JP2004330180A - 基板処理装置、基板処理方法、及び基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】エアナイフ11aから吐出されたエアは、基板移動方向と反対側の向きに、基板1の表面へ所定の入射角度で斜めに吹き付けられる。一方、ノズル12から吐出された洗浄水2は、エアナイフ11aからのエアと対向する向きに、基板1の表面へ所定の入射角度で斜めに供給される。基板1の表面には、ノズル12から吐出された洗浄水2により水膜3が形成される。基板1の表面が強い撥水性を有していても、基板1の表面には乾燥直前まで水膜3が形成されているため、従来のような筋状のむらが発生しない。また、従来のように小さな粒の水が移動した跡に沿って異物が残ることもない。
【選択図】図2
Description
2 洗浄水
3 水膜
3a 境界
10 ローラ
11a,11b エアナイフ
12 ノズル
20 ローラ
21a,21b エアナイフ
22 ノズル
30a,30b ヒータ
40a,40b, 隔壁
50a,50b 温風供給装置
Claims (16)
- 表面の撥水性が強い基板を水平に対して所定の角度傾斜した状態で移動する基板移動手段と、
前記基板移動手段により移動される基板の表面へ所定の入射角度で斜めにエアを吹き付けるエアナイフと、
前記エアナイフに近接して設けられ、前記エアナイフのエアと対向する向きに、基板の表面へ所定の入射角度で斜めに処理液を供給し、基板の表面に処理液の膜を形成する液膜形成手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板移動手段は、基板を基板移動方向に所定の角度傾斜した状態で移動することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記基板移動手段は、基板を基板移動方向と直行する方向に所定の角度傾斜した状態で移動することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記液膜形成手段は、基板の表面へ常温より高い温度の処理液を供給することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記エアナイフは、基板の表面へ常温より高い温度のエアを吹き付けることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記エアナイフの後段に温風を供給する手段を備えたことを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記液膜形成手段が基板の表面へ処理液を供給する前、供給中、または供給後に基板の表面を加熱する手段を備えたことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 表面の撥水性が強い基板を水平に対して所定の角度傾斜した状態で移動しながら、
エアナイフから基板の表面へ所定の入射角度で斜めにエアを吹き付け、かつ、
エアナイフの近傍から、エアナイフのエアと対向する向きに、基板の表面へ所定の入射角度で斜めに処理液を供給し、基板の表面に処理液の膜を形成することを特徴とする基板処理方法。 - 基板を基板移動方向に所定の角度傾斜した状態で移動することを特徴とする請求項8に記載の基板処理方法。
- 基板を基板移動方向と直行する方向に所定の角度傾斜した状態で移動することを特徴とする請求項8に記載の基板処理方法。
- 基板の表面へ常温より高い温度の処理液を供給することを特徴とする請求項8に記載の基板処理方法。
- エアナイフから基板の表面へ常温より高い温度のエアを吹き付けることを特徴とする請求項8に記載の基板処理方法。
- エアナイフの後段から温風を供給することを特徴とする請求項12に記載の基板処理方法。
- 基板の表面へ処理液を供給する前、供給中、または供給後に基板の表面を加熱することを特徴とする請求項8に記載の基板処理方法。
- 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の基板処理装置を用いて基板を乾燥させることを特徴とする基板の製造方法。
- 請求項8乃至請求項14のいずれか1項に記載の基板処理方法を用いて基板を乾燥させることを特徴とする基板の製造方法。
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006186296A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-07-13 | Apic Yamada Corp | ワーク支持枠体、ワーク洗浄乾燥装置及び切断装置 |
JP2007149986A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板の製造方法 |
JP2008244318A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送部材の洗浄方法、基板搬送装置及び基板処理システム |
KR100889343B1 (ko) | 2007-09-27 | 2009-03-18 | 세메스 주식회사 | 나이프 어셈블리 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
JP2009216325A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 乾燥装置 |
JP2010103383A (ja) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2010131485A (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の液切り装置および液切り方法 |
JP2010181761A (ja) * | 2009-02-09 | 2010-08-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板乾燥装置、基板乾燥方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
WO2012111618A1 (ja) * | 2011-02-18 | 2012-08-23 | シャープ株式会社 | 基板乾燥装置 |
US8277569B2 (en) | 2004-07-01 | 2012-10-02 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate treating apparatus and substrate treating method |
JP2016061805A (ja) * | 2014-09-12 | 2016-04-25 | 日東電工株式会社 | 非偏光部を有する偏光子の製造方法 |
JP2018075511A (ja) * | 2016-11-08 | 2018-05-17 | 東洋熱工業株式会社 | 気液除塵装置 |
CN111201630A (zh) * | 2017-11-10 | 2020-05-26 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 有机电致发光显示面板的制造方法 |
-
2004
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Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8646469B2 (en) | 2004-07-01 | 2014-02-11 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate treating apparatus |
US8524009B2 (en) | 2004-07-01 | 2013-09-03 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate treating method |
US8277569B2 (en) | 2004-07-01 | 2012-10-02 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate treating apparatus and substrate treating method |
JP2006186296A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-07-13 | Apic Yamada Corp | ワーク支持枠体、ワーク洗浄乾燥装置及び切断装置 |
JP4580806B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2010-11-17 | アピックヤマダ株式会社 | ワーク支持枠体、ワーク洗浄乾燥装置及び切断装置 |
JP4557872B2 (ja) * | 2005-11-28 | 2010-10-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板の製造方法 |
JP2007149986A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板の製造方法 |
JP2008244318A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送部材の洗浄方法、基板搬送装置及び基板処理システム |
KR100889343B1 (ko) | 2007-09-27 | 2009-03-18 | 세메스 주식회사 | 나이프 어셈블리 및 이를 갖는 기판 처리 장치 |
JP2009216325A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 乾燥装置 |
JP2010103383A (ja) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2010131485A (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の液切り装置および液切り方法 |
JP2010181761A (ja) * | 2009-02-09 | 2010-08-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板乾燥装置、基板乾燥方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
WO2012111618A1 (ja) * | 2011-02-18 | 2012-08-23 | シャープ株式会社 | 基板乾燥装置 |
JP2016061805A (ja) * | 2014-09-12 | 2016-04-25 | 日東電工株式会社 | 非偏光部を有する偏光子の製造方法 |
JP2018075511A (ja) * | 2016-11-08 | 2018-05-17 | 東洋熱工業株式会社 | 気液除塵装置 |
CN111201630A (zh) * | 2017-11-10 | 2020-05-26 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 有机电致发光显示面板的制造方法 |
CN111201630B (zh) * | 2017-11-10 | 2022-03-25 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 有机电致发光显示面板的制造方法 |
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