JPH0886992A - 大型基板用スピンドライヤ及びそれを用いた大型基板の乾燥方法 - Google Patents
大型基板用スピンドライヤ及びそれを用いた大型基板の乾燥方法Info
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- JPH0886992A JPH0886992A JP22498794A JP22498794A JPH0886992A JP H0886992 A JPH0886992 A JP H0886992A JP 22498794 A JP22498794 A JP 22498794A JP 22498794 A JP22498794 A JP 22498794A JP H0886992 A JPH0886992 A JP H0886992A
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- substrate
- drying
- sized substrate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大型基板を回転させて乾燥するスピンドライ
ヤーにおいて、遠心力による破損が防止できる１０００
〜３０００ＲＰＭの低速回転で大型基板を単独で回転さ
せた時よりも大きな乾燥効率が得られ、シミあるいは乾
燥ムラの発生がないようにする。 【構成】 大型基板１を固定する回転台１０、回転台１
０を回転するモータ、全面が平面状の面を有する円板２
１、この円板２１の平面を大型基板１の表面と所定の面
間距離に対向させる駆動機構２５を備える。
ヤーにおいて、遠心力による破損が防止できる１０００
〜３０００ＲＰＭの低速回転で大型基板を単独で回転さ
せた時よりも大きな乾燥効率が得られ、シミあるいは乾
燥ムラの発生がないようにする。 【構成】 大型基板１を固定する回転台１０、回転台１
０を回転するモータ、全面が平面状の面を有する円板２
１、この円板２１の平面を大型基板１の表面と所定の面
間距離に対向させる駆動機構２５を備える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＴＦＴ（薄膜トランジ
スタ）液晶表示装置の製造装置に関し、詳細にはガラス
等の大型基板の洗浄後における乾燥のためのスピンドラ
イヤ及びそれを用いた大型基板の乾燥方法に関するもの
である。
スタ）液晶表示装置の製造装置に関し、詳細にはガラス
等の大型基板の洗浄後における乾燥のためのスピンドラ
イヤ及びそれを用いた大型基板の乾燥方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】ＴＦＴ液晶表示装置（ＴＦＴ−ＬＣＤ）
においては、その低コスト化および高付加価値の要求か
ら、大型基板を用いて、その大型基板にいかに多数のＴ
ＦＴを形成するか、即ち、高開口率化が大きな課題とな
っている。高開口率を目指して、小さな面積中にいかに
効率よくＴＦＴを形成するかが課題となり、ＴＦＴアレ
イ工程において微細化が進展している。
においては、その低コスト化および高付加価値の要求か
ら、大型基板を用いて、その大型基板にいかに多数のＴ
ＦＴを形成するか、即ち、高開口率化が大きな課題とな
っている。高開口率を目指して、小さな面積中にいかに
効率よくＴＦＴを形成するかが課題となり、ＴＦＴアレ
イ工程において微細化が進展している。
【０００３】しかし、ＴＦＴアレイ工程で使用する製造
装置の原理は、シリコンウエハを使用した半導体製造装
置の領域を未だ脱しきれておらず、ウエット処理後の乾
燥方法においても、（１）ＩＰＡ（イソプロピルアルコ
ール）蒸気乾燥、（２）バッチ式スピンドライヤ、
（３）温水引き上げ乾燥、（４）エアーナイフ乾燥、
（５）枚葉式スピンドライヤ等の方法が用いられてい
る。
装置の原理は、シリコンウエハを使用した半導体製造装
置の領域を未だ脱しきれておらず、ウエット処理後の乾
燥方法においても、（１）ＩＰＡ（イソプロピルアルコ
ール）蒸気乾燥、（２）バッチ式スピンドライヤ、
（３）温水引き上げ乾燥、（４）エアーナイフ乾燥、
（５）枚葉式スピンドライヤ等の方法が用いられてい
る。
【０００４】上記乾燥方法のなかで比較的清浄度が高
く、かつ安全で安価な乾燥方法は枚葉式スピンドライヤ
であるといえる。しかし、枚葉式スピンドライヤにおい
ても、微細化にともなう乾燥ムラあるいは基板の大型化
にともなう面内の不均一な乾燥が問題となってきている
のが現状である。
く、かつ安全で安価な乾燥方法は枚葉式スピンドライヤ
であるといえる。しかし、枚葉式スピンドライヤにおい
ても、微細化にともなう乾燥ムラあるいは基板の大型化
にともなう面内の不均一な乾燥が問題となってきている
のが現状である。
【０００５】例えば、図４に示すように、基板１上にゲ
ート２、チャネル３およびエッチングストッパー４を順
次形成した後、エッチングストッパー４の開口部５にウ
エット処理時の水分６が取り込まれ、この水分６はスピ
ンドライヤによる乾燥では効果的に除去できない。開口
部５の幅５．５μｍ、長さ３３μｍ、深さ２０００オン
グストロームのような微細なパターンが形成されている
とすると、スピンドライヤの遠心力で水分６を完全に飛
散させるためには、回転半径１０ｍｍで９．５５×１０
5ＲＰＭ、回転半径１００ｍｍで３．０２×１０5ＲＰＭ
程度以上必要で、大型基板をこのような高速の回転速度
で回転させることは極めて困難である。
ート２、チャネル３およびエッチングストッパー４を順
次形成した後、エッチングストッパー４の開口部５にウ
エット処理時の水分６が取り込まれ、この水分６はスピ
ンドライヤによる乾燥では効果的に除去できない。開口
部５の幅５．５μｍ、長さ３３μｍ、深さ２０００オン
グストロームのような微細なパターンが形成されている
とすると、スピンドライヤの遠心力で水分６を完全に飛
散させるためには、回転半径１０ｍｍで９．５５×１０
5ＲＰＭ、回転半径１００ｍｍで３．０２×１０5ＲＰＭ
程度以上必要で、大型基板をこのような高速の回転速度
で回転させることは極めて困難である。
【０００６】特開昭５９ー６５４５号に記載のウエハ乾
燥装置は、従来のバッチ式スピンドライヤを枚葉式スピ
ンドライヤに改良し、水が飛散してウエハ上に再付着す
るのを防止するもので、ローダからウエハを１枚ずつ乾
燥部の回転台に払い出し、ウエハを回転中心より偏心さ
せて回転することによって水分の遠心分離効果を向上さ
せるとともに、純水およびＮ2ガスを回転乾燥中にウエ
ハ上に切替弁を経て供給するノズルを中央に有する蓋を
備えたものであり、蓋をすることによって排気可能な乾
燥室が形成される。
燥装置は、従来のバッチ式スピンドライヤを枚葉式スピ
ンドライヤに改良し、水が飛散してウエハ上に再付着す
るのを防止するもので、ローダからウエハを１枚ずつ乾
燥部の回転台に払い出し、ウエハを回転中心より偏心さ
せて回転することによって水分の遠心分離効果を向上さ
せるとともに、純水およびＮ2ガスを回転乾燥中にウエ
ハ上に切替弁を経て供給するノズルを中央に有する蓋を
備えたものであり、蓋をすることによって排気可能な乾
燥室が形成される。
【０００７】上記特開昭５９ー６５４５号に記載の枚葉
式スピンドライヤを、例えば、３００ｍｍ×３００ｍｍ
程度以上の大型基板に適用した場合、偏心回転する大型
基板は遠心力に耐えきれず回転台から飛び出したり、破
損する可能性がある。
式スピンドライヤを、例えば、３００ｍｍ×３００ｍｍ
程度以上の大型基板に適用した場合、偏心回転する大型
基板は遠心力に耐えきれず回転台から飛び出したり、破
損する可能性がある。
【０００８】また、Ｎ2ガスを吹き付けた場合、中心部
分だけ乾燥が進行し、シミや乾燥ムラなどの状態が発生
することは容易に想像できる。
分だけ乾燥が進行し、シミや乾燥ムラなどの状態が発生
することは容易に想像できる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点を解決し、微細なパターンが形成された大型
基板において、ウエット処理後の水分乾燥を偏心あるい
は高速で回転することなく高効率に行うことができ、シ
ミおよび乾燥ムラの発生を抑制するスピンドライヤを提
供するものである。
術の問題点を解決し、微細なパターンが形成された大型
基板において、ウエット処理後の水分乾燥を偏心あるい
は高速で回転することなく高効率に行うことができ、シ
ミおよび乾燥ムラの発生を抑制するスピンドライヤを提
供するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
大型基板を固定する手段を有する回転台、この回転台を
回転する手段、全面が平面状で上記大型基板の回転半径
よりも大きな半径の円板、この円板の平面を上記大型基
板の表面と所定の面間距離で対向させる手段を備えた大
型基板用スピンドライヤである。
大型基板を固定する手段を有する回転台、この回転台を
回転する手段、全面が平面状で上記大型基板の回転半径
よりも大きな半径の円板、この円板の平面を上記大型基
板の表面と所定の面間距離で対向させる手段を備えた大
型基板用スピンドライヤである。
【００１１】請求項２に係る発明は、請求項１記載の大
型基板用スピンドライヤにおいて、面間距離をＳ（単
位：ｍ）、大型基板の回転半径をｒ0（単位：ｍ）とし
て、Ｓ＜８×１０-2×ｒ0であるものである。
型基板用スピンドライヤにおいて、面間距離をＳ（単
位：ｍ）、大型基板の回転半径をｒ0（単位：ｍ）とし
て、Ｓ＜８×１０-2×ｒ0であるものである。
【００１２】請求項３に係る発明は、大型基板を固定す
る手段を有する回転台、この回転台を回転する手段、中
央に窒素または乾燥空気を噴射するガスノズルを有する
とともに、上記ガスノズルを除く全面が平面状で、上記
大型基板の回転半径よりも大きな半径の円板、この円板
の平面を上記大型基板の表面と所定の面間距離で対向さ
せる手段を備えた大型基板用スピンドライヤである。
る手段を有する回転台、この回転台を回転する手段、中
央に窒素または乾燥空気を噴射するガスノズルを有する
とともに、上記ガスノズルを除く全面が平面状で、上記
大型基板の回転半径よりも大きな半径の円板、この円板
の平面を上記大型基板の表面と所定の面間距離で対向さ
せる手段を備えた大型基板用スピンドライヤである。
【００１３】請求項４に係る発明は、請求項３記載の大
型基板用スピンドライヤにおいて、面間距離をＳ（単
位：ｍ）、大型基板の回転半径をｒ0（単位：ｍ）、回
転台の回転角速度を （単位：ｒａｄ／ｓ）、窒素また
は乾燥空気の流量をＱ（単位：ｍ3／ｓ）としたとき
に、Ｓ＞０．１１５×ｒ0 0.6× -0.2でかつＳ＜５００
×Ｑであるものである。
型基板用スピンドライヤにおいて、面間距離をＳ（単
位：ｍ）、大型基板の回転半径をｒ0（単位：ｍ）、回
転台の回転角速度を （単位：ｒａｄ／ｓ）、窒素また
は乾燥空気の流量をＱ（単位：ｍ3／ｓ）としたとき
に、Ｓ＞０．１１５×ｒ0 0.6× -0.2でかつＳ＜５００
×Ｑであるものである。
【００１４】請求項５に係る発明は、請求項１ないし４
記載の大型基板用スピンドライヤにおいて、円板を回転
台の回転方向と反対方向に回転させるものである。
記載の大型基板用スピンドライヤにおいて、円板を回転
台の回転方向と反対方向に回転させるものである。
【００１５】請求項６に係る発明は、請求項１ないし５
記載の大型基板用スピンドライヤにおいて、回転台を１
０００〜３０００ＲＰＭ、好ましくは１０００〜２００
０ＲＰＭで回転させるものである。
記載の大型基板用スピンドライヤにおいて、回転台を１
０００〜３０００ＲＰＭ、好ましくは１０００〜２００
０ＲＰＭで回転させるものである。
【００１６】請求項７に係る発明は、大型基板を回転台
に固定し、上記回転台を回転して上記大型基板を乾燥さ
せる乾燥方法において、全面が平面状で上記大型基板の
回転半径よりも大きな半径の円板の平面を上記大型基板
の表面と所定の面間距離で対向させる大型基板の乾燥方
法である。
に固定し、上記回転台を回転して上記大型基板を乾燥さ
せる乾燥方法において、全面が平面状で上記大型基板の
回転半径よりも大きな半径の円板の平面を上記大型基板
の表面と所定の面間距離で対向させる大型基板の乾燥方
法である。
【００１７】請求項８に係る発明は、請求項７記載の大
型基板の乾燥方法において、面間距離をＳ（単位：
ｍ）、大型基板の回転半径をｒ0（単位：ｍ）として、
Ｓ＜８×１０-2×ｒ0とするものである。
型基板の乾燥方法において、面間距離をＳ（単位：
ｍ）、大型基板の回転半径をｒ0（単位：ｍ）として、
Ｓ＜８×１０-2×ｒ0とするものである。
【００１８】請求項９に係る発明は、大型基板を回転台
に固定し、上記回転台を回転して上記大型基板を乾燥さ
せる乾燥方法において、中央に窒素または乾燥空気を噴
射するガスノズルを有するとともに、上記ガスノズルを
除く全面が平面状で、上記大型基板の回転半径よりも大
きな半径の円板の平面を上記大型基板の表面と所定の面
間距離で対向させる大型基板の乾燥方法である。
に固定し、上記回転台を回転して上記大型基板を乾燥さ
せる乾燥方法において、中央に窒素または乾燥空気を噴
射するガスノズルを有するとともに、上記ガスノズルを
除く全面が平面状で、上記大型基板の回転半径よりも大
きな半径の円板の平面を上記大型基板の表面と所定の面
間距離で対向させる大型基板の乾燥方法である。
【００１９】請求項１０に係る発明は、請求項９記載の
大型基板の乾燥方法において、面間距離をＳ（単位：
ｍ）、大型基板の回転半径をｒ0（単位：ｍ）、回転台
の回転角速度を （単位：ｒａｄ／ｓ）、窒素または乾
燥空気の流量をＱ（単位：ｍ3／ｓ）としたときに、Ｓ
＞０．１１５×ｒ0 0.6× -0.2でかつＳ＜５００×Ｑと
するものである。
大型基板の乾燥方法において、面間距離をＳ（単位：
ｍ）、大型基板の回転半径をｒ0（単位：ｍ）、回転台
の回転角速度を （単位：ｒａｄ／ｓ）、窒素または乾
燥空気の流量をＱ（単位：ｍ3／ｓ）としたときに、Ｓ
＞０．１１５×ｒ0 0.6× -0.2でかつＳ＜５００×Ｑと
するものである。
【００２０】請求項１１に係る発明は、請求項７ないし
１０のいずれかに記載の大型基板の乾燥方法において、
円板を回転台の回転方向と反対方向に回転させるもので
ある。
１０のいずれかに記載の大型基板の乾燥方法において、
円板を回転台の回転方向と反対方向に回転させるもので
ある。
【００２１】請求項１２に係る発明は、請求項７ないし
１１のいずれかに記載の大型基板の乾燥方法において、
回転台を１０００〜３０００ＲＰＭ、好ましくは１００
０〜２０００ＲＰＭで回転させるものである。
１１のいずれかに記載の大型基板の乾燥方法において、
回転台を１０００〜３０００ＲＰＭ、好ましくは１００
０〜２０００ＲＰＭで回転させるものである。
【００２２】
【作用】請求項１ないし５及び請求項７ないし１１に係
る発明によれば、大型基板に、これと対向する面が平面
状の円板を対向させ配設することによって、大型基板を
単独で回転させた時より大きく乾燥効率を向上させるこ
とができ、微細なパターンが形成された大型基板をシミ
あるいは乾燥ムラがない状態に乾燥することができる。
る発明によれば、大型基板に、これと対向する面が平面
状の円板を対向させ配設することによって、大型基板を
単独で回転させた時より大きく乾燥効率を向上させるこ
とができ、微細なパターンが形成された大型基板をシミ
あるいは乾燥ムラがない状態に乾燥することができる。
【００２３】また、請求項６及び１２に係る発明によれ
ば、比較的低速の１０００〜３０００ＲＰＭで大型基板
が飛び出したり破損することが防止できるとともに、微
細なパターンが形成された大型基板をシミあるいは乾燥
ムラがない状態に乾燥することができる。
ば、比較的低速の１０００〜３０００ＲＰＭで大型基板
が飛び出したり破損することが防止できるとともに、微
細なパターンが形成された大型基板をシミあるいは乾燥
ムラがない状態に乾燥することができる。
【００２４】
【実施例】図１および図２は本発明に係る一実施例を示
す構成図であり、図２は図１のＡ部拡大図である。図に
おいて、１は大型基板、７はウエット処理後の大型基板
１を収納したカセットを置くローダ、８は乾燥部、９は
乾燥部８へ大型基板１を搬送するための搬送コンベア、
１０は大型基板１を固定するメカニカルチャック１８を
備えた回転台、１１は回転台１０を回転軸１２を介して
回転させるモータ、１３は大型基板１を搬送コンベア９
から回転台１０に転送し載置するための搬入アーム、１
４は搬出コンベア、１５は回転乾燥後の大型基板１を回
転台１０から搬出コンベア１４に転送し載置するための
搬出アーム、１６は、搬送コンベア１４で搬出された大
型基板１をカセットに収納するアンローダである。
す構成図であり、図２は図１のＡ部拡大図である。図に
おいて、１は大型基板、７はウエット処理後の大型基板
１を収納したカセットを置くローダ、８は乾燥部、９は
乾燥部８へ大型基板１を搬送するための搬送コンベア、
１０は大型基板１を固定するメカニカルチャック１８を
備えた回転台、１１は回転台１０を回転軸１２を介して
回転させるモータ、１３は大型基板１を搬送コンベア９
から回転台１０に転送し載置するための搬入アーム、１
４は搬出コンベア、１５は回転乾燥後の大型基板１を回
転台１０から搬出コンベア１４に転送し載置するための
搬出アーム、１６は、搬送コンベア１４で搬出された大
型基板１をカセットに収納するアンローダである。
【００２５】ローダ７は、待機している大型基板１が乾
燥しないようにシャワーをかけて乾燥を防止するための
シャワリング機構１７、払い出す大型基板１を整列する
基板整列機構１９およびカセットを上下する上下駆動ア
ーム２０を有し、乾燥部８は、回転台１０に固定された
大型基板１と対向し、中央に窒素あるいは乾燥空気を噴
出するガスノズル２２と純水を噴出する純水ノズル２３
とを有し、中央部を除く対向面が平面の円板２１、この
円板２１を一端で支持する支持棒２４、この支持棒２４
の他端に連接され支持棒２４を介して円板２１を大型基
板１と面間距離Ｓに接近させるエアシリンダー２５およ
び回転台１０のメカニカルチャック１８に大型基板１が
正確に固定されたかを検出する光検出機構３０を備え、
回転台２１は水分を排水するドレイン管２７と排気管２
８を有する乾燥室２６内に納められ、乾燥室２６のカバ
ー２９にエアーシリンダー２５および光検出機構３０が
固定される。
燥しないようにシャワーをかけて乾燥を防止するための
シャワリング機構１７、払い出す大型基板１を整列する
基板整列機構１９およびカセットを上下する上下駆動ア
ーム２０を有し、乾燥部８は、回転台１０に固定された
大型基板１と対向し、中央に窒素あるいは乾燥空気を噴
出するガスノズル２２と純水を噴出する純水ノズル２３
とを有し、中央部を除く対向面が平面の円板２１、この
円板２１を一端で支持する支持棒２４、この支持棒２４
の他端に連接され支持棒２４を介して円板２１を大型基
板１と面間距離Ｓに接近させるエアシリンダー２５およ
び回転台１０のメカニカルチャック１８に大型基板１が
正確に固定されたかを検出する光検出機構３０を備え、
回転台２１は水分を排水するドレイン管２７と排気管２
８を有する乾燥室２６内に納められ、乾燥室２６のカバ
ー２９にエアーシリンダー２５および光検出機構３０が
固定される。
【００２６】以下に、上記構成のスピンドライヤの動作
について説明する。搬送コンベア９上の大型基板１は搬
入アーム１３によって回転台１０に転送、載置され、正
確にメカニカルチャック１８に固定されたことを光検出
機構３０によってチェックされる。
について説明する。搬送コンベア９上の大型基板１は搬
入アーム１３によって回転台１０に転送、載置され、正
確にメカニカルチャック１８に固定されたことを光検出
機構３０によってチェックされる。
【００２７】搬入アーム１３は乾燥部８から退避し、次
の大型基板１を取りに行くべくローダ７へ戻る。この
後、カバー２９が下降し乾燥室２６を覆うとともに、エ
アシリンダー２５が作動し円板２１が大型基板１との面
間距離Ｓまで下降する。
の大型基板１を取りに行くべくローダ７へ戻る。この
後、カバー２９が下降し乾燥室２６を覆うとともに、エ
アシリンダー２５が作動し円板２１が大型基板１との面
間距離Ｓまで下降する。
【００２８】次に、円板２１の中央の純水ノズル２３か
ら純水をストリーム状に出し、乾燥前の最終のリンスを
行う。この時、純水が大型基板１の全面に行き渡るよう
に数十〜数百ＲＰＭで大型基板１を回転する。
ら純水をストリーム状に出し、乾燥前の最終のリンスを
行う。この時、純水が大型基板１の全面に行き渡るよう
に数十〜数百ＲＰＭで大型基板１を回転する。
【００２９】リンスを所定の時間行った後、純水ノズル
２２からガスノズル２２に切り換え、窒素あるいは乾燥
空気を１〜３Ｋｇ／ｃｍ2の圧力で吹き付け、大型基板
１を１０００〜３０００ＲＰＭ、好ましくは大型基板の
飛び出しあるいは破損の防止を考慮して１０００〜２０
００ＲＰＭで回転し乾燥させる。回転乾燥中の乾燥室２
６内は下部に設けられた排気管２８によってダウンフロ
ー状態になっており、清浄度が確保される。なお、ガス
ノズル２２および純粋ノズル２３を有しない全面平面状
の円板２１としてもよい。
２２からガスノズル２２に切り換え、窒素あるいは乾燥
空気を１〜３Ｋｇ／ｃｍ2の圧力で吹き付け、大型基板
１を１０００〜３０００ＲＰＭ、好ましくは大型基板の
飛び出しあるいは破損の防止を考慮して１０００〜２０
００ＲＰＭで回転し乾燥させる。回転乾燥中の乾燥室２
６内は下部に設けられた排気管２８によってダウンフロ
ー状態になっており、清浄度が確保される。なお、ガス
ノズル２２および純粋ノズル２３を有しない全面平面状
の円板２１としてもよい。
【００３０】回転乾燥が終了した後、カバー２９を所定
の位置まで上昇させ、搬出アーム１５で回転台１０から
搬出コンベア１４に大型基板１を転送し、搬出コンベア
１４からアンローダ１６のカセットに１枚ずつ収納す
る。
の位置まで上昇させ、搬出アーム１５で回転台１０から
搬出コンベア１４に大型基板１を転送し、搬出コンベア
１４からアンローダ１６のカセットに１枚ずつ収納す
る。
【００３１】大型基板１に、これと対向する面が平面状
の円板２１を対向させ配設することによって、大型基板
１を単独で回転させた時より大きく乾燥効率を向上させ
ることができ、大型基板が飛び出したり破損するのを防
止できる比較的低速の１０００〜３０００ＲＰＭで微細
なパターンが形成された大型基板をシミあるいは乾燥ム
ラがない状態に乾燥することができる。
の円板２１を対向させ配設することによって、大型基板
１を単独で回転させた時より大きく乾燥効率を向上させ
ることができ、大型基板が飛び出したり破損するのを防
止できる比較的低速の１０００〜３０００ＲＰＭで微細
なパターンが形成された大型基板をシミあるいは乾燥ム
ラがない状態に乾燥することができる。
【００３２】円板２１による乾燥効率の向上は、円板２
１と大型基板１との面間距離をＳとし、大型基板１の回
転半径ｒ0としたときに、Ｇ＝Ｓ／ｒ0によって定まるＧ
と熱伝達効率Ｎｕl（平均ヌセルト数）との関係を示す
図４によって理解することができる。
１と大型基板１との面間距離をＳとし、大型基板１の回
転半径ｒ0としたときに、Ｇ＝Ｓ／ｒ0によって定まるＧ
と熱伝達効率Ｎｕl（平均ヌセルト数）との関係を示す
図４によって理解することができる。
【００３３】図４は窒素あるいは乾燥空気を大型基板１
に吹き付けない場合を示す。図に示されているように、
回転数を一定にした時、すなわちＲｅw，l（レイノルズ
数）一定の時、Ｇ＞６×１０-2の場合に大型基板単独で
回転した時と同等の乾燥効率となり、Ｇ＜８×１０-3の
場合に円板２１の効果によって大型基板を単独で回転し
たときよりも乾燥効率が向上する。例えば、３００ｍｍ
×３００ｍｍの大型基板１（ｒ0＝１５０ｍｍ）の場
合、大型基板１と円板２１との面間距離ＳをＳ＜１．２
ｍｍとすることによって、大型基板を単独で回転したと
きよりも乾燥効率が向上する。
に吹き付けない場合を示す。図に示されているように、
回転数を一定にした時、すなわちＲｅw，l（レイノルズ
数）一定の時、Ｇ＞６×１０-2の場合に大型基板単独で
回転した時と同等の乾燥効率となり、Ｇ＜８×１０-3の
場合に円板２１の効果によって大型基板を単独で回転し
たときよりも乾燥効率が向上する。例えば、３００ｍｍ
×３００ｍｍの大型基板１（ｒ0＝１５０ｍｍ）の場
合、大型基板１と円板２１との面間距離ＳをＳ＜１．２
ｍｍとすることによって、大型基板を単独で回転したと
きよりも乾燥効率が向上する。
【００３４】また、窒素あるいは乾燥空気を円板２１の
中央から流量Ｑ（ｍ3／ｓ）で大型基板１に吹き付けた
ときは、Ｇ＞１．０５×Ｒｅw，l -0.2…（１）であれ
ば、いかなる流量Ｑの値に対してもＮｕlの値は大型基
板を単独で回転した場合よりも大きくなる。Ｒｅw，l＝
（ｒ0 2×ω×ｓｉｎθ）／ν（但し、νは動粘性係数で
２５℃の空気ではν＝１．５８×１０-5ｍ2／ｓ、θは
回転円錐の半頂角で円板ではθ＝π／２、ωは回転角速
度（ｒａｄ／ｓ））を上記式（１）に代入すると、Ｓ＞
０．１１５×ｒ0× -0.2となる。また、Ｓは流量Ｑによ
って制約され、Ｓ＜５００×Ｑで乾燥効率の向上を図る
ことができる。
中央から流量Ｑ（ｍ3／ｓ）で大型基板１に吹き付けた
ときは、Ｇ＞１．０５×Ｒｅw，l -0.2…（１）であれ
ば、いかなる流量Ｑの値に対してもＮｕlの値は大型基
板を単独で回転した場合よりも大きくなる。Ｒｅw，l＝
（ｒ0 2×ω×ｓｉｎθ）／ν（但し、νは動粘性係数で
２５℃の空気ではν＝１．５８×１０-5ｍ2／ｓ、θは
回転円錐の半頂角で円板ではθ＝π／２、ωは回転角速
度（ｒａｄ／ｓ））を上記式（１）に代入すると、Ｓ＞
０．１１５×ｒ0× -0.2となる。また、Ｓは流量Ｑによ
って制約され、Ｓ＜５００×Ｑで乾燥効率の向上を図る
ことができる。
【００３５】さらに、円板２１を大型基板１の回転方向
と反対方向に回転させることによって、乾燥効率をより
一層向上することができる。
と反対方向に回転させることによって、乾燥効率をより
一層向上することができる。
【００３６】
【発明の効果】請求項１ないし５及び請求項７ないし１
１に係る発明によれば、大型基板に、これと対向する面
が平面状の円板を対向させ配設することによって、大型
基板を単独で回転させた時より大きく乾燥効率を向上さ
せることができ、微細なパターンが形成された大型基板
をシミあるいは乾燥ムラがない状態に乾燥することがで
きる。
１に係る発明によれば、大型基板に、これと対向する面
が平面状の円板を対向させ配設することによって、大型
基板を単独で回転させた時より大きく乾燥効率を向上さ
せることができ、微細なパターンが形成された大型基板
をシミあるいは乾燥ムラがない状態に乾燥することがで
きる。
【００３７】また、請求項６及び１２に係る発明によれ
ば、比較的低速の１０００〜３０００ＲＰＭで大型基板
が飛び出したり破損することが防止できるとともに、微
細なパターンが形成された大型基板をシミあるいは乾燥
ムラがない状態に乾燥することができる。
ば、比較的低速の１０００〜３０００ＲＰＭで大型基板
が飛び出したり破損することが防止できるとともに、微
細なパターンが形成された大型基板をシミあるいは乾燥
ムラがない状態に乾燥することができる。
【図１】 本発明の一実施例を示す構成図である。
【図２】 図１Ａ部の拡大図である。
【図３】 ヌセルト数（Ｎｕl）に及ぼす面間距離／大
型基板の回転半径（Ｇ）の影響を示す図である。
型基板の回転半径（Ｇ）の影響を示す図である。
【図４】 大型基板上に形成された微細パターンを示す
断面図である。
断面図である。
１ 大型基板、２ ゲート、３ チャネル、４ エッチ
ングストッパー、５ 開口部、６ 水分、７ ローダ、
８ 乾燥部、９ 搬送コンベア、１０ 回転台、１１
モータ、１２ 回転軸、１３ 搬入アーム、１４搬出コ
ンベア、１５ 搬出アーム、１６ アンローダ、１７
シャワリング機構、１８ メカニカルチャック、１９
整列機構、２０ 上下駆動アーム、２１円板、２２ 純
水ノズル、２３ ガスノズル、２４ 支持棒、２５ エ
アシリンダー、２６ 乾燥室、２７ ドレイン管、２８
排気管、２９ カバー、３０光検出機構。
ングストッパー、５ 開口部、６ 水分、７ ローダ、
８ 乾燥部、９ 搬送コンベア、１０ 回転台、１１
モータ、１２ 回転軸、１３ 搬入アーム、１４搬出コ
ンベア、１５ 搬出アーム、１６ アンローダ、１７
シャワリング機構、１８ メカニカルチャック、１９
整列機構、２０ 上下駆動アーム、２１円板、２２ 純
水ノズル、２３ ガスノズル、２４ 支持棒、２５ エ
アシリンダー、２６ 乾燥室、２７ ドレイン管、２８
排気管、２９ カバー、３０光検出機構。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 Ｓ (72)発明者 園部 幸夫 熊本県菊池郡西合志町御代志997番地 株 式会社アドバンスト・ディスプレイ内
Claims (12)
- 【請求項１】大型基板を固定する手段を有する回転台、
この回転台を回転する手段、全面が平面状で上記大型基
板の回転半径よりも大きな半径の円板、この円板の平面
を上記大型基板の表面と所定の面間距離で対向させる手
段を備えたことを特徴とする大型基板用スピンドライ
ヤ。 - 【請求項２】面間距離をＳ（単位：ｍ）、大型基板の回
転半径をｒ0（単位：ｍ）として、Ｓ＜８×１０-2×ｒ0
であることを特徴とする請求項１記載の大型基板用スピ
ンドライヤ。 - 【請求項３】大型基板を固定する手段を有する回転台、
この回転台を回転する手段、中央に窒素または乾燥空気
を噴射するガスノズルを有するとともに、上記ガスノズ
ルを除く全面が平面状で、上記大型基板の回転半径より
も大きな半径の円板、この円板の平面を上記大型基板の
表面と所定の面間距離で対向させる手段を備えたことを
特徴とする大型基板用スピンドライヤ。 - 【請求項４】面間距離をＳ（単位：ｍ）、大型基板の回
転半径をｒ0（単位：ｍ）、回転台の回転角速度を （単
位：ｒａｄ／ｓ）、窒素または乾燥空気の流量をＱ（単
位：ｍ3／ｓ）としたときに、Ｓ＞０．１１５×ｒ0 0.6
× -0.2でかつＳ＜５００×Ｑであることを特徴とする
請求項３記載の大型基板用スピンドライヤ。 - 【請求項５】円板を回転台の回転方向と反対方向に回転
させることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに
記載の大型基板用スピンドライヤ。 - 【請求項６】回転台を１０００〜３０００ＲＰＭ、好ま
しくは１０００〜２０００ＲＰＭで回転させることを特
徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の大型基板
用スピンドライヤ。 - 【請求項７】大型基板を回転台に固定し、上記回転台を
回転して上記大型基板を乾燥させる乾燥方法において、
全面が平面状で上記大型基板の回転半径よりも大きな半
径の円板の平面を上記大型基板の表面と所定の面間距離
で対向させることを特徴とする大型基板の乾燥方法。 - 【請求項８】面間距離をＳ（単位：ｍ）、大型基板の回
転半径をｒ0（単位：ｍ）として、Ｓ＜８×１０-2×ｒ0
とすることを特徴とする請求項７記載の大型基板の乾燥
方法。 - 【請求項９】大型基板を回転台に固定し、上記回転台を
回転して上記大型基板を乾燥させる乾燥方法において、
中央に窒素または乾燥空気を噴射するガスノズルを有す
るとともに、上記ガスノズルを除く全面が平面状で、上
記大型基板の回転半径よりも大きな半径の円板の平面を
上記大型基板の表面と所定の面間距離で対向させること
を特徴とする大型基板の乾燥方法。 - 【請求項１０】面間距離をＳ（単位：ｍ）、大型基板の
回転半径をｒ0（単位：ｍ）、回転台の回転角速度を
（単位：ｒａｄ／ｓ）、窒素または乾燥空気の流量をＱ
（単位：ｍ3／ｓ）としたときに、Ｓ＞０．１１５×ｒ0
0.6× -0.2でかつＳ＜５００×Ｑとする個とを特徴とす
る請求項９記載の大型基板の乾燥方法。 - 【請求項１１】円板を回転台の回転方向と反対方向に回
転させることを特徴とする請求項７ないし１０のいずれ
かに記載の大型基板の乾燥方法。 - 【請求項１２】回転台を１０００〜３０００ＲＰＭ、好
ましくは１０００〜２０００ＲＰＭで回転させることを
特徴とする請求項７ないし１１のいずれかに記載の大型
基板の乾燥方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22498794A JPH0886992A (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 大型基板用スピンドライヤ及びそれを用いた大型基板の乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22498794A JPH0886992A (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 大型基板用スピンドライヤ及びそれを用いた大型基板の乾燥方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0886992A true JPH0886992A (ja) | 1996-04-02 |
Family
ID=16822328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22498794A Pending JPH0886992A (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 大型基板用スピンドライヤ及びそれを用いた大型基板の乾燥方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0886992A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006098636A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法 |
-
1994
- 1994-09-20 JP JP22498794A patent/JPH0886992A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006098636A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法 |
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