防塵ガラス基板３００を貼り合わせる。

尚、図３に示すように、大型防塵ガラス基板３００の、大型基板１１０との貼り合せ面側に、切断用溝としてのプレスクライブラインＬｐが形成されている。このプレスクライブラインＬｐは、後述する大型基板１１０に形成されるスクライブラインＬｓと同一の位置に形成されている。この大型防塵ガラス基板３００は、プレスクライブラインＬｐに沿ってチップ状に分割されることで防塵ガラス基板３０となる。

工程（ｃ）：その後、全体を洗浄した後、各対向基板２０の、大型基板１１０に対向する面と反対側の面である外表面（図２の上面）に対向基板２０とほぼ同形状の小型防塵ガラス基板３１を貼り合わせる。

工程（ｄ）：大型基板１１０の対向基板２０が張り合わされている面にスクライブラインＬｓを形成し、或いはスクライブラインＬｓを予め形成しておき、大型防塵ガラス基板３００側からスクライブラインＬｓ，Ｌｐに沿って圧力を印加することで、大型基板１１０，３００を分割し、チップ状の液晶装置１を切り出す。

尚、スクライブラインＬｓは、大型基板１１０に形成されているＴＦＴ基板１０の形成領域を区画する境界上に形成されている。又、防塵ガラス基板３００，３１の貼り合わせ工程においては、工程（ｂ）と工程（ｃ）とを入れ換え、大型基板１１０に大型防塵ガラス基板３００を貼り合わせる前に、対向基板２０に対して小型防塵ガラス基板３１を貼り合わせるようにしても良い。

ところで、大型基板１１０に貼り合わされる大型防塵ガラス基板３００には、その貼り合せ面側の表面に、切断用溝としてのいわゆるプレスクライブラインＬｐが、上述した大型基板１１０に形成されるスクライブラインＬｓと同一の位置に形成されている。大型防塵ガラス基板３００にプレスクライブラインＬｐを予め形成しておくことで、この大型防塵ガラス基板３００を大型基板１１０に貼り合わせた後、大型基板１１０，３００をチッブ状に容易に切り出することができる。

しかし、大型防塵ガラス基板３００にプレスクライブラインＬｐを形成する際に切削粉（ガラスカレット）が発生し、この切削粉が基板表面やプレスクライブラインＬｐの溝に付着し易い。大型防塵ガラス基板３００の表面に切削粉が付着した状態で大型基板１１０に貼り合わせると、大型防塵ガラス基板３００と大型基板１１０との合せ面間に切削粉が異物として残留し、表示品質が低下してしまう。

そのため、本形態では、大型防塵ガラス基板３００上にプレスクライブラインＬｐを形成した後、この大型防塵ガラス基板３００を洗浄する工程が加えられている。以下、図４の工程図を参照して、大型防塵ガラス基板３００の洗浄工程について説明する。

（ａ）：所定にプレスクライブラインＬｐが形成された面を上面にして、大型防塵ガラス基板３００をテーブル（図示せず）に載置固定した後、テーブルを所定速度で回転させる。

又、大型防塵ガラス基板３００の上面に洗浄液供給ノズル３１０から洗浄液３１０ａを供給し、大型防塵ガラス基板３００の上面に洗浄液膜３１０ｂを生成する。これにより、大型防塵ガラス基板３００の表面に洗浄ブラシ３２０を接触させた際に、残留するガラスカレット等を介して大型防塵ガラス基板３００の表面が削られてしまうことを未然に防止することができる。尚、洗浄液３１０ａとしては、純水、薬液、オゾン水等を使用する。

（ｂ）：大型防塵ガラス基板３００の上面に対し、洗浄液供給ノズル３１０から洗浄液３１０ａを継続的に供給して、大型防塵ガラス基板３００の上面を乾燥させないようにしたた状態で、大型防塵ガラス基板３００の上面をブラシスクラブ洗浄する。図４（ｂ），図５に示すように、ブラシスクラブ洗浄は、平盤の洗浄ブラシ３２０を用いて行う。

この洗浄ブラシ３２０は所定速度で回転しており、例えば大型防塵ガラス基板３００の上面に沿って、その中心から半径方向へ移動される。そして、その際、洗浄ブラシ３２０の底面に植設されているブラシ部３２０ａにて、大型防塵ガラス基板３００の上面をスクラブする。

このブラシ部３２０ａに、本形態は毛ブラシを採用しており、その材質はナイロン、ポリプロピレン、ポリスチレン等、大型防塵ガラス基板３００の上面を傷付けることのないものが選択されている。尚、ブラシ部３２０ａに対しては、洗浄液供給ノズル３１０から洗浄液３１０ａが常時、供給されている。

その結果、大型防塵ガラス基板３００の上面、及びプレスクライブラインＬｐに付着している切削粉が、洗浄ブラシ３２０によるブラシスクラブ洗浄にて、大型防塵ガラス基板３００表面から浮上され、洗浄液膜３１０ｂに取り込まれる。又、その際、この大型防塵ガラス基板３００に付着され易い異物（皮脂、セルロース等）も同時に取り込まれる。

更に、洗浄ブラシ３２０を用いてスクラブ洗浄を行っているので、例えばプレスクライブラインＬｐの溝が比較的深く形成されている場合であっても、プレスクライブラインＬｐに付着されている切削粉を確実に浮上させることができる。その結果、プレスクライブラインＬｐの溝を、切削粉の発生を気にすることなく任意の深さに設定することができる。

（ｃ）：ブラシスクラブ洗浄が所定に終了した後、大型防塵ガラス基板３００の上面をジェット洗浄する。ジェット洗浄は、ジェット洗浄ノズル３４０から噴射する洗浄液３４０ａを用いて行う。又、ジェット洗浄としては、超音波を付加した超音波ジェット洗浄法、洗浄液と気体（Ｎ2ガス、ドライエアー等）との混合液を使用する２流体ジェット洗浄法、洗浄液を高圧噴射させる高圧ジェット洗浄法等があり、何れの洗浄法を採用するかは、対象となる大型防塵ガラス基板３００の材質、大きさ、プレスクライブラインＬｐの溝深さ等に応じて適宜選択する。

そして、ジェット洗浄ノズル３４０を、回転する大型防塵ガラス基板３００に対して、中心から半径方向へ移動させ、その際、ジェット洗浄ノズル３４０から噴射する洗浄液３４０ａを、大型防塵ガラス基板３００の上面に吹きかける。すると、この洗浄液３４０ａにて大型防塵ガラス基板３００上の洗浄液膜３１０ｂが払拭され、この洗浄液膜３１０ｂに取り込まれた切削粉を含む異物が基板外へ排出される。尚、この場合、ジェット洗浄ノズル３４０を揺動させることで、異物を基板外へより効果的に排出させることができる。

ところで、洗浄液膜３１０ｂが除去された後の大型防塵ガラス基板３００の上面には、ジェット洗浄ノズル３４０から噴射された洗浄液３４０ａによって、ミスト３４０ｂが生成される。このミスト３４０ｂを放置しておくと、大型防塵ガラス基板３００の乾燥に伴い、その上面にミスト３４０ｂが付着し、それが洗浄液シミとなって大型防塵ガラス基板３００上に形成されてしまう。これを防止するため、次の工程で、大型防塵ガラス基板３００の上面を洗浄液リンスする。

（ｄ）：浄液リンスは、リンスノズル３５０から吐出されるリンス液３５０ａを大型防塵ガラス基板３００の上面に吹きかけ、大型防塵ガラス基板３００の上面にリンス液膜３５０ｂを生成することで行う。尚、リンス液としては、純水、イソプロピルアルコール等がある。

（ｅ）：大型防塵ガラス基板３００の上面にリンス液膜３５０ｂを生成した後、エアーナイフ乾燥により、大型防塵ガラス基板３００の上面を乾燥させる。エアーナイフ乾燥は、エアーナイフノズル３６０に穿設されている微細な噴孔３６０ａから噴射される高圧エアー（Ｎ2ガス、ドライエアー等）を大型防塵ガラス基板３００の上面に吹きかけ、このエアー圧により大型防塵ガラス基板３００の上面に生成されているリンス液膜３５０ｂを除去すると共に、乾燥させる。

尚、大型防塵ガラス基板３００を載置するテーブルが高速回転可能であれば、このテーブルを高速回転させることで、スピン乾燥させることができる。従って、この場合、エアーナイフ乾燥は不要となり、その分、装置全体の簡素化が実現できる。

又、本形態では、テーブルが回転式の場合について説明したが、固定式であっても良い。この場合、上述した各洗浄ブラシ３２０、各ノズル３１０，３４０，３５０，３６０を大型防塵ガラス基板３００の上面に沿って縦横に移動させて、洗浄、及び乾燥を行う。

又、図６〜図８に本発明の第２形態を示す。上述した第１形態では、円盤状の洗浄ブラシ３２０を用いて、大型防塵ガラス基板３００の表面をブラシスクラブ洗浄する態様について説明したが、本形態では、ロール状の洗浄ブラシ４２０を用いてブラシスクラブ洗浄を行うようにしたものである。図６に示すように、多数のＴＦＴ基板１０を形成する大型基板１４０が矩形状に形成されている場合、この大型基板１４０の外面（図６の下面）に貼り合わされる大型防塵ガラス基板４００も、大型基板１４０とほぼ同じ大きさの矩形状に形成される。

尚、本形態では、洗浄対象となる大型防塵ガラス基板４００が矩形状をなしているが、この大型防塵ガラス基板４００は、第１形態と同様円板状であっても良いことは云うまでもない。

ロール状の洗浄ブラシ４２０は、大型防塵ガラス基板４００の移動方向に対して略直交する方向へ配設されており、その外周にはブラシ部４２０ａが設けられている。尚、このブラシ部４２０ａの材質は、第１形態のブラシ部３２０ａと同一である。又、その一側に洗浄液供給ノズル３１０が臨まされている。

以下、図８の工程図を参照して、本形態による大型防塵ガラス基板４００の洗浄工程について説明する。

（ａ）：所定にプレスクライブラインＬｐが形成された面を上面にした状態で大型防塵ガラス基板４００を図の矢印で示す方向、すなわち、洗浄ブラシ４２０の延出方向に略直交する方向へ移動させながら、大型防塵ガラス基板４００の上面に、第１形態と同様、洗浄液供給ノズル３１０から洗浄液３１０ａを供給し洗浄液膜３１０ｂを生成する。

図７に示すように、洗浄液供給ノズル３１０は、大型防塵ガラス基板４００の移動方向に略直交する方向に沿って複数配設されており、各浄液供給ノズル３１０から洗浄液３１０ａが吐出されている。

（ｂ）：大型防塵ガラス基板４００の上面に対し、洗浄液供給ノズル３１０から洗浄液３１０ａを継続的に供給した状態で、洗浄ブラシ４２０の外周に設けられているブラシ部４２０ａにより、大型防塵ガラス基板４００の上面をブラシスクラブ洗浄する。

この洗浄ブラシ４２０は所定速度で高速回転しており、大型防塵ガラス基板４００が通過する際に、洗浄ブラシ４２０の外周に植設されているブラシ部４２０ａにて、大型防塵ガラス基板４００の上面をスクラブする。

その結果、大型防塵ガラス基板４００の上面、及びプレスクライブラインＬｐに付着している切削粉が、洗浄ブラシ４２０によるブラシスクラブ洗浄にて、大型防塵ガラス基板４００の表面から浮上され、洗浄液膜３１０ｂに取り込まれる。又、その際、この大型防塵ガラス基板４００に付着され易い他の異物（皮脂、セルロース等）も同時に取り込まれる。

この場合においても、第１形態と同様、洗浄ブラシ４２０を用いてスクラブ洗浄を行っているので、例えばプレスクライブラインＬｐの溝が比較的深く形成されている場合であっても切削粉を確実に浮上させることができ、プレスクライブラインＬｐの溝深さを任意に設定することができる。

（ｃ）：ブラシスクラブ洗浄が所定に終了した後、大型防塵ガラス基板４００の上面をジェット洗浄する。ジェット洗浄は、第１形態と同様、ジェット洗浄ノズル３４０から噴射する洗浄液３４０ａを用いて行う。このジェット洗浄ノズル３４０は、大型防塵ガラス基板４００の移動方向に略直交する方向に沿って複数配設されている。

従って、大型防塵ガラス基板４００をジェット洗浄ノズル３４０の配設されている方向に略直交する方向へ移動さるせだけでジェット洗浄を行うことができる。

ジェット洗浄ノズル３４０から噴射する洗浄液３４０ａを、大型防塵ガラス基板４００の上面に吹きかけると、この洗浄液３４０ａにて大型防塵ガラス基板４００上の洗浄液膜３１０ｂが払拭され、この洗浄液膜３１０ｂに混入されている切削粉を含む異物が基板外へ排出される。

そして、洗浄液膜３１０ｂが除去された後の大型防塵ガラス基板４００の上面には、ジェット洗浄ノズル３４０から噴射された洗浄液３４０ａによって、ミスト３４０ｂが生成される。上述したように、このミスト３４０ｂを放置しておくと、大型防塵ガラス基板４００の乾燥に伴い、その上面にミスト３４０ｂが付着し、それが洗浄液シミとなって大型防塵ガラス基板４００上に形成されてしまう。従って、これを防止するため、第１形態と同様、次の工程で、大型防塵ガラス基板４００の上面を洗浄液リンスする。

（ｄ）：洗浄液リンスは、リンスノズル３５０から吐出されるリンス液３５０ａを大型防塵ガラス基板４００の上面に吹きかけ、大型防塵ガラス基板４００の上面にリンス液膜３５０ｂを生成することで行う。このとき、大型防塵ガラス基板４００は移動した状態であっても、停止状態であっても良い。尚、リンス液としては、純水、イソプロピルアルコール等がある。

（ｅ）：大型防塵ガラス基板４００の上面にリンス液膜３５０ｂを生成した後、エアーナイフ乾燥により、大型防塵ガラス基板４００の上面を乾燥させる。エアーナイフ乾燥は、第１形態と同様に、エアーナイフノズル３６０に穿設されている微細な噴孔３６０ａから噴射される高圧エアー（Ｎ2ガス、ドライエアー等）を大型防塵ガラス基板４００の上面に吹きかけて行う。

尚、本形態では、大型防塵ガラス基板４００を移動させて洗浄、及び乾燥を行うようにしたが、大型防塵ガラス基板４００を固定し、各洗浄ブラシ３２０、各ノズル３１０，３４０，３５０，３６０を大型防塵ガラス基板４００の上面に沿って移動させて、洗浄、及び乾燥を行うようにしても良い。

又、、本発明は、上述した各形態に限るものではなく、例えば洗浄の対象となる基板は、大型防塵ガラス基板３００，４００に限らず、基板同士が有り合わされ、その貼り合せ面にプレスクライブライン等の切断用溝を形成するものであれば、その切断用溝を形成した全ての基板に本発明を適用することができる。

本発明によって製造される電気光学装置は、ＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置以外に、パッシブマトリックス型の液晶装置、ＴＦＤ（薄型ダイオード）をスイッチング素子として備えた液晶装置であっても良く、更に、液晶装置に限らず、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置（Field Emission Dispiay、及びSurface-Conductin Electron-Emitter Display）、更には、ＤＬＰ（Digital Light Processing）やＤＭＤ（Digital Micromirror Device）等の各種の電気光学装置に適用することが可能である。

第１形態による液晶装置の概略断面図同、液晶パネルの外表面に大型防塵ガラス基板を貼り合わせる工程を示す工程図同、大型基板の外表面に防塵ガラス基板を貼り合わせる状態を示す斜視図同、大型防塵ガラス基板のプレスクライブラインが形成されている面を洗浄する工程を示す工程図同、ブラシスクラブ洗浄を示す斜視説明図第２形態による大型基板の外表面に大型防塵ガラス基板を貼り合わせる状態を示す斜視図同、ブラシスクラブ洗浄を示す斜視説明図同、大型防塵ガラス基板のプレスクライブラインが形成されている面を洗浄する工程を示す工程図

符号の説明

１…液晶装置、１０…ＴＦＴ基板、２０…対向基板、１１０，１４０，３００…大型基板、１２０…液晶パネル、３００，４００…大型防塵ガラス基板、３１０…洗浄液供給ノズル、３１０ａ，３４０ａ…洗浄液、３１０ｂ…洗浄液膜、３２０，４２０…洗浄ブラシ、３２０ａ４２０ａ…ブラシ部、３４０…ジェット洗浄ノズル、３４０ｂ…ミスト、３５０…リンスノズル、３５０ａ…リンス液、３５０ｂ…リンス液膜、３６０…エアーナイフノズル、３６０ａ…噴孔、Ｌｐ…プレスクライブライン、Ｌｓ…スクライブライン

Claims

第１基板と第２基板とが少なくとも貼り合わされてなる電気光学装置の製造方法において、
前記第１基板を複数切り出すことができる第１大型基板の該第１基板となる領域に対向するように複数のチップ状の前記第２基板をそれぞれ貼り合わせる工程と、
前記第１大型基板の前記複数のチップ状の第２基板が貼り合わされた面と反対側の面にチップ状の第３基板に複数切り出すことができる第２大型基板を貼り合わせる工程とを備え、
前記第２大型基板を前記第１大型基板に貼り合わせる前に、
隣り合う前記チップ状の第２基板間において、前記第１大型基板の前記複数のチップ状の第２基板との貼り合せ面及び前記第２大型基板の前記第１大型基板との貼り合せ面にそれぞれ切断用溝を形成する工程と、
前記第２大型基板の切断用溝が形成された面をスクラブ洗浄する第１洗浄工程と、
前記第２大型基板を前記第１大型基板に貼り合わせた後に、
前記第２大型基板の貼り合せ面と反対側の面に前記切断用溝に沿って圧力を印加し、前記第１及び第３基板をそれぞれ切り出す切り出し工程とを有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
前記第１洗浄工程の前に、前記第２大型基板の切断用溝が形成された面に洗浄液を供給して洗浄液膜を生成する洗浄液膜生成工程を有することを特徴とする請求項１記載の電気光学装置の製造方法。
前記第１洗浄工程が終了した後、前記第２大型基板の切断用溝が形成された面に別の洗浄液を供給して前記第１洗浄工程にて前記第２大型基板の切断用溝が形成された面から前記洗浄液膜に取り込まれた異物及び前記洗浄液膜を除去する第２洗浄工程を備える
ことを特徴とする請求項２記載の電気光学装置の製造方法。
前記第２洗浄工程が終了した後、前記第２大型基板の切断用溝が形成された面に、前記第２洗浄工程で除去しれ切れなかった前記洗浄液を除去するためのリンス液を供給して、リンス液膜を生成するリンス液膜生成工程を備える
ことを特徴とする請求項３記載の電気光学装置の製造方法。
前記リンス液膜生成工程が終了した後、前記第２大型基板の切断用溝が形成された面を乾燥させて前記リンス液を除去する乾燥工程を備える
ことを特徴とする請求項４記載の電気光学装置の製造方法。
前記第１洗浄工程では洗浄ブラシを用いてスクラブ洗浄を行うと共に該洗浄ブラシのブラシ部に対して洗浄液を供給する
ことを特徴とする請求項１或いは２記載の電気光学装置の製造方法。
前記洗浄ブラシは、前記第２大型基板の切断用溝が形成されている面に対設する平盤状に形成され、その底面に前記ブラシ部が設けられており、該ブラシ部が回転すると共に前記第２大型基板の切断用溝が形成されている面に沿って相対移動自在にされている
ことを特徴とする請求項６記載の電気光学装置の製造方法。
前記洗浄ブラシは、前記第２大型基板の切断用溝が形成されている面と略平行に延出するロール状に形成され、その外周に前記ブラシ部が設けられており、該ブラシ部が回転すると共に前記第２大型基板の切断用溝が形成されている面に沿って相対移動自在にされていることを特徴とする請求項６記載の電気光学装置の製造方法。